JP3356441B2 - エナメル用ラッカー、ラッカーの製造方法及びラッカーのエナメル線への適用 - Google Patents
エナメル用ラッカー、ラッカーの製造方法及びラッカーのエナメル線への適用Info
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Description
【０００１】発明の分野 本発明はエナメル用ラッカー及びラッカーの製造方法に
関する。
関する。
【０００２】本発明は限定はされないが、電気モータ又
は他の任意の電気構成部品の巻線に使用するために例え
ば自動機械により巻回されるエナメル線に特に適用され
る。
は他の任意の電気構成部品の巻線に使用するために例え
ば自動機械により巻回されるエナメル線に特に適用され
る。
【０００３】従来技術の説明 電気モータ用巻線の場合、巻線ができるだけコンパクト
になって、ラッカーの絶縁性に作用することなく適切な
ハウジング内に簡単に挿入され得ることが肝要である。
になって、ラッカーの絶縁性に作用することなく適切な
ハウジング内に簡単に挿入され得ることが肝要である。
【０００４】巻線の製造は高速で実施される。エナメル
線は摩擦及び苛酷な機械的応力を受けるので、例えば固
定子の巻線用溝内への設置時に絶縁体が破損して、導線
コイルがふぞろいになり得る。絶縁性、構成部品の寿命
・効率が重大な影響を受け得る。
線は摩擦及び苛酷な機械的応力を受けるので、例えば固
定子の巻線用溝内への設置時に絶縁体が破損して、導線
コイルがふぞろいになり得る。絶縁性、構成部品の寿命
・効率が重大な影響を受け得る。
【０００５】エナメル線の摩擦係数を小さくし且つ平滑
面を提供してエナメル線を簡単に巻回させ得るために、
既に幾つかの解決策が提起されている。
面を提供してエナメル線を簡単に巻回させ得るために、
既に幾つかの解決策が提起されている。
【０００６】第１の方法は、パラフィンろう、油、天然
ろう、合成ろう又はポリシロキサンのような潤滑物質を
表面に被覆して、エナメル線の外部潤滑を実施すること
である。結果は不十分であり、またむらがある。
ろう、合成ろう又はポリシロキサンのような潤滑物質を
表面に被覆して、エナメル線の外部潤滑を実施すること
である。結果は不十分であり、またむらがある。
【０００７】第２の方法は、滑性でよく知られているポ
リアミド６−６（商品名ＮＹＬＯＮ）の外層を導線上に
設けることである。結果は、この方法により滑性が改善
されるが、ナイロンが２００℃を越える熱指数（ｔｈｅ
ｒｍａｌ ｉｎｄｅｘ）を有する導線の熱特性を低減さ
せることを示している。
リアミド６−６（商品名ＮＹＬＯＮ）の外層を導線上に
設けることである。結果は、この方法により滑性が改善
されるが、ナイロンが２００℃を越える熱指数（ｔｈｅ
ｒｍａｌ ｉｎｄｅｘ）を有する導線の熱特性を低減さ
せることを示している。
【０００８】第３の方法は、内部滑剤を導線の外層内に
導入することである。この外層で最も頻繁に使用されて
いるポリマーは、脂肪族又は芳香族ポリアミド、芳香族
ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリイミド、
ポリビニルアルコールのアセタール、脂肪族／芳香族混
合ポリアミド、ポリエポキシ化合物及びポリフェノキシ
化合物である。
導入することである。この外層で最も頻繁に使用されて
いるポリマーは、脂肪族又は芳香族ポリアミド、芳香族
ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリイミド、
ポリビニルアルコールのアセタール、脂肪族／芳香族混
合ポリアミド、ポリエポキシ化合物及びポリフェノキシ
化合物である。
【０００９】フランス特許公開第２ ５３３ ３５７号
は、０．３％未満の粒子形状の固形内部滑剤をポリマー
内に混入して行うラッカーの製造方法を示している。こ
の技術はベースポリマーに不相溶性の滑剤を使用してい
る。このような不相溶性のために、外層の外面に滑剤粒
子が生じることになり、滑性が改善される。しかしなが
ら、このような方法を産業的に実施するのは非常に困難
である。２つの材料は互いに混和しないので、十分な量
の滑剤を混入することができず、その結果使用者には許
容できない凹凸がしばしば導線に生じる。
は、０．３％未満の粒子形状の固形内部滑剤をポリマー
内に混入して行うラッカーの製造方法を示している。こ
の技術はベースポリマーに不相溶性の滑剤を使用してい
る。このような不相溶性のために、外層の外面に滑剤粒
子が生じることになり、滑性が改善される。しかしなが
ら、このような方法を産業的に実施するのは非常に困難
である。２つの材料は互いに混和しないので、十分な量
の滑剤を混入することができず、その結果使用者には許
容できない凹凸がしばしば導線に生じる。
【００１０】本発明は、これらの欠点を克服することを
目的とする。
目的とする。
【００１１】発明の要約 第一の本発明は、第１のベースポリマーと、この第１の
ポリマーと相溶性があり且つポリシロキサン、フルオロ
化鎖及びアルカン鎖の中から選択された重合体鎖を有す
るコポリマーとを含んでいることを特徴とするエナメル
用ラッカーを目的とする。
ポリマーと相溶性があり且つポリシロキサン、フルオロ
化鎖及びアルカン鎖の中から選択された重合体鎖を有す
るコポリマーとを含んでいることを特徴とするエナメル
用ラッカーを目的とする。
【００１２】好ましい実施態様としては、このエナメル
用ラッカーは更に、上記コポリマーの上記鎖を含み且つ
第１のポリマー及びこのコポリマーと組成物を形成する
第２のポリマーを含んでいる。
用ラッカーは更に、上記コポリマーの上記鎖を含み且つ
第１のポリマー及びこのコポリマーと組成物を形成する
第２のポリマーを含んでいる。
【００１３】第１のベースポリマーは、エナメル用ラッ
カーで通常使用される任意のポリマーの中から選択され
得る。
カーで通常使用される任意のポリマーの中から選択され
得る。
【００１４】このラッカーは０．５〜２０重量％、特に
１〜１０重量％のコポリマーを含み得る。
１〜１０重量％のコポリマーを含み得る。
【００１５】混合物に第２のポリマーを加えるのが有利
であり得る。以前は第２のポリマーを０．３重量％しか
混入することができなかったが、この場合コポリマーが
存在するので、３０重量％まで混合物中に混入すること
ができる。コポリマーが第１のポリマーと第２のポリマ
ーとの相溶剤として作用して、最初の２つのポリマーの
特性を兼備したポリマー組成物が生成される。
であり得る。以前は第２のポリマーを０．３重量％しか
混入することができなかったが、この場合コポリマーが
存在するので、３０重量％まで混合物中に混入すること
ができる。コポリマーが第１のポリマーと第２のポリマ
ーとの相溶剤として作用して、最初の２つのポリマーの
特性を兼備したポリマー組成物が生成される。
【００１６】第二の本発明は、ポリシロキサン官能基を
有し、且つポリアミドイミド、ポリエステル、ポリエス
テルイミド、ポリエステルアミド−イミド、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリウレタン及びポリビニルアルコー
ルのアセタールの中から選択される第１のポリマーと相
溶性のある上記コポリマーの合成方法を目的とする。
有し、且つポリアミドイミド、ポリエステル、ポリエス
テルイミド、ポリエステルアミド−イミド、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリウレタン及びポリビニルアルコー
ルのアセタールの中から選択される第１のポリマーと相
溶性のある上記コポリマーの合成方法を目的とする。
【００１７】この方法は、官能化されたポリシロキサン
を、片方のイソシアネート官能基がブロックされている
ジイソシアネートと反応させ、次いでこのようにして得
られたブロックトＮＣＯポリシロキサンを第１のポリマ
ーにグラフトさせることである。
を、片方のイソシアネート官能基がブロックされている
ジイソシアネートと反応させ、次いでこのようにして得
られたブロックトＮＣＯポリシロキサンを第１のポリマ
ーにグラフトさせることである。
【００１８】官能化されたポリシロキサンは例えばアミ
ノ化ポリシロキサンである。アルコール、脂肪族又は芳
香族の反応体（例えば脂肪族アルコール、フェノール
類、レソルシノール、ベンジルアルコール、フロログル
シノール等）との反応により、イソシアネート官能基は
ブロックされる。
ノ化ポリシロキサンである。アルコール、脂肪族又は芳
香族の反応体（例えば脂肪族アルコール、フェノール
類、レソルシノール、ベンジルアルコール、フロログル
シノール等）との反応により、イソシアネート官能基は
ブロックされる。
【００１９】第三の本発明は、上述したラッカーを網状
化（架橋）して得られたエナメルを少なくとも表面上に
含んでいるエナメル線を目的とする。このエナメルはベ
ースエナメル、ベースエナメルの上層、最上層又はベー
スエナメルの外層を構成し得る。
化（架橋）して得られたエナメルを少なくとも表面上に
含んでいるエナメル線を目的とする。このエナメルはベ
ースエナメル、ベースエナメルの上層、最上層又はベー
スエナメルの外層を構成し得る。
【００２０】特に好ましい実施態様としては、導線は２
００℃クラス以上の熱クラス（ｔｈｅｒｍａｌ ｃｌａ
ｓｓ）に属し、また少なくともパラフィン化ポリアミド
６−６の外面層を使用して得られる場合と同等の滑性を
有する。
００℃クラス以上の熱クラス（ｔｈｅｒｍａｌ ｃｌａ
ｓｓ）に属し、また少なくともパラフィン化ポリアミド
６−６の外面層を使用して得られる場合と同等の滑性を
有する。
【００２１】導線の上層はポリアミド−イミドをベース
としている。
としている。
【００２２】本発明の任意のエナメル線は有利には、パ
ラフィンろう、油、ろう、ポリシロキサン化合物及びフ
ルオロ化鎖化合物の中から選択された外部滑剤を備え得
る。
ラフィンろう、油、ろう、ポリシロキサン化合物及びフ
ルオロ化鎖化合物の中から選択された外部滑剤を備え得
る。
【００２３】図１は本発明ラッカーを使用したエナメル
線の横断面図である。
線の横断面図である。
【００２４】例示的であるが、制限的ではない実施例に
関する以下の説明を読めば、本発明の他の特徴及び利点
が明白となろう。
関する以下の説明を読めば、本発明の他の特徴及び利点
が明白となろう。
【００２５】
【実施例】ポリアミドイミドをベースとする第１のベー
スポリマーと、この第１のポリマーと相溶性があり且つ
ポリシロキサン官能基を有するコポリマーとを含んでい
るエナメル用ラッカーをまず製造する。
スポリマーと、この第１のポリマーと相溶性があり且つ
ポリシロキサン官能基を有するコポリマーとを含んでい
るエナメル用ラッカーをまず製造する。
【００２６】最初にコポリマーの合成について説明す
る。この合成は２段階で実施する。第１段階は、ブロッ
クトＮＣＯポリシロキサンを合成することであり、第２
段階はこのブロックトＮＣＯポリシロキサンをアミド−
イミド鎖にグラフトすることである。
る。この合成は２段階で実施する。第１段階は、ブロッ
クトＮＣＯポリシロキサンを合成することであり、第２
段階はこのブロックトＮＣＯポリシロキサンをアミド−
イミド鎖にグラフトすることである。
【００２７】第１段階では、アミノ基により官能化され
たポリシロキサンをジイソシアネートと反応させる。イ
ソシアネートと反応する任意の基を使用してポリシロキ
サンを官能化できることに留意すべきである。
たポリシロキサンをジイソシアネートと反応させる。イ
ソシアネートと反応する任意の基を使用してポリシロキ
サンを官能化できることに留意すべきである。
【００２８】２個のイソシアネート官能基の一方が一官
能性化合物（例えばヒドロキシル化化合物）との反応に
より一時的にブロックされる。この反応は、ＩＥＣ Ｐ
ｒｏｄｕｃｔ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ａｎｄ Ｄｅｖｅｌ
ｏｐｍｅｎｔ（１９６２年１２月第１巻第４号）に掲載
されたＧ．Ｒ．Ｇｒｉｆｆｉｎの論文で記載されてい
る。例えば脂肪族アルコール、フェノール類、レソルシ
ノール、ベンジルアルコール及びフロログルシノールを
使用することができる。これらの物質は求核置換により
容易に移動する。ブロックトＮＣＯポリシロキサンの３
つの合成例を以下に示す。
能性化合物（例えばヒドロキシル化化合物）との反応に
より一時的にブロックされる。この反応は、ＩＥＣ Ｐ
ｒｏｄｕｃｔ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ａｎｄ Ｄｅｖｅｌ
ｏｐｍｅｎｔ（１９６２年１２月第１巻第４号）に掲載
されたＧ．Ｒ．Ｇｒｉｆｆｉｎの論文で記載されてい
る。例えば脂肪族アルコール、フェノール類、レソルシ
ノール、ベンジルアルコール及びフロログルシノールを
使用することができる。これらの物質は求核置換により
容易に移動する。ブロックトＮＣＯポリシロキサンの３
つの合成例を以下に示す。
【００２９】実施例１ 以下の化合物を８０℃で１時間反応させた。： −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −ｍ−クレゾール １０８ｇ
（１モル） −アミノ化ポリシロキサン ３２９ｇ
（１モルのＮＨ２） −Ｎ−メチルピロリドン １１３０ｇ −トリエチルアミン １．８
ｇ ６１１ｇのブロックトＮＣＯポリシロキサンＮｏ．１が
得られた。乾燥物質の含有率は３５％であった。
（１モル） −ｍ−クレゾール １０８ｇ
（１モル） −アミノ化ポリシロキサン ３２９ｇ
（１モルのＮＨ２） −Ｎ−メチルピロリドン １１３０ｇ −トリエチルアミン １．８
ｇ ６１１ｇのブロックトＮＣＯポリシロキサンＮｏ．１が
得られた。乾燥物質の含有率は３５％であった。
【００３０】実施例２ 以下の化合物を８０℃で１時間反応させた。： −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −ベンジルアルコール １０８ｇ （１モ
ル） −アミノ化ポリシロキサン １２２９ｇ
（１モルのＮＨ２） −Ｎ−メチルピロリドン １２９０ｇ −キシレン １９４３ｇ −トリエチルアミン ２．５
ｇ １１５１ｇのブロックトＮＣＯポリシロキサンＮｏ．２
が得られた。乾燥物質の含有率は３２％であった。
（１モル） −ベンジルアルコール １０８ｇ （１モ
ル） −アミノ化ポリシロキサン １２２９ｇ
（１モルのＮＨ２） −Ｎ−メチルピロリドン １２９０ｇ −キシレン １９４３ｇ −トリエチルアミン ２．５
ｇ １１５１ｇのブロックトＮＣＯポリシロキサンＮｏ．２
が得られた。乾燥物質の含有率は３２％であった。
【００３１】実施例３ 以下の化合物を８０℃で１時間反応させた。： −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −フェノール ９４ｇ（１モル） −アミノ化ポリシロキサン １７０７ｇ
（１モルのＮＨ２） −Ｎ−メチルピロリドン １６９３ｇ −キシレン ２５４０ｇ １９７５ｇのブロックトＮＣＯポリシロキサンＮｏ．３
が得られた。乾燥物質の含有率は３２％であった。
（１モル） −フェノール ９４ｇ（１モル） −アミノ化ポリシロキサン １７０７ｇ
（１モルのＮＨ２） −Ｎ−メチルピロリドン １６９３ｇ −キシレン ２５４０ｇ １９７５ｇのブロックトＮＣＯポリシロキサンＮｏ．３
が得られた。乾燥物質の含有率は３２％であった。
【００３２】コポリマー合成の第２段階は、ブロックト
ＮＣＯポリシロキサンをアミド−イミド鎖にグラフトさ
せることである。この第２段階の４つの実施例を以下に
示す（実施例４〜７）。
ＮＣＯポリシロキサンをアミド−イミド鎖にグラフトさ
せることである。この第２段階の４つの実施例を以下に
示す（実施例４〜７）。
【００３３】実施例４ 以下の反応体を反応器内に導入した。： −ブロックトＮＣＯポリシロキサン （Ｎｏ．１） ６１１ｇ（１当量のブ
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリト酸（ＴＭＡ） ２４０ｇ
（１．２５モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） ４１．５ｇ
（０．２５モル） −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −Ｎ−メチルピロリドン １１００ｇ −トリエチルアミン ８．５ｇ 生成したＮ−メチルピロリドン溶液を４時間で１８０℃
に加熱し、この温度で５時間維持した。次いで、得られ
た生成物を室温に冷却して、濾過した。乾燥物質の含有
率は２７％であった。
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリト酸（ＴＭＡ） ２４０ｇ
（１．２５モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） ４１．５ｇ
（０．２５モル） −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −Ｎ−メチルピロリドン １１００ｇ −トリエチルアミン ８．５ｇ 生成したＮ−メチルピロリドン溶液を４時間で１８０℃
に加熱し、この温度で５時間維持した。次いで、得られ
た生成物を室温に冷却して、濾過した。乾燥物質の含有
率は２７％であった。
【００３４】実施例５ 以下の反応体を反応器内に導入した。： −ブロックトＮＣＯポリシロキサン （Ｎｏ．１） ６１１ｇ（１当量のブ
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリト酸（ＴＭＡ） ２４０ｇ
（１．２５モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） ４１．５ｇ
（０．２５モル） −Ｎ−メチルピロリドン １１００ｇ −トリエチルアミン ８．５ｇ 生成したＮ−メチルピロリドン溶液を１時間で１８０℃
に加熱し、この温度で１時間維持した。次いで、得られ
た生成物を室温に冷却した。次いで１７４ｇ（１モル）
のトルエンジイソシアネートＴＤＩを加え、混合物を３
時間で１８０℃に加熱した。この温度を２時間維持し、
次いで１９０℃で２時間維持した。得られた生成物を室
温に冷却して、瀘過した。
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリト酸（ＴＭＡ） ２４０ｇ
（１．２５モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） ４１．５ｇ
（０．２５モル） −Ｎ−メチルピロリドン １１００ｇ −トリエチルアミン ８．５ｇ 生成したＮ−メチルピロリドン溶液を１時間で１８０℃
に加熱し、この温度で１時間維持した。次いで、得られ
た生成物を室温に冷却した。次いで１７４ｇ（１モル）
のトルエンジイソシアネートＴＤＩを加え、混合物を３
時間で１８０℃に加熱した。この温度を２時間維持し、
次いで１９０℃で２時間維持した。得られた生成物を室
温に冷却して、瀘過した。
【００３５】この実施例の方法は、温度上昇時に反応速
度が高くなりすぎるのを防ぐ。
度が高くなりすぎるのを防ぐ。
【００３６】実施例６ 以下の反応体をフラスコ内に導入した。： −ブロックトＮＣＯポリシロキサン （Ｎｏ．３） １９７５ｇ（１当量のブ
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリト酸（ＴＭＡ） １９２ｇ
（１モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） ８３ｇ
（０．５モル） −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −Ｎ−メチルピロリドン ５００ｇ −キシレン ８００ｇ −トリエチルアミン ８．３ｇ 溶液を３時間で１７０℃に加熱し、この温度で６時間維
持した。次いで、得られた生成物を冷却して、１００℃
で瀘過した。乾燥物質の含有率は２８．５％であった。
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリト酸（ＴＭＡ） １９２ｇ
（１モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） ８３ｇ
（０．５モル） −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −Ｎ−メチルピロリドン ５００ｇ −キシレン ８００ｇ −トリエチルアミン ８．３ｇ 溶液を３時間で１７０℃に加熱し、この温度で６時間維
持した。次いで、得られた生成物を冷却して、１００℃
で瀘過した。乾燥物質の含有率は２８．５％であった。
【００３７】実施例７ 以下の反応体を反応器内に導入した。： −ブロックトＮＣＯポリシロキサン （Ｎｏ．２） １５１１ｇ（１当量のブ
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリット酸（ＴＭＡ） ２６８．８ｇ（１．
４モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） １６．６
ｇ（０．１モル） −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −Ｎ−メチルピロリドン ６２６ｇ −キシレン ９４０ｇ −トリエチルアミン ８．５ｇ これらの物質を３時間で１７０℃に加熱し、この温度で
６時間維持した。生成物を冷却して、室温で瀘過した。
ロックトＮＣＯ） −無水トリメリット酸（ＴＭＡ） ２６８．８ｇ（１．
４モル） −テレフタル酸（ＴＰＡ） １６．６
ｇ（０．１モル） −トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ） １７４ｇ
（１モル） −Ｎ−メチルピロリドン ６２６ｇ −キシレン ９４０ｇ −トリエチルアミン ８．５ｇ これらの物質を３時間で１７０℃に加熱し、この温度で
６時間維持した。生成物を冷却して、室温で瀘過した。
【００３８】実施例４〜７ではポリアミド−イミドポリ
シロキサンが得られるが、以下の図２〜５に示す如く実
施例１〜３のブロックトＮＣＯポリシロキサンを使用す
れば本発明の他のコポリマーも得られ得る。
シロキサンが得られるが、以下の図２〜５に示す如く実
施例１〜３のブロックトＮＣＯポリシロキサンを使用す
れば本発明の他のコポリマーも得られ得る。
【００３９】図２はブロックトＮＣＯポリシロキサンを
ポリエステル、ポリエステルイミド又はポリアミドと結
合させる実施例を示している。
ポリエステル、ポリエステルイミド又はポリアミドと結
合させる実施例を示している。
【００４０】図３はポリシロキサンポリアミド−イミド
及びポリシロキサンポリエステルイミドを生成する他の
実施例を示している。
及びポリシロキサンポリエステルイミドを生成する他の
実施例を示している。
【００４１】図４はポリシロキサンポリアミドを生成す
る他の実施例を示している。“Ａ”は二無水物を意味し
ている。
る他の実施例を示している。“Ａ”は二無水物を意味し
ている。
【００４２】図５はポリシロキサンポリウレタンを生成
する他の実施例を示している。
する他の実施例を示している。
【００４３】以下の実施例では、後述する方法によるエ
ナメル線の製造を説明する。
ナメル線の製造を説明する。
【００４４】被覆すべき導線上にラッカーの薄層を続け
て塗布した。直径が０．０７ｍｍ以下の導線の場合には
フェルトワイパーを介して、直径が０．０７ｍｍより大
きい導線の場合にはダイを介して、各塗布に使用するラ
ッカーの量を修正した。次いで、ラッカーを塗布した導
線をすぐに５００〜７５０℃の温度の炉内に通した。こ
の熱処理中に溶剤が蒸発して、材料が網状化した。所望
の厚さのエナメルが得られるまで作業を間断なく繰り返
した。
て塗布した。直径が０．０７ｍｍ以下の導線の場合には
フェルトワイパーを介して、直径が０．０７ｍｍより大
きい導線の場合にはダイを介して、各塗布に使用するラ
ッカーの量を修正した。次いで、ラッカーを塗布した導
線をすぐに５００〜７５０℃の温度の炉内に通した。こ
の熱処理中に溶剤が蒸発して、材料が網状化した。所望
の厚さのエナメルが得られるまで作業を間断なく繰り返
した。
【００４５】ベースエナメル２、他のエナメルの上層３
及び本発明の平滑なエナメル層４を備えた金属芯１から
なる導線を図１に示す。この層４は、本発明のラッカー
を被覆して、網状化させることにより得られる。
及び本発明の平滑なエナメル層４を備えた金属芯１から
なる導線を図１に示す。この層４は、本発明のラッカー
を被覆して、網状化させることにより得られる。
【００４６】ベースエナメル２はＨ種クラスのポリエス
テルイミドである。上層３はポリアミドである。本発明
の層４は第１のポリマーと、第２のポリマーと、これら
２つの第１及び第２のポリマーを混和するコポリマーと
からなる化合物である。第１のポリマーはポリアミドイ
ミド（ＡＩ）である。第２のポリマーはＲｈｏｎｅ−Ｐ
ｏｕｌｅｎｃ社の４７Ｖシリーズの油、Ｂａｙｅｒ社の
Ｍシリーズの油又はＷａｃｋｅｒ社のＡＫシリーズの油
の中から選択されるポリシロキサン油である。
テルイミドである。上層３はポリアミドである。本発明
の層４は第１のポリマーと、第２のポリマーと、これら
２つの第１及び第２のポリマーを混和するコポリマーと
からなる化合物である。第１のポリマーはポリアミドイ
ミド（ＡＩ）である。第２のポリマーはＲｈｏｎｅ−Ｐ
ｏｕｌｅｎｃ社の４７Ｖシリーズの油、Ｂａｙｅｒ社の
Ｍシリーズの油又はＷａｃｋｅｒ社のＡＫシリーズの油
の中から選択されるポリシロキサン油である。
【００４７】表１はこれらの油の特性を示している。ポ
リアミドイミドとポリシロキサン油との相溶剤として作
用するコポリマーＡＣ２，３及び４を、前述した方法
（それぞれ実施例４，６及び７）に基づいて合成した。
リアミドイミドとポリシロキサン油との相溶剤として作
用するコポリマーＡＣ２，３及び４を、前述した方法
（それぞれ実施例４，６及び７）に基づいて合成した。
【００４８】
【表１】 本発明のエナメル線の３つの試料（表２の試料３〜５）
の特性を調べた。
の特性を調べた。
【００４９】
【表１】 従来技術に属する試料１，２の特性を比較のために示し
た。試料１の導線はポリアミドイミド製外側上層３のみ
を含んでおり、パラフィンろうを含んでいる場合と、含
んでいない場合とがある。試料２の導線はナイロンの付
加的外側被膜を含んでおり、パラフィンろうを含んでい
る場合と、含んでいない場合とがある。
た。試料１の導線はポリアミドイミド製外側上層３のみ
を含んでおり、パラフィンろうを含んでいる場合と、含
んでいない場合とがある。試料２の導線はナイロンの付
加的外側被膜を含んでおり、パラフィンろうを含んでい
る場合と、含んでいない場合とがある。
【００５０】例えば雑誌“Ｃｕｉｖｒｅ Ｌａｉｔｏｎ
ｅｔ Ａｌｌｉａｇｅ”１９７３年第１２６号の１３
〜１８ページに掲載されているロープ法（ｒｏｐｅ ｍ
ｅｔｈｏｄ） として知られている方法を使用して、種
々のエナメル線の滑性を評価した。
ｅｔ Ａｌｌｉａｇｅ”１９７３年第１２６号の１３
〜１８ページに掲載されているロープ法（ｒｏｐｅ ｍ
ｅｔｈｏｄ） として知られている方法を使用して、種
々のエナメル線の滑性を評価した。
【００５１】この方法では、試験すべき２本の導線から
ロープを形成する。ロープの一方の端部では、一方の導
線の端部を固定点に取り付ける。ロープの反対側の端部
では、他方の導線の端部を力量計に取り付ける。一方の
導線を他方の導線に対して均一に移動させるのに必要な
応力により、導線の滑性を測定する。この同じ導線の他
の部分から形成されたロープで同一の測定を数回実施し
て得られた結果を比較して、導線の滑性の均一性を評価
する。
ロープを形成する。ロープの一方の端部では、一方の導
線の端部を固定点に取り付ける。ロープの反対側の端部
では、他方の導線の端部を力量計に取り付ける。一方の
導線を他方の導線に対して均一に移動させるのに必要な
応力により、導線の滑性を測定する。この同じ導線の他
の部分から形成されたロープで同一の測定を数回実施し
て得られた結果を比較して、導線の滑性の均一性を評価
する。
【００５２】これらの測定では、フランス規格ＮＦ Ｃ
２６３１０に基づいてロープを製造した。
２６３１０に基づいてロープを製造した。
【００５３】表２では滑り応力（ニュートン）及び約十
回の測定の結果を比較して算出されたばらつきを示して
いる。
回の測定の結果を比較して算出されたばらつきを示して
いる。
【００５４】試料１の滑り係数（Ｓｌｉｐ ｃｏｅｆｆ
ｉｃｉｅｎｔ）は悪く、また外部滑剤を使用すると、必
要な応力が２８．４０ニュートンに低減したが、ばらつ
きは遥かに大きい（標準偏差：４．５０ニュートン）。
ｉｃｉｅｎｔ）は悪く、また外部滑剤を使用すると、必
要な応力が２８．４０ニュートンに低減したが、ばらつ
きは遥かに大きい（標準偏差：４．５０ニュートン）。
【００５５】試料２はナイロン上層を含んでおり、この
上層により必要な応力は１８ニュートンまで低減した
が、滑り係数のばらつきは解決されなかった。このばら
つきは尚２．１０ニュートンと高すぎた。更には、ナイ
ロン上層がベースエナメル上に塗布されるとこのベース
エナメルの初期の温度クラスが系統的に下がった。
上層により必要な応力は１８ニュートンまで低減した
が、滑り係数のばらつきは解決されなかった。このばら
つきは尚２．１０ニュートンと高すぎた。更には、ナイ
ロン上層がベースエナメル上に塗布されるとこのベース
エナメルの初期の温度クラスが系統的に下がった。
【００５６】この試料２に外部滑剤を適用すると、応力
は９．２０ニュートンに下がった。しかし滑り係数のば
らつきは尚１．２０ニュートンと高かった。
は９．２０ニュートンに下がった。しかし滑り係数のば
らつきは尚１．２０ニュートンと高かった。
【００５７】パラフィンろうによる外部滑剤を使用して
いない本発明の試料３，４の滑り係数は、パラフィンろ
うを使用する従来技術の試料１の滑り係数より３〜４倍
改善された。ばらつきは４〜５分の１に低減した。
いない本発明の試料３，４の滑り係数は、パラフィンろ
うを使用する従来技術の試料１の滑り係数より３〜４倍
改善された。ばらつきは４〜５分の１に低減した。
【００５８】更に本発明の導線に補足的外部潤滑を行う
と、特に有利な驚くベき結果が得られた。試料５の場合
ばらつきはゼロであったが、本発明のエナメル線の滑り
係数は一般に一定である。
と、特に有利な驚くベき結果が得られた。試料５の場合
ばらつきはゼロであったが、本発明のエナメル線の滑り
係数は一般に一定である。
【００５９】本発明のエナメル線がポリアミドイミドの
全ての特性、即ち機械特性、化学特性、電気特性及び温
度特性の全てを保持していることにも留意すべきであ
る。更には、ポリアミドイミドがポリシロキサンと混合
されるために、付着性、柔軟性、耐熱衝撃性及び熱可塑
性が変わることはなく、導線の絶縁種も変わらない。
全ての特性、即ち機械特性、化学特性、電気特性及び温
度特性の全てを保持していることにも留意すべきであ
る。更には、ポリアミドイミドがポリシロキサンと混合
されるために、付着性、柔軟性、耐熱衝撃性及び熱可塑
性が変わることはなく、導線の絶縁種も変わらない。
【００６０】本発明は上述した実施例に制限されること
はなく、本発明の範囲を逸脱することなく任意の手段の
代わりに、同等の手段を使用することができる。
はなく、本発明の範囲を逸脱することなく任意の手段の
代わりに、同等の手段を使用することができる。
【図１】本発明のラッカーを使用しているエナメル線の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】ブロックトＮＣＯポリシロキサンをポリエステ
ル、ポリエステルイミド又はポリアミドと結合させる実
施例を示している。
ル、ポリエステルイミド又はポリアミドと結合させる実
施例を示している。
【図３】ポリシロキサンポリアミド−イミド及びポリシ
ロキサンポリエステルイミドを生成する他の実施例を示
している。
ロキサンポリエステルイミドを生成する他の実施例を示
している。
【図４】ポリシロキサンポリアミドを生成する他の実施
例を示している。“Ａ”は二無水物を意味している。
例を示している。“Ａ”は二無水物を意味している。
【図５】ポリシロキサンポリウレタンを生成する他の実
施例を示している。
施例を示している。
１ 金属芯 ２ ベースエナメル ３ 上層 ４ エナメル層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジヤン−フランソア・フオバルク フランス国、75006・パリ、リユ・ジヨ ゼフ・バラ、６ (72)発明者 ピエール−イブ・ル・テイエク フランス国、02700・ブエル、リユ・ド ウ・グラース、54 (72)発明者 ローラン・プルー フランス国、02300・ショーニイ、リ ユ・ドユ・シヤトー・ドー、１・テル (56)参考文献 特開 昭60−170628（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−92972（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−51473（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−204931（ＪＰ，Ａ) 特公 昭32−8894（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭32−3739（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 201/00 - 201/10 C09D 183/10 - 183/12 H01B 7/02
Claims (12)
- 【請求項１】 以下のポリマーのブレンド： ａ）ポリウレタン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポ
リエステル、ポリエステルイミド、ポリエステルアミド
−イミド、ポリイミド、ポリビニルアルコールのアセタ
ール、エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂からなる群から
選択される第１のベースポリマー； ｂ）ポリシロキサンからなる群から選択され、当該ブレ
ンド中に０.３から３０重量％の量で存在する第２のポ
リマー； ｃ）上記第１のポリマーにグラフトされたポリシロキサ
ン官能基を有するコポリマーであって、当該コポリマー
が当該ブレンド中に０.５から２０重量％の量で存在し
ており、かつ該コポリマーが上記第１のポリマーと第２
のポリマーとの相溶剤として作用して上記ポリマーブレ
ンドを形成するコポリマー、からなる絶縁性エナメル用
ラッカー。 - 【請求項２】 ブレンド中での上記コポリマーの量が１
〜１０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の
エナメル用ラッカー。 - 【請求項３】 請求項１に記載のエナメル用ラッカーの
製造方法であって、上記第１のベースポリマーが、ポリ
アミドイミド、ポリエステル、ポリエステルイミド、ポ
リエステルアミド−イミド、ポリアミド、ポリイミド及
びポリウレタンの中から選択され、かつ上記コポリマー
を、まず官能化されたポリシロキサンを、１個のイソシ
アネート官能基がブロックされているジイソシアネート
と反応させ、次いでこのようにして得られたブロック化
ＮＣＯポリシロキサンを該第１のポリマーにグラフトさ
せることにより製造することを特徴とする、前記方法。 - 【請求項４】 上記官能化されたポリシロキサンがアミ
ノ化ポリシロキサンであることを特徴とする請求項３に
記載の方法。 - 【請求項５】 上記イソシアネート官能基のブロック化
が、脂肪族アルコール、フェノール、レソルシノール、
ベンジルアルコール及びフロログルシノールから選択さ
れる化合物と反応させることにより達成されることを特
徴とする請求項３に記載の方法。 - 【請求項６】 請求項１記載のエナメル用ラッカーを網
状化することにより得られるエナメルを少なくとも表面
上に含んでいることを特徴とするエナメル線。 - 【請求項７】 上記エナメルが、ベースエナメル２上の
上層３を構成していることを特徴とする請求項６に記載
のエナメル線。 - 【請求項８】 上記エナメルが、ベースエナメル２上の
上層３上の最上層４を構成していることを特徴とする請
求項６に記載のエナメル線。 - 【請求項９】 上層３のエナメルがポリアミド−イミド
ベースであることを特徴とする請求項８に記載のエナメ
ル線。 - 【請求項１０】 上記エナメルが、ベースエナメル２の
外面の層の少なくとも１つを構成していることを特徴と
する請求項６に記載のエナメル線。 - 【請求項１１】 ２００℃以上の熱クラスに属し、少な
くともそのすべり応力において１８ニュートンより少な
い滑性を有することを特徴とする請求項６に記載のエナ
メル線。 - 【請求項１２】 パラフィンろう、油、ろう、ポリシロ
キサン化合物及びフルオロ化鎖化合物の中から選択され
た補足的滑剤外面を更に有することを特徴とする請求項
６に記載のエナメル線。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9001895 | 1990-02-16 | ||
| FR9001895A FR2658531B1 (fr) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | Vernis d'emaillage, procede de fabrication d'un tel vernis et fil conducteur emaille en faisant application. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0665540A JPH0665540A (ja) | 1994-03-08 |
| JP3356441B2 true JP3356441B2 (ja) | 2002-12-16 |
Family
ID=9393808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10695791A Expired - Fee Related JP3356441B2 (ja) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | エナメル用ラッカー、ラッカーの製造方法及びラッカーのエナメル線への適用 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6214462B1 (ja) |
| EP (1) | EP0447789B1 (ja) |
| JP (1) | JP3356441B2 (ja) |
| AT (1) | ATE154463T1 (ja) |
| DE (1) | DE69126461T2 (ja) |
| ES (1) | ES2104618T3 (ja) |
| FR (1) | FR2658531B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| FR2760123B1 (fr) * | 1997-02-24 | 1999-04-16 | Alsthom Cge Alcatel | Fil emaille de resistance elevee aux decharges partielles |
| FR2815038B1 (fr) * | 2000-10-09 | 2003-01-17 | Cit Alcatel | Composition de vernis , procede de fabrication de la composition , fil de bobinage revetu et bobine resultante |
| FR2833964B1 (fr) * | 2001-12-21 | 2005-06-17 | Nexans | Procede de fabrication d'un vernis d'emaillage ayant un faible coefficient de frottement et conducteur electrique revetu d'un tel vernis d'emaillage |
| JP4822854B2 (ja) * | 2006-01-18 | 2011-11-24 | 株式会社有沢製作所 | フレキシブルプリント配線板用ポリアミドイミド樹脂、並びに該樹脂を用いた金属張り積層板、カバーレイ、フレキシブルプリント配線板、及び樹脂組成物 |
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| CN100440387C (zh) * | 2006-09-04 | 2008-12-03 | 山东赛特电工材料有限公司 | 复合漆铜包铝漆包线的生产方法 |
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| DE102010039169A1 (de) | 2010-08-10 | 2012-02-16 | Universität Paderborn | Selbststrukturierende Oberflächen durch PDMS-Phasentrennungen in harten Polymerbeschichtungen |
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