JP3371825B2 - 半導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法 - Google Patents
半導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法Info
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体パワーデバ
イス用ペレットマウンターに関し、特に半田供給部の半
導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌
方法に関する。
イス用ペレットマウンターに関し、特に半田供給部の半
導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体ペレットマウンターにおい
て用いられている半田攪拌ユニットについて、例えば実
公平２−３０８３７号公報に開示されている。ここに開
示された技術を図５、６を例に説明する。
て用いられている半田攪拌ユニットについて、例えば実
公平２−３０８３７号公報に開示されている。ここに開
示された技術を図５、６を例に説明する。
【０００３】この半田攪拌ユニットは、半導体素子の基
板へのマウントに先立って、半田部材を基板に良好にな
じませるための攪拌装置であり、リードフレームのアイ
ランド上への半田部材供給の際、必要面積に広げ、か
つ、アイランドとのなじみ性を改善する目的として用い
られている。ここで用いられている半田部材は半導体ペ
レットをアイランドに接着させ、電気を流す目的のた
め、十分アイランド上に広げ、かつ、なじませる必要が
ある。
板へのマウントに先立って、半田部材を基板に良好にな
じませるための攪拌装置であり、リードフレームのアイ
ランド上への半田部材供給の際、必要面積に広げ、か
つ、アイランドとのなじみ性を改善する目的として用い
られている。ここで用いられている半田部材は半導体ペ
レットをアイランドに接着させ、電気を流す目的のた
め、十分アイランド上に広げ、かつ、なじませる必要が
ある。
【０００４】図５は従来の半田攪拌ユニットの構造を示
す断面図であり、図６は従来の半田攪拌ユニット１を先
端（図５の下面側）から見た図である。図５において、
リードフレーム８は加熱レール９上を搬送され、アイラ
ンド２が半田部材３の溶融温度まで加熱される。加熱レ
ール９は、ガスカバー１０によりカバーされガスカバー
１０に設置された不活性ガス導入口１１により窒素ガス
などの不活性ガスをガスカバー１０内に導入し、リード
フレーム８及び半田部材３の極端な酸化を防いでいる。
す断面図であり、図６は従来の半田攪拌ユニット１を先
端（図５の下面側）から見た図である。図５において、
リードフレーム８は加熱レール９上を搬送され、アイラ
ンド２が半田部材３の溶融温度まで加熱される。加熱レ
ール９は、ガスカバー１０によりカバーされガスカバー
１０に設置された不活性ガス導入口１１により窒素ガス
などの不活性ガスをガスカバー１０内に導入し、リード
フレーム８及び半田部材３の極端な酸化を防いでいる。
【０００５】ただし、直前のステージである半田部材３
の供給部、及びこの半田攪拌ユニット１部はガスカバー
１０上部が開口されており密閉構造とはなっていないた
め酸素の侵入を完全には防げない。
の供給部、及びこの半田攪拌ユニット１部はガスカバー
１０上部が開口されており密閉構造とはなっていないた
め酸素の侵入を完全には防げない。
【０００６】半田攪拌ユニット１は、その下部に突出部
５を有しており、さらに突出部５に囲まれた凹部６に
は、モータなどの駆動系よりのびるワイヤ１３に接続さ
れた複数の羽根１４が設置され回転可能となっている。
５を有しており、さらに突出部５に囲まれた凹部６に
は、モータなどの駆動系よりのびるワイヤ１３に接続さ
れた複数の羽根１４が設置され回転可能となっている。
【０００７】次に、動作について説明する。ガスカバー
１０内に不活性ガス導入口１１より常時不活性ガスが供
給された状態で、リードフレーム８が加熱レール９上に
搬送手段によって（図示せず）搬送され、半田攪拌ユニ
ット１の直下にアイランド２が位置決めされる。
１０内に不活性ガス導入口１１より常時不活性ガスが供
給された状態で、リードフレーム８が加熱レール９上に
搬送手段によって（図示せず）搬送され、半田攪拌ユニ
ット１の直下にアイランド２が位置決めされる。
【０００８】半田部材３はこの位置にくる前に半田部材
３の供給手段によりアイランド２上に供給され溶融状態
となっている。そして、半田攪拌ユニット１直下に位置
決めされたアイランド２上に半田攪拌ユニット１が降下
し、凹部６内に半田部材３を収納する。この状態で凹部
６内に位置する羽根１４がモータなどの駆動系に接続さ
れたワイヤー１３により回転される。これによって半田
部材３がアイランド２上に広がり、なじむ。
３の供給手段によりアイランド２上に供給され溶融状態
となっている。そして、半田攪拌ユニット１直下に位置
決めされたアイランド２上に半田攪拌ユニット１が降下
し、凹部６内に半田部材３を収納する。この状態で凹部
６内に位置する羽根１４がモータなどの駆動系に接続さ
れたワイヤー１３により回転される。これによって半田
部材３がアイランド２上に広がり、なじむ。
【０００９】その後、半田攪拌ユニット１が上昇し、リ
ードフレーム８が搬送され、次のステージで半導体ペレ
ットがアイランド２上に搭載され半田部材３によりアイ
ランド２上に接着される。
ードフレーム８が搬送され、次のステージで半導体ペレ
ットがアイランド２上に搭載され半田部材３によりアイ
ランド２上に接着される。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術では、
アイランド表面が酸化しやすく、酸化により半田部材が
スムーズにリードフレームのアイランド上に広がらず、
しかも、アイランドになじみにくいという問題点があ
る。その理由は、ガスカバーの半田攪拌ユニット部は開
口されて設置されるため、酸素の侵入があり、リードフ
レーム及び半田部材が加熱レール上で酸素と接触するた
めである。
アイランド表面が酸化しやすく、酸化により半田部材が
スムーズにリードフレームのアイランド上に広がらず、
しかも、アイランドになじみにくいという問題点があ
る。その理由は、ガスカバーの半田攪拌ユニット部は開
口されて設置されるため、酸素の侵入があり、リードフ
レーム及び半田部材が加熱レール上で酸素と接触するた
めである。
【００１１】本発明の目的は、上記問題点、欠点に鑑み
成されたものであって、本発明の技術的課題は、主とし
て、生産性が高い半田攪拌ユニットを提供することにあ
る。また、本発明の目的は、高品質な接続が可能な半田
攪拌ユニット、及び高速な半田攪拌方法を提供すること
にある。
成されたものであって、本発明の技術的課題は、主とし
て、生産性が高い半田攪拌ユニットを提供することにあ
る。また、本発明の目的は、高品質な接続が可能な半田
攪拌ユニット、及び高速な半田攪拌方法を提供すること
にある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の半田攪拌ユニッ
トは、半田部材攪拌時、還元ガスを半田攪拌ユニットに
導入し、還元ガス雰囲気中で半田部材を攪拌し、アイラ
ンド上に広げる。より具体的にはリードフレームのアイ
ランドを覆う凹部（図１の６）とこの凹部の内部で半田
部材を攪拌する攪拌ピン（図１の４）と凹部に還元ガス
を導入する導入口（図１の７）とを有し、また、半田部
材攪拌時に還元ガスを導入し還元ガス雰囲気内で半田部
材の攪拌を行うことを特徴とする。即ち、本発明は、半
導体ペレットマウント用半田攪拌装置において下記の点
を特徴とする。 １：不活性ガスが導入されるガスカバーと、前記ガスカ
バー内に設置された半田攪拌ユニットと、前記半田攪拌
ユニットに設けられた凹部と、からなる半導体ペレット
マウント用半田攪拌装置において、前記凹部に還元ガス
を供給する還元ガス供給通路を前記半田攪拌ユニットに
設けたこと。 ２：前記半田攪拌ユニットの中心に半田攪拌ピンを有す
ること。 ３：前記還元ガス供給通路へ還元ガスを導入する導入口
を前記半田攪拌ユニットの側面に設けたこと。 ４：前記導入口を、前記半田攪拌ユニットの側面に多数
個設けたこと。さらに、本発明は、半田攪拌方法におい
て下記の点を特徴とする。 ５：不活性ガスが導入されるガスカバー内に設置された
半田攪拌ユニットによって、半田部材を攪拌するとき、
半田攪拌ユニットの凹部内に還元ガスを供給しながら還
元ガス雰囲気中で半田攪拌すること。
トは、半田部材攪拌時、還元ガスを半田攪拌ユニットに
導入し、還元ガス雰囲気中で半田部材を攪拌し、アイラ
ンド上に広げる。より具体的にはリードフレームのアイ
ランドを覆う凹部（図１の６）とこの凹部の内部で半田
部材を攪拌する攪拌ピン（図１の４）と凹部に還元ガス
を導入する導入口（図１の７）とを有し、また、半田部
材攪拌時に還元ガスを導入し還元ガス雰囲気内で半田部
材の攪拌を行うことを特徴とする。即ち、本発明は、半
導体ペレットマウント用半田攪拌装置において下記の点
を特徴とする。 １：不活性ガスが導入されるガスカバーと、前記ガスカ
バー内に設置された半田攪拌ユニットと、前記半田攪拌
ユニットに設けられた凹部と、からなる半導体ペレット
マウント用半田攪拌装置において、前記凹部に還元ガス
を供給する還元ガス供給通路を前記半田攪拌ユニットに
設けたこと。 ２：前記半田攪拌ユニットの中心に半田攪拌ピンを有す
ること。 ３：前記還元ガス供給通路へ還元ガスを導入する導入口
を前記半田攪拌ユニットの側面に設けたこと。 ４：前記導入口を、前記半田攪拌ユニットの側面に多数
個設けたこと。さらに、本発明は、半田攪拌方法におい
て下記の点を特徴とする。 ５：不活性ガスが導入されるガスカバー内に設置された
半田攪拌ユニットによって、半田部材を攪拌するとき、
半田攪拌ユニットの凹部内に還元ガスを供給しながら還
元ガス雰囲気中で半田攪拌すること。
【００１３】（作用）本発明では、半田部材攪拌時、半
田攪拌ユニットの還元ガス導入口より、還元ガスを凹部
に導入し、還元ガス雰囲気中で攪拌ピンを回転させて半
田部材をアイランド上で攪拌し、広げるため、アイラン
ド表面の酸化物及び半田部材の酸化物を還元し、かつ、
酸化防止出来る。さらに、このため、半田部材を酸化な
く高品質に、しかも、素早くアイランド上に広げること
が出来る。
田攪拌ユニットの還元ガス導入口より、還元ガスを凹部
に導入し、還元ガス雰囲気中で攪拌ピンを回転させて半
田部材をアイランド上で攪拌し、広げるため、アイラン
ド表面の酸化物及び半田部材の酸化物を還元し、かつ、
酸化防止出来る。さらに、このため、半田部材を酸化な
く高品質に、しかも、素早くアイランド上に広げること
が出来る。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る半導体ペレッ
トマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第1
の実施の形態の断面図である。図２は図１の半田攪拌ユ
ニットを先端（下面側）から見た図である。図３は本発
明の第２の実施の形態の断面図である。図４は図３の半
田攪拌ユニットを先端（下面側）から見た図である。
トマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第1
の実施の形態の断面図である。図２は図１の半田攪拌ユ
ニットを先端（下面側）から見た図である。図３は本発
明の第２の実施の形態の断面図である。図４は図３の半
田攪拌ユニットを先端（下面側）から見た図である。
【００１５】（第1の実施の形態）第1の実施の形態にお
いて、図１、２を参照して説明する。図１の半田攪拌ユ
ニット１は、アイランド２上に供給され溶融された半田
部材３を攪拌する攪拌ピン４と、半田部材３を収納する
突出部５を有し、さらにこの突出部５に囲まれた凹部６
内に還元ガスを供給する還元ガス導入口７を有してい
る。
いて、図１、２を参照して説明する。図１の半田攪拌ユ
ニット１は、アイランド２上に供給され溶融された半田
部材３を攪拌する攪拌ピン４と、半田部材３を収納する
突出部５を有し、さらにこの突出部５に囲まれた凹部６
内に還元ガスを供給する還元ガス導入口７を有してい
る。
【００１６】図２は半田攪拌ユニット１を先端（下面
側）から見た図であるが、攪拌ピン４は半田攪拌ユニッ
ト１の中心に設置されている。また、この攪拌ピン４は
モータなどの駆動系（図示せず）に接続されて回転可能
になっている。さらに、リードフレーム８は半田部材３
を溶融させるため加熱レール９上にアイランド２が接触
するように搬送、位置決めされる。加熱レール９及び半
田攪拌ユニット１は半田攪拌ユニット１部を開口したガ
スカバー１０によりカバーされ、不活性ガス導入口１１
から常時不活性ガスがガスカバー１０内に供給される。
これにより、リードフレーム８、半田部材３の極端な酸
化を防いでいる。
側）から見た図であるが、攪拌ピン４は半田攪拌ユニッ
ト１の中心に設置されている。また、この攪拌ピン４は
モータなどの駆動系（図示せず）に接続されて回転可能
になっている。さらに、リードフレーム８は半田部材３
を溶融させるため加熱レール９上にアイランド２が接触
するように搬送、位置決めされる。加熱レール９及び半
田攪拌ユニット１は半田攪拌ユニット１部を開口したガ
スカバー１０によりカバーされ、不活性ガス導入口１１
から常時不活性ガスがガスカバー１０内に供給される。
これにより、リードフレーム８、半田部材３の極端な酸
化を防いでいる。
【００１７】次に、図１の半田攪拌ユニット１の動作に
ついて、図を参照して説明する。まず、ペレットマウン
ターの本ステージの直前でアイランド２に半田部材３が
供給される。半田部材３が加熱レール９により溶融した
状態でリードフレーム８が搬送される。そして、アイラ
ンド２が半田攪拌ユニット１の直下に位置したとき、リ
ードフレーム８の搬送が停止され、位置決めされる。次
に、半田攪拌ユニット１が降下し、アイランド２上に突
出部５が接触し、半田部材３を凹部６に収納する。同時
に還元ガスが還元ガス導入口７から凹部６に供給され
る。このとき、攪拌ピン４の先端も、溶融された半田部
材３に接触する。
ついて、図を参照して説明する。まず、ペレットマウン
ターの本ステージの直前でアイランド２に半田部材３が
供給される。半田部材３が加熱レール９により溶融した
状態でリードフレーム８が搬送される。そして、アイラ
ンド２が半田攪拌ユニット１の直下に位置したとき、リ
ードフレーム８の搬送が停止され、位置決めされる。次
に、半田攪拌ユニット１が降下し、アイランド２上に突
出部５が接触し、半田部材３を凹部６に収納する。同時
に還元ガスが還元ガス導入口７から凹部６に供給され
る。このとき、攪拌ピン４の先端も、溶融された半田部
材３に接触する。
【００１８】この状態で、モータなどの駆動系に接続さ
れた、攪拌ピン４が回転し半田部材３を、攪拌し、アイ
ランド２上に広げ、なじませる。一定時間後、攪拌ピン
４の回転が停止され、半田攪拌ユニット１が上昇し、リ
ードフレーム８が搬送され、装置の次のステージで半導
体ペレットがアイランド２上に搭載される。
れた、攪拌ピン４が回転し半田部材３を、攪拌し、アイ
ランド２上に広げ、なじませる。一定時間後、攪拌ピン
４の回転が停止され、半田攪拌ユニット１が上昇し、リ
ードフレーム８が搬送され、装置の次のステージで半導
体ペレットがアイランド２上に搭載される。
【００１９】上記構成によれば、半田部材３攪拌時に還
元ガスを導入しながら攪拌するため、ガスカバー１０内
の不活性ガスによっも防げなかったアイランド２表面の
酸化物及び半田部材３の酸化物を還元出来、かつ酸化も
防げ、スムーズに半田部材３をアイランド２上に広げる
ことが出来る。そのため、半田攪拌時間を短縮でき、し
かも酸化のない高品質な半田部材３を得ることが出来
る。
元ガスを導入しながら攪拌するため、ガスカバー１０内
の不活性ガスによっも防げなかったアイランド２表面の
酸化物及び半田部材３の酸化物を還元出来、かつ酸化も
防げ、スムーズに半田部材３をアイランド２上に広げる
ことが出来る。そのため、半田攪拌時間を短縮でき、し
かも酸化のない高品質な半田部材３を得ることが出来
る。
【００２０】（第2の実施の形態）次に本発明の第２の
実施の形態について図２、３を参照して説明する。構成
及び動作は第1の実施の形態とほぼ同じであるため、相
違点のみ記述する。
実施の形態について図２、３を参照して説明する。構成
及び動作は第1の実施の形態とほぼ同じであるため、相
違点のみ記述する。
【００２１】半田攪拌ユニット１の外周に還元ガスブロ
ーノズル１２を設置し、還元ガス導入口７に接続され
て、攪拌時、半田攪拌ユニット１の周辺にも還元ガスを
ブローし、還元ガス雰囲気とすることが出来る。この第
２の実施の形態では、攪拌時、半田攪拌ユニット１の周
辺を還元ガス雰囲気にすることが出来るため、凹部６へ
の酸素の侵入をより遮断出来る。
ーノズル１２を設置し、還元ガス導入口７に接続され
て、攪拌時、半田攪拌ユニット１の周辺にも還元ガスを
ブローし、還元ガス雰囲気とすることが出来る。この第
２の実施の形態では、攪拌時、半田攪拌ユニット１の周
辺を還元ガス雰囲気にすることが出来るため、凹部６へ
の酸素の侵入をより遮断出来る。
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は半田部材攪
拌時、還元ガスを攪拌部に供給し、アイランド表面及び
半田部材の酸化物を還元しながら、かつ酸化を防ぎなが
ら攪拌をするので、リードフレーム及び半田部材が酸化
されず高品質状態でアイランド上に広げることができ
る。また、アイランドと半田部材の酸化物を減らせるた
め、アイランド上での半田部材の広がり、なじみがスム
ーズになるので、半田部材の攪拌からアイランドとのな
じみまでの時間を短縮でき、生産性を向上させることが
できる。
拌時、還元ガスを攪拌部に供給し、アイランド表面及び
半田部材の酸化物を還元しながら、かつ酸化を防ぎなが
ら攪拌をするので、リードフレーム及び半田部材が酸化
されず高品質状態でアイランド上に広げることができ
る。また、アイランドと半田部材の酸化物を減らせるた
め、アイランド上での半田部材の広がり、なじみがスム
ーズになるので、半田部材の攪拌からアイランドとのな
じみまでの時間を短縮でき、生産性を向上させることが
できる。
【図１】本発明の第1の実施の形態の断面図である。
【図２】図１の半田攪拌ユニットを先端（下面側）から
見た図である。
見た図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態の断面図である。
【図４】図３の半田攪拌ユニットを先端（下面側）から
見た図である。
見た図である。
【図５】従来の半田攪拌ユニットの断面図である。
【図６】図５の半田攪拌ユニットを先端（下面側）から
見た図である。
見た図である。
１ 半田攪拌ユニット
２ アイランド
３ 半田部材
４ 攪拌ピン
５ 突出部
６ 凹部
７ 還元ガス導入口
８ リードフレーム
９ 加熱レール
１０ ガスカバー
１１ 不活性ガス導入口
１２ 還元ガスブローノズル
１３ ワイヤー
１４ 羽根
１５ 還元ガス供給通路
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/52
Claims (5)
- 【請求項１】 不活性ガスが導入されるガスカバーと、
前記ガスカバー内に設置された半田攪拌ユニットと、前
記半田攪拌ユニットに設けられた凹部と、からなる半導
体ペレットマウント用半田攪拌装置において、 前記凹部に還元ガスを供給する還元ガス供給通路を前記
半田攪拌ユニットに設けたこと、を特徴とする半導体ペ
レットマウント用半田攪拌装置。 - 【請求項２】 前記半田攪拌ユニットの中心に半田攪拌
ピンを有すること、を特徴とする請求項１記載の半導体
ペレットマウント用半田攪拌装置。 - 【請求項３】 前記還元ガス供給通路へ還元ガスを導入
する導入口を前記半田攪拌ユニットの側面に設けたこ
と、を特徴とする請求項２記載の半導体ペレットマウン
ト用半田攪拌装置。 - 【請求項４】 前記導入口を、前記半田攪拌ユニットの
側面に多数個設けたこと、を特徴とする請求項３記載の
半導体ペレットマウント用半田攪拌装置。 - 【請求項５】 不活性ガスが導入されるガスカバー内に
設置された半田攪拌ユニットによって、半田部材を攪拌
するとき、半田攪拌ユニットの凹部内に還元ガスを供給
しながら還元ガス雰囲気中で半田攪拌すること、を特徴
とする半田攪拌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28928998A JP3371825B2 (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 半導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28928998A JP3371825B2 (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 半導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000124234A JP2000124234A (ja) | 2000-04-28 |
| JP3371825B2 true JP3371825B2 (ja) | 2003-01-27 |
Family
ID=17741260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28928998A Expired - Fee Related JP3371825B2 (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 半導体ペレットマウント用半田攪拌ユニット及び半田攪拌方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3371825B2 (ja) |
-
1998
- 1998-10-12 JP JP28928998A patent/JP3371825B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000124234A (ja) | 2000-04-28 |
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