JP3384932B2 - リン酸トリエステルの製造方法 - Google Patents
リン酸トリエステルの製造方法Info
- Publication number
- JP3384932B2 JP3384932B2 JP17215396A JP17215396A JP3384932B2 JP 3384932 B2 JP3384932 B2 JP 3384932B2 JP 17215396 A JP17215396 A JP 17215396A JP 17215396 A JP17215396 A JP 17215396A JP 3384932 B2 JP3384932 B2 JP 3384932B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- phosphoric acid
- mol
- group
- acid triester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はリン酸トリエステル
の製造方法に関し、詳しくは、有機ヒドロキシ化合物と
オキシハロゲン化リンからリン酸トリエステルを製造す
るに際し、副生するハロゲン化水素を反応系外に除去し
ながら反応を行うことにより、簡単に高収率で、化粧料
及び外用剤等として有用なリン酸トリエステルを製造す
る方法に関するものである。
の製造方法に関し、詳しくは、有機ヒドロキシ化合物と
オキシハロゲン化リンからリン酸トリエステルを製造す
るに際し、副生するハロゲン化水素を反応系外に除去し
ながら反応を行うことにより、簡単に高収率で、化粧料
及び外用剤等として有用なリン酸トリエステルを製造す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】リン酸
トリエステルを製造する方法としては、多数の方法が知
られている。これらの方法としては、例えば、G.M.Koso
lapoffの「Organophosphorus Compounds」(John Wiley &
Sons, Inc., New York, 1950) に記載されているよう
な、(1)ハロゲン化アルキルと金属ホスフェートとの反
応、(2) 第３アミンの存在下におけるアルコール又はフ
ェノールとオキシ塩化リンとの反応、(3) ハロゲン化リ
ンとナトリウムアルコキシド又はフェノキシドとの反
応、(4) オキシ塩化リンと過剰のアルコール又はフェノ
ールとの反応、及び(5) オレフィンオキシドとオキシ塩
化リンとの開環反応等が挙げられる。これらの方法は各
々有効ではあるが、(4) の方法（オキシ塩化リンと過剰
のアルコールとの反応）だけが、経済的な理由から、商
業的に実施されているに過ぎない。
トリエステルを製造する方法としては、多数の方法が知
られている。これらの方法としては、例えば、G.M.Koso
lapoffの「Organophosphorus Compounds」(John Wiley &
Sons, Inc., New York, 1950) に記載されているよう
な、(1)ハロゲン化アルキルと金属ホスフェートとの反
応、(2) 第３アミンの存在下におけるアルコール又はフ
ェノールとオキシ塩化リンとの反応、(3) ハロゲン化リ
ンとナトリウムアルコキシド又はフェノキシドとの反
応、(4) オキシ塩化リンと過剰のアルコール又はフェノ
ールとの反応、及び(5) オレフィンオキシドとオキシ塩
化リンとの開環反応等が挙げられる。これらの方法は各
々有効ではあるが、(4) の方法（オキシ塩化リンと過剰
のアルコールとの反応）だけが、経済的な理由から、商
業的に実施されているに過ぎない。
【０００３】一方、アルキルオキシアルキレン基を有す
るリン酸トリエステルは、高極性で皮膚親和性に優れ、
しかも低粘度、低融点でありかつ安全性に優れるため、
化粧料及び外用剤等に用いられているが、これらのリン
酸トリエステルを製造する際には、上記の(4) の方法は
有効ではない。なぜなら、これらのリン酸トリエステル
は高極性であるために反応系内において副生するハロゲ
ン化水素の溶解度が高く、原料アルコールを過剰に用い
てオキシハロゲン化リンの転化率を 100％にした場合で
も、ハロゲン化水素とリン酸エステルとが反応する副反
応が起こりやすいため、生成したリン酸トリエステルの
純度は低い。また、ルイス酸を触媒として用いてオキシ
ハロゲン化リンと有機ヒドロキシ化合物を反応させる方
法も知られているが、この場合、リン酸トリエステルが
高極性であるために触媒の除去に濾過の工程が必要とな
り、製造上不利である。また、リン酸トリエステル中に
不純物としてリン酸ジエステルやリン酸モノエステルを
含有している場合には粘度の増加や、安全性の低下を招
き、化粧料や外用剤等に用いるには好ましくない。
るリン酸トリエステルは、高極性で皮膚親和性に優れ、
しかも低粘度、低融点でありかつ安全性に優れるため、
化粧料及び外用剤等に用いられているが、これらのリン
酸トリエステルを製造する際には、上記の(4) の方法は
有効ではない。なぜなら、これらのリン酸トリエステル
は高極性であるために反応系内において副生するハロゲ
ン化水素の溶解度が高く、原料アルコールを過剰に用い
てオキシハロゲン化リンの転化率を 100％にした場合で
も、ハロゲン化水素とリン酸エステルとが反応する副反
応が起こりやすいため、生成したリン酸トリエステルの
純度は低い。また、ルイス酸を触媒として用いてオキシ
ハロゲン化リンと有機ヒドロキシ化合物を反応させる方
法も知られているが、この場合、リン酸トリエステルが
高極性であるために触媒の除去に濾過の工程が必要とな
り、製造上不利である。また、リン酸トリエステル中に
不純物としてリン酸ジエステルやリン酸モノエステルを
含有している場合には粘度の増加や、安全性の低下を招
き、化粧料や外用剤等に用いるには好ましくない。
【０００４】従って、本発明の目的は、化粧料や外用剤
等に有用なリン酸トリエステルを高純度で、しかも高収
率で製造する方法を提供することにある。
等に有用なリン酸トリエステルを高純度で、しかも高収
率で製造する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、アルキルオキシアル
キレン基を有する有機ヒドロキシ化合物とオキシハロゲ
ン化リンを反応させてリン酸トリエステルを製造するに
際し、副生するハロゲン化水素を反応系外に除去しなが
ら反応を行うことによって、簡単に高収率、高純度でリ
ン酸トリエステルを得ることができることを見出し、本
発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、アルキルオキシアル
キレン基を有する有機ヒドロキシ化合物とオキシハロゲ
ン化リンを反応させてリン酸トリエステルを製造するに
際し、副生するハロゲン化水素を反応系外に除去しなが
ら反応を行うことによって、簡単に高収率、高純度でリ
ン酸トリエステルを得ることができることを見出し、本
発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）
R1-O(AO)n-H （Ｉ）
〔式中、R1は炭素数１〜12の直鎖又は分岐のアルキル基
を示し、 Aは炭素数２又は３の直鎖又は分岐のアルキレ
ン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていてもよい。
ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示す１〜
10の数である。〕で表される有機ヒドロキシ化合物の１
種又は２種以上とオキシハロゲン化リンとを反応させて
リン酸トリエステルを製造するに際し、副生するハロゲ
ン化水素を反応系外に除去しながら反応を行うことを特
徴とするリン酸トリエステルの製造方法を提供するもの
である。
を示し、 Aは炭素数２又は３の直鎖又は分岐のアルキレ
ン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていてもよい。
ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示す１〜
10の数である。〕で表される有機ヒドロキシ化合物の１
種又は２種以上とオキシハロゲン化リンとを反応させて
リン酸トリエステルを製造するに際し、副生するハロゲ
ン化水素を反応系外に除去しながら反応を行うことを特
徴とするリン酸トリエステルの製造方法を提供するもの
である。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【０００８】一般式（Ｉ）中、R1で示される炭素数１〜
12の直鎖又は分岐のアルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、 sec−ブチル基、tert−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノ
ニル基、デシル基、ドデシル基等が挙げられるが、これ
らのうち、炭素数１〜４のもの、特にエチル基及びｎ−
ブチル基が好ましい。また、リン酸トリエステルを構成
する３個の有機ヒドロキシ化合物残基は性能面からは同
一でも異なっていてもよいが、合成の容易さという点で
は３個の有機ヒドロキシ化合物残基は同一のもの、即
ち、１種類の有機ヒドロキシ化合物とオキシハロゲン化
リンを反応させるのが好ましい。
12の直鎖又は分岐のアルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、 sec−ブチル基、tert−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノ
ニル基、デシル基、ドデシル基等が挙げられるが、これ
らのうち、炭素数１〜４のもの、特にエチル基及びｎ−
ブチル基が好ましい。また、リン酸トリエステルを構成
する３個の有機ヒドロキシ化合物残基は性能面からは同
一でも異なっていてもよいが、合成の容易さという点で
は３個の有機ヒドロキシ化合物残基は同一のもの、即
ち、１種類の有機ヒドロキシ化合物とオキシハロゲン化
リンを反応させるのが好ましい。
【０００９】一般式（Ｉ）中、 Aで示される炭素数２又
は３の直鎖又は分岐のアルキレン基としては、エチレン
基、トリメチレン基及びプロピレン基が挙げられるが、
中でもエチレン基が好ましい。また、ｎで示される１〜
10の数は、それぞれAOの平均付加モル数を示し、(AO)n
の部分は単一でも分布を有していてもよい。ｎは１〜４
の数が好ましく、特に２〜３の数が好ましい。
は３の直鎖又は分岐のアルキレン基としては、エチレン
基、トリメチレン基及びプロピレン基が挙げられるが、
中でもエチレン基が好ましい。また、ｎで示される１〜
10の数は、それぞれAOの平均付加モル数を示し、(AO)n
の部分は単一でも分布を有していてもよい。ｎは１〜４
の数が好ましく、特に２〜３の数が好ましい。
【００１０】本発明で用いられるオキシハロゲン化リン
としては、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等が挙げら
れ、特にオキシ塩化リンが好ましい。
としては、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等が挙げら
れ、特にオキシ塩化リンが好ましい。
【００１１】また本発明において、副生するハロゲン化
水素を反応系外に除去する方法としては、乾燥ガスを接
触させる方法、減圧下でハロゲン化水素を系外に追い出
す方法あるいはこれらを組み合わせた方法等が挙げられ
る。ここで用いられる乾燥ガスとしては、オキシハロゲ
ン化リンに対して不活性なものであれば何でもよく、窒
素、アルゴン、空気等が挙げられるが、窒素が好まし
い。また、減圧下で副生するハロゲン化水素を系外に追
い出す場合、減圧度は低い程よく、 300mmHg以下が好ま
しく、更に 200mmHg以下が好ましく、特に 100mmHg以下
が好ましい。
水素を反応系外に除去する方法としては、乾燥ガスを接
触させる方法、減圧下でハロゲン化水素を系外に追い出
す方法あるいはこれらを組み合わせた方法等が挙げられ
る。ここで用いられる乾燥ガスとしては、オキシハロゲ
ン化リンに対して不活性なものであれば何でもよく、窒
素、アルゴン、空気等が挙げられるが、窒素が好まし
い。また、減圧下で副生するハロゲン化水素を系外に追
い出す場合、減圧度は低い程よく、 300mmHg以下が好ま
しく、更に 200mmHg以下が好ましく、特に 100mmHg以下
が好ましい。
【００１２】また、本発明においては、反応を非極性溶
媒中で行うこともできる。非極性溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、イソドデカ
ン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒が挙げられ、デカン、イソドデカ
ン等が好ましい。
媒中で行うこともできる。非極性溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、イソドデカ
ン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒が挙げられ、デカン、イソドデカ
ン等が好ましい。
【００１３】本発明において、リン酸トリエステルを製
造する際の好ましい反応条件は以下の通りである。
造する際の好ましい反応条件は以下の通りである。
【００１４】１種類の有機ヒドロキシ化合物を用いて対
称型リン酸トリエステルを製造する場合には、オキシハ
ロゲン化リン１モルに対して６〜９モルの有機ヒドロキ
シ化合物に、非極性溶媒中又は無溶媒中、オキシハロゲ
ン化リンを滴下し、40〜90℃で２〜20時間反応させれば
よい。
称型リン酸トリエステルを製造する場合には、オキシハ
ロゲン化リン１モルに対して６〜９モルの有機ヒドロキ
シ化合物に、非極性溶媒中又は無溶媒中、オキシハロゲ
ン化リンを滴下し、40〜90℃で２〜20時間反応させれば
よい。
【００１５】２種類の有機ヒドロキシ化合物を用いて非
対称型リン酸トリエステルを製造する場合には、まずオ
キシハロゲン化リン１モルに対して２モルの１番目の有
機ヒドロキシ化合物に、非極性溶媒中又は無溶媒中、オ
キシハロゲン化リンを滴下し、０〜20℃で２〜４時間反
応させた後、更に２〜３モルの２番目の有機ヒドロキシ
化合物を加え、40〜90℃で１〜15時間反応させればよ
い。
対称型リン酸トリエステルを製造する場合には、まずオ
キシハロゲン化リン１モルに対して２モルの１番目の有
機ヒドロキシ化合物に、非極性溶媒中又は無溶媒中、オ
キシハロゲン化リンを滴下し、０〜20℃で２〜４時間反
応させた後、更に２〜３モルの２番目の有機ヒドロキシ
化合物を加え、40〜90℃で１〜15時間反応させればよ
い。
【００１６】３種類の有機ヒドロキシ化合物を用いて非
対称型リン酸トリエステルを製造する場合には、オキシ
ハロゲン化リン１モルに対して１モルの１番目の有機ヒ
ドロキシ化合物を混合し、非極性溶媒中又は無溶媒中、
オキシハロゲン化リンを滴下し、−15〜10℃で１〜３時
間反応させた後、更に１モルの２番目の有機ヒドロキシ
化合物を加え、０〜20℃で２〜４時間反応させる。その
後さらに３番目の有機ヒドロキシ化合物を加え、40℃〜
90℃で１〜15時間反応させればよい。
対称型リン酸トリエステルを製造する場合には、オキシ
ハロゲン化リン１モルに対して１モルの１番目の有機ヒ
ドロキシ化合物を混合し、非極性溶媒中又は無溶媒中、
オキシハロゲン化リンを滴下し、−15〜10℃で１〜３時
間反応させた後、更に１モルの２番目の有機ヒドロキシ
化合物を加え、０〜20℃で２〜４時間反応させる。その
後さらに３番目の有機ヒドロキシ化合物を加え、40℃〜
90℃で１〜15時間反応させればよい。
【００１７】本発明によれば、簡単に高収率、高純度で
リン酸トリエステルを得ることができる。また、本発明
で得られたリン酸トリエステルは、皮膚親和性に優れ、
しかも低粘度、低融点でありかつ安全性に優れるもので
あり、これを油として配合した化粧料及び外用剤は皮膚
へのなじみがよく、使用感に優れ、かつ安全性に優れる
ものである。
リン酸トリエステルを得ることができる。また、本発明
で得られたリン酸トリエステルは、皮膚親和性に優れ、
しかも低粘度、低融点でありかつ安全性に優れるもので
あり、これを油として配合した化粧料及び外用剤は皮膚
へのなじみがよく、使用感に優れ、かつ安全性に優れる
ものである。
【００１８】
【実施例】次に実施例により本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらの例によって限定されるものでは
ない。
るが、本発明はこれらの例によって限定されるものでは
ない。
【００１９】実施例１
１リットル四ツ口フラスコに、エチルカルビトール600g
(4.47mol) を入れ、窒素を50ml/min. 吹き込みながら、
減圧(60mmHg)にし、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン
114g(0.745mol)を反応液を室温に保ちながら滴下し、そ
の後、80℃、３時間熟成した。この間、副生した塩化水
素は系外に除去された。その後、ＡＶ当量中和、アルコ
ールトッピング、スチーミングを行い、トリス（エトキ
シエトキシエチル）ホスフェート 315ｇを収率95％で得
た。ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）内標定量した結
果、純度は97％であった。
(4.47mol) を入れ、窒素を50ml/min. 吹き込みながら、
減圧(60mmHg)にし、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン
114g(0.745mol)を反応液を室温に保ちながら滴下し、そ
の後、80℃、３時間熟成した。この間、副生した塩化水
素は系外に除去された。その後、ＡＶ当量中和、アルコ
ールトッピング、スチーミングを行い、トリス（エトキ
シエトキシエチル）ホスフェート 315ｇを収率95％で得
た。ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）内標定量した結
果、純度は97％であった。
【００２０】実施例２
エチルカルビトールの代わりにｎ−ブチルカルビトール
を用いる以外は、実施例１と同様にして反応を行った結
果、目的とするトリス（ｎ−ブトキシエトキシエチル）
ホスフェートを収率96％で得た。ＧＣ内標定量した結
果、純度は96％であった。
を用いる以外は、実施例１と同様にして反応を行った結
果、目的とするトリス（ｎ−ブトキシエトキシエチル）
ホスフェートを収率96％で得た。ＧＣ内標定量した結
果、純度は96％であった。
【００２１】実施例３
エチルカルビトールにデカンを共存（エチルカルビトー
ルと等重量）させる以外は、実施例１と同様にして反応
を行った結果、目的とするトリス（エトキシエトキシエ
チル）ホスフェートを収率96％で得た。ＧＣ内標定量し
た結果、純度は98％であった。
ルと等重量）させる以外は、実施例１と同様にして反応
を行った結果、目的とするトリス（エトキシエトキシエ
チル）ホスフェートを収率96％で得た。ＧＣ内標定量し
た結果、純度は98％であった。
【００２２】実施例４
窒素を吹き込まない以外は実施例１と同様にして反応を
行った結果、目的とするトリス（エトキシエトキシエチ
ル）ホスフェートを収率95％で得た。ＧＣ内標定量した
結果、純度は95％であった。
行った結果、目的とするトリス（エトキシエトキシエチ
ル）ホスフェートを収率95％で得た。ＧＣ内標定量した
結果、純度は95％であった。
【００２３】実施例５
常圧で行う以外は実施例１と同様にして反応を行った結
果、目的とするトリス（エトキシエトキシエチル）ホス
フェートを収率95％で得た。ＧＣ内標定量した結果、純
度は95％であった。
果、目的とするトリス（エトキシエトキシエチル）ホス
フェートを収率95％で得た。ＧＣ内標定量した結果、純
度は95％であった。
【００２４】実施例６
１リットル四ツ口フラスコに、エチルカルビトール268g
(2.0mol)を入れ、窒素を50ml/min. 吹き込みながら、減
圧(60mmHg)にし、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン15
3g(1.0mol)を反応液を室温に保ちながら滴下した。その
後、40℃、４時間熟成し、室温に冷却後さらにｎ−ブチ
ルカルビトール324g(2.0mol)を入れ、80℃、２時間熟成
した。この間、副生した塩化水素は系外に除去された。
その後、実施例１と同様の操作を行い、目的のリン酸ト
リエステルを収率96％で得た。ＧＣ内標定量した結果、
純度は96％であった。
(2.0mol)を入れ、窒素を50ml/min. 吹き込みながら、減
圧(60mmHg)にし、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン15
3g(1.0mol)を反応液を室温に保ちながら滴下した。その
後、40℃、４時間熟成し、室温に冷却後さらにｎ−ブチ
ルカルビトール324g(2.0mol)を入れ、80℃、２時間熟成
した。この間、副生した塩化水素は系外に除去された。
その後、実施例１と同様の操作を行い、目的のリン酸ト
リエステルを収率96％で得た。ＧＣ内標定量した結果、
純度は96％であった。
【００２５】実施例７
１リットル四ツ口フラスコに、エチルカルビトール134g
(1.0mol)を入れ、窒素を50ml/min. 吹き込みながら、減
圧(60mmHg)にし、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン15
3g(1.0mol)を反応液を10℃に保ちながら滴下した。その
後、10℃、２時間熟成し、室温に冷却後さらにｎ−ブチ
ルカルビトール162g(1.0mol)を入れ、40℃、４時間熟成
した。その後、室温に冷却後さらにトリエチレングリコ
ールモノエチルエーテル356g(2.0mol)を入れ、80℃、２
時間熟成した。この間、副生した塩化水素は系外に除去
された。その後、実施例１と同様の操作を行い、目的の
リン酸トリエステルを収率93％で得た。ＧＣ内標定量し
た結果、純度は96％であった。
(1.0mol)を入れ、窒素を50ml/min. 吹き込みながら、減
圧(60mmHg)にし、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン15
3g(1.0mol)を反応液を10℃に保ちながら滴下した。その
後、10℃、２時間熟成し、室温に冷却後さらにｎ−ブチ
ルカルビトール162g(1.0mol)を入れ、40℃、４時間熟成
した。その後、室温に冷却後さらにトリエチレングリコ
ールモノエチルエーテル356g(2.0mol)を入れ、80℃、２
時間熟成した。この間、副生した塩化水素は系外に除去
された。その後、実施例１と同様の操作を行い、目的の
リン酸トリエステルを収率93％で得た。ＧＣ内標定量し
た結果、純度は96％であった。
【００２６】実施例８
エチルカルビトールの代わりにジエチレングリコールモ
ノドデシルエーテルを用いる以外は、実施例１と同様に
して反応を行った結果、目的とするトリス（ドデシロキ
シエトキシエチル）ホスフェートを収率94％で得た。Ｈ
ＰＬＣ内標定量した結果、純度は95％であった。
ノドデシルエーテルを用いる以外は、実施例１と同様に
して反応を行った結果、目的とするトリス（ドデシロキ
シエトキシエチル）ホスフェートを収率94％で得た。Ｈ
ＰＬＣ内標定量した結果、純度は95％であった。
【００２７】実施例９
１リットル四ツ口フラスコに、ジエチレングリコールモ
ノドデシルエーテル274g(1.0mol)を入れ、窒素を50ml/m
in. 吹き込みながら、減圧(60mmHg)にし、攪拌した。そ
こへ、オキシ塩化リン153g(1.0mol)を反応液を10℃に保
ちながら滴下した。その後、10℃、２時間熟成し、室温
に冷却後さらにｎ−ブチルカルビトール162g(1.0mol)を
入れ、40℃、４時間熟成した。その後、室温に冷却後さ
らにエチルカルビトール268g(2.0mol)を入れ、80℃、２
時間熟成した。この間、副生した塩化水素は系外に除去
された。その後、実施例１と同様の操作を行い、目的の
リン酸トリエステルを収率90％で得た。ＨＰＬＣ内標定
量した結果、純度は95％であった。
ノドデシルエーテル274g(1.0mol)を入れ、窒素を50ml/m
in. 吹き込みながら、減圧(60mmHg)にし、攪拌した。そ
こへ、オキシ塩化リン153g(1.0mol)を反応液を10℃に保
ちながら滴下した。その後、10℃、２時間熟成し、室温
に冷却後さらにｎ−ブチルカルビトール162g(1.0mol)を
入れ、40℃、４時間熟成した。その後、室温に冷却後さ
らにエチルカルビトール268g(2.0mol)を入れ、80℃、２
時間熟成した。この間、副生した塩化水素は系外に除去
された。その後、実施例１と同様の操作を行い、目的の
リン酸トリエステルを収率90％で得た。ＨＰＬＣ内標定
量した結果、純度は95％であった。
【００２８】比較例１
１リットル四ツ口フラスコに、エチルカルビトール600g
(4.47mol) を入れ、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン
114g(0.745mol)を反応液を室温に保ちながら滴下し、そ
の後、80℃、５時間熟成した。その後、実施例１と同様
にＡＶ当量中和、アルコールトッピング、スチーミング
を行い、トリス（エトキシエトキシエチル）ホスフェー
ト 300ｇを収率91％で得た。ＧＣ内標定量した結果、純
度は56％と低純度であった。
(4.47mol) を入れ、攪拌した。そこへ、オキシ塩化リン
114g(0.745mol)を反応液を室温に保ちながら滴下し、そ
の後、80℃、５時間熟成した。その後、実施例１と同様
にＡＶ当量中和、アルコールトッピング、スチーミング
を行い、トリス（エトキシエトキシエチル）ホスフェー
ト 300ｇを収率91％で得た。ＧＣ内標定量した結果、純
度は56％と低純度であった。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭49−62421（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−92262（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07F 9/09
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） R1-O(AO)n-H （Ｉ） 〔式中、R1は炭素数１〜12の直鎖又は分岐のアルキル基
を示し、 Aは炭素数２又は３の直鎖又は分岐のアルキレ
ン基を示し、n 個のA は同一でも異なっていてもよい。
ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示す１〜
10の数である。〕で表される有機ヒドロキシ化合物の１
種又は２種以上とオキシハロゲン化リンとを反応させて
リン酸トリエステルを製造するに際し、副生するハロゲ
ン化水素を反応系外に除去しながら反応を行うことを特
徴とするリン酸トリエステルの製造方法。 - 【請求項２】 副生するハロゲン化水素を反応系外に除
去する方法が、乾燥ガスを接触させる方法あるいは減圧
下で系外に追い出す方法である請求項１記載のリン酸ト
リエステルの製造方法。 - 【請求項３】 反応を非極性溶媒中で行う請求項１又は
２記載のリン酸トリエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17215396A JP3384932B2 (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | リン酸トリエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17215396A JP3384932B2 (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | リン酸トリエステルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1017581A JPH1017581A (ja) | 1998-01-20 |
| JP3384932B2 true JP3384932B2 (ja) | 2003-03-10 |
Family
ID=15936556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17215396A Expired - Fee Related JP3384932B2 (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | リン酸トリエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3384932B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007036188A1 (de) * | 2007-08-02 | 2008-06-19 | Clariant International Limited | Verfahren zur Herstellung alkoxylierter Phosphorsäuretriester |
| EP2653499A1 (en) | 2010-12-14 | 2013-10-23 | Kao Corporation | Polylactic acid resin composition |
| WO2013172351A1 (ja) | 2012-05-18 | 2013-11-21 | 花王株式会社 | 熱成形用ポリ乳酸樹脂シート |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP17215396A patent/JP3384932B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1017581A (ja) | 1998-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kisanga et al. | Synthesis of new proazaphosphatranes and their application in organic synthesis | |
| US6136997A (en) | Process for the formation of hydrocarbyl BIS(hydrocarbyl phosphate) | |
| JP2003512294A (ja) | β亜燐酸ニトロキシドラジカルの製造方法 | |
| JP3384932B2 (ja) | リン酸トリエステルの製造方法 | |
| JP3021496B2 (ja) | オレフィン性化合物のメタセシス生成物の製造方法及びそれに使用する触媒 | |
| JPH09309891A (ja) | モノアルキルホスホニットを製造する方法 | |
| US3632692A (en) | Organophosphorus anhydrides | |
| EP0164049B1 (en) | Process for preparing hmg-coa reductase inhibtors with a 3,5-dihydroxypentanoate subunit | |
| JP2612996B2 (ja) | 有機けい素基含有イソシアヌレートの製造方法 | |
| EP1685141B1 (en) | Process to prepare alkyl phenyl phosphates | |
| Yoshifuji et al. | Utilization of 2, 4-Di-t-butyl-6-(methoxymethyl) phenyl as a New Sterically Protecting Group. | |
| JP3859888B2 (ja) | リン酸トリエステルの製造法 | |
| JPH09268193A (ja) | リン酸トリエステルの製造方法 | |
| JPH10175987A (ja) | 重合性基含有有機リン酸エステル化合物およびその製造方法 | |
| JP3859889B2 (ja) | リン酸トリエステルの製造法 | |
| JP2815121B2 (ja) | リン酸モノエステルの製造方法 | |
| JPS62263194A (ja) | テトラアセチルアルブチンの製造法 | |
| JPH05163209A (ja) | ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルカーボネートの製造方法 | |
| JPH08501304A (ja) | ピロ炭酸のジ（有機）エステルの製造方法 | |
| EP1961729B1 (en) | Method for producing tetrafluoroterephthalic acid difluoride | |
| US6613929B2 (en) | Process for preparation of fluoroformates | |
| Shen et al. | Facile synthesis of trifluoromethylated α-hydroxyphosphonates | |
| JPH01110693A (ja) | アリファチルホスフィン酸誘導体の製造方法 | |
| JP3093898B2 (ja) | Ｎ−アルキルラクタム基含有リン酸エステル及びその製造法 | |
| JPS6257181B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071227 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081227 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081227 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091227 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091227 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101227 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101227 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111227 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111227 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121227 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121227 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131227 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |