JP3361688B2 - 高温着色性が改善された芳香族ホスフェート組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高温着色性が改善
された芳香族ホスフェート組成物に関する。更に詳しく
は、本発明は、合成樹脂の難燃剤や可塑剤として有用な
芳香族ホスフェートの製造工程中にリン系酸化防止剤を
微量添加されてなる高温下での着色が防止された芳香族
ホスフェート組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】芳香族
ホスフェートは、合成樹脂の難燃剤や可塑剤として、樹
脂に難燃性や熱的安定性及び／又は良好な成形加工性を
付与することができる。このことから該芳香族ホスフェ
ートは、各種樹脂に有用な添加剤として利用されてき
た。一方、近年、難燃剤等の高分子添加剤を添加した各
種樹脂の成形加工において、その製造コストを下げるた
めに、成形温度を３００℃付近まで上げることによって
樹脂の流動性を向上させ、成形サイクルの短縮を行うよ
うになってきている。

【０００３】しかしながら芳香族ホスフェートは、前記
成形温度において著しく着色を呈し、各種樹脂に添加し
た場合、その商品価値を低下させてしまうという問題が
あった。例えば芳香族ホスフェートをポリカーボネート
樹脂に添加した場合にはその透明性を低下させてしま
う。ここでいう「高温」とは、芳香族ホスフェートの融
点から３５０℃までの温度範囲を意味する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
芳香族ホスフェートの高温下での着色を防止する必要性
を感じ、種々検討した結果、芳香族ホスフェートの製造
工程中にリン系酸化防止剤を微量添加することによって
高温下での着色を著しく防止することができることを見
出し、本発明に至った。

【０００５】かくして本発明によれば、芳香族ホスフェ
ートに、酸化防止有効量のリン系酸化防止剤を添加して
なる高温着色性が改善された芳香族ホスフェート組成物
が提供される。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明に用いることのできる芳香
族ホスフェートは、工業的製造法で得られる粉末又は油
状物であって、例えば一般式（Ｉ）：

【０００７】

【化２】

【０００８】（式中、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって
水素原子又は低級アルキル基、Ｒ³ 及びＲ⁴ は同一又は
異なって水素原子又は低級アルキル基、Ｙは結合手、−
ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂ −、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、−
Ｏ−、−ＣＯ−もしくは−Ｎ＝Ｎ−基、ｋは０又は１、
ｍは０〜４の整数、ｎは０〜１０の整数）で示される化
合物が挙げられる。

【０００９】一般式（Ｉ）の置換基Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及
びＲ⁴ の「低級アルキル基」とは、炭素数１〜５の直鎖
又は分枝状のアルキル基であって、具体的には、メチ
ル、エチル、 n―プロピル、 iso―プロピル、 n―ブチ
ル、 iso―ブチル、 sec―ブチル、tert―ブチル、 n―
ペンチル、 iso―ペンチル、tert―ペンチル、 neo―ペ
ンチル等が挙げられ、特にメチル基が好ましい。また、
Ｒ³ 及びＲ⁴ にあっては、特に水素原子が好ましい。

【００１０】一般式（Ｉ）の化合物例としては、ｎ＝１
の場合の式（II）：

【００１１】

【化３】

【００１２】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｙ、ｋ
及びｍは、式（Ｉ）と同義）で示される芳香族ビスホス
フェートが挙げられる。具体的には、テトラキス（２，
６−ジメチルフェニル）ｍ−フェニレンビスホスフェー
ト（化合物（１）とする）、テトラキス（２，６−ジメ
チルフェニル）ｐ−フェニレンビスホスフェート（化合
物（２）とする）、テトラキス（２，６−ジメチルフェ
ニル）−４、４’−ジフェニレンビスホスフェート、テ
トラフェニル−ｍ−フェニレン−ビスホスフェート（化
合物（３）とする）、テトラキス（３−メチルフェニ
ル）−４、４’−イソプロピリデンジフェニレンビスホ
スフェート（化合物（４）とする）等が例示され好まし
いが、これらに限定されるものではない。

【００１３】また、一般式（Ｉ）の化合物例としては、
ｎ＝０の場合の式（III)：

【００１４】

【化４】

【００１５】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は、式（Ｉ）
と同義）で示される芳香族モノホスフェートが挙げられ
る。具体的には、トリス（２，６−ジメチルフェニル）
ホスフェート（化合物（５）とする）等が例示され好ま
しいが、これらに限定されるものではない。

【００１６】本発明の一般式（Ｉ）の芳香族ホスフェー
トは、例えば特開昭６３−２２７６３２号公報及び特開
平５−１０７９号公報に記載の製造方法等により合成す
ることができる。例えば、芳香族モノヒドロキシ化合物
とオキシハロゲン化リンとをルイス酸触媒の存在下に有
機溶剤中反応させて、ジアリールホスホロハリデートを
得、次いでこの生成物に芳香族ジヒドロキシ化合物をル
イス酸触媒の存在下に反応させ、得られる反応混合物か
ら溶媒及び触媒を除去し、一般式（Ｉ）で示される芳香
族ホスフェートを得ることができる。

【００１７】一方、本発明に用いることのできるリン系
酸化防止剤としては、ホスファイト、ホスフォナイト及
びホスフィネート等が挙げられる。具体的には、サイク
リックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペン
タンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライ
ルビス（オクタデシルホスファイト）、トリフェニルホ
スファイト、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイ
ト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジ
フェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシ
ルホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−
ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニ
ルジトリデシル）ホスファイト等のホスファイト；１０
−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０
−ホスファフェナントレン等のホスフォナイト；及び
９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェ
ナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）９，１０−ジヒ
ドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１
０−オキサイド等のホスフィネート等が挙げられる。

【００１８】また、高温下での着色防止効果の点で、ホ
スファイト及びホスフォナイトのリン系酸化防止剤が好
ましい。具体的には、前記化合物中、サイクリックネオ
ペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトラ
イルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファ
イト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４’−ジフェニレンビスホスフォナイトが好
ましい。更にはヒンダードフェノール系のホスファイト
及びホスフォナイトのリン系酸化防止剤が好ましく、具
体的には、前記化合物中、サイクリックネオペンタンテ
トライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトがよ
り好ましい。

【００１９】リン系酸化防止剤の添加量は、酸化防止有
効量であり、芳香族ホスフェートの原料、合成方法、必
要な耐熱温度、時間によって異なるが、一般に芳香族ホ
スフェートに対して１００〜１００００ｐｐｍ、好まし
くは２００〜５０００ｐｐｍである。添加量が前記範囲
であれば、有効な着色防止効果が得られ、またコスト的
にも有利である。

【００２０】また、リン系酸化防止剤の添加時期は、特
に限定されず、芳香族ホスフェートの合成反応時から製
品化工程までのいずれの時点に添加してもよい。特に芳
香族ホスフェートの合成の溶媒除去工程直前において
は、リン系酸化防止剤の添加が容易で、かつ短時間での
均一混合が可能であり、また溶媒除去工程及び水蒸気蒸
留工程での着色防止にも優れた着色防止効果があるの
で、溶媒除去工程直前に添加することが好ましい。

【００２１】本発明の高温着色性が改善された芳香族ホ
スフェートは、難燃剤や可塑剤として合成樹脂に添加す
ることができる。対象となる合成樹脂としては、塩素化
ポリエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
タジエン、スチレン系樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、ＡＣＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、変
性ポリフェニレンオキシド、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンス
ルフィド、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレー
ト、ポリエーテルケトン類、ポリエーテルニトリル、ポ
リチオエーテルスルホン、ポリベンズイミダゾール、ポ
リカルボジイミド、液晶ポリマー、複合化プラスチック
及びこれらの混合物等熱可塑性樹脂、及びポリウレタ
ン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和
ポリエステル、ジアリルフタレート樹脂及びこれらの混
合物等の熱硬化性樹脂が挙げられる。

【００２２】

【実施例】次に実施例により本発明を詳細に説明する
が、これらの実施例は本発明の範囲を限定するものでは
ない。また、各種物性は下記の試験方法により測定し
た。色相測定（Ｈｚ）は、化合物毎に下記の方法より行
った。 化合物（１）：キシレンで５０重量％に希釈した後、ハ
ーゼン色数法（ＪＩＳ規格Ｋ−６９０１）により測定し
た。 化合物（２）：ＴＨＦで１０重量％に希釈した以外は化
合物（１）と同様にして測定した。 化合物（３）：化合物を希釈なしにガードナー色数法
（ＪＩＳ規格Ｋ−６９０１）により測定した。 化合物（４）：化合物を希釈なしにハーゼン色数法によ
り測定した。 化合物（５）：ＴＨＦで３３重量％に希釈した以外は化
合物（１）と同様にして測定した。

【００２３】また、酸価測定はＪＩＳ規格Ｋ−００７
０、融点測定はＪＩＳ規格Ｋ−００６４、耐熱試験はＪ
ＩＳ規格Ｋ−６７５０に準拠して行った。純度測定はゲ
ルパーメイションクロマトグラフィーにより行った。
尚、以下に記載する化学構造式のＭｅは、断りのない限
りメチル基を示す。

【００２４】（合成例１）テトラキス（２，６−ジメチ
ルフェニル）ｍ−フェニレンビスホスフェート（化合物
（１））は、特開平５−１０７９号公報に記載の製造方
法により合成した。つまり、撹拌機、滴下ロート、温度
計及び水スクラバーを連結したコンデンサーを装着した
４つ口フラスコに、２，６−キシレノール１１７１ｇ
（９．５８モル）、キシレン１３１ｇ、塩化マグネシウ
ム７．２ｇを入れ、加熱混合した。反応液の温度が１２
０℃に達した時点で、オキシ塩化リン７３６ｇ（４．７
９モル）を約２時間かけて添加した。このとき発生した
塩酸ガスは水スクラバーへ導いた。オキシ塩化リンの添
加終了後、反応液の温度を徐々に１８０℃まで２時間か
けて昇温させ、反応を完結させた。

【００２５】次いで、反応液にレゾルシン２５７ｇ
（２．３３モル）、塩化アルミニウム７．２ｇを加え、
加熱混合し、反応温度を徐々に１８０℃まで２時間かけ
て昇温し、同温度にて２時間攪拌を行った。更に減圧下
で２時間攪拌を行い、反応を完結させた。反応完結後、
反応液にキシレン１５５０ｇ、１０％塩酸水１６０ｇを
添加し、攪拌して残存する触媒などを除去し、更に４％
食塩水６６０ｇで洗浄した。

【００２６】得られた化合物（１）と溶剤との混合物
に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール５ｇ、更
に３％水酸化ナトリウム水溶液６６０ｇ添加し、７０℃
まで加熱し、１時間加熱撹拌を行った。次いで、反応液
のオイル相を６％食塩水６６０ｇで７０℃にて洗浄後、
更に４％蓚酸水６６０ｇで９０℃にて洗浄を行い、オイ
ル相３２２５ｇを得た。この時の色相はハーゼン３０で
あった。

【００２７】得られたオイル相１６１０ｇから、減圧下
でキシレンを除去し、更に水蒸気蒸留により低沸点物を
取り除いて、化合物（１）の微黄色透明粘性液体８０５
ｇを得た。この化合物（１）は、色相ハーゼン５０、酸
価（ＡＶ）０．０９KOH ｍｇ／ｇ、純度９６．５％で、
下記の構造式を有していた。

【００２８】

【化５】

【００２９】（合成例２）合成例１の途中で得られたオ
イル相（色相ハーゼン３０、溶媒除去前）の残り１６１
０ｇに、リン系酸化防止剤としてサイクリックネオペン
タンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイト０．４ｇ（化合物（１）に対して５０
０ｐｐｍ）を添加した以外は、合成例１と同様にして化
合物（１）８０６ｇを得た。この化合物（１）は、色相
ハーゼン３０、酸価（ＡＶ）０．０９KOH ｍｇ／ｇであ
った。このことから溶媒除去前のリン系酸化防止剤の添
加が、溶媒除去及び水蒸気蒸留による着色防止に有効で
あることが分かった。

【００３０】（合成例３）テトラキス（２，６−ジメチ
ルフェニル）ｐ−フェニレンビスホスフェート（化合物
（２））は、特開平５−１０７９号公報に記載の製造方
法により合成した。つまり、撹拌機、滴下ロート、温度
計及び水スクラバーを連結したコンデンサーを装着した
４つ口フラスコに、２，６−キシレノール１１７１ｇ
（９．５８モル）、ｏ−ジクロロベンゼン１２００ｇ、
塩化マグネシウム７．２ｇを入れ、加熱混合した。反応
液の温度が１２０℃に達した時点で、オキシ塩化リン７
３６ｇ（４．７９モル）を約２時間かけて添加した。こ
のとき発生した塩素ガスは水スクラバーへ導いた。オキ
シ塩化リンの添加終了後、反応液の温度を徐々に１８０
℃まで２時間かけて昇温させ、反応を完結させた。

【００３１】次いで、反応液にヒドロキノン２５７ｇ
（２．３３モル）、塩化アルミニウム７．２ｇ、ｏ−ジ
クロロベンゼン７５０ｇを加え、加熱混合し、反応温度
を徐々に１８０℃まで２時間かけて昇温し、同温度で２
時間攪拌を行った。更に減圧下で２時間攪拌を行い、反
応を完結させた。反応完結後、反応液に１０％塩酸水１
６０ｇを添加し、攪拌して残存する触媒などを除去し、
更に約８５℃の湯６６０ｇで洗浄した。次いで結晶核を
添加し、攪拌しながら室温まで冷却することにより結晶
を析出させた。析出した結晶を濾過により分離し、メタ
ノール９００ｇで洗浄後、１００℃にて減圧乾燥した。

【００３２】得られた結晶（化合物（２））は、白色の
結晶性粉末で、収量１５００ｇであった。また、この化
合物（２）は、色相ハーゼン１０、純度９７．９％、酸
価（ＡＶ）０．１５KOH ｍｇ／ｇ、融点１６５〜１７１
℃で、下記の構造式を有していた。

【００３３】

【化６】

【００３４】（合成例４）テトラフェニル−ｍ−フェニ
レン−ビスホスフェート（化合物（３））は、特開昭６
３−２２７６３２号公報に記載の製造方法により合成し
た。つまり、撹拌機、滴下ロート、温度計及び水スクラ
バーを連結したコンデンサーを装着した４つ口フラスコ
に、レゾルシン１６５ｇ（１．５０モル）、オキシ塩化
リン６４５ｇ（４．２０モル）、塩化マグネシウム２．
２ｇを入れ、徐々に昇温しながら混合した。５時間後、
反応液の温度が１０５℃に達した時点で、過剰のオキシ
塩化リンを減圧下、回収した。次いで１４０℃にてフェ
ノール５１４ｇ（５．４６モル）を加えた後、１６０℃
まで４時間かけて昇温した。更に同温度で減圧下、２時
間攪拌を行うことにより反応を完結させた。

【００３５】反応完結後、反応液に蓚酸水２１０ｇを添
加し、攪拌して残存する触媒などを除去し、更に水蒸気
蒸留にて過剰のフェノールを除去した。次いで、２％水
酸化ナトリウム水溶液２０５ｇで処理した後、約６０℃
の湯２１０ｇで３回洗浄した。得られたオイル相を減圧
脱水することにより化合物（３）の無色透明液体３２３
ｇを得た。この化合物（３）は、色相ガードナー１以
下、酸価（ＡＶ）０．０５KOH ｍｇ／ｇ、純度は６９％
で、下記の構造式を有していた。

【００３６】

【化７】

【００３７】（合成例５）テトラキス（３−メチルフェ
ニル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニレンビス
ホスフェート（化合物（４））は、特開昭６３−２２７
６３２号公報に記載の製造方法により合成した。つま
り、撹拌機、滴下ロート、温度計及び水スクラバーを連
結したコンデンサーを装着した４つ口フラスコに、ビス
フェノールＡ２５０ｇ（１．１０モル）、オキシ塩化リ
ン６０６ｇ（３．９５モル）、塩化マグネシウム３．０
ｇを入れ、徐々に昇温しながら混合した。５時間後、反
応液の温度が１０５℃に達した時点で、過剰のオキシ塩
化リンを減圧下、回収した。次いで１２５℃にてｍ−ク
レゾール４７８ｇ（４．４２モル）を加えた後、１５５
℃まで７時間かけて昇温した。更に同温度で減圧下、２
時間攪拌を行うことにより反応を完結させた。

【００３８】反応完結後、反応液にトルエン２００ｇを
添加し、リン酸水溶液２４０ｇで処理することにより残
存する触媒などを除去した。次いで、得られたオイル相
を１３０℃にて脱水した後、プロピレンオキシド８ｇを
添加し１２０℃で２時間攪拌した。続いて約６０℃の湯
２４０ｇにて洗浄を行った後、再度、１３０℃で脱水し
た後、約６０℃の湯２４０ｇで洗浄を行なった。

【００３９】得られたオイル相から、減圧下でトルエン
を除去し、更に水蒸気蒸留により過剰のクレゾールを除
去した。次いで得られたオイル相をセライト濾過するこ
とにより化合物（４）の淡黄色透明液体７９２ｇを得
た。この化合物は、色相ハーゼン８０、酸価（ＡＶ）
０．２４KOH ｍｇ／ｇ、純度は７７％で、下記の構造式
を有していた。

【００４０】

【化８】

【００４１】（合成例６）トリス（２，６−ジメチルフ
ェニル）ホスフェート（化合物（５））は、特開平６−
３２２２７７号公報に記載の製造方法により合成した。
つまり、撹拌機、滴下ロート、温度計及び水スクラバー
を連結したコンデンサーを装着した４つ口フラスコに
２，６−キシレノール３８１ｇ（３．１２モル）、キシ
レン２４ｇ、塩化マグネシウム２．４ｇ、塩化アルミニ
ウム３．３ｇを入れ、加熱混合した。反応液の温度が１
２０℃に達した時点で、オキシ塩化リン１５２ｇ（０．
９モル）を約２時間かけて添加した。このとき発生した
塩素ガスは水スクラバーへ導いた。オキシ塩化リンの添
加終了後、反応液の温度を２００℃まで２時間かけて昇
温させ、更に同温度で２時間反応を行った。次いで減圧
下、２時間攪拌を行うことにより反応を完結させた。

【００４２】反応完結後、反応液にキシレン６８５ｇを
添加し、８５℃の５％塩酸水１５２ｇで処理することに
より、残存する触媒などを除去した。更にこの反応液を
約８５℃の湯１５０ｇで洗浄した。次いで炭酸ナトリウ
ム１．２ｇ、クエン酸ソーダ０．５ｇ、約８０℃の湯１
５０ｇを添加し、８０℃で１時間処理した後、反応液の
オイル相を約８０℃の湯１５０ｇで洗浄した。

【００４３】得られたオイル相からキシレンを、減圧下
で除去し、更に水蒸気蒸留により低沸点物を取り除い
た。次いで再度、オイル相にキシレン６８５ｇ、２０％
水酸化ナトリウム水溶液１５ｇを添加し、７０℃で３０
分撹拌後、約７０℃の湯１３５ｇを加え処理した。この
オイル相を約７０℃の湯１５０ｇにて２回洗浄を行った
後、オイル相からキシレンを減圧除去し、更に水蒸気蒸
留により低沸点物を取り除いて、化合物（５）の白色粉
末３８２ｇを得た。この化合物は、色相ハーゼン９０、
酸価（ＡＶ）０．０５KOH ｍｇ／ｇ、純度９９％以上、
融点１３６〜１３７℃で、下記の構造式を有していた。

【００４４】

【化９】

【００４５】（実施例１〜４）合成例１で得られた化合
物（１）に、サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを化
合物（１）に対して１００ｐｐｍ添加した。この化合物
を１１０℃×８時間及び２８０℃×１時間の条件で耐熱
試験を行い、色相測定と化合物の着色度合いの評価を行
った。

【００４６】尚、評価基準は次のように規定した。 −：酸化防止剤無添加（スタンダード） ◎：スタンダードに比べて著しい効果が認められる。 ○：スタンダードに比べて効果が認められる。 ×：スタンダードに比べて効果が同じ又は認められな
い。 試験では１１０℃及び２８０℃での着色防止効果が認め
られた。その結果を表１に示す。

【００４７】

【表１】

【００４８】尚、表中の添加物名は、以下のように略記
する。 リン系１：サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト〔Ｇ
Ｅスペシャリティーケミカル社製、ウルトラノックス６
２６〕 リン系２：サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト〔旭
電化工業社製、ＰＥＰ−３６〕 リン系３：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４−ジフェニレンビスホスフォナイト〔サン
ド社製、サンドスタブＰ−ＥＰＱ〕 リン系４：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイト〔旭電化工業社製、アデカスタブ２１１
２〕 フェノール系１：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール〔住友化学工業社製、スミライザーＢＨＴ〕 フェノール系２：２，２’−メチレンビス（４−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール〔川口化学社製、アンテ−
ジＷ−４００〕

【００４９】（実施例２〜４）サイクリックネオペンタ
ンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイトを化合物（１）に対して、それぞれ５００
ｐｐｍ（実施例２）、１０００ｐｐｍ（実施例３）及び
２０００ｐｐｍ（実施例４）添加する以外は、実施例１
と同様に行った。その耐熱試験結果を表１に示す。

【００５０】（実施例５〜７）サイクリックネオペンタ
ンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイトの代わりにリン系酸化防止剤として、サイ
クリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ホスファイト（実施例５）、テトラ
キス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ジ
フェニレンビスホスフォナイト（実施例６）及びトリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（実
施例７）を用いる以外は実施例２と同様にして行った。
試験では１１０℃及び２８０℃での着色防止効果が認め
られた。その耐熱試験結果を表１に示す。

【００５１】（実施例８）合成例１で得られた化合物
（１）の代わりに合成例２で得られた化合物（１）を用
いる以外は実施例２と同様にして行った。試験では１９
０℃及び２８０℃での着色防止効果が認められた。その
耐熱試験結果を表１に示す。

【００５２】（比較例１）添加剤が無添加である以外は
実施例２と同様にして行った。試験では１１０℃、２８
０℃共に大幅な着色が認められた。その耐熱試験結果を
表１に示す。

【００５３】（比較例２〜３）サイクリックネオペンタ
ンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイトの代わりにリン系酸化防止剤として、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（比較例２）、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）（比較例３）を用いる以外は実施例２と同
様にして行った。試験では１１０℃での着色防止効果が
認められたが、２８０℃では着色防止効果が認められな
かった。

【００５４】（実施例９〜１１）合成例２で得られた化
合物（１）の代わりに合成例３で得られた化合物（２）
を用いる以外は実施例２〜４と同様にして行った。試験
では１９０℃及び２８０℃での着色防止効果が認められ
た。その耐熱試験結果を表２に示す。

【００５５】

【表２】

【００５６】（実施例１２〜１４）サイクリックネオペ
ンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイトの代わりにリン系酸化防止剤として、
サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（実施例１２）、
テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，
４’−ジフェニレンビスホスフォナイト（実施例１３）
及びトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト（実施例１４）を用いる以外は実施例１０と同様
にして行った。試験では１９０℃及び２８０℃での着色
防止効果が認められた。その耐熱試験結果を表２に示
す。

【００５７】（比較例４）添加剤が無添加である以外は
実施例１０と同様にして行った。試験では１９０℃、２
８０℃共に大幅な着色が認められた。その耐熱試験結果
を表２に示す。

【００５８】（比較例５〜６）サイクリックネオペンタ
ンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイトの代わりにリン系酸化防止剤として、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（比較例５）、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）（比較例６）を用いる以外は実施例２と同
様にして行った。試験では１１０℃、２８０℃共に大幅
な着色が認められた。その耐熱試験結果を表２に示す。

【００５９】（実施例１５）合成例４で得られた化合物
（３）に、サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを化
合物（３）に対して５００ｐｐｍを添加し、２８０℃×
１時間の条件で耐熱試験を行い、色相測定と化合物の着
色度合いの評価を行った。試験では２８０℃での着色防
止効果が認められた。その結果を表３に示す。

【００６０】

【表３】

【００６１】（比較例７）添加剤が無添加である以外は
実施例１５と同様にして行った。試験では２８０℃で大
幅な着色が認められた。その耐熱試験結果を表３に示
す。

【００６２】（実施例１６）合成例５で得られた化合物
（４）に、サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを化
合物（４）に対して５００ｐｐｍを添加し、２８０℃×
１時間の条件で耐熱試験を行い、化合物の着色度合いを
観察した。試験では２８０℃での着色防止効果が認めら
れた。その耐熱試験結果を表４に示す。

【００６３】

【表４】

【００６４】（比較例８）添加剤が無添加である以外は
実施例１６と同様にして行った。試験では２８０℃で大
幅な着色が認められた。その耐熱試験結果を表４に示
す。

【００６５】（実施例１７〜１８）合成例６で得られた
化合物（５）に、サイクリックネオペンタンテトライル
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
を化合物（５）に対して５００ｐｐｍ（実施例１７）、
２０００ｐｐｍ（実施例１８）添加し、２８０℃×１時
間の条件で耐熱試験を行い、化合物の着色度合いを観察
した。試験では２８０℃での着色防止効果が認められ
た。その耐熱試験結果を表５に示す。

【００６６】

【表５】

【００６７】（比較例９）添加剤が無添加である以外は
実施例１７と同様にして行った。試験では２８０℃で大
幅な着色が認められた。その耐熱試験結果を表５に示
す。

【００６８】

【発明の効果】本発明は、芳香族ホスフェートに、酸化
防止有効量のヒンダードフェノール系のホスファイトな
いしホスフォナイトのリン系酸化防止剤を添加するの
で、単色系の樹脂へも配合可能な耐熱着色性が改善され
た結晶性化合物を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 85/02 Ｃ０８Ｌ 85/02 // Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ (56)参考文献 特開 平８−198885（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−193090（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−301884（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−92986（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07F 9/09 C07F 9/48

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ホスフェートに、酸化防止有効量
   のリン系酸化防止剤を添加してなる高温着色性が改善さ
   れた芳香族ホスフェート組成物。
2. 【請求項２】 芳香族ホスフェートが、一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ¹ 及びＲ² は同一又は異なって水素原子又は
   低級アルキル基、Ｒ³ 及びＲ⁴ は同一又は異なって水素
   原子又は低級アルキル基、Ｙは結合手、−ＣＨ₂−、−
   Ｃ（ＣＨ₃）₂ −、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、−Ｏ−、−Ｃ
   Ｏ−もしくは−Ｎ＝Ｎ−基、ｋは０又は１、ｍは０〜４
   の整数、ｎは０〜１０の整数）で示される化合物である
   請求項１記載の組成物。
3. 【請求項３】 芳香族ホスフェートが、テトラキス
   （２，６−ジメチルフェニル）ｍ−フェニレンビスホス
   フェート、テトラキス（２，６−ジメチルフェニル）ｐ
   −フェニレンビスホスフェート、テトラキス（２，６−
   ジメチルフェニル）−４、４’−ジフェニレンビスホス
   フェート、テトラフェニル−ｍ−フェニレン−ビスホス
   フェート、テトラキス（３−メチルフェニル）−４、
   ４’−イソプロピリデンジフェニレンビスホスフェート
   及びトリス（２，６−ジメチルフェニル）ホスフェート
   からなる群から少なくとも１つ選択される請求項２記載
   の組成物。
4. 【請求項４】 リン系酸化防止剤が、ホスファイト又は
   ホスフォナイトである請求項１〜３記載の組成物。
5. 【請求項５】 ホスファイト又はホスフォナイトが、ヒ
   ンダードフェノール系化合物である請求項４記載の組成
   物。
6. 【請求項６】 ヒンダードフェノール系化合物が、サイ
   クリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ
   −ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペ
   ンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
   ル）ホスファイトである請求項５記載の組成物。
7. 【請求項７】 リン系酸化防止剤が、芳香族ホスフェー
   トに対して１００〜１００００ｐｐｍ添加されてなる請
   求項１〜６記載の組成物。