JP3395316B2 - 雰囲気循環式熱処理炉 - Google Patents
雰囲気循環式熱処理炉Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は炉内雰囲気ガスを循環
させてストリップの熱処理をおこなう雰囲気循環式熱処
理炉に関する。
させてストリップの熱処理をおこなう雰囲気循環式熱処
理炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】ストリップを無酸化状態で熱処理する熱
処理炉としては、マッフル内をストリップを走行させる
マッフル炉が多く用いられていたが、短い炉長で処理温
度域の広い熱処理ができる熱処理炉として、炉内の無酸
化雰囲気ガスを強制循環させるマッフルレス形式の雰囲
気循環式熱処理炉が用いられるようになった。
処理炉としては、マッフル内をストリップを走行させる
マッフル炉が多く用いられていたが、短い炉長で処理温
度域の広い熱処理ができる熱処理炉として、炉内の無酸
化雰囲気ガスを強制循環させるマッフルレス形式の雰囲
気循環式熱処理炉が用いられるようになった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところがこの雰囲気循
環式熱処理炉は、無酸化（還元性を含む）雰囲気で使用
するため、被処理物の変更に伴う加熱室の設定炉温変更
時、とくに炉温下降時に、従来のマッフル炉のように冷
却用空気を炉内に送入して冷却をおこなうことができ
ず、やむを得ずストリップ状のダミ−材を炉内通板して
炉内冷却をおこなっている。しかしこのダミ−材により
炉外へ持出す熱量は小さいので、加熱室内の冷却に長時
間を要し、また通板作業はめんどうであるうえ、ダミ−
材の表面の汚れによる炉内雰囲気の汚染が生じやすく、
ダミ−材の消耗も進行するなど、多くの問題点を有する
ものであった。
環式熱処理炉は、無酸化（還元性を含む）雰囲気で使用
するため、被処理物の変更に伴う加熱室の設定炉温変更
時、とくに炉温下降時に、従来のマッフル炉のように冷
却用空気を炉内に送入して冷却をおこなうことができ
ず、やむを得ずストリップ状のダミ−材を炉内通板して
炉内冷却をおこなっている。しかしこのダミ−材により
炉外へ持出す熱量は小さいので、加熱室内の冷却に長時
間を要し、また通板作業はめんどうであるうえ、ダミ−
材の表面の汚れによる炉内雰囲気の汚染が生じやすく、
ダミ−材の消耗も進行するなど、多くの問題点を有する
ものであった。
【０００４】この発明は上記従来の問題点を解決するも
ので、加熱室の設定炉温変更時に、炉内雰囲気の汚染を
生じることなく、容易にかつ短時間で加熱室内温度を降
下させることができる雰囲気循環式熱処理炉を提供しよ
うとするものである。
ので、加熱室の設定炉温変更時に、炉内雰囲気の汚染を
生じることなく、容易にかつ短時間で加熱室内温度を降
下させることができる雰囲気循環式熱処理炉を提供しよ
うとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この出願の第１の発明の
雰囲気循環式熱処理炉は、加熱室と該加熱室の出口側に
配設した冷却室とをそなえ、前記加熱室内および前記冷
却室内においてそれぞれ雰囲気ガスを循環させて、炉内
を走行するストリップの熱処理をおこなう雰囲気循環式
熱処理炉において、前記冷却室の雰囲気ガス冷却装置の
冷風吐出路と前記加熱室とを第１ガス通路で接続し、前
記雰囲気ガス冷却装置の炉内ガス吸引路と前記加熱室と
を第２ガス通路で接続し、前記第１ガス通路を開閉する
第１開閉弁を前記第１ガス通路に設け、前記第２ガス通
路を開閉する第２開閉弁を前記第２ガス通路に設け、前
記冷風吐出路を前記第１ガス通路の接続部よりもガス下
流側で開閉する第３開閉弁を前記冷風吐出路に設けたこ
とを特徴とする。
雰囲気循環式熱処理炉は、加熱室と該加熱室の出口側に
配設した冷却室とをそなえ、前記加熱室内および前記冷
却室内においてそれぞれ雰囲気ガスを循環させて、炉内
を走行するストリップの熱処理をおこなう雰囲気循環式
熱処理炉において、前記冷却室の雰囲気ガス冷却装置の
冷風吐出路と前記加熱室とを第１ガス通路で接続し、前
記雰囲気ガス冷却装置の炉内ガス吸引路と前記加熱室と
を第２ガス通路で接続し、前記第１ガス通路を開閉する
第１開閉弁を前記第１ガス通路に設け、前記第２ガス通
路を開閉する第２開閉弁を前記第２ガス通路に設け、前
記冷風吐出路を前記第１ガス通路の接続部よりもガス下
流側で開閉する第３開閉弁を前記冷風吐出路に設けたこ
とを特徴とする。
【０００６】この出願の第２の発明の雰囲気循環式熱処
理炉は、加熱室と該加熱室の出口側に配設した冷却室と
をそなえ、前記加熱室内および前記冷却室内においてそ
れぞれ雰囲気ガスを循環させて、炉内を走行するストリ
ップの熱処理をおこなう雰囲気循環式熱処理炉におい
て、前記冷却室の雰囲気ガス冷却装置のクーラの出口側
の冷却ガス流路と前記加熱室のガス循環ファン吸込口近
傍部とを第１ガス通路で接続し、前記雰囲気ガス冷却装
置の炉内ガス吸引路と前記加熱室とを第２ガス通路で接
続し、前記第１ガス通路を開閉する第１開閉弁を前記第
１ガス通路に設け、前記第２ガス通路を開閉する第２開
閉弁を前記第２ガス通路に設けたことを特徴とする。
理炉は、加熱室と該加熱室の出口側に配設した冷却室と
をそなえ、前記加熱室内および前記冷却室内においてそ
れぞれ雰囲気ガスを循環させて、炉内を走行するストリ
ップの熱処理をおこなう雰囲気循環式熱処理炉におい
て、前記冷却室の雰囲気ガス冷却装置のクーラの出口側
の冷却ガス流路と前記加熱室のガス循環ファン吸込口近
傍部とを第１ガス通路で接続し、前記雰囲気ガス冷却装
置の炉内ガス吸引路と前記加熱室とを第２ガス通路で接
続し、前記第１ガス通路を開閉する第１開閉弁を前記第
１ガス通路に設け、前記第２ガス通路を開閉する第２開
閉弁を前記第２ガス通路に設けたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】第１の発明の雰囲気循環式熱処理炉において
は、加熱室の設定炉温変更時に加熱室内温度を降下させ
るには、第１開閉弁および第２開閉弁を開き、第３開閉
弁を閉じて、冷却室の雰囲気ガス冷却装置を運転する。
この雰囲気ガス冷却装置により冷却された雰囲気ガスは
第１ガス通路内を流れて加熱室内に供給され、加熱室内
の高温の雰囲気ガスは第２ガス通路内を流れて、雰囲気
ガス冷却装置の炉内ガス吸引路を経て雰囲気ガス冷却装
置により冷却されて加熱室内に供給され、この冷却室の
雰囲気ガス冷却装置と降温対象である加熱室との間の雰
囲気ガスの循環により、加熱室内温度が短時間で降下す
る。
は、加熱室の設定炉温変更時に加熱室内温度を降下させ
るには、第１開閉弁および第２開閉弁を開き、第３開閉
弁を閉じて、冷却室の雰囲気ガス冷却装置を運転する。
この雰囲気ガス冷却装置により冷却された雰囲気ガスは
第１ガス通路内を流れて加熱室内に供給され、加熱室内
の高温の雰囲気ガスは第２ガス通路内を流れて、雰囲気
ガス冷却装置の炉内ガス吸引路を経て雰囲気ガス冷却装
置により冷却されて加熱室内に供給され、この冷却室の
雰囲気ガス冷却装置と降温対象である加熱室との間の雰
囲気ガスの循環により、加熱室内温度が短時間で降下す
る。
【０００８】熱処理操業時には、第１開閉弁および第２
開閉弁を閉じれば、加熱室と冷却室との間のガス流は遮
断され、第３開閉弁を開いて冷却した雰囲気ガスを冷却
室内を循環させることにより、通常の被処理物の冷却が
おこなえる。
開閉弁を閉じれば、加熱室と冷却室との間のガス流は遮
断され、第３開閉弁を開いて冷却した雰囲気ガスを冷却
室内を循環させることにより、通常の被処理物の冷却が
おこなえる。
【０００９】また第２の発明の雰囲気循環式熱処理炉に
おいては、加熱室の設定炉温変更時に加熱室内温度を降
下させるには、第１開閉弁および第２開閉弁を開いて、
冷却室の雰囲気ガス冷却装置のク−ラを冷却動作状態と
して、加熱室のガス循環ファンを運転する。このガス循
環ファンの吸引作用により、雰囲気ガス冷却装置の炉内
ガス吸引路側からク−ラ２２を通過して冷却された雰囲
気ガスは、冷却ガス流路から第１ガス通路内を経て加熱
室内に吸引され、循環ファンにより吸込まれて加熱室内
に加圧供給され、加熱室内の高温の雰囲気ガスは第２ガ
ス通路内を流れて、雰囲気ガス冷却装置の炉内ガス吸引
路を経てク−ラにより冷却されて、冷却ガス流路から加
熱室内に吸引され、この冷却室の雰囲気ガス冷却装置の
ク−ラ前後部分と降温対象である加熱室との間の雰囲気
ガスの循環により、加熱室内温度が短時間で降下する。
おいては、加熱室の設定炉温変更時に加熱室内温度を降
下させるには、第１開閉弁および第２開閉弁を開いて、
冷却室の雰囲気ガス冷却装置のク−ラを冷却動作状態と
して、加熱室のガス循環ファンを運転する。このガス循
環ファンの吸引作用により、雰囲気ガス冷却装置の炉内
ガス吸引路側からク−ラ２２を通過して冷却された雰囲
気ガスは、冷却ガス流路から第１ガス通路内を経て加熱
室内に吸引され、循環ファンにより吸込まれて加熱室内
に加圧供給され、加熱室内の高温の雰囲気ガスは第２ガ
ス通路内を流れて、雰囲気ガス冷却装置の炉内ガス吸引
路を経てク−ラにより冷却されて、冷却ガス流路から加
熱室内に吸引され、この冷却室の雰囲気ガス冷却装置の
ク−ラ前後部分と降温対象である加熱室との間の雰囲気
ガスの循環により、加熱室内温度が短時間で降下する。
【００１０】熱処理操業時には、第１開閉弁および第２
開閉弁を閉じれば、加熱室と冷却室との間のガス流は遮
断され、冷却した雰囲気ガスを冷却室内を循環させるこ
とにより、通常の被処理物の冷却がおこなえる。
開閉弁を閉じれば、加熱室と冷却室との間のガス流は遮
断され、冷却した雰囲気ガスを冷却室内を循環させるこ
とにより、通常の被処理物の冷却がおこなえる。
【００１１】
【実施例】以下図１乃至図４により第１の発明の一実施
例を説明する。図１において１は、フロ−ティング炉形
式の雰囲気循環式熱処理炉であって、２は前室、３はこ
の前室に続く加熱室、４はこの加熱室の出口側に接続し
た徐冷室を兼ねた冷却室、５はこの冷却室に続く冷却専
用の冷却室、６はこの冷却室の出口側の後室である。７
は前室入口部に設置したロ−ル式のシ−ル装置、８は後
室出口部に設置したロ−ル式のシ−ル装置である。
例を説明する。図１において１は、フロ−ティング炉形
式の雰囲気循環式熱処理炉であって、２は前室、３はこ
の前室に続く加熱室、４はこの加熱室の出口側に接続し
た徐冷室を兼ねた冷却室、５はこの冷却室に続く冷却専
用の冷却室、６はこの冷却室の出口側の後室である。７
は前室入口部に設置したロ−ル式のシ−ル装置、８は後
室出口部に設置したロ−ル式のシ−ル装置である。
【００１２】加熱室３には、２基の循環ファン１１，１
１が設置され、これらのファンによる吐出ガスは、炉長
方向に対して左右の側壁に沿って設けたダクト１２（図
では一側分のみを図示）内を流下してヒ−タにより加熱
され、下側のプレナムチャンバ１３のガス噴出口から上
向きに噴出して被処理材であるストリップＳを浮上させ
保持するとともに加熱し、また上側のプレナムチャンバ
１４のガス噴出口から下向きに噴出してストリップＳを
抑えて安定させるとともに加熱するようになっている。
１が設置され、これらのファンによる吐出ガスは、炉長
方向に対して左右の側壁に沿って設けたダクト１２（図
では一側分のみを図示）内を流下してヒ−タにより加熱
され、下側のプレナムチャンバ１３のガス噴出口から上
向きに噴出して被処理材であるストリップＳを浮上させ
保持するとともに加熱し、また上側のプレナムチャンバ
１４のガス噴出口から下向きに噴出してストリップＳを
抑えて安定させるとともに加熱するようになっている。
【００１３】また冷却室４には、その天井部の仕切壁４
ａの上部に、循環ファン２１と図示しない冷却水供給源
に接続したク−ラ２２を主要機器とする、雰囲気ガス冷
却装置２０が設けてある。２３は下向きに開口し冷却室
４内に連通する炉内ガス吸引路で、クーラ２２はこの炉
内ガス吸引路２３と循環ファン２１の吸込口２１ａとの
間に設けてあるが、この実施例では徐冷時にはク−ラ２
２は図３に矢印Ｒで示すように横行駆動されて、囲壁２
４で囲んだ凹所２５内にその一部が収納され、炉内ガス
吸引路２３と吸込口２１ａが開口するク−ラ出口側の冷
却ガス流路２６とを連通するガス通過口２７（全開巾＝
Ｗ）内へのク−ラ２２の突出量Ｖを変えることにより、
ガス冷却量を調整するようになっている。
ａの上部に、循環ファン２１と図示しない冷却水供給源
に接続したク−ラ２２を主要機器とする、雰囲気ガス冷
却装置２０が設けてある。２３は下向きに開口し冷却室
４内に連通する炉内ガス吸引路で、クーラ２２はこの炉
内ガス吸引路２３と循環ファン２１の吸込口２１ａとの
間に設けてあるが、この実施例では徐冷時にはク−ラ２
２は図３に矢印Ｒで示すように横行駆動されて、囲壁２
４で囲んだ凹所２５内にその一部が収納され、炉内ガス
吸引路２３と吸込口２１ａが開口するク−ラ出口側の冷
却ガス流路２６とを連通するガス通過口２７（全開巾＝
Ｗ）内へのク−ラ２２の突出量Ｖを変えることにより、
ガス冷却量を調整するようになっている。
【００１４】なおク−ラ２２は、図３および図４に示す
ように、その上部に突設したハンガ−２８に軸支した車
輪２９を、炉巾方向に延びるレ−ル３０，３０に係合さ
せることにより懸吊状態とし、炉体に軸支したスプロケ
ット３１，３２に巻掛けたチェ−ン３３を上記ハンガ−
２８に連結して、一方のスプロケット３１をモ−タ３４
によりチェ−ン駆動することによって、前記レ−ル３０
に沿って横行駆動されるようになっているが、エアシリ
ンダを用いるなど他の駆動および支持構造を採用しても
よい。
ように、その上部に突設したハンガ−２８に軸支した車
輪２９を、炉巾方向に延びるレ−ル３０，３０に係合さ
せることにより懸吊状態とし、炉体に軸支したスプロケ
ット３１，３２に巻掛けたチェ−ン３３を上記ハンガ−
２８に連結して、一方のスプロケット３１をモ−タ３４
によりチェ−ン駆動することによって、前記レ−ル３０
に沿って横行駆動されるようになっているが、エアシリ
ンダを用いるなど他の駆動および支持構造を採用しても
よい。
【００１５】循環ファン２１の吐出口２１ｂに接続した
ダクト４１は、分岐して上側のプレナムチャンバ４２と
下側のプレナムチャンバ４３に接続され、吐出口２１ｂ
からの冷却された吐出ガスは、下側のプレナムチャンバ
４３のガス噴出口から上向きに噴出して加熱室３におけ
るのと同様にストリップＳを浮上させ保持するととも
に、ストリップＳを冷却し、同様に上側のプレナムチャ
ンバ４２のガス噴出口から下向きに噴出してストリップ
Ｓを押えるとともに冷却するようになっている。
ダクト４１は、分岐して上側のプレナムチャンバ４２と
下側のプレナムチャンバ４３に接続され、吐出口２１ｂ
からの冷却された吐出ガスは、下側のプレナムチャンバ
４３のガス噴出口から上向きに噴出して加熱室３におけ
るのと同様にストリップＳを浮上させ保持するととも
に、ストリップＳを冷却し、同様に上側のプレナムチャ
ンバ４２のガス噴出口から下向きに噴出してストリップ
Ｓを押えるとともに冷却するようになっている。
【００１６】そして図１において、５１はダクトから成
る第１ガス通路で、その一端部５１ａは、加熱室３の後
端部寄りの炉体に穿設した給気口５５に接続され、他端
部５１ｂは、冷却室４の循環ファン２１の冷風吐出路４
１ａを構成するダクト４１（図２参照）に接続されてい
る。また５２はダクトから成る第２ガス通路で、その一
端部５２ａは加熱室３の前端部寄りの炉体に穿設した排
気口５６に接続され、他端部５２ｂは冷却室４の炉内ガ
ス吸引路２３に接続されている。
る第１ガス通路で、その一端部５１ａは、加熱室３の後
端部寄りの炉体に穿設した給気口５５に接続され、他端
部５１ｂは、冷却室４の循環ファン２１の冷風吐出路４
１ａを構成するダクト４１（図２参照）に接続されてい
る。また５２はダクトから成る第２ガス通路で、その一
端部５２ａは加熱室３の前端部寄りの炉体に穿設した排
気口５６に接続され、他端部５２ｂは冷却室４の炉内ガ
ス吸引路２３に接続されている。
【００１７】また６１は第１ガス通路５１に設けた第１
開閉弁、６２は第２ガス通路５２に設けた第２開閉弁、
６３は冷風吐出路４１ａ内の、第１ガス通路５１の接続
部よりもガス下流側（プレナムチャンバ側）に設けた第
３開閉弁（図２参照）で、いずれもバタフライ弁形式の
ものであって、図示しないエアシリンダにより開閉駆動
される。
開閉弁、６２は第２ガス通路５２に設けた第２開閉弁、
６３は冷風吐出路４１ａ内の、第１ガス通路５１の接続
部よりもガス下流側（プレナムチャンバ側）に設けた第
３開閉弁（図２参照）で、いずれもバタフライ弁形式の
ものであって、図示しないエアシリンダにより開閉駆動
される。
【００１８】また図１において、冷却室５にも、ク−ラ
７１と循環ファン７２を主要機器とする雰囲気ガス冷却
装置７０が設けられ、循環ファン７２の吐出する冷却ガ
スがプレナムチャンバ７３，７４に供給され、ストリッ
プＳの浮上保持と冷却をおこなうようになっているが、
ク−ラ７１が固定されていて雰囲気ガス全循環流量の冷
却がおこなわれる他は、冷却室４と同様な炉内雰囲気ガ
ス循環構造を有するものである。
７１と循環ファン７２を主要機器とする雰囲気ガス冷却
装置７０が設けられ、循環ファン７２の吐出する冷却ガ
スがプレナムチャンバ７３，７４に供給され、ストリッ
プＳの浮上保持と冷却をおこなうようになっているが、
ク−ラ７１が固定されていて雰囲気ガス全循環流量の冷
却がおこなわれる他は、冷却室４と同様な炉内雰囲気ガ
ス循環構造を有するものである。
【００１９】上記構成の雰囲気循環式熱処理炉１におい
ては、通常の熱処理時には、第１開閉弁６１および第２
開閉弁６２は閉じ、第３開閉弁６３は開いた状態とし
て、加熱室３においては加熱雰囲気ガスを循環させ、冷
却室４においては対象ストリップＳの処理条件に応じて
ク−ラ２２を所望の突出状態とした冷却雰囲気ガスの循
環をおこない、冷却室５においては冷却雰囲気ガスを循
環させることにより、走行するストリップＳの熱処理を
おこなう。
ては、通常の熱処理時には、第１開閉弁６１および第２
開閉弁６２は閉じ、第３開閉弁６３は開いた状態とし
て、加熱室３においては加熱雰囲気ガスを循環させ、冷
却室４においては対象ストリップＳの処理条件に応じて
ク−ラ２２を所望の突出状態とした冷却雰囲気ガスの循
環をおこない、冷却室５においては冷却雰囲気ガスを循
環させることにより、走行するストリップＳの熱処理を
おこなう。
【００２０】ストリップＳの材種やサイズ等の変更に伴
って加熱室３の設定炉温を降下させる場合は、ストリッ
プ停止状態で、かつシ−ル装置７および８をシ−ル状態
として、第１開閉弁６１および第２開閉弁６２を開き、
第３開閉弁６３を閉じて、冷却室４のク−ラ２２は実線
図示の全突出状態として雰囲気ガス冷却装置２０を運転
する。ク−ラ２２により冷却され循環ファン２１により
吐出された低温雰囲気ガスは、第１ガス通路５１を経て
加熱室３内に送入され、加熱室３内を冷却する。加熱室
３内の高温ガスは第２ガス通路５２から冷却室４の炉内
ガス吸引路２３を経て、ク−ラ２２部通過により冷却さ
れて循環ファン２１により加熱室３へ再度循環供給さ
れ、この循環ガス流により短時間で加熱室３内を温度降
下させることができるのである。
って加熱室３の設定炉温を降下させる場合は、ストリッ
プ停止状態で、かつシ−ル装置７および８をシ−ル状態
として、第１開閉弁６１および第２開閉弁６２を開き、
第３開閉弁６３を閉じて、冷却室４のク−ラ２２は実線
図示の全突出状態として雰囲気ガス冷却装置２０を運転
する。ク−ラ２２により冷却され循環ファン２１により
吐出された低温雰囲気ガスは、第１ガス通路５１を経て
加熱室３内に送入され、加熱室３内を冷却する。加熱室
３内の高温ガスは第２ガス通路５２から冷却室４の炉内
ガス吸引路２３を経て、ク−ラ２２部通過により冷却さ
れて循環ファン２１により加熱室３へ再度循環供給さ
れ、この循環ガス流により短時間で加熱室３内を温度降
下させることができるのである。
【００２１】なお上記冷却によって炉内が負圧となり外
気を吸引しないように、雰囲気ガス供給源からの新たな
雰囲気ガスを、たとえば加熱室内等の炉内に補充供給す
るのが好ましい。加熱室３内が所定の温度に温度降下し
たら、各開閉弁をもとの状態に戻すことにより、次の熱
処理を開始できる状態とすることができる。
気を吸引しないように、雰囲気ガス供給源からの新たな
雰囲気ガスを、たとえば加熱室内等の炉内に補充供給す
るのが好ましい。加熱室３内が所定の温度に温度降下し
たら、各開閉弁をもとの状態に戻すことにより、次の熱
処理を開始できる状態とすることができる。
【００２２】次に図５は、第２の発明の一実施例を示
し、ダクトから成る第１ガス通路５１の一端部５１ａ
を、加熱室３の炉入口側の循環ファン１１Ａの吸込口１
１ａの近傍の炉体に穿設した吸気口５７に接続し、他端
部５１ｂを、冷却室４の雰囲気ガス冷却装置２０部のク
−ラ２２の出口側の冷却ガス流路２６に接続し、前述の
図２に示す第３開閉弁６３を省略した他は、前記実施例
と同一構造を有するものである。
し、ダクトから成る第１ガス通路５１の一端部５１ａ
を、加熱室３の炉入口側の循環ファン１１Ａの吸込口１
１ａの近傍の炉体に穿設した吸気口５７に接続し、他端
部５１ｂを、冷却室４の雰囲気ガス冷却装置２０部のク
−ラ２２の出口側の冷却ガス流路２６に接続し、前述の
図２に示す第３開閉弁６３を省略した他は、前記実施例
と同一構造を有するものである。
【００２３】この実施例の雰囲気循環式熱処理炉８１に
おいては、通常の熱処理時には第１開閉弁６１および第
２開閉弁６２を閉じて、前記実施例と同様にして走行す
るストリップＳの熱処理をおこなう。
おいては、通常の熱処理時には第１開閉弁６１および第
２開閉弁６２を閉じて、前記実施例と同様にして走行す
るストリップＳの熱処理をおこなう。
【００２４】加熱室３の設定炉温を降下させる場合は、
ストリップ停止状態で、かつシ−ル装置７および８をシ
−ル状態として、第１開閉弁６１および第２開閉弁６２
を開き、冷却室４のク−ラ２２を全突出状態として該ク
−ラ２２に通水して冷却動作状態とするとともに、加熱
室３の循環ファン１１Ａを運転する。循環ファン１１Ａ
の吸引作用によって、炉内ガス吸引路２３からク−ラ２
２を通過して冷却された低温雰囲気ガスは、冷却ガス流
路２６から第１ガス通路５１を経て加熱室３内に吸引さ
れ、循環ファン１１Ａの吸込口１１ａから吸込まれて該
循環ファンの吐出口に接続したダクト１２を経てプレナ
ムチャンバ１３，１４から加熱室３内に供給されて、加
熱室３内を冷却する。加熱室３内の高温ガスは第２ガス
通路５２から冷却室４の炉内ガス吸引路２３を経て、ク
−ラ２２部通過により冷却されて循環ファン１１Ａによ
り加熱室３へ再度循環吸引され、この循環ガス流により
短時間で加熱室３内を温度降下させることができるので
ある。
ストリップ停止状態で、かつシ−ル装置７および８をシ
−ル状態として、第１開閉弁６１および第２開閉弁６２
を開き、冷却室４のク−ラ２２を全突出状態として該ク
−ラ２２に通水して冷却動作状態とするとともに、加熱
室３の循環ファン１１Ａを運転する。循環ファン１１Ａ
の吸引作用によって、炉内ガス吸引路２３からク−ラ２
２を通過して冷却された低温雰囲気ガスは、冷却ガス流
路２６から第１ガス通路５１を経て加熱室３内に吸引さ
れ、循環ファン１１Ａの吸込口１１ａから吸込まれて該
循環ファンの吐出口に接続したダクト１２を経てプレナ
ムチャンバ１３，１４から加熱室３内に供給されて、加
熱室３内を冷却する。加熱室３内の高温ガスは第２ガス
通路５２から冷却室４の炉内ガス吸引路２３を経て、ク
−ラ２２部通過により冷却されて循環ファン１１Ａによ
り加熱室３へ再度循環吸引され、この循環ガス流により
短時間で加熱室３内を温度降下させることができるので
ある。
【００２５】なお上記実施例においては、第１ガス通路
５１の一端部５１ａは、加熱室３の１台の循環ファン１
１Ａの吸込口１１ａの近傍部に接続したが、たとえば第
１ガス通路５１を分岐させるなどして、２台の循環ファ
ン１１Ａ，１１の各吸込口の近傍部に接続して、これら
両循環ファンの運転により冷却ガス流路２６からのガス
吸引および加熱室３内への加圧供給をおこなうようにし
てもよい。
５１の一端部５１ａは、加熱室３の１台の循環ファン１
１Ａの吸込口１１ａの近傍部に接続したが、たとえば第
１ガス通路５１を分岐させるなどして、２台の循環ファ
ン１１Ａ，１１の各吸込口の近傍部に接続して、これら
両循環ファンの運転により冷却ガス流路２６からのガス
吸引および加熱室３内への加圧供給をおこなうようにし
てもよい。
【００２６】以上のように、各開閉弁の開閉操作と冷却
室４の雰囲気ガス冷却装置２０（第１の発明の場合）ま
たは加熱室３の循環ファン１１Ａ（第２の発明の場合）
の運転とにより、加熱室３の温度降下を容易にかつ短時
間でおこなうことができ、また冷却のために雰囲気ガス
を流通させるだけなので、ダミ−材の通板の場合のよう
な炉内雰囲気の汚染やダミ−材の消耗をひきおこすこと
もない。
室４の雰囲気ガス冷却装置２０（第１の発明の場合）ま
たは加熱室３の循環ファン１１Ａ（第２の発明の場合）
の運転とにより、加熱室３の温度降下を容易にかつ短時
間でおこなうことができ、また冷却のために雰囲気ガス
を流通させるだけなので、ダミ−材の通板の場合のよう
な炉内雰囲気の汚染やダミ−材の消耗をひきおこすこと
もない。
【００２７】この発明は上記各実施例に限定されるもの
ではなく、たとえば第３開閉弁６３は各プレナムチャン
バ４２，４３に供給するガス量調整用のダンパと兼用の
ものとしてもよい。また第１ガス通路５１および第２ガ
ス通路５２は、直近の冷却室４ではなく離れた冷却室５
に接続してもよい。
ではなく、たとえば第３開閉弁６３は各プレナムチャン
バ４２，４３に供給するガス量調整用のダンパと兼用の
ものとしてもよい。また第１ガス通路５１および第２ガ
ス通路５２は、直近の冷却室４ではなく離れた冷却室５
に接続してもよい。
【００２８】また上記実施例では、冷却室４は徐冷室を
兼ねるものであったが、この発明は、固設式のク−ラを
そなえた冷却専用の冷却室を１室以上有する雰囲気循環
式熱処理炉にも適用できるものである。さらにこの発明
は、ストリップ材保持手段としてハ−スロ−ルを用いる
雰囲気循環式熱処理炉にも適用できるものである。
兼ねるものであったが、この発明は、固設式のク−ラを
そなえた冷却専用の冷却室を１室以上有する雰囲気循環
式熱処理炉にも適用できるものである。さらにこの発明
は、ストリップ材保持手段としてハ−スロ−ルを用いる
雰囲気循環式熱処理炉にも適用できるものである。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
冷却室の雰囲気ガス冷却装置により冷却した炉内雰囲気
ガスを第１ガス通路を経て加熱室内に送入し（第１の発
明の場合）、あるいは冷却室の雰囲気ガス冷却装置のク
−ラにより冷却した炉内雰囲気ガスを第１ガス通路を経
て加熱室内に吸引し（第２の発明の場合）、加熱室内の
炉内雰囲気ガスを第２ガス通路を経て上記雰囲気ガス冷
却装置に還流させるようにしたので、加熱室の設定炉温
変更時における加熱室内温度の降下を、炉内雰囲気の汚
染を生じることなく容易にかつ短時間でおこなうことが
でき、雰囲気循環式熱処理炉の稼動率向上に寄与するも
のである。
冷却室の雰囲気ガス冷却装置により冷却した炉内雰囲気
ガスを第１ガス通路を経て加熱室内に送入し（第１の発
明の場合）、あるいは冷却室の雰囲気ガス冷却装置のク
−ラにより冷却した炉内雰囲気ガスを第１ガス通路を経
て加熱室内に吸引し（第２の発明の場合）、加熱室内の
炉内雰囲気ガスを第２ガス通路を経て上記雰囲気ガス冷
却装置に還流させるようにしたので、加熱室の設定炉温
変更時における加熱室内温度の降下を、炉内雰囲気の汚
染を生じることなく容易にかつ短時間でおこなうことが
でき、雰囲気循環式熱処理炉の稼動率向上に寄与するも
のである。
【図１】第１の発明の一実施例を示す雰囲気循環式熱処
理炉の縦断面図である。
理炉の縦断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】図３のＣ−Ｃ線断面図である。
【図５】第２の発明の一実施例を示す雰囲気循環式熱処
理炉の要部縦断面図である。
理炉の要部縦断面図である。
１…雰囲気循環式熱処理炉、３…加熱室、４…冷却室、
１１Ａ…循環ファン、２０…雰囲気ガス冷却装置、２１
…循環ファン、２２…ク−ラ、２３…炉内ガス吸引路、
２６…冷却ガス流路、４１…ダクト、４１ａ…冷風吐出
路、５１…第１ガス通路、５１ａ…一端部、５１ｂ…他
端部、５２…第２ガス通路、５２ａ…一端部、５２ｂ…
他端部、５５…給気口、５６…排気口、５７…吸気口、
６１…第１開閉弁、６２…第２開閉弁、６３…第３開閉
弁、Ｓ…ストリップ、８１…雰囲気循環式熱処理炉。
１１Ａ…循環ファン、２０…雰囲気ガス冷却装置、２１
…循環ファン、２２…ク−ラ、２３…炉内ガス吸引路、
２６…冷却ガス流路、４１…ダクト、４１ａ…冷風吐出
路、５１…第１ガス通路、５１ａ…一端部、５１ｂ…他
端部、５２…第２ガス通路、５２ａ…一端部、５２ｂ…
他端部、５５…給気口、５６…排気口、５７…吸気口、
６１…第１開閉弁、６２…第２開閉弁、６３…第３開閉
弁、Ｓ…ストリップ、８１…雰囲気循環式熱処理炉。
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(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C21D 9/52 - 9/66
C21D 1/74
F27B 9/00 - 9/40
Claims (2)
- 【請求項１】 加熱室と該加熱室の出口側に配設した冷
却室とをそなえ、前記加熱室内および前記冷却室内にお
いてそれぞれ雰囲気ガスを循環させて、炉内を走行する
ストリップの熱処理をおこなう雰囲気循環式熱処理炉に
おいて、前記冷却室の雰囲気ガス冷却装置の冷風吐出路
と前記加熱室とを第１ガス通路で接続し、前記雰囲気ガ
ス冷却装置の炉内ガス吸引路と前記加熱室とを第２ガス
通路で接続し、前記第１ガス通路を開閉する第１開閉弁
を前記第１ガス通路に設け、前記第２ガス通路を開閉す
る第２開閉弁を前記第２ガス通路に設け、前記冷風吐出
路を前記第１ガス通路の接続部よりもガス下流側で開閉
する第３開閉弁を前記冷風吐出路に設けたことを特徴と
する雰囲気循環式熱処理炉。 - 【請求項２】 加熱室と該加熱室の出口側に配設した冷
却室とをそなえ、前記加熱室内および前記冷却室内にお
いてそれぞれ雰囲気ガスを循環させて、炉内を走行する
ストリップの熱処理をおこなう雰囲気循環式熱処理炉に
おいて、前記冷却室の雰囲気ガス冷却装置のクーラの出
口側の冷却ガス流路と前記加熱室のガス循環ファン吸込
口近傍部とを第１ガス通路で接続し、前記雰囲気ガス冷
却装置の炉内ガス吸引路と前記加熱室とを第２ガス通路
で接続し、前記第１ガス通路を開閉する第１開閉弁を前
記第１ガス通路に設け、前記第２ガス通路を開閉する第
２開閉弁を前記第２ガス通路に設けたことを特徴とする
雰囲気循環式熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34956293A JP3395316B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 雰囲気循環式熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34956293A JP3395316B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 雰囲気循環式熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07188783A JPH07188783A (ja) | 1995-07-25 |
| JP3395316B2 true JP3395316B2 (ja) | 2003-04-14 |
Family
ID=18404561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34956293A Expired - Fee Related JP3395316B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 雰囲気循環式熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3395316B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4713723B2 (ja) * | 2000-10-27 | 2011-06-29 | 中外炉工業株式会社 | 金属ストリップの連続熱処理炉の操業方法 |
| US8328551B2 (en) * | 2002-09-26 | 2012-12-11 | Btu International, Inc. | Convection furnace thermal profile enhancement |
| CN112662857A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-04-16 | 华北电力大学 | 一种提高材料冷却速率的气氛热处理炉 |
| DE102021130814A1 (de) * | 2021-11-24 | 2023-05-25 | Otto Junker Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Wärmebehandlungsanlage mit einem Ofen und einer Kühlsektion sowie Verfahren zur Wärmebehandlung |
-
1993
- 1993-12-28 JP JP34956293A patent/JP3395316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07188783A (ja) | 1995-07-25 |
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Legal Events
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