JP3390561B2 - 液晶表示装置用遮光膜 - Google Patents
液晶表示装置用遮光膜Info
- Publication number
- JP3390561B2 JP3390561B2 JP02312795A JP2312795A JP3390561B2 JP 3390561 B2 JP3390561 B2 JP 3390561B2 JP 02312795 A JP02312795 A JP 02312795A JP 2312795 A JP2312795 A JP 2312795A JP 3390561 B2 JP3390561 B2 JP 3390561B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molybdenum
- light
- shielding film
- layer
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置（ＬＣＤ）
用遮光膜、とくにカラーＬＣＤ用遮光膜に関するもので
ある。
用遮光膜、とくにカラーＬＣＤ用遮光膜に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】高いコントラストを得るために、従来Ｌ
ＣＤ用遮蔽膜として遮光性の高いクロム膜が用られる
が、可視光反射率が５０％程度ある。したがって、コン
トラストをさらに向上させるためにクロム膜の可視光反
射率を低下させることを目的として、酸化クロム膜をク
ロム膜に積層した２層構造の遮光膜が現在用いられてい
る。
ＣＤ用遮蔽膜として遮光性の高いクロム膜が用られる
が、可視光反射率が５０％程度ある。したがって、コン
トラストをさらに向上させるためにクロム膜の可視光反
射率を低下させることを目的として、酸化クロム膜をク
ロム膜に積層した２層構造の遮光膜が現在用いられてい
る。
【０００３】しかし、遮光膜製造にはクロムおよび酸化
クロムをエッチングする工程が含まれており、その際有
害な６価クロムが生じる。したがって、人および環境へ
の汚染を防ぐためエッチング液の取扱、廃液の保管およ
び処理などを厳格に行っており、人、環境および総合的
コストの面からこのような有害物を生じさせないで製造
できる遮光膜が望まれている。
クロムをエッチングする工程が含まれており、その際有
害な６価クロムが生じる。したがって、人および環境へ
の汚染を防ぐためエッチング液の取扱、廃液の保管およ
び処理などを厳格に行っており、人、環境および総合的
コストの面からこのような有害物を生じさせないで製造
できる遮光膜が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、製造工程で
有害物の発生がなく、クロム系多層膜と同等の遮光性お
よび低反射性とを有する遮光膜の提供を目的とする。
有害物の発生がなく、クロム系多層膜と同等の遮光性お
よび低反射性とを有する遮光膜の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、可視光領域で
透明な基板上に液晶表示用絵素を形成するために格子状
に設けられた液晶表示装置用遮光膜において、該遮光膜
は、透明基板側の５５０ｎｍでの光学定数の消衰係数が
０．１５以上０．９０以下のモリブデン化合物からなる
層と、その上に形成された５５０ｎｍでの光学定数の消
衰係数が１．０以上のモリブデンおよび／またはモリブ
デン化合物からなる層とを有することを特徴とする液晶
表示装置用遮光膜を提供する。
透明な基板上に液晶表示用絵素を形成するために格子状
に設けられた液晶表示装置用遮光膜において、該遮光膜
は、透明基板側の５５０ｎｍでの光学定数の消衰係数が
０．１５以上０．９０以下のモリブデン化合物からなる
層と、その上に形成された５５０ｎｍでの光学定数の消
衰係数が１．０以上のモリブデンおよび／またはモリブ
デン化合物からなる層とを有することを特徴とする液晶
表示装置用遮光膜を提供する。
【０００６】本発明の遮光膜は、無害性の観点から、モ
リブデン系の層からなることが重要であり、また、遮光
性および低反射性の観点から、透明基板側の５５０ｎｍ
での光学定数の消衰係数が０．１５以上０．９０以下の
モリブデン化合物からなる層と、その上の５５０ｎｍで
の光学定数の消衰係数が１．０以上（可視光領域で不透
明）のモリブデンおよび／またはモリブデン化合物から
なる層とを有することが重要である。
リブデン系の層からなることが重要であり、また、遮光
性および低反射性の観点から、透明基板側の５５０ｎｍ
での光学定数の消衰係数が０．１５以上０．９０以下の
モリブデン化合物からなる層と、その上の５５０ｎｍで
の光学定数の消衰係数が１．０以上（可視光領域で不透
明）のモリブデンおよび／またはモリブデン化合物から
なる層とを有することが重要である。
【０００７】前記５５０ｎｍでの光学定数の消衰係数が
１．０以上のモリブデンおよび／またはモリブデン化合
物からなる層としては、モリブデンおよび／または窒化
モリブデンからなる層であることが好ましく、より具体
的には、モリブデンからなる層、窒化モリブデンからな
る層、モリブデンおよび基板側に窒化モリブデンからな
る層、が好ましい。
１．０以上のモリブデンおよび／またはモリブデン化合
物からなる層としては、モリブデンおよび／または窒化
モリブデンからなる層であることが好ましく、より具体
的には、モリブデンからなる層、窒化モリブデンからな
る層、モリブデンおよび基板側に窒化モリブデンからな
る層、が好ましい。
【０００８】前記透明基板側の５５０ｎｍでの光学定数
の消衰係数が０．１５以上０．９０以下のモリブデン化
合物からなる層としては、酸化モリブデンおよび／また
は酸窒化モリブデンからなる層であることが好ましい。
の消衰係数が０．１５以上０．９０以下のモリブデン化
合物からなる層としては、酸化モリブデンおよび／また
は酸窒化モリブデンからなる層であることが好ましい。
【０００９】したがって、好ましい遮光膜の層構成とし
ては、１）基板側から酸窒化モリブデンとモリブデンと
の２層、２）基板側から酸化モリブデンとモリブデンと
の２層、３）基板側から酸窒化モリブデンと窒化モリブ
デンとの２層、４）基板側から酸化モリブデンと窒化モ
リブデンとの２層、５）基板側から酸窒化モリブデンと
窒化モリブデンとモリブデンとの３層、６）酸化モリブ
デンと窒化モリブデンとモリブデンとの３層、を挙げる
ことができる。
ては、１）基板側から酸窒化モリブデンとモリブデンと
の２層、２）基板側から酸化モリブデンとモリブデンと
の２層、３）基板側から酸窒化モリブデンと窒化モリブ
デンとの２層、４）基板側から酸化モリブデンと窒化モ
リブデンとの２層、５）基板側から酸窒化モリブデンと
窒化モリブデンとモリブデンとの３層、６）酸化モリブ
デンと窒化モリブデンとモリブデンとの３層、を挙げる
ことができる。
【００１０】本発明の多層膜構成の遮光膜は、製造工程
において有害物を発生させないことに加え、比視感度が
最大となる波長５５５ｎｍ付近はもちろん可視光全域に
わたり、反射率を著しく低くできる。
において有害物を発生させないことに加え、比視感度が
最大となる波長５５５ｎｍ付近はもちろん可視光全域に
わたり、反射率を著しく低くできる。
【００１１】
［例１および例２］図１は本発明の２層構成の遮光膜の
一例である。図１において、２は酸窒化モリブデンから
なる層であり、１はモリブデンからなる層であり、３は
ガラス基板である。図１の酸窒化モリブデン層２および
モリブデン層１の５５０ｎｍでの消衰係数はそれぞれ
０．４０、２．６であり、また、膜厚はそれぞれ５５ｎ
ｍ、１００ｎｍである。
一例である。図１において、２は酸窒化モリブデンから
なる層であり、１はモリブデンからなる層であり、３は
ガラス基板である。図１の酸窒化モリブデン層２および
モリブデン層１の５５０ｎｍでの消衰係数はそれぞれ
０．４０、２．６であり、また、膜厚はそれぞれ５５ｎ
ｍ、１００ｎｍである。
【００１２】図１の遮光膜は、モリブデンターゲットを
用い、窒素および酸素の混合ガス（窒素と酸素との流量
比は８：２）雰囲気中でスパッタリング法により酸窒化
モリブデン層２を形成し、次に、同じモリブデンターゲ
ットを用い、アルゴンガスのみの雰囲気中でスパッタリ
ング法によりモリブデン層１を形成して得た。
用い、窒素および酸素の混合ガス（窒素と酸素との流量
比は８：２）雰囲気中でスパッタリング法により酸窒化
モリブデン層２を形成し、次に、同じモリブデンターゲ
ットを用い、アルゴンガスのみの雰囲気中でスパッタリ
ング法によりモリブデン層１を形成して得た。
【００１３】図２中の５は、図１の遮光膜（以下、例１
の遮光膜という）のガラス基板側から測定した分光反射
率曲線であり、図２中の４は、モリブデンからなる層１
のみの遮光膜（以下、例２の遮光膜という）のガラス基
板側から測定した分光反射率曲線である。
の遮光膜という）のガラス基板側から測定した分光反射
率曲線であり、図２中の４は、モリブデンからなる層１
のみの遮光膜（以下、例２の遮光膜という）のガラス基
板側から測定した分光反射率曲線である。
【００１４】図２に示されるように、例１の遮光膜の反
射率は５５０ｎｍで例２の遮光膜の約１／９であり、５
％程度であった。また、例１の遮光膜は、光学濃度が７
００ｎｍで３．５であり、したがって、十分な低反射性
と遮光性とを有する遮光膜であった。
射率は５５０ｎｍで例２の遮光膜の約１／９であり、５
％程度であった。また、例１の遮光膜は、光学濃度が７
００ｎｍで３．５であり、したがって、十分な低反射性
と遮光性とを有する遮光膜であった。
【００１５】［例３］例１の遮光膜における酸窒化モリ
ブデン層の５５０ｎｍでの消衰係数を、スパッタリング
時のガスの混合比を変えることで変化させた以外は例１
と同様にして２層構造の各種遮光膜（以下、例３の遮光
膜という）を得た。なお、この場合、酸窒化モリブデン
層の厚みは、５５０ｎｍでの反射が極小になるように、
４０〜５５ｎｍの間で調整した。
ブデン層の５５０ｎｍでの消衰係数を、スパッタリング
時のガスの混合比を変えることで変化させた以外は例１
と同様にして２層構造の各種遮光膜（以下、例３の遮光
膜という）を得た。なお、この場合、酸窒化モリブデン
層の厚みは、５５０ｎｍでの反射が極小になるように、
４０〜５５ｎｍの間で調整した。
【００１６】図３に、例３の遮光膜における酸窒化モリ
ブデン層の５５０ｎｍでの消衰係数と、例３の遮光膜の
ガラス基板側から測定した５５０ｎｍでの反射率との関
係をを示す。
ブデン層の５５０ｎｍでの消衰係数と、例３の遮光膜の
ガラス基板側から測定した５５０ｎｍでの反射率との関
係をを示す。
【００１７】図３から、酸窒化モリブデン層の５５０ｎ
ｍでの消衰係数を０．１５から０．９０の範囲内にする
ことでガラス基板の反射を含めても９％以下の低い反射
率にできることが示される。
ｍでの消衰係数を０．１５から０．９０の範囲内にする
ことでガラス基板の反射を含めても９％以下の低い反射
率にできることが示される。
【００１８】例３の遮光膜においては、酸窒化モリブデ
ン層を用いたが、酸窒化モリブデン以外のモリブデン化
合物であっても、５５０ｎｍでの消衰係数を０．１５か
ら０．９０の範囲内とすれば、図３に示されるような低
反射化の性能が得られる。
ン層を用いたが、酸窒化モリブデン以外のモリブデン化
合物であっても、５５０ｎｍでの消衰係数を０．１５か
ら０．９０の範囲内とすれば、図３に示されるような低
反射化の性能が得られる。
【００１９】例えば、酸化モリブデン膜の消衰係数は酸
窒化モリブデンと同様に、アルゴン、酸素、一酸化炭素
もしくは二酸化炭素などからなる混合ガスにおけるガス
比で制御できる。例３の遮光膜における酸窒化モリブデ
ン層の替わりに、５５０ｎｍでの消衰係数０．４の酸化
モリブデン層を用いた２層構成の遮光膜は５５０ｎｍで
反射率が５％である。
窒化モリブデンと同様に、アルゴン、酸素、一酸化炭素
もしくは二酸化炭素などからなる混合ガスにおけるガス
比で制御できる。例３の遮光膜における酸窒化モリブデ
ン層の替わりに、５５０ｎｍでの消衰係数０．４の酸化
モリブデン層を用いた２層構成の遮光膜は５５０ｎｍで
反射率が５％である。
【００２０】なお、消衰係数の制御は、上記の混合ガス
比による制御による以外に、膜中にモリブデン以外の一
種類以上の他の元素を添加することにより、より容易に
かつ精密に行える。この場合の他の元素としては、炭
素、銅、ニオビウム、タングステン、白金などを挙げる
ことができる。また、添加の方法は、前記元素を含んだ
モリブデンを主成分とする合金をスパッタリングターゲ
ットとして用いることにより行う。
比による制御による以外に、膜中にモリブデン以外の一
種類以上の他の元素を添加することにより、より容易に
かつ精密に行える。この場合の他の元素としては、炭
素、銅、ニオビウム、タングステン、白金などを挙げる
ことができる。また、添加の方法は、前記元素を含んだ
モリブデンを主成分とする合金をスパッタリングターゲ
ットとして用いることにより行う。
【００２１】また、炭素のような元素は、メタンガスを
混合ガス中に用いることで膜中に添加できる。
混合ガス中に用いることで膜中に添加できる。
【００２２】前記のモリブデン合金ターゲットは、光学
的に不透明の層の形成に用いることもでき、可視光で不
透明である限り問題なく、コスト低減の面から好まし
い。
的に不透明の層の形成に用いることもでき、可視光で不
透明である限り問題なく、コスト低減の面から好まし
い。
【００２３】消衰係数の制御は、他の元素の添加と、前
述の混合ガス比による制御とを併用することで効果的に
行うことができる。
述の混合ガス比による制御とを併用することで効果的に
行うことができる。
【００２４】［例４］図１の２層構成の遮光膜における
光学的に不透明の層であるモリブデン層１の替わりに、
５５０ｎｍでの消衰係数１．８程度の窒化モリブデンを
用いると消衰係数が小さいため図１と同じ構成では遮光
性にやや劣るものの、反射率をより低くできるので、低
反射を重視した簡易型の遮光膜として利用できる。
光学的に不透明の層であるモリブデン層１の替わりに、
５５０ｎｍでの消衰係数１．８程度の窒化モリブデンを
用いると消衰係数が小さいため図１と同じ構成では遮光
性にやや劣るものの、反射率をより低くできるので、低
反射を重視した簡易型の遮光膜として利用できる。
【００２５】［例５］図４は本発明の３層構成の遮光膜
の一例である。図４において、６は窒化モリブデンから
なる層である。酸窒化モリブデン層２、窒化モリブデン
層６、およびモリブデン層１の膜厚は、それぞれ５５ｎ
ｍ、２０ｎｍ、および１００ｎｍである。
の一例である。図４において、６は窒化モリブデンから
なる層である。酸窒化モリブデン層２、窒化モリブデン
層６、およびモリブデン層１の膜厚は、それぞれ５５ｎ
ｍ、２０ｎｍ、および１００ｎｍである。
【００２６】図４における酸窒化モリブデン層およびモ
リブデン層は例１の遮光膜と同じ方法で作製し、窒化モ
リブデン層は、同じモリブデンターゲットを用い、アル
ゴンと窒素との混合ガスを用いたスパッタリング法によ
り形成した。窒化モリブデン層の５５０ｎｍでの消衰係
数は１．８である。
リブデン層は例１の遮光膜と同じ方法で作製し、窒化モ
リブデン層は、同じモリブデンターゲットを用い、アル
ゴンと窒素との混合ガスを用いたスパッタリング法によ
り形成した。窒化モリブデン層の５５０ｎｍでの消衰係
数は１．８である。
【００２７】図５中の７は、図４に示した３層構成の遮
光膜（以下、例５の遮光膜という）のガラス基板側から
測定した分光反射率曲線であり、図５中の５は、例１の
遮光膜のガラス基板側から測定した分光反射率曲線であ
る。
光膜（以下、例５の遮光膜という）のガラス基板側から
測定した分光反射率曲線であり、図５中の５は、例１の
遮光膜のガラス基板側から測定した分光反射率曲線であ
る。
【００２８】図４に示した３層構成の遮光膜の７００ｎ
ｍでの光学濃度は３．８であり、かつ、図５に示したよ
うに２層構成の遮光膜よりもさらに低反射である。この
ように、本発明の３層構成の遮光膜は低反射性および高
遮光性ともに備えている。
ｍでの光学濃度は３．８であり、かつ、図５に示したよ
うに２層構成の遮光膜よりもさらに低反射である。この
ように、本発明の３層構成の遮光膜は低反射性および高
遮光性ともに備えている。
【００２９】
【発明の効果】本発明の遮光膜は、製造工程で有害物の
発生がなく、また、従来と同等の可視光領域で十分に低
い反射性と大きな遮光性とを有する。
発生がなく、また、従来と同等の可視光領域で十分に低
い反射性と大きな遮光性とを有する。
【図１】例１の遮光膜の構成を示す断面図
【図２】例１および例２の遮光膜の分光反射特性を示す
図
図
【図３】例３の遮光膜における酸窒化モリブデン層の５
５０ｎｍでの消衰係数と、例３の遮光膜のガラス基板側
から測定した５５０ｎｍでの反射率との関係を示す図
５０ｎｍでの消衰係数と、例３の遮光膜のガラス基板側
から測定した５５０ｎｍでの反射率との関係を示す図
【図４】例５の遮光膜の構成を示す断面図
【図５】例１および例５の遮光膜の分光反射特性を示す
図
図
１：モリブデン層
２：酸窒化モリブデン層
３：ガラス基板
４：例２の遮光膜の分光反射率曲線
５：例１の遮光膜の分光反射率曲線
６：窒化モリブデン層
７：例５の遮光膜の分光反射率曲線
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平６−222354（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−324326（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−246516（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−37627（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−109220（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02F 1/1335 500
G02B 5/20 101
Claims (3)
- 【請求項１】可視光領域で透明な基板上に液晶表示用絵
素を形成するために格子状に設けられた液晶表示装置用
遮光膜において、該遮光膜は、透明基板側の５５０ｎｍ
での光学定数の消衰係数が０．１５以上０．９０以下の
モリブデン化合物からなる層と、その上に形成された５
５０ｎｍでの光学定数の消衰係数が１．０以上のモリブ
デンおよび／またはモリブデン化合物からなる層とを有
することを特徴とする液晶表示装置用遮光膜。 - 【請求項２】前記５５０ｎｍでの光学定数の消衰係数が
１．０以上のモリブデンおよび／またはモリブデン化合
物からなる層は、モリブデンおよび／または窒化モリブ
デンからなる層であることを特徴とする請求項１の液晶
表示装置用遮光膜。 - 【請求項３】前記透明基板側の５５０ｎｍでの光学定数
の消衰係数が０．１５以上０．９０以下のモリブデン化
合物からなる層は、酸化モリブデンおよび／または酸窒
化モリブデンからなる層であることを特徴とする請求項
１または２の液晶表示装置用遮光膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02312795A JP3390561B2 (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 液晶表示装置用遮光膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02312795A JP3390561B2 (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 液晶表示装置用遮光膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08220522A JPH08220522A (ja) | 1996-08-30 |
| JP3390561B2 true JP3390561B2 (ja) | 2003-03-24 |
Family
ID=12101861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02312795A Expired - Fee Related JP3390561B2 (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 液晶表示装置用遮光膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3390561B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3472432B2 (ja) * | 1997-03-28 | 2003-12-02 | シャープ株式会社 | 表示装置用反射防止膜及びその製造方法、並びにｅｌ素子 |
-
1995
- 1995-02-10 JP JP02312795A patent/JP3390561B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08220522A (ja) | 1996-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2529741B2 (ja) | 光学干渉式ｅｌ素子 | |
| JP3440346B2 (ja) | ブラックマトリックス用クロムブランクスおよび液晶デイスプレイ用カラーフイルター | |
| JPH08234674A (ja) | 表示デバイス用反射防止ブラックマトリクス及びその作製方法 | |
| US5808714A (en) | Low reflection shadow mask | |
| JPH08190091A (ja) | 液晶ディスプレイ用薄膜基板及びこの薄膜基板を使用した液晶ディスプレイ並びに液晶ディスプレイ用薄膜基板の作成装置 | |
| JP3390561B2 (ja) | 液晶表示装置用遮光膜 | |
| JP3969743B2 (ja) | 低反射薄膜基板 | |
| KR20010054927A (ko) | 저반사의 블랙매트릭스를 구비한 액정표시소자 | |
| US7056587B2 (en) | Low-reflective thin-film substrate | |
| JP2002182020A (ja) | 半透過型反射鏡 | |
| JP4017747B2 (ja) | Ｂｍ膜製造方法 | |
| JPH06324326A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2979651B2 (ja) | 半導体装置の配線形成方法 | |
| JP4184498B2 (ja) | 亜鉛／インジウム系ｂｍ膜、及びｂｍ膜製造方法 | |
| JPH0836171A (ja) | 液晶表示装置用遮光膜および液晶表示装置 | |
| JP3054241B2 (ja) | 光反射体 | |
| US20050041185A1 (en) | Liquid crystal display device | |
| JP3305189B2 (ja) | カラー表示装置及び該カラー表示装置の製造方法 | |
| JP2001100019A (ja) | カラーフィルタ基板とカラーフィルタ基板を用いた電気光学装置およびその製造方法と電子機器 | |
| JPH06222354A (ja) | 表示装置用遮光膜 | |
| JP2001013304A (ja) | 光学部品 | |
| JP2003279945A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH09243801A (ja) | 低反射薄膜基板 | |
| JP3131375B2 (ja) | カラー表示装置及び該カラー表示装置の製造方法 | |
| JPH10232312A (ja) | 光分岐フィルタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080117 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090117 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |