JP3396589B2

JP3396589B2 - 基板処理装置

Info

Publication number: JP3396589B2
Application number: JP30910696A
Authority: JP
Inventors: 訓章足立
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-11-20
Filing date: 1996-11-20
Publication date: 2003-04-14
Anticipated expiration: 2016-11-20
Also published as: JPH10150014A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体基板、液
晶ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板および光ディ
スク用基板などの薄板状基板（以下、単に「基板」と称
する）を処理液に浸漬してこの表面に洗浄などの諸処理
を施す基板処理技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、上記のような基板処理装置
は、薬液を貯留する薬液槽と純水を貯留する水洗槽とを
備えている。そして、予め定められた手順に従って、各
処理槽に単数ないし一組の複数の基板（以下、「ロッ
ト」と称する）を循環搬送し、搬送先のそれぞれの処理
槽において所定の処理時間ロットを浸漬する複数工程に
より、基板表面の汚染物質を除去したり、基板表面の酸
化膜をエッチングしたり、レジスト膜を剥離したりする
一連の基板処理を達成している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、一般に、上
記のような基板処理装置は、半導体製造工場などの工場
に設置され、その工場の主電源から電力の供給を受ける
ことにより、所定の基板処理を行っている。しかしなが
ら、工場においても、種々の原因から主電源に停電が発
生することがあり、そのような場合、基板処理装置への
電力の供給も停止することとなる。

【０００４】基板処理装置への電力の供給が停止する
と、処理中のロットは、停電発生時の状態で放置される
こととなる。この場合、水洗槽の純水中に浸漬されてい
るロットについては、あまり問題とならないが、薬液槽
の薬液中に浸漬されているロットには必要以上に表面処
理が行われることとなる。特に、ＨＦ系の薬液への浸漬
処理は、処理時間に対して敏感であり、必要以上にロッ
トを浸漬させておくと、過度にエッチングされた状態
（いわゆるオーバーエッチング）となり、そのロットは
以後使用不能（以下、「ロットアウト」と称する）とな
ってしまう。

【０００５】そこで、上記課題に鑑み、本発明は、停電
が発生した場合にも処理中の基板が不良品（ロットの場
合はロットアウト）となるのを防止することができる基
板処理装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明は、基板に対し薬液による薬液処理
と純水による純水洗浄処理とを所定の処理手順に従って
順次行う基板処理装置において、(a) 前記薬液を貯留
し、前記基板を浸漬して前記薬液処理を行う薬液槽と、
(b) 前記純水を貯留し、前記基板を浸漬して前記純水洗
浄処理を行う水洗槽と、(c) 前記薬液槽と前記水洗槽と
の間で前記基板の搬送を行う搬送装置と、(d) 所定の予
備電源から予備電力の供給を受ける予備電力受給手段と
を備え、前記所定の処理手順に従った定常処理中に主電
源に停電が生じた場合には、前記予備電力の供給により
前記搬送装置を作動させ、前記停電が生じた時点におい
て前記薬液槽中に浸漬されている基板を、前記所定の処
理手順において前記薬液槽の直後に存在する水洗槽に搬
送するとともに、前記定常処理中は、前記水洗槽に基板
が存在しない場合に限り当該薬液槽に基板を搬入するよ
うに、前記搬送装置を動作させている。

【０００７】また、請求項２の発明は、請求項１の発明
に係る基板処理装置において、前記水洗槽にその槽内に
純水を供給する純水供給手段を備え、前記停電が生じ、
前記水洗槽に前記基板が搬入された後、前記停電が復旧
するまでの期間内においては、前記予備電力が供給され
続ける限り、前記水洗槽の前記純水供給手段を作動させ
ている。

【０００８】また、請求項３の発明は、請求項１または
請求項２の発明に係る基板処理装置において、前記停電
が生じた時点において水洗槽中に浸漬されている基板に
ついては、当該水洗槽からの払い出しを禁止している。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明するが、それに先立っ
て、本発明に係る基板処理装置が設置されるべき半導体
製造工場などの工場内の予備電源について説明する。

【００１０】一般に、このような工場には、停電が発生
した場合にも、装置が急激に停止することの無いよう
に、予備電源が設けられている。しかしながら、工場内
には、上記基板処理装置のみならず、様々な機器や装置
が複数設置されており、その全てを通常通り動作させる
ような予備電源は、大型化するとともに、著しいコスト
アップにつながる。従って、通常設置されている予備電
源では、工場内の機器や装置のうちの最低限必要な機能
を動作させるだけの電力しか供給できない。また、その
電力供給可能時間も例えば１０分程度に限られている場
合がある。

【００１１】なお、予備電源としては、上記のような工
場内予備電源に限らず、基板処理装置にバッテリーなど
を組み込む場合もあるが、かかる場合にも装置全体を通
常通り動作させることは困難であり、以下に説明する本
発明に係る基板処理装置が適用できる。

【００１２】Ａ．基板処理装置の全体概略構成：まず、
本発明に係る基板処理装置の全体構成について説明す
る。図１は、本発明に係る基板処理装置の一例を示す正
面概略図である。この基板処理装置１００は、薬液槽Ｃ
Ｂ１、ＣＢ２と、水洗槽ＷＢ１、ＷＢ２、ＦＲと、乾燥
部ＳＤと、基板を搬送する基板搬送ロボットＴＲとを備
えている。また、基板処理装置１００は、その両端に、
未処理基板Ｗを収納したカセット２０を載置するローダ
ー部ＬＤと処理済みの基板Ｗが格納されるカセット２０
を載置するアンローダー部ＵＬＤとを備えている。さら
に、基板処理装置１００は、工場内の予備電源から予備
電力の供給を受ける接続端子（予備電力受給手段）５を
備えている。

【００１３】薬液槽ＣＢ１、ＣＢ２は硫酸、アンモニ
ア、塩酸、フッ酸、過酸化水素水またはそれらの混合液
などの薬液を収容可能な槽であるが、ここで考えている
例では、フッ酸（ＨＦ）を貯留し、基板に対してエッチ
ング処理を行うための処理槽である。また、水洗槽ＷＢ
１、ＷＢ２は純水を収容し、基板Ｗに付着したＨＦを洗
浄する処理槽である。また、水洗槽ＦＲも純水を収容す
る洗浄処理槽であるが、主として仕上げの洗浄として用
いられる。さらに、乾燥部ＳＤは基板Ｗを回転させつつ
当該基板Ｗに付着した水滴を除去、乾燥させる処理部で
ある。

【００１４】基板搬送ロボットＴＲは、水平方向および
上下方向に移動可能であり、ローダー部ＬＤから未処理
ロットを払い出し、予め定められた処理手順に従って上
記各処理槽間でロットを循環搬送するとともに、処理済
みのロットをアンローダー部ＵＬＤに渡すロボットであ
る。基板搬送ロボットＴＲは、開閉自在の一対のハンド
１１を備えており、当該ハンド１１には、その内側に基
板Ｗを保持するための複数の溝が一定のピッチで平行に
設けられており（図示省略）、当該複数の溝によってロ
ットが保持されることとなる。この基板搬送ロボットＴ
Ｒがローダー部ＬＤからロットを受け取る際には、カセ
ット２０の下方に設けられた図示を省略するホルダによ
ってカセット２０から上昇されたロットを基板搬送ロボ
ットＴＲの一対のハンド１１が把持することによって行
われる。また、アンローダー部ＵＬＤにロットを渡す場
合には、上記とは逆に、ハンド１１から図示を省略する
ホルダにロットが渡され、そのホルダが下降することに
よって、ロットがカセット２０内部に格納される。な
お、ここに示している例は、カセット２０からロットを
取り出して、そのロットを直接基板搬送ロボットＴＲが
把持、搬送する方式の装置であるが、カセット２０ごと
基板搬送ロボットＴＲが保持してロットを搬送する、い
わゆるカセット搬送方式の装置であってもかまわない。

【００１５】Ｂ．基板処理装置の制御機構：次に、基板
処理装置１００の制御機構について説明する。図２は、
基板処理装置１００の制御機構を説明するための機能ブ
ロック図である。この基板処理装置１００には、卓上型
コンピュータ３０が組み込まれており、オペレータは当
該卓上型コンピュータ３０を介して装置に指令を与えた
り、処理パターンや処理条件の設定を行ったりできる。

【００１６】卓上型コンピュータ３０は、その本体部で
あるＣＰＵ３１と、読み出し専用メモリーであるＲＯＭ
３２と、読み書き自在のメモリーであるＲＡＭ３３と、
制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気デ
ィスク３４と、付随する入出力機器とのインターフェイ
スである入出力ポート３５と、基板処理装置１００を直
接制御する装置とのインターフェイスであるネットワー
クポート３６と、基板処理装置１００外部に設けられて
いるホストコンピュータなどと通信を行う通信ポート３
７とを備えている。また、卓上型コンピュータ３０に
は、入出力ポート３５を介してディスプレイ３８とキー
ボード３９とが付随して設けられており、オペレータは
ディスプレイ３８の表示を確認しつつ、キーボード３９
からコマンドやパラメータを入力することができる。

【００１７】卓上型コンピュータ３０に入力された指令
は、処理用のソフトウェアに基づいて処理され、必要に
応じて当該卓上型コンピュータ３０からネットワークポ
ート３６を介してマスターコントローラ４０および槽コ
ントローラ５０などに伝達される。マスターコントロー
ラ４０は、基板搬送ロボットＴＲ（図１参照）の動作を
制御する。また、槽コントローラ５０は、後述する純水
供給手段５１、純水排水手段５２および薬液供給手段５
３などに指令を伝達して、各処理槽への注排液などを制
御するとともに、停電検出手段５５の動作を管理する。
停電検出手段５５は、停電発生時に、その停電を検出
し、停電検出信号を槽コントローラ５０に伝達する。

【００１８】Ｃ．処理槽の構成：次に、基板処理装置１
００に備えられた薬液槽ＣＢ２および水洗槽ＷＢ２の構
成について説明する。なお、以下の説明は、薬液槽ＣＢ
２および水洗槽ＷＢ２についてのものであるが、薬液槽
ＣＢ１および水洗槽ＷＢ１についても同じである。

【００１９】図３は、基板処理装置１００の薬液槽ＣＢ
２および水洗槽ＷＢ２の構成を説明する概念図である。
薬液槽ＣＢ２は、内槽６０、外槽６１、バット６２およ
びそれらに付随する注排液機構により構成されている。
また、薬液槽ＣＢ２は、ロットを基板搬送ロボットＴＲ
から受け取って薬液中に浸漬するリフタ６３を備えてい
る。

【００２０】定常的な処理が行われているとき、内槽６
０内にＨＦが満たされており、この内槽６０にロットが
浸漬されて基板Ｗに対するエッチング処理が行われる。
内槽６０から溢れ出たＨＦは外槽６１によって回収さ
れ、その回収されたＨＦは循環ポンプ６４によって循環
され、図示を省略するフィルタによって浄化された後、
再び内槽６０に送られ、循環利用される。また、バット
６２は、内槽６０および外槽６１から溢れ出たＨＦを回
収するものである。

【００２１】内槽６０には、図示を省略する薬液供給手
段から新たなＨＦを供給可能であるとともに、内槽６０
およびバット６２からはＨＦを排液することも可能であ
る。

【００２２】リフタ６３は、図示を省略する駆動機構に
よって、上下方向に移動自在であるとともに、３本の支
持棒６３ａを備えている。３本の支持棒６３ａは、それ
ぞれその内側に基板Ｗを保持するための複数の溝が一定
のピッチで平行に設けられており（図示省略）、当該複
数の溝によってロットが保持されることとなる。基板搬
送ロボットＴＲがロットを薬液槽ＣＢ２に搬入するとき
は、まず、ロットを把持した基板搬送ロボットＴＲが薬
液槽ＣＢ２の上方まで移動するとともに、リフタ６３が
上昇し、ロットが３本の支持棒６３ａに当接した時点
で、ハンド１１が開いてロットの受け渡しが行われる。
そして、その後、リフタ６３が降下することによって、
内槽６０のＨＦ中にロットが浸漬され、表面処理が行わ
れる。表面処理が終了したロットは、リフタ６３の上昇
とともに、ＨＦ中から引き揚げられ、基板搬送ロボット
ＴＲのハンド１１によって再び把持され、次工程に搬送
される。

【００２３】水洗槽ＷＢ２は、内槽７０、バット７１お
よびそれらに付随する注排液機構により構成されてい
る。また、水洗槽ＷＢ２は、ロットを基板搬送ロボット
ＴＲから受け取って純水中に浸漬するリフタ７３を備え
ている。

【００２４】定常的な処理が行われているとき、内槽７
０には純水が満たされ、その純水中にロットが浸漬され
ることによって、基板Ｗに対する純水洗浄処理が行われ
る。また、純水洗浄処理中は、内槽７０に純水供給手段
５１から新しい純水が供給され続け、洗浄の効果を高め
ている。純水供給は、内槽７０内に配置されたノズル
（図示省略）から供給されることにより行われるが、こ
れに限定されるものではなく、例えば、内槽７０の上方
にシャワーを設けるなどの公知の手段が適用可能であ
る。

【００２５】純水供給手段５１から新しい純水が供給さ
れた分だけ、内槽７０から純水が溢れ出ることとなる
が、この溢れ出た純水はバット７１によって回収された
後、純水排水手段５２によって排水されたり、あるいは
回収、再利用されたりする。

【００２６】リフタ７３は、上述したリフタ６３と同様
の構成となっており、複数の溝が一定のピッチで平行に
設けられた３本の支持棒７３ａを備えている。また、こ
のリフタ７３と基板搬送ロボットＴＲとのロットの受け
渡し方法も上述したリフタ６３との受け渡し方法と同様
である。

【００２７】Ｄ．定常処理時における基板処理装置の動
作：次に、定常処理時、すなわち、停電が発生していな
い状態における、基板処理装置１００の動作について説
明する。なお、定常処理時においては、工場の主電源か
ら電力の供給を受けて動作しており、この主電源が基板
処理装置１００を動作させるのに十分な電力を供給可能
であることはもちろんである。

【００２８】図４は、定常処理時における、基板処理装
置１００の動作を説明するためのフローチャートであ
る。既に述べたように、基板処理装置１００において
は、予め定められた処理手順に従って、基板搬送ロボッ
トＴＲがロットを循環搬送し、一連の処理を行ってい
る。実際には、基板の種類などに応じて種々の処理手順
が設定可能であるが、ここでは、理解を容易にするた
め、ローダー部ＬＤから払い出されたロットは、薬液槽ＣＢ１、水洗槽ＷＢ１、薬液槽ＣＢ２、水洗槽ＷＢ２、水洗槽ＦＲ、乾燥部ＳＤ、の順に搬送された後、アンローダー部ＵＬＤに搬入され
る処理手順が設定されているものとする。

【００２９】上記のような処理手順に従ってロットが搬
送される際には、まず、ある槽での処理済みのロットに
つき、マスターコントローラ４０に対してロット搬送要
求が出される（ステップＳ４１）。次に、ロット搬送要
求が出された場合、搬送要求を受けたマスターコントロ
ーラ４０が上記処理手順を参照し、搬送先の槽が薬液槽
であるか否かを判断する（ステップＳ４２）。ここで、
例えば、薬液槽ＣＢ１での処理が終了したロットについ
て搬送要求が出された場合、搬送先の槽が水洗槽ＷＢ１
であるため、ステップＳ４４に進み、水洗槽ＷＢ１にロ
ットが存在しているか否かが、マスターコントローラ４
０によって判断される。そして、水洗槽ＷＢ１にロット
が存在している場合には、ステップＳ４６に進み、搬送
不可とされて、ロット搬送は一旦待機させられる。ま
た、水洗槽ＷＢ１にロットが存在していない場合には、
ステップＳ４５に進み、搬送可とされて、基板搬送ロボ
ットＴＲがロットを水洗槽ＷＢ１に搬送する。

【００３０】一方、例えば、水洗槽ＷＢ１での処理が終
了したロットについて搬送要求が出された場合、搬送先
の槽が薬液槽ＣＢ２であるため、ステップＳ４３に進
み、薬液槽ＣＢ２およびその次工程である水洗槽ＷＢ２
の両方にロットが存在しないか否かが判断される。ここ
で、薬液槽ＣＢ２または水洗槽ＷＢ２のいずれか一方で
もロットが存在する場合は、ステップＳ４６に進んで、
搬送不可と判断され、ロット搬送は一旦待機させられ
る。そして、薬液槽ＣＢ２および水洗槽ＷＢ２の双方に
ロットが存在しない場合のみ、ステップＳ４５に進み、
搬送可とされて、基板搬送ロボットＴＲがロットを薬液
槽ＣＢ２に搬送する。

【００３１】すなわち、薬液槽にロットを搬送するとき
には、当該薬液槽と、その次工程の水洗槽との双方にロ
ットが存在しない場合に限り、その薬液槽にロットが搬
入されるように規制されている。

【００３２】Ｅ．停電時における基板処理装置の動作：
次に、停電が発生したときの、基板処理装置１００の動
作について説明する。

【００３３】図５は、停電発生時における、基板処理装
置１００の動作を説明するためのフローチャートであ
る。既述したように、停電発生時には、停電検出手段５
５がその停電を検出し、停電検出信号を槽コントローラ
５０に伝達する（ステップＳ５１）。そして、この時点
で、工場内の予備電源から予備電力の供給を受けること
となる。予備電力は、基板処理装置１００内の全体に通
常通り供給されるわけではなく、例えば、処理液の温調
用ヒーターなど電力消費量の多いものには供給されな
い。ここで考えている例では、少なくとも、基板搬送ロ
ボットＴＲ、マスターコントローラ４０、槽コントロー
ラ５０、卓上型コンピュータ３０、純水供給手段５１お
よび純水排水手段５２（図２参照）には予備電力が供給
される。

【００３４】図５に戻って、次に、ステップＳ５２に進
み、カウント値ｎの初期値としてその最大値を設定す
る。ここで、カウント値ｎとは、基板処理装置１００に
設けられている複数の処理部（各処理槽、乾燥部ＳＤ、
ローダー部ＬＤおよびアンローダー部ＵＬＤ）のそれぞ
れに対応して付与されている数値であり、その対応関係
を以下の表に示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】この表において、ＰＯＳ（ｎ）は、カウン
ト値ｎに対応する各処理部を意味している。表１に示す
如く、基板処理装置１００は、ローダー部ＬＤからアン
ローダー部ＵＬＤまで、８つの処理部を備えており、そ
れぞれにカウント値ｎとして「０」〜「７」までの値が
付与されている。従って、上記のステップＳ５２におい
ては、カウント値ｎの初期値としてその最大値である
「７」が設定される。

【００３７】次に、ステップＳ５３に進んで、ＰＯＳ
（ｎ）の処理部にロットが存在しているか否かが判断さ
れる。ここで、ロットが存在している場合には、ステッ
プＳ５４に進み、ＰＯＳ（ｎ）が薬液槽であるか否かが
判断される。そして、ＰＯＳ（ｎ）が薬液槽でない場合
には、ステップＳ５７に進み、ＰＯＳ（ｎ）が水洗槽で
あるか否かが判断される。ここで、ＰＯＳ（ｎ）が水洗
槽である場合には、当該水洗槽からのロット払出要求が
禁止される（ステップＳ５８）。

【００３８】一方、ステップＳ５４において、ＰＯＳ
（ｎ）が薬液槽であると判断された場合、ステップＳ５
５に進み、ＰＯＳ（ｎ）の薬液槽からＰＯＳ（ｎ＋１）
の水洗槽へのロット払出要求が出力される。そして、こ
のロット払出要求を受けて、ＰＯＳ（ｎ）の薬液槽から
ＰＯＳ（ｎ＋１）の水洗槽へロットが搬送、浸漬される
（ステップＳ５６）。ここで、既に述べたように、停電
発生前の定常処理時において、薬液槽にロットを搬送す
る場合には、当該薬液槽とその次工程の水洗槽との双方
にロットが存在しない場合のみ、搬送を許可するように
規制しているため、停電発生時にＰＯＳ（ｎ）の薬液槽
にロットが存在している場合は、ＰＯＳ（ｎ＋１）の水
洗槽は必ず空いている。なお、ステップＳ５３以降の判
断は、すべて槽コントローラ５０によってなされるもの
であり、また、ロット払出要求は、槽コントローラ５０
からマスターコントローラ４０に出力され、要求を受け
たマスターコントローラ４０が基板搬送ロボットＴＲの
動作を制御してロットを搬送する。

【００３９】また、ステップＳ５３においてＰＯＳ
（ｎ）の処理部にロットが存在していないと判断された
場合、ステップＳ５７においてＰＯＳ（ｎ）が水洗槽で
ないと判断された場合（ＰＯＳ（ｎ）がローダー部Ｌ
Ｄ、アンローダー部ＵＬＤ、乾燥部ＳＤのいずれかであ
る場合が該当する）およびステップＳ５６、Ｓ５８の処
理を終了した後は、ステップＳ５９に進み、カウント値
ｎの値が１だけ減算され、減算後のカウント値ｎが
「０」となったか否かが判断される（ステップＳ６
０）。ここで、カウント値ｎが「０」となっていない場
合には、再びステップＳ５３に戻ることとなる。すなわ
ち、基板処理装置１００の８つの処理部の全てについて
上記の判断、処理が繰り返し行われることとなる。

【００４０】以上の処理手順の具体例を述べると、例え
ば、停電発生時に水洗槽ＷＢ１と薬液槽ＣＢ２とにロッ
トが存在していた場合、まず、ＰＯＳ（３）の薬液槽Ｃ
Ｂ２からＰＯＳ（４）の水洗槽ＷＢ２へのロット払出要
求が槽コントローラ５０から出され、それを受けたマス
ターコントローラ４０が基板搬送ロボットＴＲの動作を
制御して薬液槽ＣＢ２に浸漬されていたロットを水洗槽
ＷＢ２へ搬送し、そのロットは純水中に浸漬されること
となる。そして、次に、ＰＯＳ（２）の水洗槽ＷＢ１か
らのロット払出要求は禁止され、水洗槽ＷＢ１のロット
は純水中に浸漬された状態で待機することとなる。

【００４１】以上のようにすれば、停電が発生した場合
でも、その時点で水洗槽の純水中に浸漬されているロッ
トはその状態で待機され、また、薬液槽のＨＦ中に浸漬
されているロットは次工程の水洗槽に搬送されて純水中
に浸漬されるため、ロットが過度にエッチングされるこ
とがなくなり、その結果、処理中のロットがロットアウ
トとなるのを防止することができる。

【００４２】ところで、上述したように、一般に工場の
予備電源は、１０分程度、予備電力を供給可能であるこ
とが多い。この例における基板処理装置１００は、停電
発生時に薬液槽からロットが搬送された水洗槽に対し
て、停電が復旧するまでの期間内においては、予備電力
の供給が続く限り、新たな純水を供給し続けている（ス
テップＳ６１）。例えば、上述した具体例においては、
薬液槽ＣＢ２に浸漬されていたロットが水洗槽ＷＢ２へ
搬送され、そのロットが純水中に浸漬された後、停電が
復旧するまでの期間で予備電力の供給が続く限り、純水
供給手段５１を用いて水洗槽ＷＢ２に新たな純水を供給
し続けている。なお、予備電力の供給が続いていても、
停電が復旧すれば、主電源からの供給に切り換えられて
元の定常処理に戻る。

【００４３】このようにすれば、薬液槽ＣＢ２から水洗
槽ＷＢ２に搬送されたロットを構成する基板Ｗの表面に
付着したＨＦを新たに供給された純水により洗浄するこ
とができるため、当該ロットがロットアウトとなるのを
より確実に防止することができる。

【００４４】

【変形例】以上、この発明の実施形態について説明した
が、この発明は上記の例に限定されるものではなく、例
えば、定常処理時における上記のような搬送規制を行わ
ず、停電発生時に薬液槽に浸漬されているロットをその
時点で空いている水洗槽に搬送するようにしてもよい。
もっとも、上記実施形態のようにした方が、薬液槽の次
工程の水洗槽は必ず空いており、ロットの搬送先が確実
に確保されているため、ロットのロットアウトをより確
実に防止することができる。

【００４５】また、上記の例においては、停電発生時
に、基板搬送ロボットＴＲ、マスターコントローラ４
０、槽コントローラ５０、卓上型コンピュータ３０、純
水供給手段５１および純水排水手段５２には予備電力が
供給されていたが、これらのうち、基板搬送ロボットＴ
Ｒ、マスターコントローラ４０、槽コントローラ５０の
みに予備電力が供給されるような基板処理装置であって
もよい。

【００４６】さらに、上記の例においては、ＨＦが薬液
として使用されていたが、これに限らず、処理時間に対
して敏感な薬液（例えば、ＮＨ₄ＯＨ／Ｈ₂Ｏ₂／Ｈ₂Ｏ混
合液など）を使用する場合であってもかまわない。

【００４７】また、上記の例においては、ロットを保持
した基板搬送ロボットＴＲが、直接薬液槽や水洗槽の液
中にそのロットを浸漬したり、直接液中からそのロット
を引き揚げるようにしてもよい。

【００４８】

【発明の効果】以上、説明したように、請求項１の発明
によれば、所定の処理手順に従った定常処理中に主電源
に停電が生じた場合には、予備電力の供給により搬送装
置を作動させ、停電が生じた時点において薬液槽中に浸
漬されている基板を所定の処理手順においてその薬液槽
の直後に存在する水洗槽に搬送するとともに、定常処理
中は、該水洗槽に基板が存在しない場合に限り当該薬液
槽に基板を搬入するように、搬送装置を動作させている
ため、当該基板は必要以上に薬液による処理を受けるこ
とがなくなり、その結果、処理中の基板が不良品（ロッ
トの場合は、ロットアウト）となるのを防止することが
できる。また、停電発生時にも所定の処理手順における
薬液槽の直後の水洗槽は必ず空いており、薬液処理中の
基板の搬送先水洗槽が確実に確保されていることとな
り、処理中の基板が不良品（ロットの場合は、ロットア
ウト）となるのを確実に防止することができる。

【００４９】また、請求項２の発明によれば、停電が生
じ、水洗槽に基板が搬入された後、停電が復旧するまで
の期間内においては、予備電力が供給され続ける限り、
水洗槽の純水供給手段を作動させ続けているため、基板
の表面に付着した薬液を新たに供給された純水により洗
浄できることとなり、基板が不良品（ロットの場合は、
ロットアウト）となるのをより確実に防止することがで
きる。

【００５０】さらに、請求項３の発明によれば、停電が
生じた時点において水洗槽中に浸漬されている基板につ
いては、当該水洗槽からの払い出しを禁止しているた
め、基板が不良品（ロットの場合は、ロットアウト）と
なるのをより確実に防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一例を示す正面概
略図である。

【図２】図１の基板処理装置の制御機構を説明するため
の機能ブロック図である。

【図３】図１の基板処理装置の薬液槽および水洗槽の構
成を説明する概念図である。

【図４】定常処理時における、図１の基板処理装置の動
作を説明するためのフローチャートである。

【図５】停電発生時における、図１の基板処理装置の動
作を説明するためのフローチャートである。

【符号の説明】

５接続端子４０マスターコントローラ５０槽コントローラ５１純水供給手段５２純水排水手段１００基板処理装置ＴＲ基板搬送ロボットＣＢ１、ＣＢ２薬液槽ＷＢ１、ＷＢ２、ＦＲ水洗槽

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/00 - 3/14

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に対し薬液による薬液処理と純水に
よる純水洗浄処理とを所定の処理手順に従って順次行う
基板処理装置であって、 (a) 前記薬液を貯留し、前記基板を浸漬して前記薬液処
理を行う薬液槽と、 (b) 前記純水を貯留し、前記基板を浸漬して前記純水洗
浄処理を行う水洗槽と、 (c) 前記薬液槽と前記水洗槽との間で前記基板の搬送を
行う搬送装置と、 (d) 所定の予備電源から予備電力の供給を受ける予備電
力受給手段と、を備え、前記所定の処理手順に従った定常処理中に主電
源に停電が生じた場合には、前記予備電力の供給により
前記搬送装置を作動させ、前記停電が生じた時点におい
て前記薬液槽中に浸漬されている基板を、前記所定の処
理手順において前記薬液槽の直後に存在する水洗槽に搬
送するとともに、前記定常処理中は、前記水洗槽に基板
が存在しない場合に限り当該薬液槽に基板を搬入するよ
うに、前記搬送装置を動作させることを特徴とする基板
処理装置。
【請求項２】請求項１記載の基板処理装置において、前記水洗槽は、槽内に純水を供給する純水供給手段を備
えており、前記停電が生じ、前記水洗槽に前記基板が搬入された
後、前記停電が復旧するまでの期間内においては、前記
予備電力が供給され続ける限り、前記水洗槽の前記純水
供給手段を作動させ続けることを特徴とする基板処理装
置。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の基板処
理装置において、前記停電が生じた時点において水洗槽中に浸漬されてい
る基板については、当該水洗槽からの払い出しを禁止す
ることを特徴とする基板処理装置。