JP3386683B2 - 金属部材内蔵セラミックス部材の製造方法 - Google Patents
金属部材内蔵セラミックス部材の製造方法Info
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Description
の、金属電極等の金属部材を内蔵するセラミックス部材
を製造する方法に関するものである。
学的気相成長法、物理的気相成長法、スパッタリング等
の成膜プロセス、微細加工、洗浄、プラズマエッチン
グ、ダイシング等の工程において、半導体ウエハーを吸
着し、保持するために、静電チャックが使用されてい
る。こうした静電チャックの基材として、緻密質セラミ
ックスが注目されており、特に急激な温度変化によって
破壊しないような耐熱衝撃性を備えている材料として、
緻密質の窒化アルミニウム、窒化珪素、アルミナ等が注
目されている。
の加圧焼成法は、窒化珪素、炭化珪素、窒化アルミニウ
ム等の各種のセラミックスの焼結のために使用されてき
ている。本出願人は、特開平5−318427号公報に
おいて、スリーブの内側面と、パンチの成形体と接触す
る表面とを、グラファイトホイル等の耐熱性箔片によっ
て被覆することを提案した。これは、高温、高圧下で、
スリーブやパンチとセラミックスとの化学反応による生
成物や、セラミックスが、スリーブやパンチに強固に付
着するのを防止する上で、極めて有効な方法であった。
8号明細書において、セラミックスヒーター、セラミッ
クス静電チャック、セラミックス高周波電極装置、セラ
ミックスサセプター等の半導体製造用装置の基材を製造
するために、窒化アルミニウムセラミックスをホットプ
レスすることを開示している。この公報に記載の方法に
おいては、型内に窒化アルミニウム粉末の成形体を収容
するのに際して、成形体とスリーブとの間、成形体とス
ペーサーとの間に、グラファイトホイルを被覆し、この
被覆によって成形体の周囲の雰囲気を制御し、かつ成形
体とスリーブおよびスペーサーとの反応を防止してい
る。
法で、静電チャック電極等の金属電極が埋設されたセラ
ミックス部材を製造していく過程で、次の問題点が新た
に発生してくることが判明した。即ち、セラミックス部
材を製造し、その基材の内部に金属電極を埋設するため
には、通常は、セラミックス粉末の予備成形体を一軸加
圧成形法によって製造し、この際予備成形体の内部に予
め金属電極を埋設しておく。そして、この予備成形体
を、金属電極に対して実質的に垂直な方向に圧力が加わ
るようにホットプレスすることによって焼結体を得、こ
の焼結体を研磨加工等している。
セラミックス部材中の静電チャック電極の平坦度を向上
させることが必要である。なぜなら、静電チャック電極
と絶縁性誘電層の吸着面との間隔にバラツキがあると、
吸着面上の半導体ウエハーの吸着力にバラツキが生ずる
からである。また、例えばセラミックス部材の内部のヒ
ーター用電極が基材の表面に対して傾斜していると、ヒ
ーターの表面温度にバラツキが発生する。このように、
金属電極が埋設されている各種のセラミックス製品にお
いて、セラミックス部材内の金属電極の平坦度を確保す
ることが極めて重要である。
属電極と、セラミックス部材の表面との間隔を一定にす
るために、次の方法を実施した。即ち、図1に示す焼結
体20の内部には、平板状の金属電極4が埋設されてい
る。焼結体20は、金属電極4によって、相対的に厚さ
の小さい第一の部分22と、相対的に厚さの大きい第二
の部分21とに区分されている。
クス部材の表面との間隔を、金属電極4の全面にわたっ
て一定にすることが要求されている。ここで、金属電極
4と表面20aとの間隔に誤差を生じさせる要因は二つ
考えられる。一つは、金属電極4の全体が表面20aに
対して傾斜していることである。例えば、金属電極4の
中心線Cを引いてみたとき、通常は中心線Cが、焼結体
の表面20aに対して傾斜している。
aに対する傾斜をなくするために、焼結体20の表面2
0aからの金属電極4の距離mを、超音波の照射によっ
て測定してみた。この方法では、焼結体表面20aの各
部分に超音波を照射し、焼結体の内部の金属電極4によ
る超音波の反射を利用し、金属電極4と表面20aとの
距離を測定する。
座標を算出できる。そして、平面研削加工ないし平面研
磨加工によって、第一の部分22内に、中心線Cの平行
線Aに沿って研磨面を形成し、かつ、第二の部分21内
に、中心線Cの平行線Bに沿って研磨面を形成できる。
これによって、セラミックス部材の表面(研磨面)と金
属電極4の中心線Cとを平行にすることは可能になっ
た。
は、焼結体20の表面だけであり、焼結体20の内部に
埋設された金属電極4の形状を変化させることはできな
い。しかし、現実には、金属電極4は中心線Cに沿って
おらず、中心線Cに対して凹凸があるのが通常である。
このため、セラミックス部材中に埋設されている金属電
極4の中心線Cに対する平坦度を、向上させることが必
要である。
極等の金属部材が内蔵されているセラミックス部材であ
って、セラミックス部材が金属部材によって、互いに厚
さの異なる第一の部分と第二の部分とに区分されている
セラミックス部材を製造するのに際して、金属部材の平
坦度を向上させることである。
って金属部材が内蔵されているセラミックス部材であっ
て、前記セラミックス部材が前記金属部材によって第一
の部分と第二の部分とに区分されており、前記第一の部
分の厚さが前記第二の部分の厚さよりも小さいセラミッ
クス部材を製造するのに際して、前記第一の部分の成形
体を一軸加圧成形法によって成形し、前記第一の部分の
成形体の表面に前記金属部材を設け、次いで前記第一の
部分の成形体および前記金属部材の上に前記第二の部分
の原料を配置し、一軸加圧成形法によって前記第二の部
分を成形して予備成形体を得、予備成形において前記第
一の部分の厚さを1.0としたとき、前記第二の部分の
厚さを1.4以上、10以下となるように、かつ前記第
一の部分を成形する際の成形圧力を、前記第二の部分を
成形する際の成形圧力以上とし、かつ前記第二の部分の
成形圧力の2倍以下とし、次いでこの予備成形体をホッ
トプレス焼成することを特徴とする。
の厚さとは、金属部材から垂直方向に見たときの第一の
部分の厚さおよび第二の部分の厚さを言う。
に詳細に説明する。
部材を例示する断面図であり、図3(a)は、図2のセ
ラミックス部材のうち一部を切り欠いて示す斜視図であ
り、図3(b)は、金属部材の一例である、金網からな
る電極7を示す斜視図である。
基材6の内部に、金属部材の一例である、金網7からな
る金属電極4が埋設されている。半導体ウエハーの設置
面1a側には、所定厚さの絶縁性誘電層(第一の部分)
2が形成されている。基材6のうち支持部分(第二の部
分)3側には、端子5が埋設されており、端子5が金属
電極4に接続されている。端子5の端面が、基材6の裏
面1bに露出している。
(a)、(b)に示すような金網7によって形成されて
いる。金網7は、円形の枠線7aと、枠線7aの内部に
縦横に形成されている線7bとからなっており、これら
の間に網目8が形成されている。
部材は、図2に例示するように、第一の部分2の厚さt
1 と第二の部分3の厚さt2 とが異なるものである。
には、セラミックスの予備成形体中に金属部材を埋設す
る必要があるが、この工程において、第一の部分の成形
体を一軸加圧成形法によって成形し、第一の部分の成形
体の表面に金属部材を設け、次いで第一の部分の上に第
二の部分の原料を配置し、一軸加圧成形法によって第二
の部分を成形して予備成形体を得ることによって、予備
成形体のホットプレス後に、セラミックス部材中の金属
部材の平坦度が著しく向上し、具体的には40μm以下
のレベルにまで安定して向上することを発見した。
4、図5を参照しつつ説明する。図4(a)〜(c)
は、本発明のプロセスを説明するための概略断面図であ
る。図4(a)に示すように、型9、上パンチ11、下
パンチ10の中にセラミックス原料を充填し、加圧成形
して第一の部分の成形体12Aを得る。次いで、図4
(b)に示すように、第一の部分の成形体12Aの上
に、金属部材の例である金属電極4を設ける。成形体1
2Aおよび金属電極4上にセラミックス原料13を充填
する。
軸加圧成形を行い、成形体12および金属電極4上に第
二の部分の成形体14を成形し、予備成形体17を得
る。ただし、17a、17bは加圧面であり、17cは
非加圧面である。
示すような一軸加圧成形方法も詳細に検討したが、セラ
ミックス部材中の金属電極4の平坦度を向上させること
は困難であった。
(a)に示すように、まずセラミックス原料を加圧成形
して、厚さの大きい第二の部分の成形体15Aを得る。
次いで、図5(b)に示すように、第二の部分の成形体
15Aの上に金属電極4を設け、この上にセラミックス
原料13を充填する。次いで、図5(c)に示すよう
に、再び一軸加圧成形を行い、第二の部分の成形体15
および金属電極4上に、厚さが相対的に小さい第一の部
分の成形体16を成形し、予備成形体18を得る。
ホットプレス後のセラミックス部材中の金属部材の一例
である金属電極の平坦度が、著しく向上した理由は、以
下のように推測される。即ち、前記のように二段階に分
けて予備成形体を成形する場合には、最初に成形される
成形体12Aまたは15Aが、金属電極4を設けるため
の土台となる。ここで、土台となる成形体12A、15
Aには、後で成形される成形体14、16の成形圧力が
金属電極4を介して加わったときに、変形することなく
耐えうるだけの強度と密度とが要求される。
初に厚さが相対的に小さい成形体12Aを成形してお
り、この成形体12Aは、後で成形される成形体14の
成形圧力に耐えうるだけの強度と密度を、成形体12A
の全体にわたって備えやすいため、後の成形時に成形体
12Aが変形しにくく、このために金属電極4が変形せ
ず、平坦度が向上するものと思われる。
ば、最初に厚さが相対的に大きい成形体15Aを成形し
ており、この成形体15Aは、後で成形される成形体1
6の成形圧力に耐えうるだけの強度と密度とを、成形体
の全体にわたって備えにくい。つまり、成形体15Aに
局所的に密度の小さい部分が発生し易い。このため、後
の成形時に成形体15Aが変形し易く、このために金属
電極4が変形し易いものと思われる。
1.0としたとき、第二の部分の厚さを10以下とす
る。第一の部分が薄くなり過ぎると、第一の部分の成形
体12Aの土台としての強度が、全体に低くなりやすい
ために、第二の部分を成形したときに成形体12にラミ
ネーションやクラックが発生し易くなる。
き、第二の部分の厚さは1.4以上とする。第一の部分
の成形体12Aが厚くなり過ぎると、金属電極4を設置
してから第二の部分を成形するときの成形圧力に耐えう
るだけの強度と密度とを、成形体12Aに付与すること
が難しくなる。
の部分を成形する際の成形圧力を、第二の部分を成形す
る際の成形圧力以上とする。第一の部分を成形する際の
成形圧力よりも、第二の部分を成形する際の成形圧力を
大きくすると、第二の部分を成形する段階で、土台とな
る第一の部分の成形体12Aが変形を伴いつつ収縮する
ため、金属電極4が変形し易くなる。
を、第二の部分の成形圧力の2倍以下とする。第一の部
分の成形圧力が第二の部分の成形圧力に比べて大きすぎ
ると、第一の部分の成形体12の密度が第二の部分の成
形体14の密度よりも大きくなりすぎる。この結果、ホ
ットプレス工程において、金属電極4の両側の第一の部
分と第二の部分との間で、原料の再配列の状態と液相生
成による流動状態とが異なってくるため、金属電極が局
部的に変形し易くなる。
ことが最も好ましい。しかし、印刷されたものも含む。
金属部材は、セラミックスの焼成温度で安定な高融点金
属、例えばタンタル,タングステン,モリブデン,白
金,レニウム、ハフニウム及びこれらの合金によって形
成することが好ましい。
としては、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素、窒
化ホウ素、アルミナ等を例示できる。
は、例えば、次のものを例示できる。 (1)平板状の金属バルク材。 (2)平板状の金属バルク材の中に多数の小空間が形成
されているもの。 これには、多数の小孔を有する板状体からなる金属バル
ク材や、網状の金属バルク材を含む。多数の小孔を有す
る板状体としては、パンチングメタル、エッチングメタ
ルを例示できる。
製造用装置として有用である。例えば、セラミックス基
材中に抵抗発熱体を埋設したセラミックスヒーター、基
材中に静電チャック用電極を埋設したセラミック静電チ
ャック、基材中に抵抗発熱体と静電チャック用電極を埋
設した静電チャック付きヒーター、基材中にプラズマ発
生用電極を埋設した高周波発生用電極装置のような、能
動型装置として有用である。
トプレス時に予備成形体が収縮していく収縮の中心面に
対向して第一の部分の成形体が配向するように、予備成
形体をホットプレス用の型内に収容することが好まし
い。図6は、本発明のこの実施形態に従って、ホットプ
レス装置の型内に予備成形体17を収容した状態を示す
概略断面図である。
半円筒形状のスリーブ28A、28Bが収容されてい
る。
沿って、上パンチ26を、一軸方向(図6においては上
下方向)へと向かって移動させることができる。スリー
ブ28A、28Bの下側には、受け台25が設置、固定
されており、上パンチ26の加圧面26aと、受け台2
5の加圧面25aとが互いに対向し、ホットプレス用の
空間を形成している。
ペーサー24Aが設置されており、受け台25の加圧面
25aの内側には、スペーサー24Bが設置されてい
る。スペーサー24Aと24Bとの間に予備成形体17
が収容されている。ただし、予備成形体17を型27内
に収容する前に、脱脂することもできる。
の加圧用部材)の型27に対する相対位置が固定されて
おり、上パンチ26(他方の加圧用部材)を型27内で
受け台25に向かって移動させることによって、予備成
形体17を加圧する。ここで、ホットプレス時に予備成
形体17が収縮していく収縮の中心面(Jで表す)に向
かって第一の部分の成形体12が配向するように、予備
成形体17を収容することが好ましい。言い換えると、
受け台12が固定されていることから、受け台12側に
第一の部分の成形体12が配向するように予備成形体1
7を収容する。
分の成形体14よりも厚さが小さく、成形体の密度が均
一である。従って、第二の部分よりも第一の部分の方
が、ホットプレス時に原料の再配列および液相生成が金
属部材の周囲で均一に起こり、収縮量が各部分で均一で
ある。この結果、収縮の中心面J側に第一の部分の成形
体12を配向させることによって、金属部材の各部分の
変形量が均一化し、ホットプレス後の金属部材の平坦度
が一層向上する。
体を複数個積層することができる。この際、一方の加圧
用部材の型に対する相対位置を固定し、他方の加圧用部
材を型内で一方の加圧用部材に向かって移動させること
によって各予備成形体を加圧する場合には、一方の加圧
用部材に向かって第一の部分の成形体が配向するように
各予備成形体を積層する。
ホットプレス装置の型内に複数の予備成形体を収容した
状態を示す概略断面図である。
リーブ28Aと28Bとが設けられている。型27の内
側面27aには一定のテーパーが設けられており、スリ
ーブ28A、28Bの内側面28aは、図7において上
方から下方へと向かって真っ直ぐに延びている。
側に、受け台29(一方の加圧用部材)が固定されてい
る。スリーブ28A、28B内では、上パンチ30(他
方の加圧用部材)と受け台29との間に、例えば6枚の
スペーサー24A、24B、24C、24D、24E、
24Fと、五個の予備成形体17A、17B、17C、
17D、17Eとが収容されている。上パンチ30の加
圧面30a、受け台29の加圧面29aに対して、それ
ぞれスペーサー24A、24Fが接触している。
7に対する相対的位置が固定されており、図中線Dで表
す面がほぼ収縮の中心面となり、各予備成形体は矢印E
で示すように受け台29の方へと向かって収縮する。従
って、各予備成形体を収容する際に、各予備成形体の第
一の部分の成形体12が受け台29の方へと配向するよ
うに、各予備成形体を型内に収容している。
させることによって各予備成形体を加圧する場合には、
一方の加圧用部材に近い予備成形体を、一方の加圧用部
材側に第二の部分の成形体が配向するように、収容す
る。また、他方の加圧用部材に近い予備成形体を、他方
の加圧用部材側に第二の部分の成形体が配向するよう
に、収容する。図8は、本発明のこの実施形態に従っ
て、ホットプレス装置の型内に予備成形体を収容した状
態を示す概略断面図である。
に、下パンチ31(一方の加圧用部材)と上パンチ30
(他方の加圧用部材)とが挿入されている。上パンチ3
0と下パンチ31との間に、例えば七枚のスペーサー2
4A、24B、24C、24D、24E、24F、24
Gと、六個の予備成形体17F、17G、17H、17
I、17J、17Kとが収容されている。上パンチ30
の加圧面30a、下パンチ31の加圧面31aに対し
て、それぞれスペーサー24A、24Gが接触してい
る。
パンチ31との線Fが、ほぼ収縮の中心面を示す。上パ
ンチ30に近い各予備成形体17F、17G、17H
は、矢印Gで示すように中心面(F)の方へと向かって
収縮する。下パンチ31に近い各予備成形体17I、1
7J、17Kは、矢印Hで示すように中心線Fの方へと
向かって収縮する。
7I、17J、17Kを、下パンチ31側に第二の部分
の成形体14が配向するように収容した。また、上パン
チ30に近い予備成形体17F、17G、17Hを、上
パンチ30側に第二の部分の成形体14が配向するよう
に収容した。
る。 (実施例1)図4(a)〜(c)および図7を参照しつ
つ説明した前記方法に従って、セラミックス部材を製造
した。窒化アルミニウム粉末にアクリル系樹脂バインダ
ーを添加し、スプレードライヤーによって造粒して顆粒
状の原料粉末を得た。この原料粉末を、図4(a)〜
(c)に示すようにして成形し、直径215mm、厚さ
30mmの円盤状予備成形体を作製した。
ては、モリブデン製の網状電極を使用した。成形圧力
は、第一の部分、第二の部分共に200kg/cm 2 と
した。第一の部分の厚さt1 と第二の部分の厚さt2 と
の比率は、1:4とした。
内に収容した。各スペーサーの直径を214.8mmと
し、厚さを14mmとした。各スペーサーと各予備成形
体との間に、直径214.8mm、厚さを0.25mm
の柔軟性黒鉛シートを介在させた。また、各スペーサー
および各予備成形体の非加圧面を覆うように、縦290
mm、横680mmの柔軟性黒鉛シートを設置した。
第一の部分の表面からの金属電極までの厚さを、それぞ
れ20〜30点で計測し、平均値を求め、平均値からの
バラツキの大きさ(標準偏差)を算出した。六枚のセラ
ミックス部材の各標準偏差の平均を、平坦度とした。
は、次のようにして測定した。即ち、超音波発振子を第
一の部分の表面に当て、金属電極で反射して第一の部分
の表面に戻ってくる超音波を受信し、金属電極で反射し
てから表面に戻ってくるまでの時間と音速とから、第一
の部分の厚さを算出した。また、各試料を切断し、光学
顕微鏡によって第一の部分の厚さを直接に測定すること
によって、前記した超音波による計測の確からしさを確
認した。
あった。
セラミックス部材を製造し、金属電極の平坦度を算出し
た。ただし、予備成形体の成形時に、図5(a)〜
(c)に示すプロセスを採用した。この結果、金属電極
の平坦度は、157μmであった。
セラミックス部材を製造し、金属電極の平坦度を算出し
た。ただし、第一の部分の厚さt1 を1としたときの第
二の部分の厚さt 2 を1とした。また、予備成形体の成
形時に、図5(a)〜(c)に示すプロセスを採用し
た。この結果、金属電極の平坦度は、138μmであっ
た。
と同様にして六枚のセラミックス部材を製造し、金属電
極の平坦度を算出した。ただし、第一の部分の厚さt1
を1としたときの第二の部分の厚さt 2 を、表1に示す
ように変更した。各セラミックス部材について、金属電
極の平坦度を表1に示す。
の厚さt1 を1としたとき、第二の部分の厚さt2 を
1.4〜10とすることが特に好ましい。
セラミックス部材を製造し、金属電極の平坦度を算出し
た。ただし、第一の部分の厚さt1 を1としたときの第
二の部分の厚さt 2 を2とした。また、金属電極とし
て、モリブデンのパンチングメタルからなる平板を使用
した。この結果、金属電極の平坦度は、14μmであっ
た。
セラミックス部材を製造し、金属電極の平坦度を算出し
た。ただし、第一の部分の厚さt1 を1としたときの第
二の部分の厚さt 2 を2とした。また、スクリーン印刷
法によって第一の部分の成形体上にモリブデンペースト
を塗布することによって、金属電極を作製した。この結
果、金属電極の平坦度は、10μmであった。
て六枚のセラミックス部材を製造し、金属電極の平坦度
を算出した。ただし、第一の部分の成形圧力と第二の部
分の成形圧力とを、それぞれ表2に示すように変更し
た。各セラミックス部材について、金属電極の平坦度を
表2に示す。
の成形圧力を第二の部分の成形圧力の1〜2倍とするこ
とが特に好ましい。
て、それぞれ六枚のセラミックス部材を製造し、各金属
電極の平坦度を測定した。
すように、各予備成形体の第一の部分12側を受け台2
9側に向かって配向させた。また、第一の部分の厚さを
1としたときの第二の部分の厚さを4とした。第一の部
分および第二の部分の各成形圧力をそれぞれ200kg
/cm2 とした。この結果、平坦度は15μmとなっ
た。
て、各予備成形体の第二の部分14側を受け台29側に
向かって配向させた。また、第一の部分の厚さを1とし
たときの第二の部分の厚さを4とした。第一の部分およ
び第二の部分の各成形圧力をそれぞれ200kg/cm
2 とした。この結果、平坦度は38μmとなった。
て、それぞれ六枚のセラミックス部材を製造し、各金属
電極の平坦度を測定した。ただし、図8に示すホットプ
レス装置を使用した。
に、下パンチ31に近い予備成形体17I、17J、1
7Kを、下パンチ31側に第二の部分の成形体14が配
向するように収容した。上パンチ30に近い予備成形体
17F、17G、17Hを、上パンチ30側に第二の部
分の成形体14が配向するように収容した。第一の部分
の厚さを1としたときの第二の部分の厚さを4とした。
第一の部分および第二の部分の各成形圧力をそれぞれ2
00kg/cm2 とした。この結果、平坦度は13μm
となった。
て、下パンチ31に近い予備成形体17I、17J、1
7Kを、下パンチ31側に第一の部分の成形体12が配
向するように収容した。上パンチ30に近い予備成形体
17F、17G、17Hを、上パンチ30側に第一の部
分の成形体12が配向するように収容した。第一の部分
の厚さを1としたときの第二の部分の厚さを4とした。
第一の部分および第二の部分の各成形圧力をそれぞれ2
00kg/cm2 とした。この結果、平坦度は43μm
となった。
定平面に沿って金属部材が内蔵されているセラミックス
部材であって、セラミックス部材が金属部材によって、
互いに厚さの異なる第一の部分と第二の部分とに区分さ
れているセラミックス部材を製造するのに際して、金属
部材の平坦度を向上させることができる。
めの模式図である。
を概略的に示す断面図である。
を切り欠いて示す斜視図であり、(b)は、金網7から
なる電極を示す斜視図である。
成形法の各工程を説明するための断面図である。
の各工程を説明するための断面図である。
施するために、ホットプレス装置内に予備成形体を収容
した状態を概略的に示す断面図である。
施するために、ホットプレス装置内に複数の予備成形体
を収容した状態を概略的に示す断面図である。
実施するために、ホットプレス装置内に複数の予備成形
体を収容した状態を概略的に示す断面図である。
の部分 4 金属電極 12、16 第一の部分の成形体
12A 第一の部分の成形体(第二の部分の成形前)
14、15 第二の部分の成形体 15A第二の部
分の成形体(第一の部分の成形前) 17、17A、
17B、17C、17D、17E、17F、17G、1
7H、17I、17J、17K 予備成形体 24
A、24B、24C、24D、24E、24F、24G
スペーサー 29 下パンチ(型に対して位置が固
定された一方の加圧用部材) 30 上パンチ(他方の加圧用部材) 31 下パン
チ(一方の加圧用部材) A、B Cの平行線 C 金属電極4の中心線
D、F、J 予備成形体の収縮の中心 E、G、H
予備成形体の収縮の方向 t1 第一の部分の厚さ
t2 第二の部分の厚さ
Claims (6)
- 【請求項1】所定平面に沿って金属部材が内蔵されてい
るセラミックス部材であって、前記セラミックス部材が
前記金属部材によって第一の部分と第二の部分とに区分
されており、前記第一の部分の厚さが前記第二の部分の
厚さよりも小さいセラミックス部材を製造するのに際し
て、 前記第一の部分の成形体を一軸加圧成形法によって成形
し、前記第一の部分の成形体の表面に前記金属部材を設
け、次いで前記第一の部分の成形体および前記金属部材
の上に前記第二の部分の原料を配置し、一軸加圧成形法
によって前記第二の部分を成形して予備成形体を得、予
備成形において前記第一の部分の厚さを1.0としたと
き、前記第二の部分の厚さを1.4以上、10以下とな
るように、かつ前記第一の部分を成形する際の成形圧力
を、前記第二の部分を成形する際の成形圧力以上とし、
かつ前記第二の部分の成形圧力の2倍以下とし、次いで
この予備成形体をホットプレス焼成することを特徴とす
る、セラミックス部材の製造方法。 - 【請求項2】ホットプレス用の型内に前記予備成形体を
収容し、この際ホットプレス時に前記予備成形体が収縮
していく収縮の中心面に対向して前記第一の部分が配向
するように前記予備成形体を収容することを特徴とす
る、請求項1に記載のセラミックス部材の製造方法。 - 【請求項3】ホットプレス用の型内に複数個の前記予備
成形体を積層し、この際ホットプレス時に各予備成形体
が収縮していく収縮の中心面に対向して前記第一の部分
の成形体が配向するように各予備成形体を積層すること
を特徴とする、請求項2記載のセラミックス部材の製造
方法。 - 【請求項4】前記型内に積層された前記予備成形体を加
圧するための一対の加圧用部材を備えており、一方の前
記加圧用部材の前記型に対する相対位置を固定し、他方
の前記加圧用部材を前記型内で前記一方の加圧用部材に
向かって移動させることによって各予備成形体を加圧す
るのに際して、前記一方の加圧用部材に対向して前記第
一の部分の成形体が配向するように各予備成形体を積層
することを特徴とする、請求項3記載のセラミックス部
材の製造方法。 - 【請求項5】前記型内に積層された前記予備成形体を加
圧するための一対の加圧用部材を備えており、各加圧用
部材をそれぞれ前記型内で移動させることによって各予
備成形体を加圧するのに際して、前記予備成形体のうち
前記一方の加圧用部材に近い予備成形体を、前記一方の
加圧用部材側に前記第二の部分の成形体が配向するよう
にし、前記予備成形体のうち前記他方の加圧用部材に近
い予備成形体を、前記他方の加圧用部材側に前記第二の
部分の成形体が配向するようにしたことを特徴とする、
請求項3記載のセラミックス部材の製造方法。 - 【請求項6】前記金属部材が平面状の金属バルク材から
なることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つの
請求項に記載のセラミックス部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05757397A JP3386683B2 (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 金属部材内蔵セラミックス部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05757397A JP3386683B2 (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 金属部材内蔵セラミックス部材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10249843A JPH10249843A (ja) | 1998-09-22 |
JP3386683B2 true JP3386683B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=13059603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05757397A Expired - Lifetime JP3386683B2 (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 金属部材内蔵セラミックス部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3386683B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI247551B (en) * | 2003-08-12 | 2006-01-11 | Ngk Insulators Ltd | Method of manufacturing electrical resistance heating element |
JP4476701B2 (ja) | 2004-06-02 | 2010-06-09 | 日本碍子株式会社 | 電極内蔵焼結体の製造方法 |
JP4796523B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-10-19 | 日本碍子株式会社 | セラミックス焼成体の製造方法 |
WO2009057596A1 (ja) | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Kyocera Corporation | 導体内蔵セラミックスの製造方法 |
-
1997
- 1997-03-12 JP JP05757397A patent/JP3386683B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10249843A (ja) | 1998-09-22 |
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