JP3389295B2 - Cmosバッファ回路 - Google Patents
Cmosバッファ回路Info
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- H03K19/08—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
- H03K19/094—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
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Description
源と、また基板端子でポンプ電圧源と接続されているp
チャネルMOSトランジスタと、それに直列に接続され
ており、ソース端子で基準電位と、またドレイン端子で
出力端子と接続されている第1のnチャネルMOSトラ
ンジスタとを有するCMOSバッファ回路に関する。
CMOS出力バッファ”、IEEE雑誌・固体回路編、
第23巻、第3号、1988年6月に記載されているよ
うに、このようなCMOS回路の大きな問題は、それが
いわゆるラッチ‐アップ現象に関して大きい感度を有す
ることにある。
圧およびトランジスタのベース‐エミッタ間電圧の和よ
りも大きくなるとき、または基準電位およびトランジス
タのベース‐エミッタ間電圧の差よりも小さくなると
き、寄生的なサイリスタが点弧され得る。
回路が位置しているチップの損傷に通ずるであろうか
ら、ラッチ‐アップを防止するための適切な対策が講じ
られなければならない。
を基準電位よりも小さい、またはそれに等しい電圧に接
続し、またpチャネルMOSトランジスタの基板端子を
動作電圧よりも大きい電圧に接続するのが通常である。
それによって正常な作動中にラッチ‐アップの生起が防
止され得る。
れ、またいわゆるポンプ回路により発生されるので、こ
れらの電圧が動作電圧のスイッチオンの後にそれらの最
終値に到達するまでに或る時間がかかる。この時間中
に、CMOSバッファ回路の出力端子に相応のレベルが
与えられているならば、依然として寄生的サイリスタの
点弧が可能である。
電圧のスイッチオンとポンプ電圧の作用の開始との間に
もラッチ‐アップの生起を防止することである。
範囲の請求項1に記載された構成により達成される。
は、ポンプ電圧がその定格値に達する以前に、出力端子
に与えられている電圧がpチャネルMOSトランジスタ
に通過接続されることを防止する。こうしてラッチ‐ア
ップが確実に防止される。
ては、pチャネルMOSトランジスタのソース端子と基
板端子との間に、低いしきい電圧を有する導通方向の極
性の第1のダイオードが接続されている。
続されており、ベース‐エミッタ‐ダイオードが低いし
きい電圧を有する本発明によるダイオードに並列に接続
されている寄生的トランジスタが通過接続することを防
止し、他方ではこのダイオードを介して、pチャネルM
OSトランジスタが集積されている凹部のキャパシタン
スがほぼ動作電圧に充電され、従ってさもなければ凹部
キャパシタンスを充電しなければならないであろうポン
プ電圧源がより少なく負荷され、またこうしてより速く
その定格電圧に到達する。
圧源とpチャネルMOSトランジスタの基板端子との間
に導通方向の極性の第2のダイオードが接続されてい
る。この第2のダイオードはポンプ電圧源を凹部から脱
結合し、それによって第1のダイオードの特性に課せら
れる要求が減ぜられ得る。
ート‐キャパシタンスを凹部キャパシタンスから脱結合
するため、有利な仕方でさらに、pチャネルMOSトラ
ンジスタの基板端子と第2のnチャネルMOSトランジ
スタのゲート端子との間に導通方向の極性の第3のダイ
オードが接続されている。この第3のダイオードは、加
えて、有利な仕方でゲート‐酸化物‐ストレスを減ず
る。
ンジスタにより形成されていることは目的にかなってい
る。
明を一層詳細に説明する。
CCと接続されているpチャネルMOSトランジスタ1を
有するCMOSバッファ回路が示されている。このPM
OSトランジスタ1に直列に、ソース端子S2で基準電
位VSSと、またドレイン端子D2で出力端子Aと接続さ
れている第1のnチャネルMOSトランジスタ2が接続
されている。PMOSトランジスタ1とNMOSトラン
ジスタ2との間に、これらに直列に第2のnチャネルM
OSトランジスタ3が配置されている。そのゲート端子
G3はPMOSトランジスタ1の基板端子Bと同じくポ
ンプ電圧源VBBと接続されている。PMOSトランジス
タ1および第1のNMOSトランジスタ2の両ゲート端
子G1、G2は絶縁されて示されている。しかしそれら
は相互に接続されていてもよく、それによってCMOS
インバータが形成されよう。
圧VCCから供給されるポンプ電圧源VBBがその最終値に
達したときに初めて、出力端子AをPMOSトランジス
タ1のドレイン端子D1と接続する。こうして、出力端
子Aにおける過度に高い電位または過度に低い電位が、
図1に示されているCMOS回路に基づいて基板のなか
に生ずる寄生的サイリスタを点弧することはあり得な
い。
ッファ回路の本発明による改善が示されている。ここで
は追加的にPMOSトランジスタ1のソース端子S1が
基板端子Bと、NMOSトランジスタにより形成された
第1のダイオード4を介して接続されている。このダイ
オード4は、回路全体が集積されている基板のなかにP
MOSトランジスタ1が形成されている凹部が動作電圧
源VCCにより充電され、従ってポンプ電圧源VBBがより
速く投入されるようにする。さらにこのダイオード4は
寄生的なバイポーラトランジスタの通過接続を防止す
る。なぜならば、そのしきい電圧がこの寄生的トランジ
スタのベース‐エミッタ間電圧よりも低いからである。
ファ回路から遠く離れて形成されており、またこうして
長い導線を介して基板端子Bと接続されているので、同
じくn‐MOSトランジスタにより形成されており基板
端子Bの近くに配置されている第2のダイオード5が、
この導線のキャパシタンスが動作電圧源VCCから充電さ
れなければならないことを防止する。
ランジスタ3のゲートG3のゲート‐キャパシタンスか
ら脱結合するため、同じくNMOSトランジスタにより
形成されている第3のダイオード6がPMOSトランジ
スタ1の基板端子Bと第2のNMOSトランジスタ3の
ゲート端子G3との間に配置されている。
Claims (5)
- 【請求項1】 ソース端子(S1)で動作電圧源
(VCC)と、また基板端子(B)でポンプ電圧源
(VBB)と接続されているpチャネルMOSトランジス
タ(1)と、 それに直列に接続されており、ソース端子(S2)で基
準電位(VSS)と、またドレイン端子(D2)で出力端
子(A)と接続されている第1のnチャネルMOSトラ
ンジスタ(2)と、 前記pチャネルMOSトランジスタ(1)と前記第1の
nチャネルMOSトランジスタ(2)との間にこれらと
直列に接続されており、またそのゲート端子(G3)が
前記ポンプ電圧源(V BB )と接続されている第2のnチ
ャネルMOSトランジスタ(3)と、 を有するCMOSバッファ回路において、 前記pチャネルMOSトランジスタ(1)のソース端子
(S1)と基板端子(B)との間に、導通方向の極性の
第1のダイオード(4)が接続されている ことを特徴と
するCMOSバッファ回路。 - 【請求項2】 前記第1のダイオード(4)は、前記p
チャネルMOSトランジスタ(1)よりも低いしきい電
圧を有することを特徴とする請求項1記載のCMOSバ
ッファ回路。 - 【請求項3】 ポンプ電圧源(VBB)とpチャネルMO
Sトランジスタ(1)の基板端子(B)との間に導通方
向の極性の第2のダイオード(5)が接続されているこ
とを特徴とする請求項2記載のCMOSバッファ回路。 - 【請求項4】 pチャネルMOSトランジスタ(1)の
基板端子(B)と第2のnチャネルMOSトランジスタ
(3)のゲート端子(G3)との間に導通方向の極性の
第3のダイオード(6)が接続されていることを特徴と
する請求項2または3記載のCMOSバッファ回路。 - 【請求項5】 ダイオード(4、5、6)がnチャネル
MOSトランジスタにより形成されていることを特徴と
する請求項1ないし4の1つに記載のCMOSバッファ
回路。
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