JP3360898B2 - 反射防止部材の製造方法及び偏光板 - Google Patents
反射防止部材の製造方法及び偏光板Info
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- JP3360898B2 JP3360898B2 JP27303093A JP27303093A JP3360898B2 JP 3360898 B2 JP3360898 B2 JP 3360898B2 JP 27303093 A JP27303093 A JP 27303093A JP 27303093 A JP27303093 A JP 27303093A JP 3360898 B2 JP3360898 B2 JP 3360898B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フラットパネルディス
プレイ等の種々の視認装置や偏光板等の光学部材などの
反射防止に好適な反射防止部材の製造方法に関する。
プレイ等の種々の視認装置や偏光板等の光学部材などの
反射防止に好適な反射防止部材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、表面に可視光の波長レベルの微細
な凹凸を設けてなる反射防止部材が提案されており、そ
の製造方法としてサブミクロンオーダーの微粒子を含有
するバインダ液をベース基材に塗布し、そのバインダ層
をエッチング液による湿式方式で除去して超微粒子を露
出させる方法が知られていた（特開平３−１５０５０１
号公報）。かかる超微粒子含有のバインダ液による方式
は、超微粒子の可及的に均等な分散とその分散状態を固
定することを目的とする。
な凹凸を設けてなる反射防止部材が提案されており、そ
の製造方法としてサブミクロンオーダーの微粒子を含有
するバインダ液をベース基材に塗布し、そのバインダ層
をエッチング液による湿式方式で除去して超微粒子を露
出させる方法が知られていた（特開平３−１５０５０１
号公報）。かかる超微粒子含有のバインダ液による方式
は、超微粒子の可及的に均等な分散とその分散状態を固
定することを目的とする。
【０００３】しかしながら、波長レベルのデリケートな
加工精度が要求されるかかる反射防止部材にあって、前
記従来の湿式方式ではバインダ層の除去精度に劣り、エ
ッチング液の回り込みなどにより超微粒子背部の固着に
必要な部分までも除去されて超微粒子の固定強度に乏し
く接触等で超微粒子が脱落しやすい問題点、また各超微
粒子の露出状態のバラツキが大きいためか、超微粒子を
単に並べた状態のものより反射防止効果に劣る問題点な
どがあった。
加工精度が要求されるかかる反射防止部材にあって、前
記従来の湿式方式ではバインダ層の除去精度に劣り、エ
ッチング液の回り込みなどにより超微粒子背部の固着に
必要な部分までも除去されて超微粒子の固定強度に乏し
く接触等で超微粒子が脱落しやすい問題点、また各超微
粒子の露出状態のバラツキが大きいためか、超微粒子を
単に並べた状態のものより反射防止効果に劣る問題点な
どがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、超微粒子の
固定力に優れそれが脱落しにくくて反射防止効果及びそ
の持続性に優れる反射防止部材の製造方法の開発を課題
とする。
固定力に優れそれが脱落しにくくて反射防止効果及びそ
の持続性に優れる反射防止部材の製造方法の開発を課題
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ベース基材上
に設けた超微粒子含有の硬化バインダ層をイオン又は／
及び紫外線照射によるドライエッチング方式で超微粒子
の背部を残して除去し、超微粒子を硬化バインダ層の残
部で固着させた状態で露出させることを特徴とする反射
防止部材の製造方法を提供するものである。
に設けた超微粒子含有の硬化バインダ層をイオン又は／
及び紫外線照射によるドライエッチング方式で超微粒子
の背部を残して除去し、超微粒子を硬化バインダ層の残
部で固着させた状態で露出させることを特徴とする反射
防止部材の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【作用】本発明者等は、前記の課題を克服するために鋭
意研究を重ねる中で反射防止効果の点よりは、超微粒子
が半球状で露出し、かつ超微粒子間にバインダ層が存在
しない深い凹凸状態にあることが好ましく、上記のドラ
イエッチング方式でその目的を達成できることを見出し
た。またかかるドライエッチング方式によれば超微粒子
背部の硬化バインダ層を良好な状態に残存させることが
できて超微粒子の固定力に優れ、その耐熱性にも優れ
る。
意研究を重ねる中で反射防止効果の点よりは、超微粒子
が半球状で露出し、かつ超微粒子間にバインダ層が存在
しない深い凹凸状態にあることが好ましく、上記のドラ
イエッチング方式でその目的を達成できることを見出し
た。またかかるドライエッチング方式によれば超微粒子
背部の硬化バインダ層を良好な状態に残存させることが
できて超微粒子の固定力に優れ、その耐熱性にも優れ
る。
【０００７】
【実施例】本発明の製造方法は、ベース基材上に設けた
超微粒子含有の硬化バインダ層をイオン又は／及び紫外
線照射によるドライエッチング方式で超微粒子の背部を
残して除去し、超微粒子を硬化バインダ層の残部で固着
させた状態で露出させて反射防止部材を得るものであ
る。その製造工程を図１（Ａ），（Ｂ）に例示した。１
がベース基材、２が硬化バインダ層、３が超微粒子であ
り、４が形成目的の反射防止部材である。
超微粒子含有の硬化バインダ層をイオン又は／及び紫外
線照射によるドライエッチング方式で超微粒子の背部を
残して除去し、超微粒子を硬化バインダ層の残部で固着
させた状態で露出させて反射防止部材を得るものであ
る。その製造工程を図１（Ａ），（Ｂ）に例示した。１
がベース基材、２が硬化バインダ層、３が超微粒子であ
り、４が形成目的の反射防止部材である。
【０００８】ベース基材としては、光学材料として用い
うる透明体であれば特に限定はない。一般には、ガラス
や、ポリエステル、トリアセチルセルロースの如きプラ
スチックからなる板、フィルムないしシートなどが用い
られる。また偏光板や位相差板等の光学機能素材なども
用いうる。
うる透明体であれば特に限定はない。一般には、ガラス
や、ポリエステル、トリアセチルセルロースの如きプラ
スチックからなる板、フィルムないしシートなどが用い
られる。また偏光板や位相差板等の光学機能素材なども
用いうる。
【０００９】さらにハードーコートや紫外線吸収等の適
宜な処理を施したベース基材なども用いうる。ハードー
コート処理は基材、特にその表面の補強等を目的とする
ものでシリコーン系樹脂等の熱硬化性樹脂などで一般に
形成される。
宜な処理を施したベース基材なども用いうる。ハードー
コート処理は基材、特にその表面の補強等を目的とする
ものでシリコーン系樹脂等の熱硬化性樹脂などで一般に
形成される。
【００１０】紫外線吸収処理は、例えばオキシベンゾフ
ェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチ
ル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、シ
アノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物など
の適宜な紫外線吸収剤をベース基材に配合することによ
り行うことができる。なおベース基材の厚さは、適宜に
決定でき１０μm〜５mmが一般的であるが、これに限定
されない。
ェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチ
ル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、シ
アノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物など
の適宜な紫外線吸収剤をベース基材に配合することによ
り行うことができる。なおベース基材の厚さは、適宜に
決定でき１０μm〜５mmが一般的であるが、これに限定
されない。
【００１１】超微粒子としては、セラミック等の無機物
やプラスチック等の有機物からなる種々のものを用いる
ことができる。好ましく用いうる超微粒子は、硬質で可
及的に球状であり、光透過率に優れるものである。その
例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア
などからなるものがあげられ、就中シリカが入手容易で
ある。
やプラスチック等の有機物からなる種々のものを用いる
ことができる。好ましく用いうる超微粒子は、硬質で可
及的に球状であり、光透過率に優れるものである。その
例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア
などからなるものがあげられ、就中シリカが入手容易で
ある。
【００１２】また超微粒子に透明な導電性のものを用い
て帯電防止能を付与することもできる。その透明導電性
超微粒子の例としては、酸化錫、アンチモンやフッ素を
ドープした酸化錫、酸化インジウム、錫をドープした酸
化インジウム、酸化アンチモンの如き導電性の金属酸化
物からなるものなどがあげられる。
て帯電防止能を付与することもできる。その透明導電性
超微粒子の例としては、酸化錫、アンチモンやフッ素を
ドープした酸化錫、酸化インジウム、錫をドープした酸
化インジウム、酸化アンチモンの如き導電性の金属酸化
物からなるものなどがあげられる。
【００１３】超微粒子の平均粒径は、３０〜３００nm、
就中５０〜１００nmが一般的である。その平均粒径が３
００nmを超えると視覚障害となる干渉が現れやすくな
る。かかる点より用いる超微粒子は、平均粒径が５０〜
３００nmのものを７０重量％以上含有するものが好まし
い。
就中５０〜１００nmが一般的である。その平均粒径が３
００nmを超えると視覚障害となる干渉が現れやすくな
る。かかる点より用いる超微粒子は、平均粒径が５０〜
３００nmのものを７０重量％以上含有するものが好まし
い。
【００１４】バインダ成分としては、ベース基材の種類
による密着力などに応じ硬化層を形成する適宜なものを
用いることができ、透明性、接着性に優れてイオン又は
／及び紫外線照射によりドライエッチングしやすいもの
が好ましく用いうる。ベース基材がガラスからなる場合
には、テトラアルコキシシランが好ましく、アルコール
等の溶媒を用いて溶液とすることができ、そのアルコキ
シル基を介しエポキシ基等の官能基を導入することで紫
外線等にても簡単に硬化させうるものとすることができ
る。
による密着力などに応じ硬化層を形成する適宜なものを
用いることができ、透明性、接着性に優れてイオン又は
／及び紫外線照射によりドライエッチングしやすいもの
が好ましく用いうる。ベース基材がガラスからなる場合
には、テトラアルコキシシランが好ましく、アルコール
等の溶媒を用いて溶液とすることができ、そのアルコキ
シル基を介しエポキシ基等の官能基を導入することで紫
外線等にても簡単に硬化させうるものとすることができ
る。
【００１５】ベース基材がプラスチックからなる場合に
は、例えばエポキシ基やビニルエーテル基等の官能基を
有するカチオン重合性のモノマーを成分とする紫外線な
いし放射線硬化型のものなどが好ましく用いうる。また
その主ポリマーとしては、硬化バインダ層の選択的エッ
チングによる超微粒子の残存性の点より、メタクリル酸
メチル、イソブチレン、α−メチルスチレンなどを主成
分とするコポリマーやそのホモポリマーが好ましい。た
だし超微粒子がシリカ等のセラミックからなる場合、殆
どのポリマーは本発明において選択的にエッチングする
ことができ、従って前記以外の種々のポリマーを主ポリ
マーに用いうる。
は、例えばエポキシ基やビニルエーテル基等の官能基を
有するカチオン重合性のモノマーを成分とする紫外線な
いし放射線硬化型のものなどが好ましく用いうる。また
その主ポリマーとしては、硬化バインダ層の選択的エッ
チングによる超微粒子の残存性の点より、メタクリル酸
メチル、イソブチレン、α−メチルスチレンなどを主成
分とするコポリマーやそのホモポリマーが好ましい。た
だし超微粒子がシリカ等のセラミックからなる場合、殆
どのポリマーは本発明において選択的にエッチングする
ことができ、従って前記以外の種々のポリマーを主ポリ
マーに用いうる。
【００１６】硬化バインダ層の形成は、例えば適宜な溶
媒を用いて超微粒子混入のバインダ成分の溶液を調製
し、それをベース基材に塗工して形成した塗工層を加熱
方式や紫外線ないし放射線照射方式等のバインダ成分に
応じた方式で硬化処理する方式などにより行うことがで
きる。
媒を用いて超微粒子混入のバインダ成分の溶液を調製
し、それをベース基材に塗工して形成した塗工層を加熱
方式や紫外線ないし放射線照射方式等のバインダ成分に
応じた方式で硬化処理する方式などにより行うことがで
きる。
【００１７】前記調製液の塗工は、例えばディッピング
方式やスピンコート方式、グラビア方式やスプレー方式
などの適宜な薄膜塗工方式で行うことができる。塗工厚
は、混入させた超微粒子の平均粒径の約１〜約２倍が好
ましい。その厚さが薄すぎると超微粒子の高密度な分散
状態を形成できない場合があり、厚すぎると超微粒子が
多段に重なりあった分散状態が形成されて反射防止効果
の低下を招く場合がある。
方式やスピンコート方式、グラビア方式やスプレー方式
などの適宜な薄膜塗工方式で行うことができる。塗工厚
は、混入させた超微粒子の平均粒径の約１〜約２倍が好
ましい。その厚さが薄すぎると超微粒子の高密度な分散
状態を形成できない場合があり、厚すぎると超微粒子が
多段に重なりあった分散状態が形成されて反射防止効果
の低下を招く場合がある。
【００１８】好ましい超微粒子の分散状態は、超微粒子
の重なりが２段以下であり均等に分散した１層状態の面
積が可及的に多く占めるものである。また超微粒子が平
面面積に基づきベース基材面の６５％以上、就中７０〜
９５％占めることが好ましい。かかる塗工層を形成する
点より、バインダ成分１００重量部あたり超微粒子を５
０〜２００重量部、就中７０〜１５０重量部含有する、
固形分濃度０．１〜３０重量％、就中０．５〜２０重量
％の塗工液を調製することが好ましい。
の重なりが２段以下であり均等に分散した１層状態の面
積が可及的に多く占めるものである。また超微粒子が平
面面積に基づきベース基材面の６５％以上、就中７０〜
９５％占めることが好ましい。かかる塗工層を形成する
点より、バインダ成分１００重量部あたり超微粒子を５
０〜２００重量部、就中７０〜１５０重量部含有する、
固形分濃度０．１〜３０重量％、就中０．５〜２０重量
％の塗工液を調製することが好ましい。
【００１９】本発明においてベース基材上に設けた超微
粒子含有の硬化バインダ層の除去処理は、イオン又は／
及び紫外線照射によるドライエッチング方式で行う。こ
れにより図１Ｂに例示の如く、硬化バインダ層２の上層
や超微粒子間のバインダ成分が超微粒子３の背部におけ
る部分を残して除去でき、超微粒子３を硬化バインダ層
２の残部で固着させた状態で露出させることができる。
粒子含有の硬化バインダ層の除去処理は、イオン又は／
及び紫外線照射によるドライエッチング方式で行う。こ
れにより図１Ｂに例示の如く、硬化バインダ層２の上層
や超微粒子間のバインダ成分が超微粒子３の背部におけ
る部分を残して除去でき、超微粒子３を硬化バインダ層
２の残部で固着させた状態で露出させることができる。
【００２０】本発明においては、反射防止の点より超微
粒子上部の半球が露出し、かつ超微粒子間のバインダ成
分が奥深く除去されていることが好ましく、かかる点よ
りイオン又は／及び紫外線照射によるドライエッチング
方式としては、プラズマエッチング方式よりも直進性の
高いイオン等が得られるスパッタエッチング方式や短波
長の紫外線が得られるエキシマレーザー照射方式が好ま
しい。
粒子上部の半球が露出し、かつ超微粒子間のバインダ成
分が奥深く除去されていることが好ましく、かかる点よ
りイオン又は／及び紫外線照射によるドライエッチング
方式としては、プラズマエッチング方式よりも直進性の
高いイオン等が得られるスパッタエッチング方式や短波
長の紫外線が得られるエキシマレーザー照射方式が好ま
しい。
【００２１】なおスパッタエッチングは、例えば低圧の
アルゴンガス等の希ガスを真空グロー放電させ、発生し
た希ガスイオンを陰極暗部に配置した硬化バインダ層に
照射する方式などにより行うことができ、レーザによる
方式はエキシマレーザー等を硬化バインダ層に照射する
方式などにより行うことができる。
アルゴンガス等の希ガスを真空グロー放電させ、発生し
た希ガスイオンを陰極暗部に配置した硬化バインダ層に
照射する方式などにより行うことができ、レーザによる
方式はエキシマレーザー等を硬化バインダ層に照射する
方式などにより行うことができる。
【００２２】得られた反射防止部材は、偏光板等の光学
機能素材や液晶表示装置等のディスプレイ装置、重量計
等の計器類など、種々の物品の表面反射防止に好ましく
用いることができる。
機能素材や液晶表示装置等のディスプレイ装置、重量計
等の計器類など、種々の物品の表面反射防止に好ましく
用いることができる。
【００２３】本発明による反射防止部材には、その片面
に接着剤層を設けることもできる。図２に例示の如く、
かかる接着剤層５は適用対象６への接着等を目的とする
もので通例、ベース基材がプラスチックフィルムからな
るものの如く柔軟な反射防止部材の超微粒子層を有しな
い面に設けられる。
に接着剤層を設けることもできる。図２に例示の如く、
かかる接着剤層５は適用対象６への接着等を目的とする
もので通例、ベース基材がプラスチックフィルムからな
るものの如く柔軟な反射防止部材の超微粒子層を有しな
い面に設けられる。
【００２４】接着剤層の形成には、例えばアクリル系粘
着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等の粘着剤や
ホットメルト系接着剤などの適宜なものを用いうる。設
ける接着剤層は、透明性や耐候性等に優れるものが好ま
しく、また透過率の低減防止等の点より屈折率差がベー
ス基材の±５％以内のものが好ましい。接着剤層の付設
は、塗工方式やセパレータ上に設けたものの移着方式な
ど適宜な方式で行ってよい。なお接着剤層が粘着層の場
合には、実用に供するまでの間その表面をセパレータ等
で保護しておくことが好ましい。
着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等の粘着剤や
ホットメルト系接着剤などの適宜なものを用いうる。設
ける接着剤層は、透明性や耐候性等に優れるものが好ま
しく、また透過率の低減防止等の点より屈折率差がベー
ス基材の±５％以内のものが好ましい。接着剤層の付設
は、塗工方式やセパレータ上に設けたものの移着方式な
ど適宜な方式で行ってよい。なお接着剤層が粘着層の場
合には、実用に供するまでの間その表面をセパレータ等
で保護しておくことが好ましい。
【００２５】上記したように本発明による反射防止部材
は、偏光板の表面反射防止に好ましく用いうるが、その
場合の好ましい適用方式は、薄型化の点より図２に例示
の如く偏光子６の片側における保護フィルムとして反射
防止部材４を付与したものである。なお図２中の７は、
偏光子６の他方側に必要に応じて設けられる保護フィル
ムである。
は、偏光板の表面反射防止に好ましく用いうるが、その
場合の好ましい適用方式は、薄型化の点より図２に例示
の如く偏光子６の片側における保護フィルムとして反射
防止部材４を付与したものである。なお図２中の７は、
偏光子６の他方側に必要に応じて設けられる保護フィル
ムである。
【００２６】かかる構造の偏光板は、ベース基材に前記
の保護フィルムとなるものを用いて反射防止部材を形成
しそれを偏光子とラミネートする方式や、表面に保護フ
ィルム層を有する偏光板をベース基材に用いて反射防止
部材を形成する方式などにより得ることができる。
の保護フィルムとなるものを用いて反射防止部材を形成
しそれを偏光子とラミネートする方式や、表面に保護フ
ィルム層を有する偏光板をベース基材に用いて反射防止
部材を形成する方式などにより得ることができる。
【００２７】なお前記の保護フィルムとしては、透明
性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れるも
のが好ましく用いられ一般には、ポリエステル系樹脂、
ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂、アクリル系樹脂、アセテート系樹脂の如き
ポリマーなどからなるものが用いられる。
性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れるも
のが好ましく用いられ一般には、ポリエステル系樹脂、
ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂、アクリル系樹脂、アセテート系樹脂の如き
ポリマーなどからなるものが用いられる。
【００２８】また偏光子としては通例、偏光フィルムが
用いられその例としては、ポリビニルアルコール系フィ
ルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィル
ム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィル
ムの如き親水性高分子フィルムにヨウ素及び／又は二色
性染料を吸着させて延伸したもの、ポリビニルアルコー
ルの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如き
ポリエン配向フィルムなどがあげられる。
用いられその例としては、ポリビニルアルコール系フィ
ルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィル
ム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィル
ムの如き親水性高分子フィルムにヨウ素及び／又は二色
性染料を吸着させて延伸したもの、ポリビニルアルコー
ルの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如き
ポリエン配向フィルムなどがあげられる。
【００２９】実施例１
アクリルウレタン樹脂９０部（重量部、以下同じ）、ア
クリル系樹脂１０部、ポリイソシアネート１部、及び光
重合開始剤５部からなる紫外線硬化型のバインダを、平
均粒径１００nmのシリカ（６重量％）分散メタノール液
１６００部に添加混合し、それを厚さ１００μmのポリ
カーボネートフィルムにディッピング方式にてコーティ
ングし１００℃で３分間乾燥させて厚さ０．１５μmの
塗膜を形成後、高圧水銀ランプにて紫外線を５０mj／cm
2照射し硬化させて超微粒子含有の硬化バインダ層を形
成した。
クリル系樹脂１０部、ポリイソシアネート１部、及び光
重合開始剤５部からなる紫外線硬化型のバインダを、平
均粒径１００nmのシリカ（６重量％）分散メタノール液
１６００部に添加混合し、それを厚さ１００μmのポリ
カーボネートフィルムにディッピング方式にてコーティ
ングし１００℃で３分間乾燥させて厚さ０．１５μmの
塗膜を形成後、高圧水銀ランプにて紫外線を５０mj／cm
2照射し硬化させて超微粒子含有の硬化バインダ層を形
成した。
【００３０】次に前記の硬化バインダ層を、５００ｅＶ
のアルゴンイオンで６０秒間スパッタエッチング処理し
た。これにより超微粒子の背部を残してバインダ成分が
除去され、背部の硬化バインダ層残部で超微粒子が強固
に固着された状態で露出した反射防止部材（図１Ｂ）を
得た。この反射防止部材は、耐摩耗性に優れてその超微
粒子が脱落しにくく、可視光の反射率が０．３％であっ
た。
のアルゴンイオンで６０秒間スパッタエッチング処理し
た。これにより超微粒子の背部を残してバインダ成分が
除去され、背部の硬化バインダ層残部で超微粒子が強固
に固着された状態で露出した反射防止部材（図１Ｂ）を
得た。この反射防止部材は、耐摩耗性に優れてその超微
粒子が脱落しにくく、可視光の反射率が０．３％であっ
た。
【００３１】実施例２
２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン９８重量％とビス（ドデシルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ヨードニウ
ム塩系カチオン重合触媒）２重量％からなる紫外線硬化
型のバインダ６部を、平均粒径８０nmのシリカ（６重量
％）分散ノルマルブタノール液１００部に添加混合し、
それを厚さ８０μmのトリアセテートフィルムにディッ
ピング方式にてコーティングし５０℃で３分間乾燥させ
て厚さ０．１μmの塗膜を形成後、高圧水銀ランプにて
紫外線を５０mj／cm2照射し硬化させて超微粒子含有の
硬化バインダ層を形成した。
トキシシラン９８重量％とビス（ドデシルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ヨードニウ
ム塩系カチオン重合触媒）２重量％からなる紫外線硬化
型のバインダ６部を、平均粒径８０nmのシリカ（６重量
％）分散ノルマルブタノール液１００部に添加混合し、
それを厚さ８０μmのトリアセテートフィルムにディッ
ピング方式にてコーティングし５０℃で３分間乾燥させ
て厚さ０．１μmの塗膜を形成後、高圧水銀ランプにて
紫外線を５０mj／cm2照射し硬化させて超微粒子含有の
硬化バインダ層を形成した。
【００３２】次に前記の硬化バインダ層を、ＫrＦエキ
シマレーザー（０．６j／cm2）で５０ナノ秒間照射して
エッチング処理した。これにより超微粒子の背部を残し
てバインダ成分が除去され、背部の硬化バインダ層残部
で超微粒子が強固に固着された状態で露出した反射防止
部材（図１Ｂ）を得た。この反射防止部材は、耐摩耗性
に優れてその超微粒子が脱落しにくく、可視光の反射率
が０．２５％であった。
シマレーザー（０．６j／cm2）で５０ナノ秒間照射して
エッチング処理した。これにより超微粒子の背部を残し
てバインダ成分が除去され、背部の硬化バインダ層残部
で超微粒子が強固に固着された状態で露出した反射防止
部材（図１Ｂ）を得た。この反射防止部材は、耐摩耗性
に優れてその超微粒子が脱落しにくく、可視光の反射率
が０．２５％であった。
【００３３】比較例１
スパッタによる硬化バインダ層のエッチング処理を施さ
ないほかは実施例１に準じて反射防止部材を得た。この
反射防止部材は、超微粒子含有の硬化バインダ層を未処
理のまま有するため実質的に反射防止効果を示さず、そ
の可視光反射率は３．０％であった。
ないほかは実施例１に準じて反射防止部材を得た。この
反射防止部材は、超微粒子含有の硬化バインダ層を未処
理のまま有するため実質的に反射防止効果を示さず、そ
の可視光反射率は３．０％であった。
【００３４】比較例２
エキシマレーザーによる硬化バインダ層のエッチング処
理を施さないほかは実施例２に準じて反射防止部材を得
た。この反射防止部材は、実質的に反射防止効果を示さ
ずその可視光反射率は２．８％であった。
理を施さないほかは実施例２に準じて反射防止部材を得
た。この反射防止部材は、実質的に反射防止効果を示さ
ずその可視光反射率は２．８％であった。
【００３５】比較例３
硬化バインダ層の厚さを０．０８μmとし、ＫrＦエキシ
マレーザーに代えて５重量％水酸化ナトリウム水溶液に
２５秒間浸漬する方式でエッチング処理後、水洗乾燥さ
せたほかは実施例２に準じて反射防止部材を得た。この
反射防止部材は、０．３％の可視光反射率を示したもの
の、その超微粒子が消しゴムによる擦りテスト（１kg／
cm2）で簡単に剥離脱落し耐摩耗性に劣るものであっ
た。
マレーザーに代えて５重量％水酸化ナトリウム水溶液に
２５秒間浸漬する方式でエッチング処理後、水洗乾燥さ
せたほかは実施例２に準じて反射防止部材を得た。この
反射防止部材は、０．３％の可視光反射率を示したもの
の、その超微粒子が消しゴムによる擦りテスト（１kg／
cm2）で簡単に剥離脱落し耐摩耗性に劣るものであっ
た。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、イオン又は／及び紫外
線照射によるドライエッチング方式としたので、超微粒
子が半球状で露出し、かつ超微粒子間のバインダ層も除
去されて優れた反射防止効果を示すと共に、超微粒子背
部の硬化バインダ層が良好な状態で残存して超微粒子が
強固に固着されて脱落しにくく反射防止効果の持続性に
優れる耐熱性の反射防止部材を得ることができる。
線照射によるドライエッチング方式としたので、超微粒
子が半球状で露出し、かつ超微粒子間のバインダ層も除
去されて優れた反射防止効果を示すと共に、超微粒子背
部の硬化バインダ層が良好な状態で残存して超微粒子が
強固に固着されて脱落しにくく反射防止効果の持続性に
優れる耐熱性の反射防止部材を得ることができる。
【図１】（Ａ）：エッチング処理前の説明断面図。
（Ｂ）：エッチング処理後の説明断面図。
【図２】偏光板の実施例の断面図。
１：ベース基材
２：硬化バインダ層
３：超微粒子
４：反射防止部材
５：接着剤層
６：偏光子
７：保護フィルム
Claims (6)
- 【請求項１】 ベース基材上に設けた超微粒子含有の硬
化バインダ層をイオン又は／及び紫外線照射によるドラ
イエッチング方式で超微粒子の背部を残して除去し、超
微粒子を硬化バインダ層の残部で固着させた状態で露出
させることを特徴とする反射防止部材の製造方法。 - 【請求項２】 超微粒子が平均粒径５０〜３００nmのも
のを７０重量％以上含有するシリカからなる請求項１に
記載の方法。 - 【請求項３】 硬化バインダ層のバインダ成分がメタク
リル酸メチル、イソブチレン又は／及びα−メチルスチ
レンを主成分とするものである請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 ドライエッチング方式が真空グロー放電
による希ガスイオンのスパッタエッチング方式又はエキ
シマレーザー照射方式である請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 ベース基材にプラスチックフィルムを用
いて請求項１〜４に記載の方法で得た反射防止部材の片
面に接着剤層を有することを特徴とする反射防止部材。 - 【請求項６】 請求項５に記載の反射防止部材を偏光子
の片側における保護フィルムとして有することを特徴と
する偏光板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27303093A JP3360898B2 (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 反射防止部材の製造方法及び偏光板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27303093A JP3360898B2 (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 反射防止部材の製造方法及び偏光板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07104103A JPH07104103A (ja) | 1995-04-21 |
| JP3360898B2 true JP3360898B2 (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=17522197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27303093A Expired - Fee Related JP3360898B2 (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 反射防止部材の製造方法及び偏光板 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3360898B2 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19718177A1 (de) * | 1997-04-29 | 1998-11-05 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Aufrauhung von Kunststoffen |
| JP2005250309A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Optimax Technology Corp | 反射防止フィルム |
| JP5308064B2 (ja) * | 2008-05-14 | 2013-10-09 | 株式会社レニアス | 反射防止樹脂とその製造方法 |
| EP2379442A4 (en) * | 2008-12-30 | 2014-02-26 | 3M Innovative Properties Co | METHOD FOR PRODUCING NANOSTRUCTURED SURFACES |
| KR101915868B1 (ko) * | 2008-12-30 | 2018-11-06 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 반사방지 용품 및 이의 제조 방법 |
| WO2010123528A2 (en) | 2008-12-30 | 2010-10-28 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured articles and methods of making nanostructured articles |
| EP2542617A1 (en) * | 2010-03-03 | 2013-01-09 | 3M Innovative Properties Company | Coated polarizer with nanostructured surface and method for making the same. |
| US20120328829A1 (en) * | 2010-03-03 | 2012-12-27 | Vang Kalc C | Composite with nano-structured layer |
| EP2944671A1 (en) * | 2011-08-17 | 2015-11-18 | 3M Innovative Properties Company of 3M Center | Nanostructured articles and methods to make the same |
| CN106164713B (zh) | 2014-03-31 | 2018-01-09 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜、偏振片、护罩玻璃、图像显示装置及防反射膜的制造方法 |
| US9903982B2 (en) | 2015-03-04 | 2018-02-27 | Fujifilm Corporation | Antireflection article, polarizing plate, cover glass and image display device, and manufacturing method of antireflection article |
| TWI798788B (zh) * | 2015-05-27 | 2023-04-11 | 日商迪睿合股份有限公司 | 積層薄膜以及積層薄膜之製造方法 |
| JP6825825B2 (ja) | 2015-05-27 | 2021-02-03 | デクセリアルズ株式会社 | 積層薄膜、及び積層薄膜の製造方法 |
| JP6412835B2 (ja) * | 2015-07-06 | 2018-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルムの製造方法 |
| JP6787673B2 (ja) * | 2016-02-15 | 2020-11-18 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム、及び反射防止フィルムの製造方法 |
| JP6207679B2 (ja) * | 2016-06-20 | 2017-10-04 | デクセリアルズ株式会社 | 積層薄膜の製造方法、及び積層薄膜 |
| JP6793298B2 (ja) * | 2016-07-19 | 2020-12-02 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光学用部材及びその製造方法 |
| US10698136B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-06-30 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Optical member and method for manufacturing the same |
| JP6802906B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2020-12-23 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法 |
| JP7248830B2 (ja) * | 2020-07-17 | 2023-03-29 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
-
1993
- 1993-10-05 JP JP27303093A patent/JP3360898B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07104103A (ja) | 1995-04-21 |
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