JP3376976B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
データをバースト的に入出力する半導体記憶装置に関
し、特に、メモリセルから読み出したデータをラッチせ
ずにそのまま外部へ出力する動作モードを備えた半導体
記憶装置に関するものである。
の微細化に伴ってCPU(中央処理装置)の動作速度は
年々向上してきている。これに対して、DRAM(Dyna
mic Random Access Memory)などの半導体記憶装置では
記憶容量自体は増えてきているものの、大容量化に伴っ
てワード線やビット線の配線長が長くなることから、こ
れら配線の充放電に起因する遅延のためにCPUほどの
高速化が図られていないのが実状である。
上の高速化を実現するために様々な工夫が為されてい
る。例えば、半導体記憶装置の内部ではメモリセルとの
間でデータをパラレルに受け渡しながら、半導体記憶装
置の外部との間ではデータをシリアルにやり取りするこ
とが考えられている。また、半導体記憶装置を使用する
システム内における基本クロックの立ち上がり/立ち下
がりの双方でデータを入出力するDDR(Double Data
Rate)技術を適用することで、入出力データを2相に分
けて各相の入出力動作を半導体記憶装置内部で並行処理
させて、各相の入出力データについてデータの入出力周
期の倍に相当する内部処理周期を確保することなども考
えられている。
ルデータを半導体記憶装置の外部へ読み出すにあたって
幾つかのモードを備えているものもある。これらモード
としては、メモリセルから同時に読み出したパラレルデ
ータの全ビットを一旦ラッチしたのち、ラッチされたパ
ラレルデータをシリアルに外部へ出力してゆくモード
(以下、「ラッチモード」と呼ぶことにする)がある。
これに加えて、アクセスタイムをラッチモードよりも短
くするために、読み出されたパラレルデータのうち、半
導体記憶装置の外部へ最初に出力されるビットだけをラ
ッチすることなくスルー(through )で出力するモード
(以下、「スルーモード」と呼ぶことにする)などもあ
る。
採用されている内部構成例についてその概略を示したも
のである。ここで、同図に示されているメモリセルアレ
イからバースト読み出しを行う場合の動作について概説
する。いま、半導体記憶装置の外部から供給される読み
出しアドレスが例えばメモリセルアレイ101U内のメ
モリセルに対応しているとする。この場合、指定された
読み出しアドレスに対応する例えば8ビット(ビット0
〜ビット7)のデータが、メモリセルアレイ101Uか
らパラレルに読み出されてデータアンプ107Uへ同時
に供給される。データアンプ107Uは4ビットのev
en(偶数)データ,odd(奇数)データをそれぞれ
パラシリ変換回路108Ue,108Uoへ供給する。
evenデータを基本クロックCLKの立ち下がりに同
期してセレクタ109eへ順次出力してゆくことで、e
venデータを4ビットのシリアルデータに変換する。
同様にして、パラシリ変換回路108Uoは入力された
oddデータを基本クロックCLKの立ち上がりに同期
してセレクタ109oへ順次出力してゆくことで、od
dデータを4ビットのシリアルデータに変換する。ここ
では上述したようにメモリセル101Uからの読み出し
であるために、セレクタ109e,109oは選択信号
U/Lに従ってそれぞれパラシリ変換回路108Ue,
108Uoから供給されるシリアルデータを選択する。
Kの立ち上がり,立ち下がりでそれぞれセレクタ109
e,109oの出力を選択してevenデータおよびo
ddデータを交互に出力する。こうしてビット0からビ
ット7までの8ビットのシリアルデータが、図示しない
出力バッファ,入出力パッド100を通じてバースト的
に外部へ出力される。また、メモリセルアレイ101L
からの読み出し動作も上述した動作に準じて行われ、こ
の場合には、データアンプ107L,パラシリ変換回路
108Le及び108Loを通じてセレクタ109e,
109oからマルチプレクサ110にデータが送られ
る。なお、メモリセルアレイに対する書き込み動作は解
決すべき課題と直接関係しないためここでは説明を省略
する。
込み動作で8個のデータを外部に出力または外部から入
力することができるので、半導体記憶装置の外部が高速
クロックで動作する場合であっても、半導体記憶装置内
部はその8倍の周期で読み出しまたは書き込み処理が可
能になる。読み出し系の構成の場合について具体的に言
うと、メモリセルアレイ101U,101Lおよびデー
タアンプ107U,107Lは低速に構成して、パラシ
リ変換回路108Ue,108Uo,108Le,10
8Lo及びセレクタ109e,109o及びマルチプレ
クサ110及び入出力パッド100は高速に構成すれば
良い。ここで、後者の経路は前者の経路に比べて配線長
が短く、また、後者の経路上の構成要素は前者の経路上
の構成要素に比べて素子数も少ないことからサイズの大
きなトランジスタを使用してもチップサイズへの影響は
少なく、高速動作に対応できるようにすることは容易で
ある。
用のクロック同期型DRAMなどでは、メモリセルアレ
イからパラレルに読み出されてくるデータの個々のビッ
トがメモリセルアレイ上のどの位置に対応するのかはま
ちまちである。つまり、パラレルデータのうちで最も早
く読み出されるビットや最も遅く読み出されるビットに
よらず、どのビットもメモリセルアレイ全体に分布して
配置されている。このため従来はDRAMの処理速度に
合わせてCPU側を待たせるような処理を行っている。
例えばCAS (Column Address Strobe)レイテンシを
“3”に設定した場合、CPUはCAS信号をDRAM
に与えてから“3サイクル”待った後にDRAMからの
読み出しデータを受け取るようにしている。つまり、従
来は読み出しに一番時間がかかるビットによって読み出
し時間が律速されているため、これに合わせてDRAM
の規格を決定するとともにDRAMを使用したシステム
の設計を行っている。したがって、例えば8ビットのデ
ータをメモリセルアレイからパラレルに読み出す場合に
は、ビット0からビット7までの全てのビットについて
同程度の高速アクセスが要求されることになる。
体記憶装置は上述したような固定バースト出力のもので
あって、メモリセルアレイからの読み出しデータは例え
ばビット0からビット7までの8ビット分がバースト的
に順次出力されてくる。こうしたビットの出力順は上述
したラッチモードやスルーモードを含めた各種の動作モ
ードに依存して変わることはなく、一番最初に出力すべ
きビットは常にビット0であることが仕様として予め決
められている。
憶装置ではビット0の読み出しに対する要求がタイミン
グ的に最も厳しいものとなり、このビット0を如何にし
て高速に読み出すかが半導体記憶装置の性能を左右して
しまう。特に、半導体記憶装置をスルーモードで動作さ
せる場合には、メモリセルアレイから読み出されたビッ
ト0のデータをラッチすることなく入出力パッド100
の近傍に配置されたマルチプレクサ110までスルーで
伝達しなければならない。このため、読み出し経路が長
くなってその分だけタイミング的な要求がさらに厳しい
ものとなる。
のDRAM等と同じくパラレルデータの全てのビットを
同程度の時間内にアクセスすることしか考慮されておら
ず、ビット0だけを特別視して高速にアクセスすること
を意識した設計となっていない。すなわち、従来の半導
体記憶装置では各メモリセルアレイにおけるビット毎の
配置が何ら考慮されておらず、evenデータ及びod
dデータを各メモリセルアレイ中に混在して記憶するよ
うな構成になっている。従来の半導体記憶装置では、例
えばデータアンプ107Uに対して最遠端に配置されて
いるメモリセル(図17に示したメモリセルCf等)の
アクセスタイムが所定の許容時間を上回らないことを保
証しているに過ぎない。
は、バースト読み出しで一番最初に出力すべきビット0
のメモリセルが図17に示したメモリセルCfのように
データアンプから一番遠い場所に配置されてしまう可能
性がある。このため、ビット0のメモリセルが同図のメ
モリセルCnのごとくデータアンプ107U近傍に配置
された場合と比べると、読み出しデータがデータアンプ
107Uに到達する迄により多くの時間を要することに
なり、それがアクセス時間の増大に起因した動作速度特
性上の問題となって現れてくる。
セルアレイを左右方向に扁平な形状で描いてあるが、実
物のメモリセルアレイはむしろ上下方向に扁平な形状を
呈している。しかも、今後ますます半導体記憶装置が大
容量化してゆくにつれて縦長の度合いもより顕著になっ
てゆくことは必至である。例えば、メモリセルアレイ1
01U又はメモリセルアレイ101Lの上下方向の長さ
(換言すれば、図17のメモリセルCnとメモリセルC
fの間にほぼ等しい距離)は現時点においてもミリオー
ダに達している。したがって、いまメモリセルアレイの
上下方向の長さを例えば2mm(=2000μm)と
し、また、図示しないセンスアンプとデータアンプとの
間を接続するI/O(入出力)線の特性としてその容量
値が1ミリメートル当たり1pF,幅が1μm,導電率
が単位面積当たり0.05Ωであると仮定する。
する抵抗値は100Ω程度となり、その時定数(CR)
は200ps程度である。しかも、この200psはI
/O線の負荷のみを考慮して見積もったときの最小の遅
延に過ぎず、条件によってはこれが500ps程度にも
なる。また、半導体記憶装置の大容量化によって個々の
メモリセルアレイの規模が大きくなると、その分だけI
/O線の負荷も重くなって遅延時間も増大することにな
る。さらに、I/O線の負荷以外にもアドレス系の遅延
やデータアンプ107Uから入出力パッド100に至る
までの選択パスの遅延といった様々な要因をも考慮する
と、トータルの遅延は1ns近くになることが十分考え
られる。したがって、現状での半導体記憶装置のアクセ
スタイムが数nsであることに鑑みると、1ns弱にも
達する遅延は無視することができないほど大きいと言え
る。
セルアレイ中にevenデータ,oddデータを混在し
て記憶させていたが、これ以外の構成例として、例えば
メモリセルアレイ101Uにはevenデータのみを記
憶させる一方で、メモリセルアレイ101Lにはodd
データのみを記憶させることも考えられる。こうした構
成を採用した場合であっても、データアンプ,ライトア
ンプ,シリパラ変換回路,パラシリ変換回路等の構成が
若干異なってくるだけで、上述した問題が発生すること
に変わりはない。というのも、ビット0を含むeven
データが記憶されるメモリセルアレイ101U上には、
メモリセルCfのようにデータアンプ107Uから見て
最遠端に配置されたメモリセルが存在するからである。
構成例も理論的には考えられる。すなわち、I/O線の
負荷を軽減させるために各メモリセルアレイをさらに細
分化して構成するようにして、細分化された個々のメモ
リセルアレイについてそれぞれライトアンプ,データア
ンプ,シリパラ変換回路及びパラシリ変換回路等の周辺
回路を設けることも考えうる。しかしながら、シリパラ
変換回路やパラシリ変換回路などは巨大な回路ブロック
であることから、いま述べたような構成にしてしまうと
セル占有率の低下を招いてしまうためとても現実的な解
決策とは言えない。
のであって、その目的は、半導体記憶装置の大容量化に
伴って個々のメモリセルアレイが大きくなっても、バー
スト的に読み出されるシリアルデータのうちの最初のデ
ータを外部へ高速に出力することの可能な半導体記憶装
置を提供することにある。
めに、請求項1記載の発明は、複数のメモリセルを有す
るメモリサブアレイから読み出した複数ビットのデータ
の各ビットデータを所定の順序で連続して外部へ出力す
る出力手段を備えた半導体記憶装置において、前記メモ
リサブアレイを複数のメモリセルアレイに分割し、前記
複数ビットのデータのうち、最初に出力すべきビットの
データを前記複数のメモリセルアレイのうちの第1のメ
モリセルアレイに記憶させ、該第1のメモリセルアレイ
を該第1のメモリセルアレイ以外の他のメモリセルアレ
イよりも前記出力手段の近傍に配置したことを特徴とし
ている。また、請求項2記載の発明は、複数のメモリセ
ルを有するメモリサブアレイから読み出した複数ビット
のデータの各ビットデータを所定の順序で連続して外部
へ出力する出力手段を備えた半導体記憶装置において、
前記メモリサブアレイを複数のメモリセルアレイに分割
し、前記複数ビットのデータのうち、最初に出力すべき
ビットのデータを前記複数のメモリセルアレイのうちの
第1のメモリセルアレイに記憶させ、該第1のメモリセ
ルアレイから読み出されるデータを前記出力手段に伝送
するための第1の出力線の長さを、前記第1のメモリセ
ルアレイ以外の他のメモリセルアレイから読み出される
データを前記出力手段に伝送するための他の出力線の長
さよりも短くしたことを特徴としている。
載の発明において、前記第1の出力線および前記他の出
力線は、前記メモリセルに記憶されたビットデータが読
み出されるローカル出力線と該ローカル出力線上に読み
出されたビットデータを前記出力手段まで伝送するグロ
ーバル出力線とで構成される階層化された出力線であっ
て、前記第1の出力線を構成するグローバル出力線の長
さが、前記他の出力線を構成するグローバル出力線の長
さよりも短いことを特徴としている。また、請求項4記
載の発明は、請求項3記載の発明において、前記第1の
メモリセルアレイは、前記複数ビットのデータのうち、
前記最初に出力すべきビットのデータに加えて該ビット
以外のビットのデータを記憶しており、前記第1の出力
線は、前記第1のメモリセルアレイに記憶された各ビッ
トのデータをそれぞれ前記出力手段に伝送するための複
数本の出力線で構成され、該複数本の出力線の各々を構
成するローカル出力線のうち、前記最初に出力すべきビ
ットのデータを伝送するためのローカル出力線を前記出
力手段の最も近くに配線したことを特徴としている。
は4記載の発明において、前記複数のメモリセルアレイ
の各々を複数のメモリセルプレートで構成し、隣接して
配置された所定数のメモリセルプレート毎に前記ローカ
ル出力線を設け、前記第1の出力線および前記他の出力
線を構成するそれぞれのグローバル出力線が互いに同一
のメモリセルプレート上を通過しないように、これらグ
ローバル出力線を前記複数のメモリセルアレイ上のメモ
リセルプレートに対応したローカル出力線からそれぞれ
引き出して前記出力手段まで配線したことを特徴として
いる。また、請求項6記載の発明は、請求項3又は4記
載の発明において、前記複数のメモリセルアレイの各々
を複数のメモリセルプレートで構成し、該複数のメモリ
セルプレートの各々に対応させて前記ローカル出力線を
設け、前記複数のメモリセルアレイの各々を構成する何
れかのメモリセルプレートに対応したローカル出力線か
ら前記第1の出力線および前記他の出力線を構成するそ
れぞれのグローバル出力線を引き出して前記出力手段ま
で配線したことを特徴としている。
6の何れかの項記載の発明において、前記メモリサブア
レイを複数個備え、前記複数個のメモリサブアレイの中
から選択された何れかのメモリサブアレイを構成する前
記第1のメモリセルアレイ、および、該選択されたメモ
リサブアレイ以外の他のメモリサブアレイを構成する前
記他のメモリセルアレイに対して、連続して出力される
前記複数ビットのデータを記憶させ、前記選択されたメ
モリサブアレイを構成する前記第1のメモリセルアレイ
と前記他のメモリサブアレイを構成する前記他のメモリ
セルアレイを活性化させて前記複数ビットのデータを読
み出すことを特徴としている。また、請求項8記載の発
明は、請求項1〜6の何れかの項記載の発明において、
前記メモリサブアレイを複数個備え、前記複数個のメモ
リサブアレイの中から選択された何れかのメモリサブア
レイを構成する前記第1のメモリセルアレイおよび前記
他のメモリセルアレイに対して、連続して出力される前
記複数ビットのデータを記憶させ、前記選択されたメモ
リサブアレイを構成する前記第1のメモリセルアレイお
よび前記他のメモリセルアレイを活性化させて前記複数
ビットのデータを読み出すことを特徴としている。
8の何れかの項記載の発明において、前記複数のメモリ
セルアレイの各々が互いに独立して活性化される複数の
領域に分割されており、前記複数の領域のうち、連続し
て出力される前記複数ビットのデータが記憶されている
領域だけを同時に活性化させて、該複数ビットのデータ
を読み出すことを特徴としている。また、請求項10記
載の発明は、請求項1〜9の何れかの項記載の発明にお
いて、前記メモリサブアレイは前記第1のメモリセルア
レイ及び第2のメモリセルアレイから成る2個のメモリ
セルアレイで構成されており、前記最初に出力すべきビ
ットのデータが記憶された前記第1のメモリセルアレイ
を先にして、前記第1のメモリセルアレイ及び前記第2
のメモリセルアレイから前記各ビットデータを交互に読
み出して外部へ連続して出力することを特徴としてい
る。
0記載の発明において、前記第1のメモリセルアレイ及
び前記第2のメモリセルアレイから交互に読み出された
前記各ビットデータは、クロックの立ち上がり及び立ち
下がりに同期して交互に外部へ出力されることを特徴と
している。また、請求項12記載の発明は、請求項1〜
11の何れかの項記載の発明において、前記最初に出力
すべきビットのデータは、前記第1のメモリセルアレイ
から読み出されて前記各ビットデータを外部へ供給する
ための出力端子までスルーで伝送されることを特徴とし
ている。
実施形態について説明する。 〔回路構成の説明〕図1は本実施形態による半導体記憶
装置の構成を示すブロック図であって、入出力パッド1
個分(1DQ)についての構成を示してある。同図にお
いて、入出力パッド(図中の「PAD」)10はシリア
ルデータを入出力するための端子である。この入出力パ
ッド10を介して、半導体記憶装置が適用されるシステ
ム内の基本クロックCLKに同期して、1回のアドレス
アクセス当たり例えば8ビットのシリアルデータを半導
体記憶装置の外部との間でバーストで連続的に受け渡
す。したがって、半導体記憶装置をDDRで動作させた
場合には、例えばビット0,2,4,6で構成される偶
数ビット目のデータ(以下「evenデータ」という)
が基本クロックの立ち上がりに同期して授受され、ビッ
ト1,3,5,7で構成される奇数ビット目のデータ
(以下「oddデータ」という)が基本クロックの立ち
下がりに同期して授受される。なお、入出力パッド10
ではビット0,1,2,…,7の順にデータが授受され
る。
憶装置の外部で規定された仕様であって、半導体記憶装
置の内部ではevenデータ,oddデータを基本クロ
ックCLKの立ち上がり/立ち下がりの何れに同期させ
るかについて何ら制約が無く、論理設計上ないしはレイ
アウト設計上の容易性等を考慮した上で適宜決定すれば
良い。つまり、半導体記憶装置内部におけるタイミング
を半導体記憶装置外部で規定されているタイミングと正
反対にしても全く差し支えないということである。そこ
で、本実施形態では半導体記憶装置外部との間では立ち
上がり/立ち下がりの各タイミングでそれぞれeven
データ,oddデータを受け渡すのに対し、半導体記憶
装置の内部では立ち上がり/立ち下がりの各タイミング
でそれぞれoddデータ,evenデータを受け渡すも
のとして話を進める。
o,11Le,11Loは何れもワード線とビット線対
との交点に多数のメモリセルがマトリクス状に配置され
たものである。いま例えばメモリセルアレイ11Ue,
11Uoから読み出しを行う場合、半導体記憶装置の外
部から供給されるアドレス信号に含まれる行アドレスに
従ってXデコーダ(行デコーダ)12Uがワード線を活
性化させ、同アドレス信号に含まれる列アドレスに従っ
て図示しないYデコーダ(列デコーダ)がビット線対を
選択し、図示しないセンスアンプ及びカラムスイッチを
通じて選択されたビット線対からメモリセルのデータを
読み出す。
合も同様であって、この場合にはXデコーダ12Uの代
わりにXデコーダ12Lが用いられる。なお、各符号中
の文字「U」,「L」はそれぞれ Upper,Lower を意味
しており、これはメモリセルアレイ11Ue,11Uo
が図中の上側に配置され、メモリセルアレイ11Le,
11Loが図中の下側に配置されているためである。な
お、図示した4個のメモリセルアレイ全てに対して同時
にアクセスが為されることはなく、ある時点ではeve
n用の何れかのメモリセルアレイとodd用の何れかの
メモリセルアレイ(つまり、2個のメモリセルアレイ)
に対してアクセスが行われる。
で説明した個々のメモリセルアレイに相当する構成を2
つのメモリセルアレイに分割している。これらメモリセ
ルアレイのうちの一方がoddデータを記憶するための
odd用メモリセルアレイであって、他方がevenデ
ータを記憶するeven用メモリセルアレイである。ま
た、本実施形態ではバーストデータの中で最先に出力さ
れるビット0のデータを可能な限り高速に読み出せるよ
うに、ビット0を含むeven用のメモリセルアレイを
odd用のメモリセルアレイよりもデータアンプの近傍
に配置するように構成している。なお、データアンプは
遅延時間短縮のために入出力パッド10の近くに配置さ
れるので、even用メモリセルアレイをodd用メモ
リセルアレイよりも入出力パッドに近い位置へ配置する
と言っても良い。
アレイはeven用のメモリセルアレイ11Ueとod
d用のメモリセルアレイ11Uoに分割され、メモリセ
ルアレイ11Ueをメモリセルアレイ11Uoよりもデ
ータアンプの近傍に配置している。同様にして、 Lower
側のメモリセルアレイはeven用のメモリセルアレイ
11Leとodd用のメモリセルアレイ11Loに分割
され、メモリセルアレイ11Leをメモリセルアレイ1
1Loよりもデータアンプの近傍に配置している。なお
以下では、メモリセルアレイ11Ue,11Uoからな
るブロックを「メモリサブアレイ」と呼ぶ場合があり、
メモリセルアレイ11Le,11Loからなるブロック
についても同様にメモリサブアレイと称することがあ
る。
れるメモリセルアレイは、Upper 側/Lower側が同一ブ
ロックである場合と Upper側/Lower側が異なるブロッ
クである場合の2通りある。前者の場合は、従来技術で
説明したのと同じく、メモリセルアレイ11Ue,11
Uoからevenデータ,oddデータがそれぞれ同時
に読み出されるか、あるいは、メモリセルアレイ11L
e,11Loからevenデータ,oddデータがそれ
ぞれ同時に読み出される。この場合、Xデコーダ12U
からメモリセルアレイ11Ueと11Uoとへ供給され
る行デコード信号は同一になり、Xデコーダ12Lから
メモリセルアレイ11Leと11Loとへ供給される行
デコード信号もまた同一になる。見方を変えると、Xデ
コーダ12Uからは1つの行デコード信号がメモリセル
アレイ11Ue,11Uoの双方に供給され、また、X
デコーダ12Lからは1つの行デコード信号がメモリセ
ルアレイ11Le,11Loの双方に供給されることに
なる。
oの動作をそれぞれ制御する選択信号U/Le,U/L
oはUpper側/Lower側を切り換えるための信号となる。
例えば16ビット分のデータを半導体記憶装置から読み
出す場合には、上位の8ビットがまず Upper側のメモリ
セルアレイ11Ue,11Uoから同時に読み出され、
その後に、下位の8ビットが Lower側のメモリセルアレ
イ11Le,11Loから同時に読み出されることにな
る。なお、本実施形態では異なるメモリサブアレイへ同
時にアクセスする場合が考えられるため、選択信号を U
pper側/ Lower側で互いに独立させてある。
セルアレイにまたがってアクセスが為されるため、メモ
リセルアレイ11Ue,11Loからevenデータ,
oddデータがそれぞれ同時に読み出されるか、あるい
は、メモリセルアレイ11Le,11Uoからeven
データ,oddデータがそれぞれ同時に読み出されるこ
とになる。この場合に各メモリセルアレイへ供給される
行デコード信号は、Xデコーダ12Uからメモリセルア
レイ11Ueへ供給されるものとXデコーダ12Lから
メモリセルアレイ11Loへ供給されるものが同じにな
る。あるいは、Xデコーダ12Uからメモリセルアレイ
11Uoへ供給されるものとXデコーダ12Lからメモ
リセルアレイ11Leへ供給されるものが同じになる。
U/Le,U/Loは上述したようなUpper側/Lower側
の単なる切り換え信号ではなくなり、各メモリサブアレ
イを構成している2個のメモリセルアレイをアクセスア
ドレスに応じて切り分けるための選択信号となる。例え
ば、上記同様に16ビット分のデータを読み出すとした
場合、最初の8ビットが例えばメモリセルアレイ11U
e,11Loから同時に読み出され、それから残りの8
ビットがメモリセルアレイ11Uo,11Leから同時
に読み出される。
アンプ及びパラシリ変換回路はeven/oddで独立
して動作する場合があるため、それぞれをeven用/
odd用に分離している。すなわち、シリパラ変換回路
についてはeven用のシリパラ変換回路15Ueとo
dd用のシリパラ変換回路15Uoに分割するととも
に、even用のシリパラ変換回路15Leとodd用
のシリパラ変換回路15Loに分割している。また、ラ
イトアンプについてはeven用のライトアンプ16U
eとodd用のライトアンプに16Uoに分割するとと
もに、even用のライトアンプ16Leとodd用の
ライトアンプに16Loに分割している。さらに、デー
タアンプについてはeven用のデータアンプ17Ue
とodd用のデータアンプに17Uoに分割するととも
に、even用のデータアンプ17Leとodd用のデ
ータアンプに17Loに分割している。そして、パラシ
リ変換回路についてはeven用のパラシリ変換回路1
8Ueとodd用のパラシリ変換回路18Uoに分割す
るとともに、even用のパラシリ変換回路18Leと
odd用のパラシリ変換回路18Loに分割している。
る。まず、デマルチプレクサ13(図中の「DEMU
X」)は入出力パッド10を通じてシリアルに入力され
る書き込みデータを基本クロックCLKに従ってeve
nデータ及びoddデータ(図中の「Write_even」及び
「 Write_odd」)に分離する。そして、前者が入力され
た場合はこれをデマルチプレクサ14eに供給し、後者
が入力された場合にはこれをデマルチプレクサ14oに
供給する。つまり、デマルチプレクサ13は半導体記憶
装置内部の仕様に合わせて、各ビットのevenデータ
を基本クロックCLKの立ち下がりから出力し始めて次
の立ち下がりまで保持するとともに、oddデータを基
本クロックCLKの立ち上がりから出力し始めて次の立
ち上がりまで保持する。
Leのレベルに従って、メモリセルアレイ11Ueに対
する書き込み(例えば選択信号U/Leが“H”レベ
ル)であればevenデータをシリパラ変換回路15U
eに供給し、メモリセルアレイ11Leに対する書き込
み(例えば選択信号U/Lが“L”レベル)であればe
venデータをシリパラ変換回路15Leに供給する。
デマルチプレクサ14oも同様であって、選択信号U/
Loのレベルに従って、メモリセルアレイ11Uoに対
する書き込みであればoddデータをシリパラ変換回路
15Uoに供給し、メモリセルアレイ11Loに対する
書き込みであればoddデータをシリパラ変換回路15
Loに供給する。
マルチプレクサ14eからシリアルに入力される4ビッ
トのevenデータをパラレルデータに変換してそれぞ
れライトアンプ16Ue,16Leに供給する。シリパ
ラ変換回路15Uo,15Loも同様であって、デマル
チプレクサ14oから入力される4ビットのoddデー
タをパラレルデータに変換してそれぞれライトアンプ1
6Uo,16Loに供給する。
れメモリセルアレイ11Ue,11Le上で選択された
4ビット分のメモリセルに対して、デマルチプレクサ1
4eからシリパラ変換回路15Ue,15Leを通じて
供給される4ビットのパラレルデータを同時に書き込
む。ライトアンプ16Uo,16Loも同様であって、
メモリセルアレイ11Uo,11Lo上で選択された4
ビット分のメモリセルに対して、デマルチプレクサ14
oからシリパラ変換回路15Uo,15Loを通じて供
給される4ビットのパラレルデータを同時に書き込む。
る。まず、データアンプ17Ueはメモリセルアレイ1
1Ueから同時に読み出される4ビットのevenデー
タについてそれらのレベルを増幅してパラシリ変換回路
18Ueへ供給する。また、データアンプ17Uoはメ
モリセルアレイ11Uoから同時に読み出される4ビッ
トのoddデータについてそれらのレベルを増幅してパ
ラシリ変換回路18Uoへ供給する。データアンプ17
Le,17Loも同様であって、それぞれメモリセルア
レイ11Le,11Loから同時に読み出されるeve
nデータ,oddデータのレベルを増幅してそれぞれパ
ラシリ変換回路18Le,18Loへ供給する。
出しを行う場合には、データアンプ17Ue,17Uo
から出力される合計8ビットのパラレルデータ,又は,
データアンプ17Le,17Loから出力される合計8
ビットのパラレルデータが1回のバースト読み出しの対
象となるデータである。一方、2つのメモリサブアレイ
にまたがって読み出しを行う場合には、データアンプ1
7Ue,17Loから出力される合計8ビットのパラレ
ルデータ,又は,データアンプ17Le,17Uoから
出力される合計8ビットのパラレルデータが1回のバー
スト読み出しの対象となるデータである。
れぞれデータアンプ17Ue,17Uoから供給される
evenデータ,oddデータをシリアルデータに変換
してそれぞれセレクタ19e,19oに供給する。パラ
シリ変換回路18Le,18Loも同様であって、それ
ぞれがデータアンプ17Le,17Loから供給される
evenデータ,oddデータをシリアルデータに変換
してセレクタ19e,19oに供給する。
て読み出し対象がメモリセルアレイ11Ue,11Le
の何れであるかを判別し、それぞれの場合についてパラ
シリ変換回路18Ue,18Leからシリアルに供給さ
れるevenデータを選択してマルチプレクサ20の一
方の入力端に出力する。セレクタ19oも同様であっ
て、選択信号U/Loに従って読み出し対象がメモリセ
ルアレイ11Uo,11Loの何れであるかを判別し、
それぞれの場合についてパラシリ変換回路18Uo,1
8Loからシリアルに供給されるoddデータを選択し
てマルチプレクサ20の他方の入力端に出力する。
は、半導体記憶装置外部の仕様に合わせて、セレクタ1
9e,19oからシリアルに供給されるevenデー
タ,oddデータ(図中の 「Read_even」,「Read_od
d」)をそれぞれ基本クロックCLKの立ち上がり/立
ち下がりに同期して選択する。これによって、even
データ,oddデータが出力バッファ(図示省略)を介
して入出力パッド10へ交互に出力されることになる。
そして、このマルチプレクサ20の出力は入出力パッド
10を通じて半導体記憶装置の外部に出力されることに
なる。
ための入出力パッド1個分の構成について説明してき
た。しかし、実際の半導体記憶装置では入出力パッドが
例えば16個(16DQ)設けられており、16ビット
のデータを同時に入出力することが可能である。したが
って、半導体記憶装置外部との間では1回のバースト動
作につき、16×8=128ビット分のデータを授受す
ることになる。また、半導体記憶装置にはデータを入出
力するための入出力パッド以外にアドレス信号,半導体
記憶装置外部におけるクロック信号である外部クロッ
ク,制御信号等を入力するためのパッドも当然ながら設
けられているが、煩雑になるため図示を省略してある。
ちなみに、基本クロックCLKは外部クロックと同一で
あっても良いし、位相調整するために外部クロックをも
とに半導体記憶装置内部で生成しても良い。通常は、位
相調整を行うため後者のようにする場合が多い。
したように2個に限定されるわけではなく、半導体記憶
装置の容量に応じた任意の個数のメモリサブアレイが設
けられることになる。したがって、Upper側のみのメモ
リサブアレイを用いた構成やLower側のメモリサブアレ
イのみを用いた構成であっても良く、そうした場合には
デマルチプレクサ14e,14oおよびセレクタ19
e,19oが不要となる。ちなみに、これ以降の説明で
は図1に示したような入出力パッド1個分,メモリサブ
アレイ2個分に対応した構成を前提として説明を行って
ゆく。また、図1に示したシリパラ変換回路,パラシリ
変換回路,マルチプレクサの具体的な構成例とそれらの
詳細動作は半導体記憶装置の全体的な動作を説明した後
で詳述することにする。
/書き込みにあたっては、必要最小限の回路のみを動作
させるような制御が為される。例えば、 Upper側の2個
のメモリセルアレイから同時に読み出しを行う場合に
は、 Lower側の読み出し系の回路を動作させないように
している。一方、 Lower側の2個のメモリセルアレイか
ら同時に読み出しを行う場合には、 Upper側の読み出し
系の回路を動作させないようにしている。他方、Upper
側/Lower側からそれぞれevenデータ/oddデー
タを読み出す場合には、Upper側のoddデータに関連
した回路とLower側のevenデータに関連した回路は
動作しないようになっており、Upper側/Lower側からそ
れぞれoddデータ/evenデータを読み出す場合も
同様である。
は書き込み系の回路を動作させないようにしている。ま
た、以上述べたことはメモリサブアレイに対する書き込
みの場合も全く同様である。さらに、こうした動作制御
は半導体記憶装置内に設けられた図示しない制御回路が
生成する制御信号に従って為される。図1に示した選択
信号U/Le,U/Loなどもこうした制御信号の一種
であってこの制御回路によって生成される信号である。
もっとも、煩雑になることから図1では制御信号として
選択信号U/Le,U/Loだけを示してある。
導体記憶装置ではI/O線の接続形態にも特徴がある。
まずI/O線の長さに着目すると、従来の半導体記憶装
置ではevenデータを授受するためのI/O線の最大
長とoddデータを授受するためのI/O線の最大長は
同じである。図2は図17に示した従来技術による半導
体記憶装置におけるメモリセルアレイ101U及びデー
タアンプ107Uだけを抽出したものである。いま、X
デコーダ102Uが1回のアドレスアクセスに伴って活
性化させるメモリセルアレイ上の領域を図中に符号CA
で示した領域であるものとする。この場合、何れかの入
出力パッド(1DQ)を通じて1回のバーストに相当す
る8ビット分のデータを同時に入出力するためには8本
のI/O線が使用されることになる。ちなみに、I/O
線はTrue/Not のペアになっている場合があり、この場
合には8本のI/O線ではなく8対のI/O線となる。
以下ではI/O線が対になっていることを想定して話を
進める。
長さはevenデータ,oddデータの別に依らず全て
のビットについて同じである。また、その最大長はデー
タアンプ107Uが配置された位置からメモリセルアレ
イ101Uの上端(データアンプから見て最遠端)まで
の距離となり、例えば上述した数値例で言えばその最大
長は約2mmとなる。なお、図2では読み出し用の信号
線(出力線)のみを図示しているが、いま述べたことは
読み出し用の信号線(出力線)と書き込み用の信号線
(入力線)が分離されている場合であっても、読み出し
用/書き込み用でI/O線が共有されている場合であっ
ても同じである。
venデータのアクセスに用いられるI/O線の長さが
oddデータのアクセスに用いられるI/O線の長さよ
りも短くなっている。図3はこの様子を示した図であっ
て、図1に示した Upper側のメモリセルアレイ11U
e,11Uoから成るメモリサブアレイとこれらに対応
するデータアンプ17Ue,17Uoのみを示したもの
である。図示したように、Xデコーダ12Uが1回のア
ドレスアクセスに伴って活性化させるメモリセルアレイ
は、even側が符号CAeで示した領域であり、od
d側が符号CAoで示した領域となる。この場合、1個
の入出力パッド(1DQ)について1回のバースト分の
入出力を行うには、even側,odd側それぞれ4対
ずつのI/O線が使用されることになる。
11Ueとメモリセルアレイ11Uoが接する境界線を
A−A’としたとき、evenデータ読み出し用のI/
O線の最大長は、データアンプ17Ueが配置された位
置から境界線A−A’までの鉛直方向の距離となる。つ
まり、上述した数値例で言えばその最大長は1mm程度
となる。一方、oddデータ読み出し用のI/O線の最
大長はデータアンプ17Uoが配置された位置からメモ
リセルアレイ11Uoの上端までの距離となる。これは
従来技術の半導体記憶装置と同様であって上述した数値
例で言えば約2mmとなる。つまり、even側のI/
O線の長さはodd側のI/O線の長さの半分程度にな
る。なお、図3に示した構成例は同一のメモリサブアレ
イからevenデータ及びoddデータを同時に読み出
す構成についてであったが、I/O線の最大長に関して
言えば、2個のメモリサブアレイにまたがってeven
データ及びoddデータを同時に読み出す構成であって
も全く同様である。
よりも若干詳しく描いたものであって、メモリセルアレ
イ11Ue,11Uoの構成のうち、データアンプ17
Ue,17Uoが配置されている部分の近傍だけを示し
たものである。図中、符号31,31,……,は各メモ
リセルアレイ11Ue,11Uoをさらに均等に細分化
したメモリセルプレートであって、一部のメモリセルプ
レートのみを図示してある。ここで、半導体記憶装置の
大容量化に伴ってI/O線が長くなると、I/O線の容
量増加によって配線遅延が増大するという問題が生じて
くる。こうした配線遅延の増大を低減させるために、本
実施形態では階層化されたI/O線構造を採用して、I
/O線をローカルI/O線と複数のローカルI/Oが接
続されたグローバルI/O線とで構成するようにしてい
る。
IOoはそれぞれevenデータ,oddデータを授受
するためのI/O線であって、各々がデータアンプ17
Ue,17Uoに接続されている。上述した説明から理
解されるように、グローバルI/O線GIOeの長さは
グローバルI/O線GIOoの長さの半分程度になって
いることが見て取れる。また、グローバルI/O線GI
Oe,GIOoは何れも互いに平行な4対のI/O線で
構成されており、例えばグローバルI/O線GIOeを
構成する4対のI/O線はそれぞれデータアンプ17U
eを構成する個々のデータアンプに接続されている。
oは図示しないセンスアンプやカラムスイッチ等を通じ
て各メモリセルプレート内のメモリセルとグローバルI
/O線との間を接続するI/O線である。図示した例で
は、左右方向に隣接する2個のメモリセルプレート3
1,31間でローカルI/O線を共有させているため、
ローカルI/O線がこれらメモリセルプレートにまたが
って走っている。ローカルI/O線LIOe,LIOo
はそれぞれevenデータ,oddデータのビット数に
対応する4対のローカルI/O線で構成されている。ま
た、例えばローカルI/O線LIOeを構成する個々の
ローカルI/O線はグローバルI/O線GIOeを構成
する個々のグローバルI/O線に接続されている。そし
て、以上のような2個のメモリセルプレートとローカル
I/O線から成る構成が図中の上下方向,左右方向にそ
れぞれ複数配置されることで各メモリセルアレイ11U
o,11Ueが構成されている。
しく描いたものであって、ローカルI/O線を共有する
2個のメモリセルプレートだけをメモリセルアレイ11
Ue,11Uoからそれぞれ抽出して示したものであ
る。各メモリセルプレート31は例えば512ビット
(行)×256ビット(列)=128kビットの容量を
有している。各メモリセルプレート31には下辺近傍お
よび上辺近傍にそれぞれセンスアンプ群41,42が分
割配置されている。これらセンスアンプ群がメモリセル
プレート31の上下に分割して配置されているのは、メ
モリセルプレート31内のメモリセルに接続されるデジ
ット線(図示省略)のピッチでセンスアンプを一列に配
置することができないためである。
センスするにはメモリセルプレート31の列方向のビッ
ト数に対応した256個のセンスアンプが必要となるた
め、センスアンプ群41,42にそれぞれ128個のセ
ンスアンプ(図中の「128S/A」)を設けてある。
また、センスアンプ群41,42には「×」で示される
64個のセンスアンプ(図中の「64S/A」)が2組
存在しており、それぞれの組が図示を省略したカラムス
イッチを介して別々のローカルI/O線に接続される。
また、図示の都合からメモリセルプレート31に対して
センスアンプ群41,42が左寄りに描いているが、実
際にはメモリセルプレート31の下辺および上辺に沿っ
て個々のセンスアンプが等間隔で配置されている。
ーカルI/O線であってそれぞれ1回のバースト動作で
使用されるビット0〜ビット7のデータを授受するため
のI/O線である。上述したように、各ローカルI/O
線はそれぞれ2個のメモリセルプレートで共有されてい
るため、各ローカルI/O線には64台のセンスアンプ
が2組接続されることになる。言い換えれば、64台×
2のセンスアンプで1本のローカルI/O線を共有して
いることになる。なお、ローカルI/O線が必ずしも2
個のメモリセルプレートで共有されていなくとも良く、
3個以上のメモリセルプレート間で共有されていても良
い。
モリセルアレイ11Ue内のメモリセルプレート31の
下辺側を左右方向に走っており、同様にして、ローカル
I/O線LIO4,LIO6はメモリセルアレイ11U
e内のメモリセルプレート31の上辺側を左右方向に走
っている。そして、最も高速なアクセスの要求されるビ
ット0に対応したローカルI/O線LIO0がデータア
ンプ17Ueに最も近い位置に配線されている。このほ
か、ローカルI/O線LIO1,LIO3はメモリセル
アレイ11Uo内のメモリセルプレート31の下辺側を
走っており、ローカルI/O線LIO5,LIO7は同
メモリセルプレート31の上辺側を走っている。
側に位置するメモリセルプレート31では、ローカルI
/O線LIO0,LIO2,LIO4,LIO6とグロ
ーバルI/O線GIOeを構成する4対のI/O線が互
いに交差している。同様に、メモリセルアレイ11Uo
上で右側に位置するメモリセルプレート31では、ロー
カルI/O線LIO1,LIO3,LIO5,LIO7
とグローバルI/O線GIOoを構成する4対のI/O
線が互いに交差している。このように、図5に示したレ
イアウト構成例では、各メモリセルアレイ11Ue,1
1Uo上でローカルI/O線を共有する2個のメモリセ
ルプレート毎に、even側,odd側でそれぞれ4対
のグローバルI/O線が引き出される。また、例えばe
venデータ側については図中左側に位置するメモリセ
ルプレート側にグローバルI/O線が配線され、odd
側についてはこれと反対に図中右側に位置するメモリセ
ルプレート側にグローバルI/O線が配線される。
成をさらに詳しく描いたものであって、図5に示したも
のとは異なる態様でグローバルI/O線を配線したレイ
アウト構成例である。このレイアウトでは隣接する2個
のメモリセルプレート間でローカルI/O線を共有する
構成とはしていない。つまり、図5に示したレイアウト
では1DQが4個のメモリセルプレート31に対応して
いるのに対し、図6に示したレイアウト例では1DQが
2個のメモリセルプレート31に対応している。そのた
めに、メモリセルアレイ11Uo上の特定のメモリセル
プレート31と、当該メモリセルプレートと左右方向の
位置を同じくするメモリセルアレイ11Ue上の特定の
メモリセルプレート31とを組にしてグローバルI/O
線を配線するようにしている。
ルアレイ11Ue上に配線されたローカルI/O線LI
O0,LIO2,LIO4,LIO6から4対のグロー
バルI/O線(図4に示したグローバルI/O線GIO
eに相当)を図中上下方向にデータアンプ17Ue/1
7Uoまで引き出している。同様にして、メモリセルア
レイ11Uo上に配線されたローカルI/O線LIO
1,LIO3,LIO5,LIO7から4対のグローバ
ルI/O線(図4に示したグローバルI/O線GIOo
に相当)を図中上下方向にデータアンプ17Ue/17
Uoまで引き出している。なお、図5や図6に示したレ
イアウト以外にも幾つかのレイアウトが考えられるが、
ここでは上述した2種類のレイアウト構成を例示してお
く。
体記憶装置の全体動作について説明する。 (1)読み出し動作 同一のメモリサブアレイからevenデータ,od
dデータを読み出す場合 まず、バースト読み出しの対象となるメモリセルの先頭
の読み出しアドレスを半導体記憶装置の外部から図示し
ないアドレス端子へ供給する。なお、ここでは読み出し
アドレスが Upper側のメモリサブアレイ上のメモリセル
群を指定していることを想定する。また、ここでは半導
体記憶装置がスルーモードで動作する場合について説明
する。そして読み出しアドレスの供給を受けると、Xデ
コーダ12Uはメモリセルアレイ11Ue,11Uoの
各々について、読み出しアドレスに含まれた行アドレス
で指定されるワード線を活性化させる(図3を参照)。
これに伴って、センスアンプは活性化されたワード線に
接続されているメモリセルのデータをセンスし、Yデコ
ーダは読み出しアドレスに含まれた列アドレスに従って
カラムスイッチのオンオフを制御して列選択を行う。
ドレスに対応した8個のセンスアンプ出力が選択され、
evenデータ,oddデータがそれぞれデータアンプ
17Ue,17Uoに供給される。その際、メモリセル
からの読み出しはメモリセルアレイ11Ue,11Uo
に対して同時に開始されるが、even側,odd側の
I/O線の長さの相違からevenデータが先にデータ
アンプ17Ueへ供給され、oddデータがこれに遅れ
てデータアンプ17Uoへ供給される。ここで、図4〜
図6を参照して詳述したように、メモリセルのデータは
センスアンプからカラムスイッチ,ローカルI/O線,
グローバルI/O線を順に経由してデータアンプまで伝
送されてゆく。
ルアレイ11Ue上で左側に位置するメモリセルプレー
ト31からは、ビット0,2のデータがセンスアンプ群
41及び図示しないカラムスイッチを通じてそれぞれロ
ーカルI/O線LIO0,LIO2上に読み出されると
ともに、ビット4,6のデータがセンスアンプ群42及
び図示しないカラムスイッチを通じてローカルI/O線
LIO4,LIO6上に読み出される。そして、これら
4本のローカルI/O線上に読み出されたevenデー
タはグローバルI/O線GIOeを通じてデータアンプ
17Ueに供給される。
に位置するメモリセルプレート31からは、ビット1,
3のデータがセンスアンプ群41及び図示しないカラム
スイッチを通じてローカルI/O線LIO1,LIO3
に読み出されるとともに、ビット5,7のデータがセン
スアンプ群42及び図示しないカラムスイッチを通じて
ローカルI/O線LIO5,LIO7に読み出される。
そして、これら4本のローカルI/O線上に読み出され
たoddデータはグローバルI/O線GIOeを通じて
メモリセルアレイ11Ueの領域をまたいでデータアン
プ17Uoに供給される。なお、図6のレイアウトの場
合も以上のようなデータの読み出し動作に準じたものと
なる。
データが供給されると、データアンプ17Ue,17U
oは供給されたデータのレベルを増幅してそれぞれパラ
シリ変換回路18Ue,18Uoに出力する。パラシリ
変換回路18Ueは、供給されたevenデータのう
ち、一番最初に読み出すべきビット0のデータをそのま
まスルーでセレクタ19eに出力するとともに、4ビッ
トのevenデータを内部に取り込む。このとき選択信
号U/Leは“H”レベルとなっているので、セレクタ
19eはパラシリ変換回路18Ue,18Leのうち前
者の出力を選択して、ビット0のデータをマルチプレク
サ20の一方の入力端に供給する。マルチプレクサ20
は、半導体記憶装置外部のタイミングに合わせ、基本ク
ロックCLKが立ち上がった時点でセレクタ19eから
供給されるビット0のデータを入出力パッド10を通じ
て半導体記憶装置の外部へ出力する。
路18Uoはデータアンプ17Uoで増幅されたodd
データを内部に取り込むとともに、その後に基本クロッ
クCLKが立ち下がった時点でビット1のデータをセレ
クタ19oに出力する。このときには選択信号U/Lo
も“H”レベルとなっているため、セレクタ19oはパ
ラシリ変換回路18Uo,18Loのうち前者の出力を
選択して、ビット1のデータをマルチプレクサ20の他
方の入力端に供給する。
が再び立ち下がった時点でセレクタ19oから供給され
ているビット1のデータを入出力パッド10を通じて半
導体記憶装置の外部へ出力する。このように、マルチプ
レクサ20がビット1のデータを選択して入出力パッド
10へ出力するのは、ビット0のデータがスルーで入出
力パッド10へ出力された時点から少なく見積もっても
基本クロックCLKの半周期に相当する時間が経過した
時点になる。つまり、ビット1のデータは当該時点まで
にマルチプレクサ20へ到達していれば良く、上述した
ようにoddデータがevenデータよりも遅れてデー
タアンプに到達しても問題ない。
り/立ち下がりに同期してビット2からビット7までの
各ビットをこの順に半導体記憶装置外部へ出力する。そ
の際、パラシリ変換回路18Ueは基本クロックCLK
の立ち下がりに同期して自身の保持内容を図中の左から
右に向かって1ビットずつシフトさせながら、ビット
2,4,6のデータを順次セレクタ19eへ供給する。
また、パラシリ変換回路18Uoは基本クロックCLK
の立ち上がりに同期してパラシリ変換回路18Ueと同
様に1ビットずつシフト動作を行いながら、ビット3,
5,7のデータを順次セレクタ19oに供給する。一
方、マルチプレクサ20は基本クロックCLKの立ち上
がり/立ち下がりでセレクタ19e/セレクタ19oの
出力を交互に選択して入出力パッド10から半導体記憶
装置の外部に出力してゆく。
み出しを行う場合も、いま説明したUpper側からの読み
出しの場合に準じた動作となる。Upper側のメモリサブ
アレイからの読み出し動作との相違点は、メモリセルア
レイ11Le,11Loからデータアンプ17Le,1
7Loを通じてevenデータ,oddデータがそれぞ
れパラシリ変換回路18Le,18Loに供給されるこ
と、選択信号U/Le,U/Loが何れも“L”レベル
となるため、セレクタ19e,19oがパラシリ変換回
路18Le,18Loの出力側を選択してこれら回路の
出力をマルチプレクサ20へ供給することである。
データ,oddデータを読み出す場合 ここでは、メモリセルアレイ11Ue,11Loからそ
れぞれevenデータ,oddデータを同時に読み出す
場合を想定して説明を行う。この場合も同一のメモリサ
ブアレイから読み出しを行うときの動作を基本とした動
作となる。すなわち、半導体記憶装置の外部から読み出
し先頭アドレスが供給されると、Xデコーダ12Uはメ
モリセルアレイ11Ue内のワード線を活性化させ、こ
れと並行してXデコーダ12Lはメモリセルアレイ11
Lo内のワード線を活性化させる。また、同一メモリサ
ブアレイからの読み出しのときと同様に、センスアンプ
によるセンス動作およびカラムスイッチによる列選択動
作が行われて、evenデータ,oddデータがそれぞ
れメモリセルアレイ11Ue,11Loから読み出され
る。
セルアレイ11Ue,11Uoから読み出されたeve
nデータ,oddデータのレベルをそれぞれ増幅してか
らパラシリ変換回路18Ue,18Loへ供給する。パ
ラシリ変換回路18Ue,18Loは、供給された各4
ビットのパラレルデータを取り込んで上記同様にセレク
タ19e,19oへシリアルに出力してゆくが、ビット
0についてはパラシリ変換回路18Ueがセレクタ19
eへスルーで出力する。このとき、選択信号U/Leは
上記同様に“H”レベルであるのに対して選択信号U/
Loは“L”レベルとなっている。
回路18Ueから出力されるevenデータを選択して
マルチプレクサ20に供給するのに対して、セレクタ1
9oはパラシリ変換回路18Loから出力されるodd
データを選択してマルチプレクサ20に供給する。マル
チプレクサ20は、基本クロックCLKの立ち上がり/
立ち下がりに同期させて、セレクタ19e,19oから
順次供給されるビット0〜ビット7のデータをこの順に
選択して入出力パッド10から半導体記憶装置外部へ出
力してゆく。
eからそれぞれoddデータ,evenデータを同時に
読み出す場合には、いま述べたのとちょうど逆の動作と
なる。すなわち、読み出しアドレスが供給されると、X
デコーダ12U,12Lはそれぞれメモリセルアレイ1
1Uo,11Le内のワード線を活性化させる。その結
果、これらメモリセルアレイからセンスアンプ,カラム
スイッチ,I/O線を通じてevenデータ,oddデ
ータがそれぞれ読み出されてくる。データアンプ17U
o,17Leは読み出されてきたデータのレベルをそれ
ぞれ増幅してパラシリ変換回路18Uo,18Leへそ
れぞれ供給する。
給されたパラレルデータを取り込んでセレクタ19o,
19eへシリアルに出力してゆくが、ビット0について
はパラシリ変換回路18Leがスルーで出力する。その
際、セレクタ19e,19oはそれぞれ選択信号U/L
e,U/Loに従ってパラシリ変換回路18Uo,18
Leの出力を選択してマルチプレクサ20へ供給し、マ
ルチプレクサ20が入出力パッド10を通じてビット0
からビット7までのシリアルデータを順に半導体記憶装
置外部へ出力する。
データを書き込む場合 書き込みにあたっては、まず、半導体記憶装置の外部か
らバースト書き込みの対象となるメモリセルの先頭アド
レスがアドレス端子へ供給されるとともに、書き込むべ
き8ビット分のデータが基本クロックCLKの立ち上が
り/立ち下がりに同期して入出力パッド10へシリアル
に供給されてくる。ここでは、書き込みアドレスが Upp
er側のメモリサブアレイ側を指定していることを想定し
て説明する。
パッド10へ供給されるので、デマルチプレクサ13は
ビット0の書き込みデータを基本クロックCLKの立ち
下がりに同期してデマルチプレクサ14eへ出力する。
このとき選択信号U/Leは“H”レベルであるので、
デマルチプレクサ14eはビット0の書き込みデータを
シリパラ変換回路15Ueに供給する。シリパラ変換回
路15Ueは供給されたビット0の書き込みデータを基
本クロックCLKの立ち下がりで取り込むとともに、自
身の保持内容を図中の右から左に向かって1ビットシフ
トさせる。
の書き込みデータが入出力パッド10へ供給されるの
で、デマルチプレクサ13はビット1の書き込みデータ
をデマルチプレクサ14oへ出力する。このとき選択信
号U/Loは“H”レベルであるため、デマルチプレク
サ14oはビット1の書き込みデータをシリパラ変換回
路15Uoに供給する。シリパラ変換回路15Uoは基
本クロックCLKの立ち上がりでビット1の書き込みデ
ータを取り込んで、ビット0の場合と同様に1ビット分
のシフト動作を行う。
データが順次供給されてくるので、ビット0,1に関し
て説明したのと同様の動作を3回繰り返す。その結果、
シリパラ変換回路15Ue,15Uoはバースト的に入
力された書き込みデータ中のevenデータ,oddデ
ータをそれぞれ出力するようになる。そこで、ライトア
ンプ16Ue,16Uoは4ビットパラレルのeven
データ,oddデータをそれぞれメモリセルアレイ11
Ue,11Uoへ同時に書き込む。
込む場合もいま説明したUpper側への書き込みの場合と
同様である。 Upper側のメモリサブアレイへの書き込み
動作との相違点は、選択信号U/Le,U/Loのレベ
ルが上記とは正反対になるため、デマルチプレクサ14
e,14oが書き込みデータをそれぞれシリパラ変換回
路15Le,15Loへ供給することにある。その結
果、シリパラ変換回路15Le,15Lo及びライトア
ンプ16Le,16Loを介してメモリセルアレイ11
Le,11Loに対して書き込みが行われることにな
る。
ータ,oddデータを書き込む場合 ここでは、メモリセルアレイ11Ue,11Loに対し
てevenデータ,oddデータを同時に書き込むもの
とする。この場合の動作は同一のメモリサブアレイへ書
き込む場合の動作に準じたものとなる。すなわち、書き
込みデータがデマルチプレクサ14e,14oに供給さ
れるまでの動作は上述した場合と全く同じである。この
後、デマルチプレクサ14eはシリアルに供給されるe
venデータをシリパラ変換回路15Ueに順次供給
し、シリパラ変換回路15Ueがevenデータをパラ
レルデータに変換し、ライトアンプ16Ueを通じてメ
モリセルアレイ11Ueへ4ビット同時に書き込みを行
う。一方、デマルチプレクサ14oは供給されたodd
データをシリパラ変換回路15Loへ順次供給し、シリ
パラ変換回路15Loでoddデータをパラレルデータ
に変換したのち、ライトアンプ16Loを通じてメモリ
セルアレイ11Loへ4ビット同時に書き込みを行う。
eに対してoddデータ,evenデータを同時に書き
込む場合には、いま述べたのとは逆の動作になる。すな
わち、デマルチプレクサ14eはデマルチプレクサ13
から供給されたevenデータをシリパラ変換回路15
Leへ順次供給してこれをパラレルデータに変換し、ラ
イトアンプ16Leを通じてメモリセルアレイ11Le
へ4ビット同時に書き込む。一方、デマルチプレクサ1
4oはデマルチプレクサ13から供給されたoddデー
タをシリパラ変換回路15Uoへ順次供給してこれをパ
ラレルデータに変換し、ライトアンプ16Uoを通じて
メモリセルアレイ11Uoへ4ビット同時に書き込む。
1に示した構成要素の幾つかについて具体的な構成例を
説明する。 (1)シリパラ変換回路 図7にシリパラ変換回路15Ue,15Leの具体的な
構成を示す。なお、同図では1回のバースト書き込みの
単位が8ビットの場合の構成例を示してある。また、以
下の説明ではこれらのうちのシリパラ変換回路15Ue
を前提として説明を行うとともに、odd側のシリパラ
変換回路15Uo,15Loについてはeven側のシ
リパラ変換回路との相違点を最後に説明する。
書き込むべき8ビットのシリアルデータのうち、eve
nデータだけをパラレルデータに変換することから、図
示したように4段のフリップフロップ(以下「FF」と
略記することがある)F6,F4,F2,F0と4個の
ラッチL6,L4,L2,L0で構成される。これらフ
リップフロップは何れもネガティブエッジトリガ型のD
フリップフロップであって、クロック入力端子に基本ク
ロックCLKの供給を受け、その立ち下がりエッジで入
力データINを取り込んで後段へ送出する。
6のデータ入力端子は図1に示したデマルチプレクサ1
4eの出力端に接続されており、入力データINとして
evenデータの供給を受ける。また、FF・F4,F
2,F0のデータ入力端子はそれぞれ前段のFF・F
6,F4,F2のデータ出力端子に接続されている。そ
して、各フリップフロップに対応する前段のフリップフ
ロップからの出力が入力データi6,i4,i2,i0
としてラッチL6,L4,L2,L0の入力端子にそれ
ぞれ供給される。
ラッチ信号LATが“H”レベルに立ち上がったときに
それぞれの入力端子に供給されている入力データi6,
i4,i2,i0をラッチして、ラッチされたデータを
それぞれ出力データout6,out4,out2,o
ut0として出力する。なお、これら4個のラッチの出
力端子はそれぞれ図1に示したライトアンプ16Ueを
構成する個々のライトアンプの入力端に接続されてい
る。また、ラッチ信号LATは上述した制御回路によっ
て生成される信号であって、煩雑になることから図1で
は敢えて示していない。
ングチャートに示すように、デマルチプレクサ14eか
ら供給される4ビットシリアルのevenデータがパラ
レルデータに変換される。まず、入力データINとして
第1番目のビットデータである“data0”が供給さ
れ、その供給期間中の時刻t0で基本クロックCLKが
立ち下がると、FF・F6が“data0”を取り込
む。その結果、FF・F4及びラッチL6への入力デー
タi6が“data0”となる。次に、入力データIN
として第2番目のビットデータである“data2”が
供給され、その供給期間中の時刻t1で基本クロックC
LKが立ち下がると、上記同様にして入力データi6が
“data2”となる。また、この直前の入力データi
6であった“data0”はFF・F4に取り込まれ、
これがFF・F2及びラッチL4への入力データi4と
なる。
給されて基本クロックCLKが立ち下がる度にデータが
1ビットずつシフトしてゆく。すなわち、時刻t2では
入力データi6が“data4”となるとともに、直前
の入力データi6,i4がそれぞれFF・F4,F2の
出力となって入力データi4,i2が“data2”,
“data0”となる。また、時刻t3では入力データ
i6が“data6”となるとともに、直前の入力デー
タi6,i4,i2がFF・F4,F2,F0へ出力さ
れる結果、入力データi4,i2,i0が“data
4”,“data2”,“data0”となる。そして
時刻t3におけるデータシフト動作が完了した後に、時
刻t4でラッチ信号LATが立ち上がる。
4,i2,i0(“data6”,“data4”,
“data2”,“data0”)がそれぞれラッチL
6,L4,L2,L0にラッチされ、出力データout
6,out4,out2,out0として一斉に出力さ
れるようになる。これにより、4ビットシリアルで供給
されたevenデータ“data0”,“data
2”,“data4”,“data6”がパラレルデー
タに変換されてライトアンプ16Ueへ出力される。な
お、時刻t5でラッチ信号LATは立ち下がるものの、
ラッチL6,L4,L2,L0の各出力は書き込み動作
中においては保持される。
o,15Loについては、FF・F6,F4,F2,F
0の代わりにポジティブエッジトリガ型Dフリップフロ
ップを用いて、基本クロックCLKの立ち上がりに同期
させてシフト動作を行わせれば良い。
8Uo,18Loの具体的な構成例を図9に示す。図9
では上述したシリパラ変換回路に合わせて1回のバース
ト読み出しの単位が8ビットのときの構成にしてある。
なお、以下では上記パラシリ変換回路のうち Upper側の
パラシリ変換回路18Ue,18Uoについて説明を行
うが、 Lower側のパラシリ変換回路も同様である。ま
た、図9では図1に示したセレクタ19e,19o及び
マルチプレクサ20が持っている機能をパラシリ変換回
路内に含ませてしまっている。さらに、図9では図1で
図示省略していた出力バッファOBを示してあり、この
出力バッファOBを介してeven側,odd側それぞ
れのパラシリ変換回路の出力が出力DQとして半導体記
憶装置外部へ出力されることになる。
でロード機能付きのシフトレジスタを構成しており、個
々の回路ブロックがシフトレジスタの各段に対応してい
る。すなわち、回路ブロックLS0〜LS7はメモリセ
ルアレイ11Ue,11Uoから同時に読み出される8
ビットパラレルなデータのビット0〜7にそれぞれ対応
している。そして、回路ブロックLS0,LS2,LS
4,LS6がeven側のシフトレジスタを構成し、回
路ブロックLS1,LS3,LS5,LS7がodd側
のシフトレジスタを構成している。なお、even側の
回路ブロックの構成は全て同一であるとともにodd側
の回路ブロックの構成も全て同一であることから、図9
ではeven側,odd側をそれぞれ代表して回路ブロ
ックLS0,LS1についてだけ内部構成を示してあ
る。
ad1が供給されるLoad1端子,ロード信号Loa
d2が供給されるLoad2端子,基本クロックCLK
と図1に示した選択信号U/Le又は選択信号U/Lo
の論理をとった信号(詳細は後述する)が供給されるT
CLK端子,メモリセルアレイから読み出されたビット
データが供給される初期データ入力端子Din,個々の
回路ブロックの出力であるデータ出力端子Dout,シ
フトレジスタの前段に相当する回路ブロックからデータ
が供給されるシフトデータ入力端子SRIE(even
側)およびSRIO(odd側)が設けられている。
は全ての回路ブロックに共通する信号が入力される。ま
た、TCLK端子についても、even側の回路ブロッ
クには互いに共通の信号が入力されるとともに、odd
側の回路ブロックにも互いに共通の信号が入力される。
もっとも、煩雑になることから図9ではLoad1端
子,Load2端子,TCLK端子にそれぞれ供給され
る信号の図示を全て省略してある。また、本実施形態で
はロード信号Load1及びロード信号Load2のタ
イミングやレベルを制御することによって上述したスル
ーモードとラッチモードを切り換えているが、これにつ
いては動作説明のところで詳しく述べることにする。
路ブロックLS0〜LS7の初期データ入力端子Din
には、メモリセルアレイ11Ue,11Uoから同時に
読み出されたパラレルデータのビット0〜7に対応する
データRD0〜RD7がデータアンプ17Ue,17U
oを通じて供給される。次に、回路ブロックLS2〜L
S7のデータ出力端子Doutの出力はそれぞれシフト
レジスタを構成する次段の回路ブロックのシフトデータ
入力端子SRIE又はSRIOに入力される。すなわ
ち、回路ブロックLS6,LS4,LS2の出力はそれ
ぞれ回路ブロックLS4,LS2,LS0のシフトデー
タ入力端子SRIEに入力され、回路ブロックLS7,
LS5,LS3の出力はそれぞれ回路ブロックLS5,
LS3,LS1のシフトデータ入力端子SRIOに入力
されている。また、回路ブロックLS6,LS7にはシ
フトレジスタの前段に相当する回路ブロックが存在しな
いため、これら回路ブロックのシフトデータ入力端子S
RIE,SRIOを接地電位に接続して固定値“0”が
入力されたのと等価な構成にしてある。
いてさらに説明しておく。上述したように、図9ではセ
レクタ19e,19oおよびマルチプレクサ20の機能
をパラシリ変換回路に含ませている。このため、図9で
は図1に示したように信号経路を切り替えるのではな
く、even側/odd側のパラシリ変換回路の出力
(回路ブロックLS0,LS1のデータ出力端子Dou
t)を共通接続している。また、図9は Upper側のパラ
シリ変換回路であるが、図示しない Lower側のパラシリ
変換回路も Upper側のパラシリ変換回路と同様に出力を
共通接続してあり、さらにUpper側/Lower側のパラシリ
変換回路の4つの出力も共通接続している。
合、even側の各回路ブロックのTCLK端子には基
本クロックCLKと選択信号U/Le(図1参照)の論
理積をとった信号を供給する。同様にして、odd側の
回路ブロックのTCLK端子には基本クロックCLKと
選択信号U/Lo(図1参照)の論理積をとった信号を
供給する。 Lower側のパラシリ変換回路も Upper側のパ
ラシリ変換回路とほぼ同様であって、選択信号U/L
e,U/Loの代わりにそれぞれ選択信号U/Leの反
転信号,U/Loの反転信号を使用することになる。以
上のように構成する理由は、データRDn(n=0,
1,…,7)から出力DQまでのクリティカルな信号経
路上のゲート段数を極力減らして当該信号経路を最短に
するためである。
路を前提としており、 Upper側のパラシリ変換回路が動
作する場合には選択信号U/Le,U/Loが何れも
“H”レベルとなっている。このため、図9に示した U
pper側の各回路ブロックのTCLK端子にはいずれも基
本クロックCLKが供給されるのと等価になる。したが
って、これ以後の説明においても図9に示した各回路ブ
ロックのTCLK端子には基本クロックCLKが入力さ
れるような形で説明を行っている。
要素について説明する。ここで、even側の回路ブロ
ックの構成とodd側の回路ブロックの構成には共通す
る構成要素が幾つかあり、本来であればそれらに同一の
符号を付すところではあるが、even側,odd側の
各構成要素を区別するために構成が同一の構成要素につ
いても異なる符号を付けてある。すなわち、これらにつ
いてはeven側の構成要素に付与した符号の末尾を
“e”としodd側の構成要素に付与した符号の末尾を
“o”としてある。したがって、符号の末尾のみが
“e”,“o”で違っているだけであればそれらは実際
には同一の構成要素であり、さもなくばeven側,o
dd側で異なる構成要素である。
達ゲート(以下「TG」と略記することがある)を有す
るTG回路であって、後掲する図10に示すように、伝
達ゲートだけで構成されるものと伝達ゲート及びインバ
ータで構成されるものとがある。このうち、TG回路a
e,ao,be,bo,ee,foは、制御端子に入力
される制御信号が“H”レベルであれば入出力端子間を
導通状態とし、同制御信号が“L”レベルであれば入出
力端子間を非導通状態とする。例えば、TG回路aeは
ロード信号Load1が“H”レベルであるときに、初
期データ入力端子Dinへ供給されるデータRD0をラ
ッチLae及びTG回路beに供給する。一方、TG回
路ce,co,de,do,goは制御端子が反転入力
となっており、いま述べたのとは逆の動作を行う。例え
ば、TG回路ceはロード信号Load2が“L”レベ
ルであるときに、シフトデータ入力端子SRIEに供給
されるデータをTG回路deの入力端へ供給する。
に必要となるものであって、ロード信号Load1が
“H”レベルのときに初期データ入力端子Dinに入力
されるデータをTG回路aeを通じてラッチする。ま
た、ラッチLaeはロード信号Load1が“L”レベ
ルになってTG回路aeからデータが供給されなくなっ
たときに、ラッチしたデータを引き続きTG回路beへ
供給する。次に、TG回路beはTG回路ceとともに
一種のセレクタを構成している。すなわち、Load2
信号が“H”レベルのときにはシフトレジスタの各段へ
データを初期設定するので、TG回路beはラッチLa
eにラッチされたデータをTG回路de経由でラッチL
beに供給する。一方、Load2信号が“L”レベル
のときにはシフトレジスタ上で1ビット分のシフト動作
を行うので、TG回路ceは前段の回路ブロックから入
力されるデータをTG回路de経由でラッチLbeに供
給する。なお、回路ブロックLS6,LS7の場合に
は、シフトデータ入力端子SRIE又はSRIOが接地
されているため、これに対応する“L”レベルが常にT
G回路ceの入力端へ供給されることになる。
が“L”レベルのときに、TG回路be又はTG回路c
eの出力をラッチLbeの入力端に伝達する。このラッ
チLbeは、基本クロックCLKが“H”レベルとなっ
てもTG回路deから入力されたデータを保持するため
のものである。なお、ラッチLbeは自身に入力された
データを反転させたデータをインバータIaeに供給す
るように構成されている。インバータIaeはラッチL
beで反転されたデータをさらに反転させてからTG回
路eeに供給する。TG回路eeは、evenデータを
基本クロックCLKの立ち上がりに合わせて半導体記憶
装置外部へ出力するためのものであって、基本クロック
CLKの立ち上がりからその直後の立ち下がりまでイン
バータIaeの出力を出力バッファOBに伝達する。
TG回路ao〜インバータIaoまでの各構成要素はe
ven側の回路ブロックにおけるTG回路ae〜インバ
ータIaeまでの各構成要素と同一の役割を果たしてい
る。これに対してTG回路foは、インバータIaoを
通じて供給されるラッチLboのデータを基本クロック
CLKの立ち上がりから次の立ち下がりまでラッチLc
oに伝達する。ラッチLcoはラッチLboと同様の構
成であって、TG回路foから供給されるデータをラッ
チしてその反転データをインバータIboに出力する。
インバータIboはラッチLcoから供給されるデータ
を反転させてTG回路goの入力端に供給する。TG回
路goは、oddデータを基本クロックCLKの立ち下
がりに合わせて半導体記憶装置外部へ出力するためのも
のであって、基本クロックCLKの立ち下がりからその
直後の立ち上がりまでインバータIboの出力を出力バ
ッファOBに伝達する。
ブロックLS0内のTG回路eeと回路ブロックLS1
内のTG回路goとで図1に示したセレクタ19e,セ
レクタ19oおよびマルチプレクサ20を構成してい
る。また、回路ブロック内の構成要素のうち、回路ブロ
ックLS0のTG回路eeおよび回路ブロックLS1の
TG回路goは、出力バッファOBとともに入出力パッ
ド10(図1参照)の近傍に配置されている。ちなみ
に、これ以外の回路ブロックからは直接出力DQに出力
されないため、それら回路ブロック内のTG回路eeや
TG回路goが入出力パッド10の近くに配置されてい
る必要はない。このほか、even側の回路ブロックで
はラッチLbeで論理が反転されるほかインバータIa
eを通過し、odd側の回路ブロックではインバータI
ao,Iboを通過するほかラッチLbo,Lcoでそ
れぞれ論理が反転される。このため、各回路ブロックの
データ出力端子Doutからは、初期データ入力端子D
inまたはシフトデータ入力端子SRIE,SRIOに
供給されるデータそのものが出力される。ちなみに、図
9では後述する動作説明のためにNode_A,Node_B,Node
_D〜Node_F,eread,MX,oread1,ore
ad2の各ノードを示してある。
路ブロックLS6からTG回路be,ceを除去してNo
de_AとNode_Bを直結するとともに、回路ブロックLS7
についても同様にTG回路bo,coを除去してTG回
路aoの出力端とTG回路doの入力端を直結するよう
にしても良い。この場合、回路ブロックLS6,LS7
のデータ出力端子DoutからはそれぞれデータRD
6,RD7の値が出力され続けることになる。
に示した回路ブロックLS0,LS1のより詳細な構成
例を示したものであって、図9に示したものと同じ構成
要素については同一の符号を付してある。最初に図10
に示した回路ブロックLS0について説明する。TG回
路aeはNチャンネル及びPチャンネルのトランジスタ
対で構成される一般的な伝達ゲート、および、自身の制
御端子に入力されるロード信号Load1を反転させる
インバータから構成されている。そして、ロード信号L
oad1およびその反転信号をそれぞれNチャンネルト
ランジスタ,Pチャンネルトランジスタのゲート端子に
供給する。
が、これらの制御端子はTG回路aeとは逆に反転入力
となっているため、TG回路aeの構成におけるNチャ
ンネルトランジスタとPチャンネルトランジスタを入れ
替えている。次に、TG回路be,eeはそれぞれTG
回路ce,deとインバータを共有しているため、TG
回路aeの構成からインバータを省略した構成としてい
る。このほか、ラッチLae,Lbeは何れも2個のイ
ンバータを縦続接続してループ状に構成したものであ
る。
であるが、TG回路ao,ラッチLao,TG回路b
o,TG回路co,TG回路do,ラッチLboはいず
れも図10に示した回路ブロックLS0で対応している
構成要素と全く同じ構成となっている。また、TG回路
fo,ラッチLcoはそれぞれ図10に示したTG回路
ee,ラッチLbeの構成と同じである。さらに、TG
回路goはTG回路doと同様の構成であるが、TG回
路doとの間でインバータを共有していることから、T
G回路doの構成からインバータを省略した構成にして
いる。
詳細動作について説明する。ここでは、最初に図12の
タイミングチャートを参照してスルーモードにおける動
作を説明し、次いで、図13のタイミングチャートを参
照してラッチモードにおける動作を説明する。なお、以
下の説明ではデータRD0〜RD7の値がそれぞれ“D
0”〜“D7”であるものとしている。また、図12又
は図13に示した各ノードの信号波形は回路ブロックL
S0〜LS7のうちの回路ブロックLS0または回路ブ
ロックLS1内のノードである。
oad1,Load2が何れも“L”レベルになってい
るものとする。まず、パラシリ変換回路を構成している
シフトレジスタの各段に対してメモリセルアレイから読
み出されてきた8ビットパラレルのデータを設定する。
そのために、時刻t11にて基本クロックCLKが立ち
上がった時点でロード信号Load1,Load2を同
時に“H”レベルにする。その結果、回路ブロックLS
0ではTG回路ae,beが導通状態となって、データ
RD0がラッチLaeにラッチされるとともにNode_Aか
らTG回路beを通じてTG回路deの入力端に相当す
るNode_Bにも供給される。
レベルとなったことで各回路ブロック内のTG回路c
e,coが非導通状態となって、シフトデータ入力端子
SRIE又はSRIOとTG回路de又はdoの間がそ
れぞれ遮断される。なお、図12では時刻t11の直後
にデータRD0の値が“D0”になっているように描い
てはあるが、必ずしもこの時点でデータRD0の値が確
定しているとは限らない。すなわち、データRD0の値
はロード信号Load1,Load2が同時に立ち下げ
られるまでに確定して、基本クロックCLKが“L”レ
ベルの期間中にラッチLbeへ取り込まれてTG回路e
eの入力端に達していれば良い。このことはデータRD
2,RD4,RD6についても同様である。
RD0の読み出し経路についてだけは、インバータIa
eの出力端から入出力パッド10近傍に配置されたTG
回路eeの入力端までの距離が長くかつその配線容量も
大きいことから、その分だけビット1〜ビット7の各デ
ータの読み出し経路よりも負荷が重くなっている。した
がって、ビット0のデータをできうる限り早く確定させ
ておかないと、基本クロックCLKの立ち上がりでTG
回路eeが導通状態となったときに、ビット0のデータ
が間に合わずにノードMXへ出力されないといった事態
にもなりかねない。こうしたことから、メモリセルアレ
イから読み出されるビット0データは可能な限り速やか
にノードereadまで伝達させる必要があることにな
る。
立ち下がると、TG回路deが導通状態となってNode_B
のデータがラッチLbeにラッチされる。ラッチLbe
はラッチされたデータの反転データをインバータIae
へ出力し、インバータIaeはこの反転データをさらに
反転させてからTG回路eeの入力端に供給する。この
結果、時刻t13になるとノードereadにデータR
D0の値“D0”が現れるようになる。また、以上説明
した動作が回路ブロックLS2,LS4,LS6の内部
でも同様に行われるため、これら回路ブロック内のラッ
チLbeにそれぞれデータRD2,RD4,RD6の値
“D2”,“D4”,“D6”が時刻t14までに取り
込まれるとともに、それらの値が個々の回路ブロックの
ノードereadに出力される。
立ち上がると、even側の回路ブロックではTG回路
deが非導通状態となって、以下に説明するプレシフト
動作に起因したNode_Bのデータ変化がラッチLbeの保
持内容に影響しないようにする。ここで言うプレシフト
動作とは次のようなものである。すなわち、Node_Bにデ
ータが移った時点ではまだラッチLbeにラッチされな
いことから、次段のNode_Bにデータを移すまでの動作を
便宜上プレシフト動作と定義し、次段のラッチLbeに
ラッチさせるまでのシフト動作と区別することにする。
これはodd側の回路ブロックでも同様であって、次段
のTG回路doの入力端にデータを移すまでの動作をプ
レシフト動作と定義し、次段のラッチLboにラッチさ
せるまでの動作をシフト動作と定義する。
状態となるため、ノードereadにおけるデータRD
0の値“D0”が、出力バッファOB,入出力パッド1
0を経て出力DQとして半導体記憶装置外部へ出力され
る。また、以上の動作は回路ブロックLS2,LS4,
LS6の内部でも同様に行われるため、同じ時刻t14
にてNode_D,Node_E,Node_FにそれぞれデータRD2,
RD4,RD6の値が出力されるようになる。
にロード信号Load1,Load2をともに“L”レ
ベルへ戻すことで、シフトレジスタ上でシフト動作が可
能な構成に切り替わる。すなわち、回路ブロックLS0
ではTG回路aeが非導通状態となってラッチLaeが
データRD0の値を保持するようになるとともに、TG
回路be,ceがそれぞれ非導通状態,導通状態となる
ため、シフトデータ入力端子SRIE及びTG回路ce
を通じてNode_Dの値“D2”が回路ブロックLS0のNo
de_Bに供給されて、プレシフト動作が行われる。また、
同様のプレシフト動作が回路ブロックLS2,LS4,
LS6でも行われるため、これら回路ブロック内のNode
_Bがそれぞれ“D4”,“D6”,固定値“0”とな
る。
立ち下がると、例えば回路ブロックLS0ではTG回路
ceからNode_Bに出力されている値“D2”がTG回路
deを通じてラッチLbeに取り込まれるとともに、イ
ンバータIaeを介してTG回路eeの入力端であるノ
ードereadにも出力される。また、このシフト動作
は他の回路ブロックLS2,LS4,LS6でも同様で
行われるため、これら回路ブロック内のラッチLaeに
上記Node_Bの値である“D4”,“D6”,固定値
“0”が取り込まれる。
刻t14〜t16における動作に準じたものとなる。す
なわち、時刻t16で基本クロックCLKが立ち上がる
と、回路ブロックLS0ではノードereadの値“D
2”がデータ出力端子Doutから出力され、出力バッ
ファOBおよび入出力パッド10を介して出力DQとし
て半導体記憶装置外部に出力される。また、同じ時刻t
16では回路ブロックLS2,LS4のデータ出力端子
Doutからの出力にも変化が生じ、Node_D,Node_Eか
らそれぞれノードereadの値“D4”,“D6”が
出力されるようになる。
ブロックLS2側からNode_Dの値“D4”が同回路ブロ
ックLS0のNode_Bへ供給されて、プレシフト動作が行
われる。同様にして、回路ブロックLS2では前段の回
路ブロックLS4側からNode_Eの値“D6”が同回路ブ
ロックLS2のNode_Bに供給されて、プレシフト動作が
行われる。次に、時刻t17で基本クロックCLKが立
ち下がると、回路ブロックLS0ではNode_Bの値“D
4”がラッチLbeに取り込まれてその反転データが出
力され、インバータIaeでさらに反転されてノードe
readに供給される。また、回路ブロックLS2でも
同様のシフト動作によってNode_Bの値“D6”がノード
ereadに得られる。
立ち上がると、回路ブロックLS0ではノードerea
dの値“D4”がデータ出力端子Doutから出力され
て、最終的に半導体記憶装置外部へ出力される。また、
同時刻t18では回路ブロックLS2のデータ出力端子
Doutの出力にも変化が生じてNode_Dから値“D6”
が出力されるようになる。また、回路ブロックLS0で
は回路ブロックLS2側からNode_Dの値“D6”がNode
_Bに供給されてプレシフト動作が行われる。次に、時刻
t19で基本クロックCLKが立ち下がると、回路ブロ
ックLS0ではNode_Bの値“D6”がラッチLbeに取
り込まれてその反転データが出力され、インバータIa
eでさらに反転されてノードereadに出力される。
そして、時刻t20で基本クロックCLKが立ち上がる
と、回路ブロックLS0のデータ出力端子Doutから
はノードereadの値“D6”が出力されて最終的に
半導体記憶装置の外部へ出力される。
ロックだけではなくodd側の回路ブロックでもおおむ
ね同様にして行われる。まず、時刻t11でロード信号
Load1,Load2がともに“H”レベルになる
と、データRD1,RD3,RD5,RD7の値がそれ
ぞれ回路ブロックLS1,LS3,LS5,LS7内に
あるTG回路doの入力端まで伝達されて、プレシフト
動作が行われる。このとき基本クロックCLKは“H”
レベルになっているため、この後に時刻t12で基本ク
ロックがCLKが“L”レベルとなった時点でこれらデ
ータの値を上記回路ブロック内にあるラッチLboに取
り込める状態となってシフト動作が行われる。
3,RD5,RD7の値が必ずしも確定していなくとも
良い。すなわち、ロード信号Load1,Load2が
ともに“H”レベル,かつ,基本クロックCLKが
“L”レベルの期間中にラッチLboへ取り込まれ、イ
ンバータIaoを経てTG回路foの入力端まで到達し
ていれば良い。ここで、TG回路foはデータ出力端子
Dout側では無くデータ入力端子Dinの近くに配置
されている。このため、odd側の回路ブロックでは、
回路ブロックLS0とは違ってTG回路foの入力端ま
での距離が特に長いということは無く、データRD0の
ようにタイミング的な要求が厳しいということも無い。
が立ち下がると、例えば回路ブロックLS1では、TG
回路boから出力されているデータがTG回路doを通
じてラッチLboに取り込まれるとともに、インバータ
Iaoを介してTG回路foの入力端に供給されるよう
になる。この結果、時刻t13になるとデータRD1の
値“D1”がノードoread1に現れるようになる。
次に、時刻t14で基本クロックCLKが立ち上がる
と、ノードoread1の値“D1”がTG回路foを
通じてラッチLcoに取り込まれるとともに、その反転
データがインバータIboでさらに反転されてTG回路
goの入力端に供給される。この結果、図示したように
ノードoread2の値が“D1”となる。
が立ち下がるとTG回路goが導通状態となるため、ノ
ードoread2の値“D1”がノードMX上に送出さ
れ、出力バッファOBおよび入出力パッド10を通じて
出力DQとして半導体記憶装置外部に出力される。ま
た、時刻t11〜t16における上述した動作は回路ブ
ロックLS3,LS5,LS7でも同様に行われるた
め、同時刻t15ではこれら回路ブロックのデータ出力
端子DoutからデータRD3,RD5,RD7の値
“D3”,“D5”,“D7”が出力されるようにな
る。
oad1,Load2が何れも立ち下がっているため、
even側の回路ブロック間で行われたようにodd側
の回路ブロック間でも1ビット分のシフト動作が行われ
る。すなわち、同時刻t14で基本クロックCLKが立
ち上がると、図示してはいないが、例えば回路ブロック
LS3内のノードoread2にはノードoread1
の値“D3”が現れるようになる。この後の時刻t15
で基本クロックCLKが立ち下がると、回路ブロックL
S3のデータ出力端子Doutからは値“D3”が出力
されるようになる。この値“D3”は、回路ブロックL
S1のシフトデータ入力端子SRIO,TG回路co,
TG回路doを経てラッチLboに取り込まれるととも
に、その反転データがインバータIaoでさらに反転さ
れてノードoread1の値となる。また、回路ブロッ
クLS3,LS5,LS7でも同様の動作が行われて、
ノードoread1の値が“D5”,“D7”,固定値
“0”となる。
刻t12〜t16の期間内における動作に準じたものと
なる。まず、時刻t16で基本クロックCLKが立ち上
がると、回路ブロックLS1ではノードoread1の
値“D3”がTG回路foを通じてラッチLcoに取り
込まれ、インバータIboを通じてノードoread2
の値が“D3”となる。その後、時刻t17で基本クロ
ックCLKが立ち下がると、ノードoread2の値が
出力バッファOBおよび入出力パッド10を介して出力
DQとして半導体記憶装置外部に出力される。また、回
路ブロックLS3,LS5でも同様の動作が為され、こ
れら回路ブロックのデータ出力端子Doutからそれぞ
れ値“D5”,“D7”が出力される。
“D5”,“D7”はそれぞれ次段の回路ブロックLS
1,LS3におけるシフトデータ入力端子SRIOへ供
給されてラッチLboに取り込まれ、インバータIao
を通じてノードoread1まで伝達される。次に、時
刻t18で基本クロックCLKが立ち上がると、回路ブ
ロックLS1ではノードoread1の値“D5”がラ
ッチLcoに取り込まれ、インバータIboを通じてノ
ードoread2の値も“D5”となる。その後に時刻
t19で基本クロックCLKが立ち下がると、ノードo
read2の値“D5”が最終的に出力DQとして半導
体記憶装置外部へ出力される。
となるため、同時刻t19ではそのデータ出力端子Do
utから値“D7”が出力される。この値“D7”は次
段の回路ブロックLS1のシフトデータ入力端子SRI
Oに供給され、同回路ブロックLS1のラッチLboに
取り込まれ、インバータIaoを通じてノードorea
d1に現れる。次に、時刻t20で基本クロックCLK
が立ち上がると、回路ブロックLS1ではノードore
ad1の値“D7”がラッチLcoに取り込まれ、イン
バータIboを通じてノードoread2の値も“D
7”となる。その後、時刻t21で基本クロックCLK
が立ち下がると、ノードoread2の値“D7”が最
終的に出力DQとして半導体記憶装置外部に出力され
る。
までのデータが基本クロックCLKの立ち上がり,立ち
下がりに同期してeven,odd交互に出力される。
ここで、メモリセルアレイ11Ueから読み出されたe
ven側のデータは、ロード信号Load1,Load
2がともに活性化されてなお且つ基本クロックCLKが
“L”レベルの期間中に、データアンプ17Ue,TG
回路ae,TG回路be,TG回路de,ラッチLb
e,インバータIaeを通じてTG回路eeの入力端ま
で到達する。一方、メモリセルアレイ11Uoから読み
出されたodd側のデータは、even側と同じ条件の
ときにデータアンプ17Uo,TG回路ao,TG回路
bo,TG回路do,ラッチLbo,インバータIao
を通じてTG回路foの入力端まで到達する。
クCLKが時刻t14で立ち上がるタイミングまでに入
出力パッド10(図1参照)の近傍に配置されたTG回
路eeの入力端まで到達させねばならない。これに対し
て、ビット1のデータは上記立ち上がりタイミングまで
に、TG回路eeに比べてデータ入力端子Dinの近傍
に配置されたTG回路foの入力端まで到達していれば
良い。こうした読み出し経路の距離の違いに起因して、
スルーモードではビット0の読み出しに最も高速性が要
求されることになる。したがって、上述したようにev
en側のビットデータをデータアンプないし入出力パッ
ドの近傍に配置されたメモリセルアレイから読み出すこ
とで、それだけタイミングマージンを確保できるように
なる。
については同一の信号名および時刻を付してある。ま
た、この場合においても時刻t10ではロード信号Lo
ad1,Load2がともに“L”レベルであるものと
する。まず、時刻t11にて基本クロックCLKが立ち
上がった時点でロード信号Load1を立ち上げて
“H”レベルとする。これにより、スルーモードの所で
説明したのと同様に、データRD0〜RD7がラッチL
ae(evenデータの場合)又はラッチLao(od
dデータの場合)に取り込まれる。
ベルのままであるため、ラッチLae,Laoに設定さ
れるデータはTG回路de,doの入力端には伝達され
ない。次に、時刻t14において基本クロックCLKが
立ち上がった時点でロード信号Load1を立ち下げて
“L”レベルに戻すとともに、これと入れ違いでロード
信号Load2を立ち上げる。これにより、ラッチLa
e,Laoがデータの取り込み動作を止めて保持動作に
入るほか、これらラッチの保持するデータがTG回路d
e,doの入力端へ供給されるようになり、例えば回路
ブロックLS0ではデータRD0の値“D0”がNode_B
に現れる。
が立ち下がると、TG回路de,doの入力端に供給さ
れたデータはそれぞれラッチLbe,Lboに取り込ま
れ、インバータIae,Iaoを通じてTG回路ee,
foの入力端に供給される。その結果、時刻t15aに
なると例えば回路ブロックLS0ではノードeread
の値が“D0”となり、また、回路ブロックLS1では
ノードoread1の値が“D1”となる。この後、時
刻t16で基本クロックCLKが立ち上がったならば、
ロード信号Load2を立ち下げて“L”レベルに戻
す。これにより、以後の動作はスルーモードの場合の動
作と同じになって、図12に示した時刻t14以降にお
けるのと全く同様の動作が行われる。
ード信号Load1を有効化してeven側,odd側
のデータをそれぞれ一旦ラッチLae,Laoに取り込
んでから、ロード信号Load2を有効化してこれらデ
ータをラッチLbe,Lboに転送している。その後、
基本クロックCLKの立ち上がりでeven側のデータ
を出力DQとして出力するとともにodd側ではラッチ
LboのデータをさらにラッチLcoに転送する。そし
て、次の基本クロックCLKの立ち下がりで、ラッチL
boに保持されたodd側のデータを出力DQとして出
力する。こうした動作を4回繰り返すことでビット0か
らビット7までのビットデータが交互に半導体記憶装置
の外部へ出力されてゆく。
レイに記憶されているevenデータ,oddデータ
は、各回路ブロックLS0〜LS7のデータ入力端子D
in近傍に配置されたTG回路be,boの入力端まで
読み出せば良い。このため、スルーモードにおけるビッ
ト0の読み出し経路と比べ、ラッチモードにおけるビッ
ト0〜ビット7の読み出し経路はいずれも短く、スルー
モードの場合のように最初に読み出されるビット0が特
にタイミング的に厳しいということもない。また、TG
回路deの出力端からTG回路eeの入力端までの距離
はodd側に比べれば長いものの、スルーモードにおけ
るビット0の読み出し経路ほど長くはなく、基本クロッ
クCLKの半周期分の時間内(例えば、図13に示す時
刻t14〜t15の期間内)で伝送すれば良いためタイ
ミング的には十分余裕がある。
に示す。なお、セレクタ19e,19oもマルチプレク
サ20と同じ構成によって実現可能である。図14にお
いて、符号I51は基本クロックCLKを反転させるイ
ンバータであって、その入力側が基本クロックCLKの
供給信号線(以下「クロック供給線」という)と接続さ
れ、その出力側が伝達ゲートであるTG・T1及びTG
・T2と接続されている。
タおよびNチャネルトランジスタが図示のように互いに
接続された伝達ゲートであって、Pチャネルトランジス
タのゲート電極がクロック供給線と接続され、Nチャネ
ルトランジスタのゲート電極がインバータI51の出力
側と接続されている。TG・T2も同様の伝達ゲートで
あるが、こちらはNチャネルトランジスタのゲート電極
がクロック供給線と接続され、Pチャネルトランジスタ
のゲート電極がインバータI51の出力側と接続されて
いる。
T1の入力側にはセレクタ19oの出力するoddデー
タが供給されるデータ線(以下「oddデータ線」とい
う)と接続され、TG・T2の入力側にはセレクタ19
eの出力するevenデータが供給されるデータ線(以
下「evenデータ線」という)と接続されている。一
方、TG・T1及びTG・T2の出力側はいずれもイン
バータI52の入力に接続されている。このインバータ
I52の出力側は図1に示した入出力パッド10に接続
されており、TG・T1又はTG・T2を介して入力さ
れたデータを反転して出力する。
対して逆相となるが、図1に示したようにevenデー
タはセレクタ19e,マルチプレクサ20を経て入出力
パッド10に出力されるため、結果的にセレクタ19e
に入力されたデータと同相のデータが入出力パッド10
に出力されることになる。同様に、oddデータもセレ
クタ19o,マルチプレクサ20を経て入出力パッド1
0に出力されるため、セレクタ19oに入力されたのと
同相のデータが入出力パッド10に出力されることにな
る。
データ及びoddデータのうちの何れかが基本クロック
CLKに従ってマルチプレクサ20から出力される。す
なわち、本実施形態ではevenデータがまずeven
データ線からマルチプレクサ20へ供給され、その後に
基本クロックCLKが立ち上がるとTG・T1が非導通
状態かつTG・T2が導通状態となる。これにより、最
初のevenデータであるビット0のデータがインバー
タI52を介して出力される。次いで、oddデータが
oddデータ線からマルチプレクサ20に供給され、そ
の後に基本クロックCLKが立ち下がるとTG・T1が
導通状態かつTG・T2が非導通状態となる。これによ
って、最初のoddデータであるビット1のデータがイ
ンバータI52を介して出力される。これ以後も基本ク
ロックCLKの立ち上がり,立ち下がりでevenデー
タ線側,oddデータ線側が交互に導通状態となって、
順次入力されるevenデータ,oddデータが交互に
出力される。
図において、符号I53は基本クロックCLKを反転さ
せるインバータであって、入力側がクロック供給線と接
続され、出力側がナンド回路N1の一方の入力側と接続
されている。ナンド回路N1は他方の入力側がoddデ
ータ線と接続され、出力側がナンド回路N3の一方の入
力側に接続されている。また、ナンド回路N2は入力側
にクロック供給線およびevenデータ線が接続されて
おり、出力側がナンド回路N3の他方の入力側に接続さ
れている。さらに、ナンド回路N3は出力側がインバー
タI54の入力側と接続されており、このインバータI
54の出力側は図1に示した入出力パッド10と接続さ
れている。
がマルチプレクサ20へ供給され、その供給開始後に基
本クロックCLKが立ち上がると、ナンド回路N2がe
venデータを反転して出力し、ナンド回路N1はod
dデータの如何に拘わらず“H”レベルを出力する。こ
れにより、evenデータ線から供給された最初のev
enデータであるビット0のデータがナンド回路N2,
ナンド回路N3,インバータI54を介して出力され
る。次いで、oddデータがマルチプレクサ20に供給
されてその後に基本クロックCLKが立ち下がると、ナ
ンド回路N1がoddデータを反転して出力し、ナンド
回路N2はevenデータの如何に拘わらず“H”レベ
ルを出力する。これにより、oddデータ線から供給さ
れた最初のoddデータであるビット1のデータがナン
ド回路N1,ナンド回路N3,インバータI54を介し
て出力される。これ以後も基本クロックCLKの立ち上
がり,立ち下がりでevenデータ線側,oddデータ
線側が交互に選択されて、順次入力されるevenデー
タ,oddデータが交互に出力される。
場合、同時に活性化されるセンスアンプの数は従来技術
の場合(図2を参照)に対して2倍となる。しかし、こ
れまでに製品化されてきた半導体記憶装置においても、
容量が増えるのに伴って同時に活性化されるセンスアン
プ数も増加してきている。したがって、これから主流に
なる512メガビット,1ギガビットといった大容量の
半導体記憶装置を考えた場合、同時に活性化されるセン
スアンプ数が従来の2倍になっても製品仕様上ほとんど
問題にはならない。とは言っても、同時に活性化させる
センスアンプ数を従来技術の場合と同じにすることで消
費電流の低減を図ることが好ましい応用分野なども考え
られる。
装置の構成例を図3に準じて示したものであって、図3
に示したものと同じ構成要素については同一の符号を付
してある。図示したように、本変形例ではXデコーダ1
2Uをメモリサブアレイの中央付近に配置している。そ
のため、Xデコーダ12Uを境としてメモリセルアレイ
11Uoを左右のメモリセルアレイ11UoL,11U
oRに分割するとともに、メモリセルアレイ11Ueを
左右のメモリセルアレイ11UeL,11UeRに分割
している。さらに、Xデコーダ12Uはeven側,o
dd側のメモリセルアレイにおいてそれぞれ領域CAe
L,CaoRに対応する図示しないセンスアンプだけを
活性化させるように行アドレスをデコードする。
し方は図3と同じで良い。また、図16では同一のメモ
リサブアレイからevenデータおよびoddデータを
読み出す場合について示したが、2つのメモリサブアレ
イにまたがってevenデータおよびoddデータを読
み出す場合であっても同様である。例えば、Upper 側,
Lower 側のメモリサブアレイからそれぞれevenデー
タ,oddデータを読み出す場合には、 Upper側のメモ
リサブアレイでは領域CAeLに相当する領域だけを活
性化させ、 Lower側のメモリセルアレイでは領域CAo
Rに相当する領域だけを活性化させるようにすれば良
い。
oddデータよりも先に出力する場合を取り上げて説明
をしたが、oddデータをevenデータよりも先に出
力する場合であっても本発明を適用することが可能であ
る。その場合には、各メモリサブアレイにおけるodd
用メモリセルアレイとeven用メモリセルアレイの配
置を入れ替えて、odd用のメモリセルアレイをデータ
アンプの近くに配置すれば良い。
入出力されるビット数を8ビットとしていたが、8ビッ
トに限られず任意のビット数であって良い。 (4)上述した説明ではシリパラ変換回路,ライトアン
プ,データアンプ,パラシリ変換回路の配置位置を図1
に示したようなYデコーダ側(図示省略)の領域ではな
くXデコーダ側の領域としても良い。その場合には、メ
モリサブアレイを上下ではなく左右に分割し、Xデコー
ダに近い方をeven用のメモリセルアレイ,Xデコー
ダから遠い方をodd用のメモリセルアレイとすれば良
い。
Kの立ち上がり及び立ち下がりでシリアルデータを入出
力するDDR型の半導体記憶装置への適用例を示した。
しかしながら、本発明がこうしたクロックタイミングで
データを入出力する半導体記憶装置に限定されないこと
は勿論である。例えば、或る基本クロックCLKの立ち
上がりでevenデータを読み書きし、その次の基本ク
ロックCLKの立ち上がりでoddデータを読み書きす
るようなSDR(Single Data Rate)型の半導体記憶装
置へ本発明を適用しても良い。
イを2分割したが、分割数が必ず“2”でなければなら
ないという訳ではない。例えば、各メモリサブアレイを
8分割して各ビット専用のメモリセルアレイ8個で構成
して、ビット0専用のメモリセルアレイをデータアンプ
の最も近くに配置するようにしても良い。また、メモリ
サブアレイを2分割する場合においてもeven,od
dを基準として分けねばならないという必然性はない。
すなわち、最初に出力すべきビット0をデータアンプの
最も近くに配置されたメモリセルアレイに記憶させるの
であれば、これ以外のビット1〜7は何れのメモリセル
アレイに記憶させても良い。例えば、ビット0〜3をメ
モリセルアレイ11Ue,11Leに記憶させ、ビット
4〜7をメモリセルアレイ11Uo,11Loに記憶さ
せることなどが考えられる。なお、以上のように構成し
た場合には、各メモリセルアレイにどのビットを記憶さ
せるかによって、ライトアンプ,データアンプ,シリパ
ラ変換回路,パラシリ変換回路,セレクタ,マルチプレ
クサ,デマルチプレクサ等からなる読み出し系および書
き込み系の回路を当業者の技術常識に従って適宜再構成
すれば良い。
記憶装置を構成しているメモリサブアレイを複数のメモ
リセルアレイに分割し、これらメモリセルアレイから読
み出される複数ビットのデータの各ビットデータを連続
して外部へ出力する。その際、請求項1記載の発明で
は、最初に出力すべきビットのデータを他のメモリセル
アレイよりも出力手段の近傍に配置された第1のメモリ
セルアレイに記憶させている。このため、バーストで読
み出されるビットデータのうち、タイミング的な制約が
最も厳しい最初のビットの読み出し時間を他のどのビッ
トの読み出し時間よりも短くすることができ、半導体記
憶装置全体の高速化を図ることができる。
モリセルアレイから出力手段までの第1の出力線の長さ
を他のメモリセルアレイから出力手段までの他の出力線
の長さよりも短くしている。このため、メモリセルから
出力手段までデータを伝送するための出力線の負荷容量
や時定数は、第1の出力線の方が他の出力線よりも小さ
く、その分、バースト1発目のビットを高速に読み出す
ことができ、タイミングマージンを確保することが可能
になる。特に、大容量品の半導体記憶装置になるほど出
力線も長くなる傾向にあるため、大容量な半導体記憶装
置ほどその効果は顕著に現れる。また、これら請求項1
記載の発明によれば、従来の半導体記憶装置と比較した
場合にも、出力手段などの周辺回路の構成が複雑化しな
いため、回路構成を大規模化させることなく半導体記憶
装置の高速化を図ることができる。さらに、請求項12
記載の発明のように、最初に外部へ出力すべきビットの
データがメモリセルアレイから出力端子までスルーで伝
送されるような動作モードでは、最初に出力すべきビッ
トの配線が長いので特に有用である。
力線および他の出力線をローカル出力線およびグローバ
ル出力線からなる階層化された出力線で構成し、第1の
出力線を構成するグローバル出力線の長さを他の出力線
を構成するグローバル出力線の長さよりも短くしてい
る。これにより、階層化された出力線の採用で配線遅延
を低減させられる効果があるばかりでなく、第1の出力
線の長さを短くすることによる配線遅延の短縮の効果が
あるため、より一層の高速化が可能となる。また、請求
項4記載の発明では、第1の出力線が最初に出力すべき
ビット以外のビットデータを伝送するための複数本の出
力線で構成されている場合に、これら複数本の出力線を
構成しているローカル出力線のうち、最初に出力すべき
ビットに対応したローカル出力線を出力手段の最も近く
に配線している。これによって、例えばビット0からビ
ット7までの8ビットバースト出力を行うために、第1
のメモリセルアレイに偶数ビット目のデータを記憶さ
せ、他のメモリセルアレイに奇数ビット目のデータを記
憶させるような場合に、複数本あるグローバル出力線の
うち、最先で出力すべきビット0に対応したグローバル
出力線の長さを最短とすることが可能となって、より一
層の高速化を図ることができる。
セルアレイを互いに独立して活性化される複数の領域に
分割して、これら複数の領域のうち、バースト出力の対
象となっているビットデータが記憶された領域だけを同
時に活性化させて読み出しを行っている。これにより、
各メモリセルアレイを例えば2つの領域に分割すること
で、メモリセルアレイからデータを読み出すために同時
に活性化されるセンスアンプの数を半分に減らすことが
できる。このため、最初に出力すべきビットの高速読み
出しを図りつつ、半導体記憶装置全体の消費電流を低減
させることができる。また、請求項10記載の発明で
は、メモリサブアレイを第1及び第2のメモリセルアレ
イで構成し、最初に出力すべきビットのデータが記憶さ
れた第1のメモリセルアレイを先にして、これら2個の
メモリセルアレイから各ビットデータを交互に読み出し
て外部へ連続して出力している。したがって、例えば1
回のアドレスアクセスでビット0からビット7まで8ビ
ットバースト読み出しを行うとした場合、メモリサブア
レイがevenデータ用/oddデータ用のメモリセル
アレイに分割される。その結果、evenデータ用メモ
リセルアレイからの読み出し時間をoddデータ用メモ
リセルアレイからの読み出し時間の半分程度に低減させ
ることができる。
の構成を示したブロック図である。
て、単一のメモリセルアレイからevenデータ及びo
ddデータが読み出される様子を示した説明図である。
て、単一のメモリサブアレイを分割した2個のメモリセ
ルアレイからevenデータ,oddデータが別々に読
み出される様子を示した説明図である。
I/O線とメモリセルプレートとの関係を示した説明図
である。
I/O線の配線態様を示した第1の説明図である。
I/O線の配線態様を示した第2の説明図である。
シリパラ変換回路の詳細構成を示した回路図である。
ングチャートである。
パラシリ変換回路の具体的な構成を示した回路図であ
る。
側の回路ブロックの詳細構成を示した回路図である。
の回路ブロックの詳細構成を示した回路図である。
ける動作を示したタイミングチャートである。
ける動作を示したタイミングチャートである。
るマルチプレクサ及びセレクタの第1の詳細構成を示し
た回路図である。
るマルチプレクサ及びセレクタの第2の詳細構成を示し
た回路図である。
て、同時に活性化されるセンスアンプの数を半分にする
変形例の構成を示したブロック図である。
を示したブロック図である。
アレイ 13,14e,14o デマルチプレクサ 15Ue,15Uo,15Le,15Lo シリパラ変
換回路 16Ue,16Uo,16Le,16Lo ライトアン
プ 17Ue,17Uo,17Le,17Lo データアン
プ 18Ue,18Uo,18Le,18Lo パラシリ変
換回路 19e,19o セレクタ 20 マルチプレクサ 31 メモリセルプレート 41,42 センスアンプ群 GIOe,GIOo グローバルI/O線 LIOe,LIOo,LIO0〜LIO7 ローカルI
/O線 U/Le,U/Lo 選択信号
Claims (12)
- 【請求項1】 複数のメモリセルを有するメモリサブ
アレイから読み出した複数ビットのデータの各ビットデ
ータを所定の順序で連続して外部へ出力する出力手段を
備えた半導体記憶装置において、 前記メモリサブアレイを複数のメモリセルアレイに分割
し、 前記複数ビットのデータのうち、最初に出力すべきビッ
トのデータを前記複数のメモリセルアレイのうちの第1
のメモリセルアレイに記憶させ、 該第1のメモリセルアレイを該第1のメモリセルアレイ
以外の他のメモリセルアレイよりも前記出力手段の近傍
に配置したことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項2】 複数のメモリセルを有するメモリサブ
アレイから読み出した複数ビットのデータの各ビットデ
ータを所定の順序で連続して外部へ出力する出力手段を
備えた半導体記憶装置において、 前記メモリサブアレイを複数のメモリセルアレイに分割
し、 前記複数ビットのデータのうち、最初に出力すべきビッ
トのデータを前記複数のメモリセルアレイのうちの第1
のメモリセルアレイに記憶させ、 該第1のメモリセルアレイから読み出されるデータを前
記出力手段に伝送するための第1の出力線の長さを、前
記第1のメモリセルアレイ以外の他のメモリセルアレイ
から読み出されるデータを前記出力手段に伝送するため
の他の出力線の長さよりも短くしたことを特徴とする半
導体記憶装置。 - 【請求項3】 前記第1の出力線および前記他の出力
線は、前記メモリセルに記憶されたビットデータが読み
出されるローカル出力線と該ローカル出力線上に読み出
されたビットデータを前記出力手段まで伝送するグロー
バル出力線とで構成される階層化された出力線であっ
て、 前記第1の出力線を構成するグローバル出力線の長さ
が、前記他の出力線を構成するグローバル出力線の長さ
よりも短いことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶
装置。 - 【請求項4】 前記第1のメモリセルアレイは、前記
複数ビットのデータのうち、前記最初に出力すべきビッ
トのデータに加えて該ビット以外のビットのデータを記
憶しており、 前記第1の出力線は、前記第1のメモリセルアレイに記
憶された各ビットのデータをそれぞれ前記出力手段に伝
送するための複数本の出力線で構成され、 該複数本の出力線の各々を構成するローカル出力線のう
ち、前記最初に出力すべきビットのデータを伝送するた
めのローカル出力線を前記出力手段の最も近くに配線し
たことを特徴とする請求項3記載の半導体記憶装置。 - 【請求項5】 前記複数のメモリセルアレイの各々を
複数のメモリセルプレートで構成し、隣接して配置され
た所定数のメモリセルプレート毎に前記ローカル出力線
を設け、前記第1の出力線および前記他の出力線を構成
するそれぞれのグローバル出力線が互いに同一のメモリ
セルプレート上を通過しないように、これらグローバル
出力線を前記複数のメモリセルアレイ上のメモリセルプ
レートに対応したローカル出力線からそれぞれ引き出し
て前記出力手段まで配線したことを特徴とする請求項3
又は4記載の半導体記憶装置。 - 【請求項6】 前記複数のメモリセルアレイの各々を
複数のメモリセルプレートで構成し、該複数のメモリセ
ルプレートの各々に対応させて前記ローカル出力線を設
け、前記複数のメモリセルアレイの各々を構成する何れ
かのメモリセルプレートに対応したローカル出力線から
前記第1の出力線および前記他の出力線を構成するそれ
ぞれのグローバル出力線を引き出して前記出力手段まで
配線したことを特徴とする請求項3又は4記載の半導体
記憶装置。 - 【請求項7】 前記メモリサブアレイを複数個備え、 前記複数個のメモリサブアレイの中から選択された何れ
かのメモリサブアレイを構成する前記第1のメモリセル
アレイ、および、該選択されたメモリサブアレイ以外の
他のメモリサブアレイを構成する前記他のメモリセルア
レイに対して、連続して出力される前記複数ビットのデ
ータを記憶させ、前記選択されたメモリサブアレイを構
成する前記第1のメモリセルアレイと前記他のメモリサ
ブアレイを構成する前記他のメモリセルアレイを活性化
させて前記複数ビットのデータを読み出すことを特徴と
する請求項1〜6の何れかの項記載の半導体記憶装置。 - 【請求項8】 前記メモリサブアレイを複数個備え、 前記複数個のメモリサブアレイの中から選択された何れ
かのメモリサブアレイを構成する前記第1のメモリセル
アレイおよび前記他のメモリセルアレイに対して、連続
して出力される前記複数ビットのデータを記憶させ、前
記選択されたメモリサブアレイを構成する前記第1のメ
モリセルアレイおよび前記他のメモリセルアレイを活性
化させて前記複数ビットのデータを読み出すことを特徴
とする請求項1〜6の何れかの項記載の半導体記憶装
置。 - 【請求項9】 前記複数のメモリセルアレイの各々が
互いに独立して活性化される複数の領域に分割されてお
り、 前記複数の領域のうち、連続して出力される前記複数ビ
ットのデータが記憶されている領域だけを同時に活性化
させて、該複数ビットのデータを読み出すことを特徴と
する請求項1〜8の何れかの項記載の半導体記憶装置。 - 【請求項10】 前記メモリサブアレイは前記第1の
メモリセルアレイ及び第2のメモリセルアレイから成る
2個のメモリセルアレイで構成されており、 前記最初に出力すべきビットのデータが記憶された前記
第1のメモリセルアレイを先にして、前記第1のメモリ
セルアレイ及び前記第2のメモリセルアレイから前記各
ビットデータを交互に読み出して外部へ連続して出力す
ることを特徴とする請求項1〜9の何れかの項記載の半
導体記憶装置。 - 【請求項11】 前記第1のメモリセルアレイ及び前
記第2のメモリセルアレイから交互に読み出された前記
各ビットデータは、クロックの立ち上がり及び立ち下が
りに同期して交互に外部へ出力されることを特徴とする
請求項10記載の半導体記憶装置。 - 【請求項12】 前記最初に出力すべきビットのデー
タは、前記第1のメモリセルアレイから読み出されて前
記各ビットデータを外部へ供給するための出力端子まで
スルーで伝送されることを特徴とする請求項1〜11の
何れかの項記載の半導体記憶装置。
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