JP3380126B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板を基板保持部材によ
って保持して鉛直軸回りに回転させて基板に適宜の処理
を施す基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置として、例
えば、図２０、図２１に示すようなものがある。図２０
（ａ）は、従来例に係る基板処理装置の構成を示す縦断
面図であり、同図（ｂ）は、その平面図、図２１（ａ）
は、基板が保持された状態を示す要部平面図、同図
（ｂ）は、基板の保持が解除された状態を示す要部平面
図である。

【０００３】この従来装置は以下のように構成されてい
る。図示しないモーターに伝動連結され、基板の回転中
心軸Ｊ１回りに回転可能に立設された円筒状の回転軸１
０１の上端部にスピンベース１０２が設けられ、スピン
ベース１０２が軸Ｊ１回りに回転可能に構成されてい
る。スピンベース１０２は、３本以上のアーム部１０３
が放射状に設けられて構成され、各アーム部１０３の先
端部に基板保持部材１１０が設けられている。

【０００４】基板保持部材１１０は、鉛直軸Ｊ２回りに
アーム部１０３に回動可能に設けられた円柱状の基板載
置部１１１と、基板載置部１１１の上面を段付きにして
切り欠き状に設けられた保持部１１２とが一体に形成さ
れている。

【０００５】基板保持部材１１０が、後述するように軸
Ｊ２を回転中心軸として図の反時計回りに回転付勢され
ることで、図２０（ｂ）、図２１（ａ）に示すように、
基板載置部１１１に外周端部の下面が載置された基板Ｗ
の外周端縁が保持部１１２に押圧付勢され基板Ｗが保持
される。一方、基板保持部材１１０が、後述するように
基板保持部材１１０の反時計回りへの回転付勢に抗し
て、軸Ｊ２を回転中心軸として時計回りに回転されるこ
とで、図２１（ｂ）に示すように、保持部１１２が基板
Ｗの外周端縁から離れて基板Ｗの保持が解除される。

【０００６】基板保持部材１１０による基板Ｗの保持と
その解除の操作はリンク機構１２０によって行われる。
このリンク機構１２０は、揺動部材１２１、リンク部材
１２２などで構成されている。揺動部材１２１は、基板
保持部材１１０の側方に延出され、基板載置部１１１の
回動軸Ｊ２を揺動支点として揺動可能に基板載置部１１
１に設けられている。揺動部材１２１の先端部側には、
リンク部材１２２の先端部側が回動可能に連結され、リ
ンク部材１２２の基端部側は駆動軸１３０の上端部に回
動可能に連結されている。

【０００７】駆動軸１３０は、回転軸１０１の中空部に
軸Ｊ１回りに回転軸１０１と相対回転可能に貫通されて
いる。そして、図示しないコイルバネなどの付勢部材に
よって、駆動軸１３０は回転軸１０１に対して軸Ｊ１を
回転中心軸として図の時計回り（図２０（ｂ）の実線で
示す矢印方向）に回転付勢されるようになっている。こ
の駆動軸１３０の回転付勢により、リンク部材１２２を
介して揺動部材１２１の先端部側が軸Ｊ１から離れる方
向に揺動部材１２１が揺動付勢され、それに伴って基板
保持部材１１０が軸Ｊ２を回転中心軸として図の反時計
回りに回転付勢され、上述したように保持部１１２が基
板Ｗの外周端縁を押圧付勢して基板Ｗが保持される。

【０００８】また、付勢部材による駆動軸１３０の時計
回りへの回転付勢に抗して、駆動軸１３０を回転軸１０
１に対して軸Ｊ１を回転中心軸として図の反時計回り
（図２０（ｂ）の二点鎖線で示す矢印方向）に回転させ
る図示しない解除機構も設けられている。この解除機構
による駆動軸１３０の時計回りへの回転によって、リン
ク部材１２２を介して揺動部材１２１の先端部側が軸Ｊ
１側に引き戻される方向に揺動部材１２１が揺動され、
それに伴って基板保持部材１１０が軸Ｊ２を回転中心軸
として図の時計回りに回転され、上述したように保持部
１１２が基板Ｗの外周端縁から離れて基板Ｗの保持が解
除される。

【０００９】保持された基板Ｗの上方には、処理液を基
板Ｗの上面（通常は表面）に供給するノズル１４０が配
置されている。

【００１０】そして、スピンベース１０２を軸Ｊ１回り
に回転させることで、保持した基板Ｗを軸Ｊ１回りに回
転させ、この基板Ｗの上面にノズル１４０からレジスト
液、洗浄液、現像液などの処理液が供給され、レジスト
塗布処理、洗浄処理、現像処理などの適宜の処理が基板
Ｗに施される。

【００１１】ところで、上記従来装置によって基板Ｗを
軸Ｊ１回りに回転させると、回転軸１０１、基板Ｗとと
もに、スピンベース１０２、アーム部１０３、リンク機
構１２０、基板保持部材１１０も軸Ｊ１回りに回転され
る。このスピンベース１０２、アーム部１０３などの軸
Ｊ１回りの回転によって、装置の周囲の雰囲気が基板Ｗ
の下面（リンク機構１２０側の面）側から巻き込まれる
ことになる。装置の周囲には処理液のミストなどが浮遊
しているので、雰囲気の巻き込みによって、処理液のミ
ストが基板Ｗの下面に多量に付着して基板Ｗの下面を汚
染することなどが問題となっていた。

【００１２】そこで、図２２に示すように、従来、スピ
ンベース１０２を円板状に構成して、この円板状のスピ
ンベース１０２によって基板Ｗの下面と外部雰囲気とを
遮断し、保持された基板Ｗを軸Ｊ１回りに回転させる際
に、基板Ｗの下面側から外部雰囲気を巻き込むのを防止
するように構成されたものもある。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】図２２に示す従来装置
によれば、円板状のスピンベース１０２によって、保持
された基板Ｗの下面（リンク機構１２０側の面）側から
の外部雰囲気の巻き込みは防止され、基板Ｗの下面の汚
染はある程度軽減されているが、基板Ｗの下面の汚染は
依然起きているのが事情である。

【００１４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板のリンク機構側の面の汚染を十分
に抑制し得る基板処理装置を提供することを目的とす
る。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記不都
合の発生原因を調査したところ、以下のような要因によ
ることを突き止めた。

【００１６】すなわち、保持された基板Ｗを軸Ｊ１回り
に回転させる際、円板状のスピンベース１０２と基板Ｗ
の下面との間の空間１５０（図２２（ａ）参照）におい
て、リンク機構１２０の揺動部材１２１、リンク部材１
２２が軸Ｊ１回りに回転されるために、この空間１５０
内の気流が乱れ、円板状のスピンベース１０２と基板Ｗ
の外周端部との間の隙間１５１（図２２（ａ）参照）か
ら、処理液のミストを含む外部雰囲気を空間１５０内に
巻き込むことによって基板Ｗのリンク機構１２０側の面
が汚染されるものと考えられる。

【００１７】また、円板状のスピンベース１０２と基板
Ｗの下面との間の空間１５０にリンク機構１２０を配設
している関係で、円板状のスピンベース１０２と基板Ｗ
の下面との間の間隔ｄ（図２２（ａ）参照）を一定以上
に縮めることができず、そのため、円板状のスピンベー
ス１０２と基板Ｗの外周端部との間の隙間１５１の間隔
が広くなり、その隙間１５１から外部雰囲気が流れ込み
易くなっていたことも基板Ｗのリンク機構１２０側の面
の汚染原因の一つと考えられる。

【００１８】本発明者らは上記調査結果を基に、以下の
ような発明をなした。すなわち、請求項１に記載の発明
は、基板の外周端部を３箇所以上で保持する３個以上の
基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の
表面側または裏面側に設けられ、前記基板保持部材によ
る基板の保持および解除を操作するリンク機構と、前記
基板保持部材によって保持された基板を鉛直軸回りに回
転させる基板回転手段と、前記基板保持部材によって保
持された基板のリンク機構側の面と前記リンク機構との
間の空間に、基板のリンク機構側の面に対向する対向面
を有する遮断部材と、前記リンク機構の周囲を覆うカバ
ー部材と、を備えたことを特徴とするものである。ま
た、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処
理装置において、前記カバー部材は、基板に対向する対
向面が遮断部材であることを特徴とするものである。

【００１９】請求項３に記載の発明は、基板の外周端部
を３箇所以上で保持する３個以上の基板保持部材と、前
記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面側
に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持および
解除を操作するリンク機構と、前記基板保持部材によっ
て保持された基板のリンク機構側の面と前記リンク機構
との間の空間に、基板のリンク機構側の面に対向する対
向面を有するとともに、前記リンク機構と前記基板保持
部材とを配設し、前記基板保持部材によって保持された
基板を鉛直軸周りに回転させる基板回転手段と、前記リ
ンク機構の周囲を覆うカバー部材と、を備えたことを特
徴とするものである。また、請求項４に記載の発明は、
請求項３に記載の基板処理装置において、前記カバー部
材は、基板に対向する対向面が基板回転手段のスピンベ
ースであることを特徴とするものである。

【００２０】請求項５に記載の発明は、基板の外周端部
を３箇所以上で保持する３個以上の基板保持部材と、前
記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面側
に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持および
解除を操作するリンク機構と、前記基板保持部材によっ
て保持された基板を鉛直軸回りに回転させる基板回転手
段と、前記基板保持部材によって保持された基板のリン
ク機構側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板の
リンク機構側の面に対向する対向面を有する遮断部材
と、前記遮断部材の対向面に設けられ基板に洗浄液を供
給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、を備えたことを
特徴とするものである。また、請求項６に記載の発明
は、基板の外周端部を３箇所以上で保持する３個以上の
基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の
表面側または裏面側に設けられ、前記基板保持部材によ
る基板の保持および解除を操作するリンク機構と、前記
基板保持部材によって保持された基板のリンク機構側の
面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク機構
側の面に対向する対向面を有するとともに、前記リンク
機構と前記基板保持部材とを配設し、前記基板保持部材
によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる基板
回転手段と、前記基板回転手段の対向面に設けられ基板
に洗浄液を供給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、を
備えたことを特徴とするものである。

【００２１】

【作用】請求項１に記載の発明によれば、基板保持部材
によって保持された基板のリンク機構側の面とリンク機
構との間の空間に、基板のリンク機構側の面に対向する
対向面を有する遮断部材を備えたので、基板のリンク機
構側の面側からの外部雰囲気の巻き込みは遮断部材によ
って遮断される。そして、リンク機構は、基板のリンク
機構側の面と遮断部材との間の空間に存在しないので、
この空間内の気流がリンク機構の回転によって乱される
ことがない。また、前記空間内にリンク機構を設けない
ので、遮断部材の対向面を基板のリンク機構側の面に近
づけることができ、遮断部材と基板の外周端部との間の
隙間の間隔を十分に狭くすることができる。そして、リ
ンク機構の周囲を覆うカバー部材を設けたので、リンク
機構の回転による気流の乱れは、カバー部材によってそ
の外部に影響を与えず、カバー部材の外部空間、すなわ
ち、装置の周囲の空間の気流が乱されることを防止でき
る。また、カバー部材によってリンク機構の汚染も防止
できる。また、請求項２に記載の発明によれば、カバー
部材は、基板に対向する対向面が遮断部材で構成するこ
とができる。

【００２２】請求項３に記載の発明によれば、基板保持
部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
基板回転手段が、基板保持部材によって保持された基板
のリンク機構側の面とリンク機構との間の空間に、基板
のリンク機構側の面に対向する対向面を有するように構
成しているので、その基板回転手段の対向面が請求項１
に記載の発明の遮断部材の対向面と同様に作用し、遮断
部材を設けることなく、基板のリンク機構側の面側から
の外部雰囲気の巻き込みを遮断できる。そして、基板回
転手段は、上述した対向面を有するので、リンク機構が
回転されても、基板のリンク機構側の面とリンク機構の
対向面との間の空間内の気流が乱されることがない。ま
た、基板回転手段の対向面を基板のリンク機構側の面に
近づけることができるので、基板回転手段の対向面と基
板の外周端部との間の隙間の間隔を十分に狭くすること
ができる。そして、請求項１に記載の発明のカバー部材
と同様に作用し、リンク機構の周囲を覆うカバー部材を
設けたので、リンク機構の回転による気流の乱れは、カ
バー部材によってその外部に影響を与えず、カバー部材
の外部空間、すなわち、装置の周囲の空間の気流が乱さ
れることを防止できる。また、カバー部材によってリン
ク機構の汚染も防止できる。また、請求項４に記載の発
明によれば、カバー部材は、基板に対向する対向面が基
板回転手段のスピンベースで構成することができる。

【００２３】請求項５に記載の発明によれば、遮断部材
の対向面に設けられ基板に洗浄液を供給して洗浄処理を
施す洗浄液噴射部を備えたので、この洗浄液噴射部か
ら、遮断部材の対向面に対向する基板のリンク機構側の
面に向けて洗浄液が噴射され、基板のリンク機構側の面
に対する洗浄処理が行われる。また、請求項６に記載の
発明によれば、基板回転手段の対向面に設けられ基板に
洗浄液を供給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部を備えた
ので、この洗浄液噴射部から、基板回転手段の対向面に
対向する基板のリンク機構側の面に向けて洗浄液が噴射
され、基板のリンク機構側の面に対する洗浄処理が行わ
れる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は、本発明の第１実施例に係
る基板処理装置の構成を示す縦断面図であり、図２は、
その平面図、図３は、遮断部材の図示を省略した平面
図、図４は、第１実施例装置の付勢機構と解除機構の構
成を示す一部省略平面図である。

【００２５】なお、この第１実施例および以下の各実施
例は、基板に洗浄・乾燥処理を施す装置を例に採ってい
るが、レジスト塗布装置や現像装置などの各種の基板処
理装置にも本発明は同様に適用することができる。ま
た、この第１実施例および以下の各実施例では、半導体
ウエハに洗浄・乾燥処理を施す装置を例に採っている
が、液晶表示器用のガラス基板やフォトマスク用のガラ
ス基板、光ディスク用の基板などの各種の基板に適宜の
処理を施す装置にも本発明は同様に適用することができ
る。

【００２６】この第１実施例装置は以下のように構成さ
れている。円筒状の回転軸１はベルト伝動機構２によっ
てモーター３に伝動連結されていて基板の回転中心軸Ｊ
１回りに回転可能に立設されている。この回転軸１の上
端部にリング状のスピンベース４が設けられ、スピンベ
ース４が軸Ｊ１回りに回転可能に構成されている。な
お、この回転軸１、ベルト伝動機構２、モーター３、ス
ピンベース４が本発明における基板回転手段に相当す
る。

【００２７】スピンベース４の周縁部付近には、基板Ｗ
の外周端部を３箇所以上で保持する３個以上の基板保持
部材１０が設けられている。基板保持部材１０は、従来
装置の基板保持部材１１０と同様に、鉛直軸Ｊ２回りに
回動可能にスピンベース４に設けられた円柱状の基板載
置部１１と、基板載置部１１の上面を段付きにして切り
欠き状に設けられた保持部１２とが一体に形成されてい
る。

【００２８】基板保持部材１０が、後述するように軸Ｊ
２を回転中心軸として図の反時計回りに回転付勢される
ことで、図２１（ａ）と同様に、基板載置部１１に外周
端部の下面が載置された基板Ｗの外周端縁が保持部１２
に押圧付勢され基板Ｗが保持される（図２の実線）。一
方、基板保持部材１０が、後述するように基板保持部材
１０の反時計回りへの回転付勢に抗して、軸Ｊ２を回転
中心軸として時計回りに回転されることで、図２１
（ｂ）と同様に、保持部１２が基板Ｗの外周端縁から離
れて基板Ｗの保持が解除される（図２の二点鎖線）。

【００２９】基板保持部材１０による基板Ｗの保持とそ
の解除の操作はリンク機構２０によって行われる。この
リンク機構２０は、揺動部材２１、リンク部材２２など
で構成されている。揺動部材２１は、基板保持部材１０
の側方に延出され、基板載置部１１の回動軸Ｊ２を揺動
支点として揺動可能に基板載置部１１に設けられてい
る。揺動部材２１の先端部側には、リンク部材２２の先
端部側が回動可能に連結され、リンク部材２２の基端部
側は駆動軸３０の上端部に回動可能に連結されている。

【００３０】駆動軸３０は、回転軸１の中空部に軸Ｊ１
回りに回転軸１と相対回転可能に貫通されている。回転
軸１にはリング状のフランジ部３１が設けられ、このフ
ランジ部３１に対向するように駆動軸３０にもリング状
のフランジ部３２が設けられている。各フランジ部３
１、３２には、各々ピン３３、３４が設けられ、これら
ピン３３、３４にコイルバネ３５が架けられている。こ
のコイルバネ３５によって、駆動軸３０は回転軸１に対
して軸Ｊ１を回転中心軸として図の時計回り（図３の実
線で示す矢印方向）に回転付勢されるようになってい
る。この駆動軸３０の回転付勢により、リンク部材２２
を介して揺動部材２１の先端部側が軸Ｊ１から離れる方
向に揺動部材２１が揺動付勢され、それに伴って基板保
持部材１０が軸Ｊ２を回転中心軸として図の反時計回り
に回転付勢され、上述したように保持部１２が基板Ｗの
外周端縁を押圧付勢して基板Ｗが保持される。

【００３１】ストッパー３６は、コイルバネ３５による
駆動軸３０の回転付勢を適宜の位置で停止させるための
もので、基板Ｗが無いときにコイルバネ３５によって揺
動部材２１が必要以上に揺動されるのを防止するように
している。なお、このストッパー３６によって駆動軸３
０の回転付勢が停止されたことを図示しない適宜のセン
サで検出することで、基板Ｗが基板載置部１１に載置さ
れていないことを検知することができるようになってい
る。

【００３２】フランジ部３２の近傍にはエアシリンダ３
７が設けられている。このエアシリンダ３７のロッド３
７ａを伸長させて、フランジ部３２に設けられた部材３
８を押し出すことにより、コイルバネ３５による駆動軸
３０の時計回りへの回転付勢に抗して、駆動軸３０を回
転軸１に対して軸Ｊ１を回転中心軸として図の反時計回
り（図３の二点鎖線で示す矢印方向）に回転させるよう
に構成されている。このエアシリンダ３７による駆動軸
３０の時計回りの回転によって、リンク部材２２を介し
て揺動部材２１の先端部側が軸Ｊ１側に引き戻される方
向に揺動部材２１が揺動され、それに伴って基板保持部
材１０が軸Ｊ２を回転中心軸として図の時計回りに回転
され、上述したように保持部１２が基板Ｗの外周端縁か
ら離れて基板Ｗの保持が解除される。

【００３３】リンク機構２０の上方には、連結部材５に
よってスピンベース４に連結された遮断部材６が配設さ
れている。この遮断部材６は、上面６ａが平面になって
いて、この上面６ａが、保持された基板Ｗの下面（リン
ク機構２０側の面）に対向する対向面になっている。ま
た、各基板保持部材１０はこの遮断部材６に回動自在に
貫通されていて、各基板保持部材１０の先端部となる基
板載置部１１の段付き部分と保持部１２とが遮断部材６
の上面６ａから突出され、遮断部材６の上方で基板Ｗを
保持できるようになっている。

【００３４】保持された基板Ｗの上方には、薬液や純水
などの洗浄液を基板Ｗの上面（通常は表面）に供給する
ノズル４０が配置されていて、基板Ｗの上面に対する洗
浄処理が行えるようになっている。

【００３５】また、洗浄処理の後の乾燥処理の促進など
のために、不活性ガス（窒素ガスなど）やドライエアー
などの気体を、保持された基板Ｗの上面に供給するノズ
ル４１も設けられている。

【００３６】また、この実施例では、保持された基板Ｗ
の下面に洗浄液を供給して、保持された基板Ｗの下面に
も洗浄処理を施すことができるように構成している。す
なわち、駆動軸３０を円筒状にして、この駆動軸３０の
中空部に、洗浄液供給管４２を立設させ、この洗浄液供
給管４２の上端部を洗浄液噴出部４３として、この洗浄
液噴出部４３から、保持された基板Ｗの下面に向けて洗
浄液を噴出するようになっている。この洗浄液噴出部４
３は本発明における洗浄液噴射部に相当する。

【００３７】また、駆動軸３０の中空部には、洗浄液供
給管４２の外周を覆うように外周管４４が設けられてい
る。この外周管４４の内周面と洗浄液供給管４２の外周
面との間の空間４５を気体供給路とし、その上端部を気
体噴出口４６として、保持された基板Ｗの下面、すなわ
ち、保持された基板Ｗの下面と遮断部材６の上面６ａと
の間の空間７に気体を供給して、洗浄処理の後の乾燥処
理を促進するように構成されている。なお、駆動軸３０
および回転軸１は、外周管４４に対して回動可能となっ
ている。

【００３８】また、必要に応じて、後述する第３実施例
装置で説明する回転位置検出機構やクランプ装置をこの
第１実施例装置にも備えて、基板Ｗの回転を予め決めら
れた停止位置で停止させるように構成してもよい。

【００３９】上記構成の第１実施例装置による洗浄処理
は以下のように行われる。エアシリンダ３７のロッド３
７ａを伸長させて基板Ｗの保持が解除された状態で、図
示しない搬送アームが基板載置部１１の段付き部分に基
板Ｗを載置する。次に、エアシリンダ３７のロッド３７
ａが収縮され、コイルバネ３５の付勢力によって保持部
１２に基板Ｗの外周端縁が押圧付勢され、基板Ｗが水平
姿勢で保持される。

【００４０】そして、モーター３が駆動されて回転軸１
が軸Ｊ１回りに回転され、保持された基板Ｗが軸Ｊ１回
りに回転される。この基板Ｗの上面及び下面に、ノズル
４０、洗浄液噴出部４３から洗浄液が供給され、基板Ｗ
の両面に対する洗浄処理が行われる。

【００４１】予め決められた洗浄時間が経過すると、ノ
ズル４０、洗浄液噴出部４３からの洗浄液の供給が停止
され、基板Ｗの回転を継続して基板Ｗに付着している洗
浄液を振り切り乾燥させる。この乾燥処理の際に、ノズ
ル４１、気体噴出口４６から気体を供給することで乾燥
処理が促進される。

【００４２】予め決められた乾燥時間が経過すると、ノ
ズル４１、気体噴出口４６からの気体の供給を停止し、
モーター３の駆動を停止して基板Ｗの回転を停止させ
る。そして、エアシリンダ３７のロッド３７ａを伸長さ
せて基板Ｗの保持を解除させる。保持が解除された基板
Ｗは、図示しない搬送アームによって搬出され、次の基
板Ｗが基板載置部１１に載置され、上述した動作で次の
基板Ｗに対する洗浄・乾燥処理が行われる。以後同様
に、順次基板Ｗの洗浄・乾燥処理が行われる。

【００４３】この第１実施例装置によれば、基板保持部
材１０によって水平姿勢に保持された基板Ｗの下面（リ
ンク機構２０側の面）とリンク機構２０との間の空間
に、保持された基板Ｗの下面に対向する対向面６ａを有
する遮断部材６を配設しているので、図２２に示す従来
装置と同様に基板Ｗの下面側からの外部雰囲気の巻き込
みは遮断部材６によって遮断される。

【００４４】また、回転軸１、スピンベース４、基板Ｗ
の軸Ｊ１回りの回転に伴って、リンク機構２０も軸Ｊ１
回りに回転されるが、この第１実施例の構成によれば、
リンク機構２０は遮断部材６の下側に配設され、基板Ｗ
の下面と遮断部材６との間の空間７に存在しないので、
この空間７内の気流がリンク機構２０の回転によって乱
されることがなく、基板Ｗの下面と遮断部材６との間の
空間７に外部雰囲気が巻き込まれ難くなる。また、基板
Ｗの下面と遮断部材６との間の空間７内にリンク機構２
０を設けないので、遮断部材６の対向面６ａを基板Ｗの
下面に近づけて配設することができ、遮断部材６と基板
Ｗの外周端部との間の隙間８の間隔を十分に狭くするこ
とができ、この隙間８から空間７内に外部雰囲気が流れ
込み難くなる。従って、基板Ｗのリンク機構２０側の面
の汚染を十分の抑制することができる。

【００４５】次に、本発明の第２実施例装置の構成を図
５を参照して説明する。図５は、本発明の第２実施例装
置の要部の構成を示す縦断面図である。

【００４６】この第２実施例装置は、上記第１実施例装
置のスピンベース４の周縁部と遮断部材６の周縁部との
間の隙間を覆う側壁５０を全周にわたって設け、この側
壁５０、スピンベース４、遮断部材６をカバー部材９と
して、リンク機構２０の周囲を覆うように構成したこと
を特徴としている。

【００４７】なお、この構成においては、スピンベース
４と遮断部材６とを連結部材５で連結してもよいが、連
結部材５を設けずに側壁５０でスピンベース４と遮断部
材６とを連結するように構成してもよい。

【００４８】このようにリンク機構２０の周囲をカバー
部材９で覆ったことにより、リンク機構２０の軸Ｊ１回
りの回転による気流の乱れは、カバー部材９に遮断され
てその外部に影響を与えず、カバー部材９の外部空間、
すなわち、装置の周囲の空間の気流が乱されることを防
止でき、リンク機構２０の回転による気流の乱れによっ
て、外部雰囲気が乱れて洗浄液のミストが基板Ｗ側に流
れて基板Ｗを汚染するような不都合を抑制することがで
きる。また、カバー部材９によってリンク機構２０は外
部雰囲気と遮断されるので、リンク機構２０の汚染を防
止することもできる。

【００４９】次に、本発明の第３実施例装置の構成を図
６ないし図１０を参照して説明する。図６は、本発明の
第３実施例装置の構成を示す縦断面図であり、図７は、
その平面図、図８は、スピンベースの図示を省略した平
面図、図９は、第３実施例装置の付勢機構と解除機構の
構成を示す一部省略図、図１０（ａ）は、基板が保持さ
れた状態を示す要部平面図、図１０（ｂ）は、基板の保
持が解除された状態を示す要部平面図である。

【００５０】この第３実施例装置は、基板回転手段を構
成するスピンベース４を遮断部材として構成したことを
特徴としている。

【００５１】すなわち、回転軸１の上端部にスピンベー
ス４を設け、このスピンベース４の下側にリンク機構６
０を配設している。また、スピンベース４の上面４ａを
平面にし、この上面４ａを基板保持部材１０に保持され
た基板Ｗの下面（リンク機構６０側の面）に対向する対
向面としている。

【００５２】基板保持部材１０は、第１実施例装置の基
板保持部材１０と同様に基板載置部１１、保持部１２で
構成されているが、この第３実施例では、基板載置部１
１がスピンベース４を貫通して、その下端部がスピンベ
ース４の下側に突出されている。

【００５３】リンク機構６０は、揺動部材６１とリンク
部材６２などで構成されている。揺動部材６１は、スピ
ンベース４の下側において、基板保持部材１０の側方に
延出され、基板載置部１１の回動軸Ｊ２を揺動支点とし
て揺動可能に基板載置部１１の下端部に設けられてい
る。揺動部材６１の先端部側にはピン６１ａが設けられ
ている。

【００５４】リンク部材６２は、スピンベース４に対し
て軸Ｊ１回りに回動可能にスピンベース４に取り付けて
いる。このリンク部材６２は、基板保持部材１０と同数
のアーム部６２ａが放射状に設けられていて、各アーム
部６２ａの先端部の切り欠き部６２ｂに揺動部材６１の
ピン６１ａが係止されて連結されている。

【００５５】リンク部材６２の各アーム部６２ａには、
円柱状の操作部材６３が固設されている。各操作部材６
３には側方に突出されたピン６３ａが設けられている。
そして、一端側がスピンベース４に固定され、他端側が
操作部材６３のピン６３ａに固定されたネジリバネ６４
が各操作部材６３に嵌め込まれている。これにより、図
９に示すように、リンク部材６２はスピンベース４に対
して軸Ｊ１を回転中心軸として図の時計回りに回転付勢
される。このリンク部材６２の時計回りへの回転付勢に
より、図１０（ａ）に示すように、揺動部材６１が軸Ｊ
２を揺動支点として図の反時計回りに揺動付勢され、こ
れに伴って、基板載置部１１が軸Ｊ２を回転中心軸とし
て図の反時計回りに回転付勢され、保持部１２が基板Ｗ
の外周端縁を押圧付勢して基板Ｗが保持される。

【００５６】なお、図示を省略しているが、リンク部材
６２の時計回りへの回転付勢を適宜の位置で停止させる
ためのストッパーも設けられている。

【００５７】スピンベース４の下方にはエアシリンダ６
５が設けられている。このエアシリンダ６５のロッド６
５ａの先端部は揺動部材６６の先端部の長孔６６ａに係
止されて連結されている。揺動部材６６の基端部は水平
軸Ｊ３回りに回動される回動軸６７に固定され、軸Ｊ３
を揺動支点として揺動可能に構成されている。また、回
動軸６７にはレバー部材６８の基端部も固定されてい
る。上記構成において、エアシリンダ６５のロッド６５
ａを伸長させると、揺動部材６６、回動軸６７を介して
レバー部材６８が図の実線から二点鎖線に示す状態へと
傾動され、このレバー部材６８の傾動動作中に、レバー
部材６８が操作部材６３のピン６３ａを押し出す。これ
により、リンク部材６２は、ネジリバネ６４による時計
回りの回転付勢に抗して、スピンベース４に対して軸Ｊ
１を回転中心軸として図の反時計回りに回転される。こ
のリンク部材６２の反時計回りへの回転により、図１０
（ｂ）に示すように、揺動部材６１が軸Ｊ２を揺動支点
として図の時計回りに揺動され、これに伴って、基板載
置部１１が軸Ｊ２を回転中心軸として図の時計回りに回
転され、保持部１２が基板Ｗの外周端縁から離れて基板
Ｗの保持が解除される。

【００５８】なお、エアシリンダ６５、揺動部材６６、
回動部材６７、レバー部材６８からなる解除機構は固定
される一方、操作部材６３は、回転軸１、スピンベース
４、リンク機構６０、基板Ｗとともに軸Ｊ１回りに回転
される。そのため、洗浄・乾燥処理後に回転軸１などの
回転を停止させた後、レバー部材６８が、適宜の操作部
材６３のピン６３ａを操作し得るように、この第３実施
例装置には、回転位置検出機構とクランプ装置を備えて
いる。

【００５９】回転位置検出機構は、回転軸１に固定さ
れ、回転軸１のクランプ位置を検出するための切り欠き
を有する円板７１と、この円板７１の切り欠きを検出す
る光電センサ７２とで構成されている。また、クランプ
装置は、回転軸１に固定されたフランジ部７３と、この
フランジ部７３に対応させて設けられたエアシリンダ７
４とで構成されている。回転位置検出機構でクランプ位
置を検出して、そのクランプ位置で回転軸１の回転を停
止し、エアシリンダ７４のロッド７４ａの先端部をフラ
ンジ７３の凹部７３ａに嵌入させて回転軸１を適宜の位
置でクランプするようになっている。

【００６０】なお、この第３実施例装置には駆動軸３０
を設けていないので、外周管４４は回転軸１の中空部に
設けられ、回転軸１は外周管４４に対して回転可能とな
っている。

【００６１】その他の構成は、第１実施例と同様である
ので、共通する部分は、図１ないし図４と同一符号を付
してその詳述は省略する。

【００６２】この第３実施例装置によれば、リンク機構
６０の上方のスピンベース４が、第１実施例装置の遮断
部材６と同様の作用をもたらすので、第１実施例装置と
同様の効果を得ることができる。

【００６３】次に、本発明の第４実施例装置の構成を図
１１を参照して説明する。図１１は、本発明の第４実施
例装置の要部の構成を示す縦断面図である。

【００６４】この第４実施例装置は、上記第３実施例装
置のリンク機構６０の下方および側方を覆うカバー８０
を設け、このカバー８０、スピンベース４をカバー部材
９として、リンク機構６０の周囲を覆うように構成した
ことを特徴としている。

【００６５】この第４実施例装置によれば、上記第２実
施例装置と同様に効果を得ることができる。

【００６６】なお、上記第１ないし第４実施例におい
て、基板保持部材１０の保持部１２は、図１２に示すよ
うに、基板載置部１１の側方に延出され、基板載置部１
１の回動軸Ｊ２を揺動支点として揺動可能に基板載置部
１１に設けられた揺動部材１３に設けるように構成して
もよい。このような構成であっても、図１２（ｂ）に示
すように、基板載置部１１が図の反時計回りに回転付勢
されることで保持部１２が基板Ｗの外周端縁を押圧付勢
して基板Ｗが保持され、一方、図１２（ｃ）に示すよう
に、基板載置部１１が反時計回りへの回転付勢に抗して
図の時計回りに回転されることで保持部１２が基板Ｗの
外周端縁から離れて基板Ｗの保持が解除される。図１２
（ａ）は、基板保持部材の変形例の構成を示す斜視図で
あり、同図（ｂ）は、基板保持部材によって基板が保持
された状態を示す要部平面図、同図（ｃ）は、基板保持
部材によって基板の保持が解除された状態を示す要部平
面図である。

【００６７】また、上記第１実施例では、スピンベース
４をリング状に構成したが、第１実施例のスピンベース
４を、図２０の従来装置と同様にアーム部を放射状に設
けて構成し、これらアーム部に基板保持部材１０を設け
るようにしてもよい。

【００６８】さらに、図１３、図１４に示すように、第
１または第２実施例のリンク機構を第３または第４実施
例のリンク機構６０で構成してもよい。このとき、図１
３に示すように、リンク部材６２を駆動軸３０の上端部
に取り付け、駆動軸３０に取り付けられたリンク部材６
２を、回転軸１に取り付けられたスピンベース４に対し
て軸Ｊ１回りに回動可能に構成し、第１または第２実施
例の付勢機構によってリンク部材６２をスピンベース４
に対して軸Ｊ１を回転中心軸として時計回りに回転付勢
させて基板Ｗを保持し、第１または第２実施例の解除機
構によってリンク部材６２を、時計回りへの回転付勢に
抗して、スピンベース４に対して軸Ｊ１を回転中心軸と
して反時計回りに回転させて基板Ｗの保持を解除しても
よいし、図１４に示すように、第３または第４実施例の
付勢機構、解除機構によって基板Ｗの保持とその解除を
行うように構成してもよい。図１３（ａ）、図１４
（ａ）は、第１、第２実施例装置のリンク機構を第３、
第４実施例装置のリンク機構で構成した変形例の要部縦
断面図であり、図１３（ｂ）、図１４（ｂ）は、遮断部
材の図示を省略した平面図である。

【００６９】また、上記第３、第４実施例では、リンク
部材６２にアーム部６２ａを設けて構成したが、図１５
に示すように、リンク部材６２をリング状に構成しても
よい。この変形例および以下の図１６ないし図１８に示
す変形例は、上記図１３、図１４で説明した第１、第２
実施例の変形例にも同様に適用できる。図１５は、第
３、第４実施例の変形例の構成を示す、スピンベースの
図示を省略した平面図である。

【００７０】さらに、図１６に示すように、リング状の
リンク部材６２の径を図１５のものよりも大きくして、
切り欠き部６２ｂに代えて揺動部材６１のピン６１ａと
係止させる溝６２ｃをリンク部材６２の下面に設けて揺
動部材６１をリンク部材６２の下側に配設するように構
成してもよい。図１６（ａ）は、第３、第４実施例の変
形例の構成を示す、スピンベースの図示を省略した平面
図であり、同図（ｂ）は、要部の縦断面図である。

【００７１】また、図１７、図１８に示すように、板状
のリンク部材６２の径を図１６のものよりもさらに大き
くしてもよい。この場合、リンク部材６２をスピンベー
ス４に対して軸Ｊ１を回転中心軸として時計回りに回転
付勢させたり、それに抗して反時計回りに回転させる際
に、基板保持部材１０との干渉を避けるために、リンク
部材６２の周縁部に切り欠き６２ｄ（図１７）や長孔６
２ｅ（図１８）を設けている。図１７、図１８は、第
３、第４実施例の変形例の構成を示す、スピンベースの
図示を省略した平面図である。

【００７２】また、上記第１、第２実施例において、図
１９に示すように、スピンベース４の径を上記第１、第
２実施例のものよりも大きくし、基板保持部材１０を、
保持する基板Ｗの外周端縁より外側に設け、基板載置部
１１の上面にフランジ部１４を設けてこのフランジ部１
４の上面に基板Ｗの外周端部の下面を載置させ、このフ
ランジ部１４の上面に保持部１２を設け、リンク機構を
上記第３、第４実施例のリンク機構６０で構成し、リン
ク部材６２を図１６と同様に構成するようにしてもよ
い。図１９（ａ）は、第１、第２実施例の変形例の構成
を示す、遮断部材の図示を省略した平面図であり、同図
（ｂ）は、基板保持部材によって基板が保持された状態
を示す要部平面図、同図（ｃ）は、基板保持部材によっ
て基板の保持が解除された状態を示す要部平面図、同図
（ｄ）は、要部の縦断面図である。

【００７３】なお、図１６ないし図１９の構成では、リ
ンク部材６２の上面が、保持された基板Ｗの下面に対向
する対向面となる。従って、スピンベース４の上方に図
１６ないし図１９のリンク機構６０を設け、遮断部材６
などを設けずに、図１６ないし図１９のリンク部材６２
の上方で基板Ｗを保持するように構成しても上記第１、
第３実施例装置と同様の効果を得ることができる。な
お、このとき、障害となる部材が特に存在しないので、
保持された基板Ｗのリンク機構６０側の面に対向する対
向面となるリンク部材６２の上面を基板Ｗのリンク機構
６０側の面に近づけることができ、基板Ｗのリンク機構
６０側の面とリンク部材６２の上面（対向面）との間の
空間に外部雰囲気を流れ込み難くすることができる。

【００７４】また、上記各実施例およびその変形例では
基板Ｗをリンク機構２０、６０やスピンベース４の上方
で保持する装置を示しているが、基板Ｗをリンク機構や
スピンベースの下方で保持するように構成された装置に
ついても本発明は同様に適用できる。

【００７５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、基板保持部材によって保持さ
れた基板のリンク機構側の面とリンク機構との間の空間
に、基板のリンク機構側の面に対向する対向面を有する
遮断部材を備えたので、基板のリンク機構側の面側から
の外部雰囲気の巻き込みは遮断部材によって遮断でき
る。そして、リンク機構は、基板のリンク機構側の面と
遮断部材との間の空間に存在しないので、この空間内の
気流がリンク機構の回転によって乱されることがなく、
基板のリンク機構側の面と遮断部材との間の空間に外部
雰囲気が巻き込まれ難くなる。また、基板のリンク機構
側の面と遮断部材との間の空間内にリンク機構を設けな
いので、遮断部材の対向面を基板のリンク機構側の面に
近づけることができ、遮断部材と基板の外周端部との間
の隙間の間隔を十分に狭くすることができ、基板のリン
ク機構側の面と遮断部材との間の空間に外部雰囲気が流
れ込み難くなる。そして、リンク機構の周囲を覆うカバ
ー部材を設けたので、リンク機構の回転による気流の乱
れは、カバー部材によってその外部に影響を与えず、カ
バー部材の外部空間、すなわち、装置の周囲の空間の気
流が乱されることを防止できる。従って、基板のリンク
機構側の面の汚染を十分に抑制することができる。ま
た、カバー部材によってリンク機構の汚染も防止でき
る。また、請求項２に記載の発明によれば、カバー部材
は、基板に対向する対向面が遮断部材で構成することが
できる。

【００７６】請求項３に記載の発明によれば、基板保持
部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
基板回転手段が、基板保持部材によって保持された基板
のリンク機構側の面とリンク機構との間の空間に、基板
のリンク機構側の面に対向する対向面を有するように構
成しているので、その基板回転手段の対向面が請求項１
に記載の発明の遮断部材の対向面と同様に作用し、遮断
部材を設けることなく、基板のリンク機構側の面側から
の外部雰囲気の巻き込みを遮断できる。そして、基板回
転手段は、基板保持部材に保持された基板の表面または
裏面に対向する対向面を有するので、リンク機構が回転
されても、基板のリンク機構側の面とリンク機構の対向
面との間の空間内の気流が乱されることがなく、基板の
リンク機構側の面とリンク機構の対向面との間の空間に
外部雰囲気が巻き込まれ難くなる。また、基板回転手段
の対向面を基板のリンク機構側の面に近づけることがで
きるので、基板回転手段の対向面と基板の外周端部との
間の隙間の間隔を十分に狭くすることができ、基板のリ
ンク機構側の面とリンク機構との間の空間に外部雰囲気
が流れ込み難くなる。そして、請求項１に記載の発明の
カバー部材と同様に作用し、リンク機構の周囲を覆うカ
バー部材を設けたので、リンク機構の回転による気流の
乱れは、カバー部材によってその外部に影響を与えず、
カバー部材の外部空間、すなわち、装置の周囲の空間の
気流が乱されることを防止できる。従って、請求項１に
記載の発明と同様に、基板のリンク機構側の面の汚染を
十分に抑制することができ、カバー部材によってリンク
機構の汚染も防止できる。また、請求項４に記載の発明
によれば、カバー部材は、基板に対向する対向面が基板
回転手段のスピンベースで構成することができる。

【００７７】請求項５に記載の発明によれば、遮断部材
の対向面に設けられ基板に洗浄液を供給して洗浄処理を
施す洗浄液噴射部を備えたので、この洗浄液噴射部か
ら、遮断部材の対向面に対向する基板のリンク機構側の
面に向けて洗浄液が噴射され、基板のリンク機構側の面
に対する洗浄処理が行われる。従って、基板のリンク機
構側の面の汚染を十分に抑制することができる。また、
請求項６に記載の発明によれば、基板回転手段の対向面
に設けられ基板に洗浄液を供給して洗浄処理を施す洗浄
液噴射部を備えたので、この洗浄液噴射部から、基板回
転手段の対向面に対向する基板のリンク機構側の面に向
けて洗浄液が噴射され、基板のリンク機構側の面に対す
る洗浄処理が行われる。従って、基板のリンク機構側の
面の汚染を十分に抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板処理装置の構成
を示す縦断面図である。

【図２】第１実施例装置の構成を示す平面図である。

【図３】第１実施例装置の構成を示す、遮断部材の図示
を省略した平面図である。

【図４】第１実施例装置の付勢機構と解除機構の構成を
示す一部省略平面図である。

【図５】本発明の第２実施例装置の要部の構成を示す縦
断面図である。

【図６】本発明の第３実施例装置の構成を示す縦断面図
である。

【図７】第３実施例装置の構成を示す平面図である。

【図８】第３実施例装置の構成を示す、スピンベースの
図示を省略した平面図である。

【図９】第３実施例装置の付勢機構と解除機構の構成を
示す一部省略図である。

【図１０】第３実施例装置によって基板が保持された状
態と基板の保持が解除された状態を示す要部平面図であ
る。

【図１１】本発明の第４実施例装置の要部の構成を示す
縦断面図である。

【図１２】基板保持部材の変形例の構成を示す斜視図、
及び、その基板保持部材によって基板が保持された状態
と基板の保持が解除された状態を示す要部平面図であ
る。

【図１３】第１、第２実施例装置のリンク機構を第３、
第４実施例装置のリンク機構で構成した変形例の要部縦
断面図と遮断部材の図示を省略した平面図である。

【図１４】第１、第２実施例装置のリンク機構を第３、
第４実施例装置のリンク機構で構成した別の変形例の要
部縦断面図と遮断部材の図示を省略した平面図である。

【図１５】第３、第４実施例の変形例の構成を示す、ス
ピンベースの図示を省略した平面図である。

【図１６】第３、第４実施例の別の変形例の構成を示
す、スピンベースの図示を省略した平面図と、要部の縦
断面図である。

【図１７】第３、第４実施例のさらに別の変形例の構成
を示す、スピンベースの図示を省略した平面図である。

【図１８】第３、第４実施例のさらに別の変形例の構成
を示す、スピンベースの図示を省略した平面図である。

【図１９】第１、第２実施例の変形例の構成を示す、遮
断部材の図示を省略した平面図と、その変形例の基板保
持部材によって基板が保持された状態と基板の保持が解
除された状態を示す要部平面図と、その変形例の要部の
縦断面図である。

【図２０】従来例に係る基板処理装置の構成を示す縦断
面図と平面図である。

【図２１】従来装置によって基板が保持された状態と保
持が解除された状態を示す要部平面図である。

【図２２】別の従来例に係る基板処理装置の構成を示す
縦断面図と平面図である。

【符号の説明】

１：回転軸 ２：ベルト伝動機構 ３：モーター ４：スピンベース ４ａ、６ａ：保持された基板のリンク機構側の面に対向
する対向面 ６：遮断部材 ９：カバー部材 １０：基板保持部材 ２０、６０：リンク機構 ２１、６１：揺動部材 ２２、６２：リンク部材 ５０：側壁 ８０：カバー Ｗ 基板 Ｊ１：基板の回転中心軸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−274062（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−107023（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−37077（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−213827（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/02

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の外周端部を３箇所以上で保持する
   ３個以上の基板保持部材と、 前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
   側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
   び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板を鉛直軸回り
   に回転させる基板回転手段と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
   側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
   機構側の面に対向する対向面を有する遮断部材と、前記リンク機構の周囲を覆うカバー部材と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記カバー部材は、基板に対向する対向面が遮断部材で
   あることを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 基板の外周端部を３箇所以上で保持する
   ３個以上の基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
   側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
   び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
   側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
   機構側の面に対向する対向面を有するとともに、前記リ
   ンク機構と前記基板保持部材とを配設し、前記基板保持
   部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
   基板回転手段と、 前記リンク機構の周囲を覆うカバー部材と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板処理装置におい
   て、 前記カバー部材は、基板に対向する対向面が基板回転手
   段のスピンベースであることを特徴とする基板処理装
   置。
5. 【請求項５】 基板の外周端部を３箇所以上で保持する
   ３個以上の基板保持 部材と、 前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
   側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
   び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板を鉛直軸回り
   に回転させる基板回転手段と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
   側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
   機構側の面に対向する対向面を有する遮断部材と、 前記遮断部材の対向面に設けられ基板に洗浄液を供給し
   て洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】 基板の外周端部を３箇所以上で保持する
   ３個以上の基板保持部材と、 前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
   側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
   び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
   側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
   機構側の面に対向する対向面を有するとともに、前記リ
   ンク機構と前記基板保持部材とを配設し、前記基板保持
   部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
   基板回転手段と、 前記基板回転手段の対向面に設けられ基板に洗浄液を供
   給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。