JP3332915B1 - セラミックス部材の洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
セラミックス部材の洗浄方法及び洗浄装置Info
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Abstract
【要約】
【課題】 セラミックス部材表面にダメージを与えるこ
とがなく、短時間で効率的に付着物を洗浄できるセラミ
ックス部材の洗浄方法及び装置を提供する。 【解決手段】 表面に付着物が付着したセラミックス部
材を洗浄槽内部に配置し、所定時間に亘って洗浄槽内部
の温度を上昇させると共に、洗浄槽内部の換気を継続し
ながら洗浄槽内部に酸素を継続して導入し、セラミック
ス部材表面の付着物に酸化還元反応を起こさせて付着物
を洗浄するセラミックス部材の洗浄方法及びその洗浄装
置。アルミナセラミックス部材の表面に、塩化アルミニ
ウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者が付
着している場合に、本発明はより好適である。
とがなく、短時間で効率的に付着物を洗浄できるセラミ
ックス部材の洗浄方法及び装置を提供する。 【解決手段】 表面に付着物が付着したセラミックス部
材を洗浄槽内部に配置し、所定時間に亘って洗浄槽内部
の温度を上昇させると共に、洗浄槽内部の換気を継続し
ながら洗浄槽内部に酸素を継続して導入し、セラミック
ス部材表面の付着物に酸化還元反応を起こさせて付着物
を洗浄するセラミックス部材の洗浄方法及びその洗浄装
置。アルミナセラミックス部材の表面に、塩化アルミニ
ウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者が付
着している場合に、本発明はより好適である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主として半導体製
造工程で用いられるセラミックス部材の洗浄方法及び洗
浄装置に関する。
造工程で用いられるセラミックス部材の洗浄方法及び洗
浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造工程で用いられる半導
体製造用部材にはセラミックス部材が使用されている
が、前記セラミックス部材の表面には、エッチング工
程、ＣＶＤ薄膜形成工程、アッシング工程での化学反応
等により付着物が生ずる。かかる付着物は汚染の原因と
なることから、セラミックス部材の表面をクリーニング
することが必要となる。
体製造用部材にはセラミックス部材が使用されている
が、前記セラミックス部材の表面には、エッチング工
程、ＣＶＤ薄膜形成工程、アッシング工程での化学反応
等により付着物が生ずる。かかる付着物は汚染の原因と
なることから、セラミックス部材の表面をクリーニング
することが必要となる。
【０００３】特開平１１−８２１６号には、表面が炭化
珪素材料若しくは窒化珪素材料で構成された半導体製造
用部材を、熱処理炉において高温酸素雰囲気中で熱処理
し、該部材の表面に酸化珪素膜を形成した後、前記酸化
珪素膜を酸により溶解除去する半導体製造用部材の洗浄
方法が開示されている。また、洗浄液としては前記酸の
他にアルカリ性薬液を使用することも知られている。
珪素材料若しくは窒化珪素材料で構成された半導体製造
用部材を、熱処理炉において高温酸素雰囲気中で熱処理
し、該部材の表面に酸化珪素膜を形成した後、前記酸化
珪素膜を酸により溶解除去する半導体製造用部材の洗浄
方法が開示されている。また、洗浄液としては前記酸の
他にアルカリ性薬液を使用することも知られている。
【０００４】また、特開平１１−９０３６５号には、炭
素及びフッ素を含むガス環境下でのプラズマ生成により
生じた炭素及びフッ素を含む重合体付着物を部品から除
去する方法であって、洗浄液としてＣ４Ｆ９ＯＣＨ３を
含むエーテル液を用いた半導体製造装置の部品の洗浄方
法が開示されている。
素及びフッ素を含むガス環境下でのプラズマ生成により
生じた炭素及びフッ素を含む重合体付着物を部品から除
去する方法であって、洗浄液としてＣ４Ｆ９ＯＣＨ３を
含むエーテル液を用いた半導体製造装置の部品の洗浄方
法が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、特開平１１
−８２１６号のように、セラミックス部材の表面自体に
強制的に化学反応を起こさせる洗浄方法では、セラミッ
クス部材の表面形状が変化してしまい、セラミックス部
材の表面の上塗りなど再処理が必要となる場合がある。
また、特開平１１−９０３６５号のように、洗浄液を部
材と重合体との界面に浸透させて剥離除去する方法で
は、非常に長い洗浄時間が必要とされるという不具合が
ある。
−８２１６号のように、セラミックス部材の表面自体に
強制的に化学反応を起こさせる洗浄方法では、セラミッ
クス部材の表面形状が変化してしまい、セラミックス部
材の表面の上塗りなど再処理が必要となる場合がある。
また、特開平１１−９０３６５号のように、洗浄液を部
材と重合体との界面に浸透させて剥離除去する方法で
は、非常に長い洗浄時間が必要とされるという不具合が
ある。
【０００６】また、環境への悪影響を回避すべく、洗浄
に使用した洗浄液や、セラミックス部材から洗浄液を除
去するための水などリンス液に対して、排出可能な状態
にするための後処理を施す必要があるが、これらの大量
の液体に対する後処理は非常な労力を要し、コストを増
加させる要因にもなる。
に使用した洗浄液や、セラミックス部材から洗浄液を除
去するための水などリンス液に対して、排出可能な状態
にするための後処理を施す必要があるが、これらの大量
の液体に対する後処理は非常な労力を要し、コストを増
加させる要因にもなる。
【０００７】また、近年では半導体製造工程で用いられ
るセラミックス部材は、石英ガラスや炭化珪素がフッ素
系ガスと反応して腐食されること等から、シリコンを汚
染せず、フッ素系ガスに対して高い耐蝕性を有するアル
ミナセラミックスに石英ガラスや炭化珪素から移行して
きている。
るセラミックス部材は、石英ガラスや炭化珪素がフッ素
系ガスと反応して腐食されること等から、シリコンを汚
染せず、フッ素系ガスに対して高い耐蝕性を有するアル
ミナセラミックスに石英ガラスや炭化珪素から移行して
きている。
【０００８】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、アルミナセラミックスなど、セラミックス部材の
表面にダメージを与えることがなく、短時間で効率的な
付着物の洗浄が可能であり、また、低コスト、少ない労
力での洗浄処理が可能であるセラミックス部材の洗浄方
法及び洗浄装置を提供することを目的とする。
って、アルミナセラミックスなど、セラミックス部材の
表面にダメージを与えることがなく、短時間で効率的な
付着物の洗浄が可能であり、また、低コスト、少ない労
力での洗浄処理が可能であるセラミックス部材の洗浄方
法及び洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のセラミックス部
材の洗浄方法は、表面に付着物が付着したセラミックス
部材を洗浄槽内部に配置し、所定時間に亘って該洗浄槽
内部の温度を上昇させると共に、該洗浄槽内部の換気を
継続しながら該洗浄槽内部に酸素を継続して導入し、該
セラミックス部材表面の付着物に酸化還元反応を起こさ
せて該付着物を洗浄することを特徴とする。換気しなが
ら酸素を導入する際に於ける洗浄槽内部の気圧は、設定
した所定気圧に減圧してもよいが、周囲の大気圧と同様
な略大気圧程度の気圧、或いは換気によって大気圧より
若干低い略大気圧程度の気圧にしてもよい。
材の洗浄方法は、表面に付着物が付着したセラミックス
部材を洗浄槽内部に配置し、所定時間に亘って該洗浄槽
内部の温度を上昇させると共に、該洗浄槽内部の換気を
継続しながら該洗浄槽内部に酸素を継続して導入し、該
セラミックス部材表面の付着物に酸化還元反応を起こさ
せて該付着物を洗浄することを特徴とする。換気しなが
ら酸素を導入する際に於ける洗浄槽内部の気圧は、設定
した所定気圧に減圧してもよいが、周囲の大気圧と同様
な略大気圧程度の気圧、或いは換気によって大気圧より
若干低い略大気圧程度の気圧にしてもよい。
【００１０】また、本発明のセラミックス部材の洗浄方
法は、表面に付着物が付着したセラミックス部材を洗浄
槽内部に配置して該洗浄槽内部の気圧を所定気圧まで減
圧し、所定時間に亘って該洗浄槽内部の温度を上昇させ
ると共に、減圧を継続しながら該洗浄槽内部に酸素を継
続して導入し、該セラミックス部材表面の付着物に酸化
還元反応を起こさせて該付着物を洗浄することを特徴と
する。例えば真空ポンプを有する流路を洗浄槽内部に連
通して設けると共に、洗浄槽内部へ酸素を導入する酸素
導入口を洗浄槽に設け、真空ポンプで前記流路及び洗浄
槽内部を減圧することにより、酸素導入口・洗浄槽内部
・流路を順次経る経路で洗浄槽内部への酸素の導入及び
洗浄槽内部からの反応ガスの導出を確実に行うことがで
き、また、減圧により洗浄槽内部に導入した酸素で確実
に酸化還元反応を生起することができる。さらに、本発
明のセラミックス部材の洗浄方法は、上記洗浄方法に於
いて、前記セラミックス部材がアルミナセラミックス部
材であることを特徴とする。本発明による洗浄方法或い
は洗浄装置は、本発明によりセラミックス部材表面にダ
メージを与えることなく付着物を除去可能な適宜のセラ
ミックス部材を洗浄対象とすることが可能であるが、特
に洗浄対象のセラミックス部材がアルミナセラミックス
部材である場合に好適である。 さらに、本発明のセラミ
ックス部材の洗浄方法は、上記洗浄方法に於いて、前記
付着物が塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム
若しくはその両者であることを特徴とする。更には、ア
ルミナセラミックス部材の表面に、塩化アルミニウム若
しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者が付着物と
して付着している場合に、本発明はより好適である。
法は、表面に付着物が付着したセラミックス部材を洗浄
槽内部に配置して該洗浄槽内部の気圧を所定気圧まで減
圧し、所定時間に亘って該洗浄槽内部の温度を上昇させ
ると共に、減圧を継続しながら該洗浄槽内部に酸素を継
続して導入し、該セラミックス部材表面の付着物に酸化
還元反応を起こさせて該付着物を洗浄することを特徴と
する。例えば真空ポンプを有する流路を洗浄槽内部に連
通して設けると共に、洗浄槽内部へ酸素を導入する酸素
導入口を洗浄槽に設け、真空ポンプで前記流路及び洗浄
槽内部を減圧することにより、酸素導入口・洗浄槽内部
・流路を順次経る経路で洗浄槽内部への酸素の導入及び
洗浄槽内部からの反応ガスの導出を確実に行うことがで
き、また、減圧により洗浄槽内部に導入した酸素で確実
に酸化還元反応を生起することができる。さらに、本発
明のセラミックス部材の洗浄方法は、上記洗浄方法に於
いて、前記セラミックス部材がアルミナセラミックス部
材であることを特徴とする。本発明による洗浄方法或い
は洗浄装置は、本発明によりセラミックス部材表面にダ
メージを与えることなく付着物を除去可能な適宜のセラ
ミックス部材を洗浄対象とすることが可能であるが、特
に洗浄対象のセラミックス部材がアルミナセラミックス
部材である場合に好適である。 さらに、本発明のセラミ
ックス部材の洗浄方法は、上記洗浄方法に於いて、前記
付着物が塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム
若しくはその両者であることを特徴とする。更には、ア
ルミナセラミックス部材の表面に、塩化アルミニウム若
しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者が付着物と
して付着している場合に、本発明はより好適である。
【００１１】また、本発明のセラミックス部材の洗浄方
法は、塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若
しくはその両者が表面に付着したセラミックス部材を洗
浄槽内部に配置し、所定時間に亘って該洗浄槽内部の温
度を上昇させ、該洗浄槽内部に酸素を継続して導入する
ことにより、該セラミックス部材表面に付着した塩化ア
ルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両
者に酸化還元反応を起こさせ、該付着した塩化アルミニ
ウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者を、
アルミナと塩素若しくはアルミナとフッ素若しくはアル
ミナと塩素とフッ素にし、該洗浄槽の内部から継続して
反応ガスを導出し、該セラミックス部材の表面洗浄が完
了した後に、該洗浄槽内部への酸素導入を停止して該洗
浄槽内部の温度を降下させ、その後に該セラミックス部
材を該洗浄槽内部から取り出すセラミックス部材の洗浄
方法であって、該洗浄槽内部の温度上昇過程と温度降下
過程を、セラミックス部材を洗浄対象にすることが可能
に設定すると共に、該洗浄槽内部に於ける最高温度の状
態を約１０００〜１３００℃程度の所定温度或いは所定
温度範囲まで上昇させて該付着物からアルミナを生成す
ることにより、該セラミックス部材の表面洗浄を完了す
ることを特徴とする。上記の如く洗浄を行うことで、付
着物から生成された不活性なアルミナがセラミックス部
材に単に付着している程度にすることが可能となり、別
途に後処理する必要なく洗浄処理を完了することが可能
となる。 好適には、洗浄対象のセラミックス部材をアル
ミナセラミックス部材とする、また、前記洗浄槽内部の
温度上昇過程の室温からの昇温速度を約１２５℃／ｈ程
度とし、温度降下過程の室温までの降温速度を約７０℃
／ｈ程度とする、また、前記温度上昇過程及び高温状態
を約１０時間程度かけて実行し、又、前記温度降下過程
を約１４〜１６時間程度かけて実行するとよい。
法は、塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若
しくはその両者が表面に付着したセラミックス部材を洗
浄槽内部に配置し、所定時間に亘って該洗浄槽内部の温
度を上昇させ、該洗浄槽内部に酸素を継続して導入する
ことにより、該セラミックス部材表面に付着した塩化ア
ルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両
者に酸化還元反応を起こさせ、該付着した塩化アルミニ
ウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者を、
アルミナと塩素若しくはアルミナとフッ素若しくはアル
ミナと塩素とフッ素にし、該洗浄槽の内部から継続して
反応ガスを導出し、該セラミックス部材の表面洗浄が完
了した後に、該洗浄槽内部への酸素導入を停止して該洗
浄槽内部の温度を降下させ、その後に該セラミックス部
材を該洗浄槽内部から取り出すセラミックス部材の洗浄
方法であって、該洗浄槽内部の温度上昇過程と温度降下
過程を、セラミックス部材を洗浄対象にすることが可能
に設定すると共に、該洗浄槽内部に於ける最高温度の状
態を約１０００〜１３００℃程度の所定温度或いは所定
温度範囲まで上昇させて該付着物からアルミナを生成す
ることにより、該セラミックス部材の表面洗浄を完了す
ることを特徴とする。上記の如く洗浄を行うことで、付
着物から生成された不活性なアルミナがセラミックス部
材に単に付着している程度にすることが可能となり、別
途に後処理する必要なく洗浄処理を完了することが可能
となる。 好適には、洗浄対象のセラミックス部材をアル
ミナセラミックス部材とする、また、前記洗浄槽内部の
温度上昇過程の室温からの昇温速度を約１２５℃／ｈ程
度とし、温度降下過程の室温までの降温速度を約７０℃
／ｈ程度とする、また、前記温度上昇過程及び高温状態
を約１０時間程度かけて実行し、又、前記温度降下過程
を約１４〜１６時間程度かけて実行するとよい。
【００１２】また、本発明のセラミックス部材の洗浄装
置は、表面に付着物が付着したセラミックス部材が内部
に配置される洗浄槽と、該洗浄槽内部に連通して設けら
れ該洗浄槽内部を換気するブロアーと、該洗浄槽内部の
温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段で制御され
該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手段とを備え
ることを特徴とする。
置は、表面に付着物が付着したセラミックス部材が内部
に配置される洗浄槽と、該洗浄槽内部に連通して設けら
れ該洗浄槽内部を換気するブロアーと、該洗浄槽内部の
温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段で制御され
該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手段とを備え
ることを特徴とする。
【００１３】また、本発明のセラミックス部材の洗浄装
置は、表面に付着物が付着したセラミックス部材が内部
に配置される洗浄槽と、該洗浄槽内部に連通して設けら
れ該洗浄槽内部の気圧を減圧可能な真空ポンプと、該洗
浄槽内部の温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段
で制御され該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手
段とを備えることを特徴とする。尚、昇温部は、電気に
よるヒーター或いは加熱部、ガスによる加熱部、電磁誘
導による昇温部、所定の加熱手段など適宜である。ま
た、本発明に於けるブロアー或いは真空ポンプは、洗浄
槽内部の気圧を所定気圧に調整可能なものとすると好適
である。さらに、本発明のセラミックス部材の洗浄装置
は、上記洗浄装置に於いて、前記セラミックス部材がア
ルミナセラミックス部材であることを特徴とし、又は前
記セラミックス部材の表面に付着した付着物が塩化アル
ミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者
であることを特徴とし、更には、前記セラミックス部材
がアルミナセラミックス部材で、その表面に付着した塩
化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはそ
の両者である付着物に酸化還元反応を起こさせて該付着
物を該表面から除去することを特徴とする。
置は、表面に付着物が付着したセラミックス部材が内部
に配置される洗浄槽と、該洗浄槽内部に連通して設けら
れ該洗浄槽内部の気圧を減圧可能な真空ポンプと、該洗
浄槽内部の温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段
で制御され該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手
段とを備えることを特徴とする。尚、昇温部は、電気に
よるヒーター或いは加熱部、ガスによる加熱部、電磁誘
導による昇温部、所定の加熱手段など適宜である。ま
た、本発明に於けるブロアー或いは真空ポンプは、洗浄
槽内部の気圧を所定気圧に調整可能なものとすると好適
である。さらに、本発明のセラミックス部材の洗浄装置
は、上記洗浄装置に於いて、前記セラミックス部材がア
ルミナセラミックス部材であることを特徴とし、又は前
記セラミックス部材の表面に付着した付着物が塩化アル
ミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその両者
であることを特徴とし、更には、前記セラミックス部材
がアルミナセラミックス部材で、その表面に付着した塩
化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはそ
の両者である付着物に酸化還元反応を起こさせて該付着
物を該表面から除去することを特徴とする。
【００１４】また、本発明のセラミックス部材の洗浄装
置は、塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若
しくはその両者の付着物が表面に付着したセラミックス
部材を内部に入れて配置され、該セラミックス部材が洗
浄後に内部から取り出される洗浄槽と、該洗浄槽内部の
温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段で制御され
該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手段と、反応
ガスを該洗浄槽の内部から継続して導出する手段と、必
要に応じて設けられる該洗浄槽内部の温度を降下させる
冷却手段とを備え、該セラミックス部材表面に付着した
塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくは
その両者に酸化還元反応を起こさせ、アルミナと塩素若
しくはアルミナとフッ素若しくはアルミナと塩素とフッ
素にすることにより、該セラミックス部材の表面洗浄を
完了するセラミックス部材の洗浄装置であって、該洗浄
槽内部の温度上昇過程と温度降下過程が、セラミックス
部材を洗浄対象にすることが可能に設定されると共に、
該洗浄槽内部で上昇させる最高温度の状態が約１０００
〜１３００℃程度の所定温度或いは所定温度範囲に設定
されて、該最高温度によって該付着物からアルミナを生
成することにより、該セラミックス部材の表面洗浄を完
了することを特徴とする。 好適には、前記洗浄装置は、
洗浄対象のセラミックス部材をアルミナセラミックス部
材とする、また、前記洗浄槽内部の温度上昇過程の室温
からの昇温速度を約１２５℃／ｈ程度とし、温度降下過
程の室温までの降温速度を約７０℃／ｈ程度として設定
する、また、前記温度上昇過程及び高温状態を約１０時
間程度かけて実行し、又、前記温度降下過程を約１４〜
１６時間程度かけて実行するように設定するとよい。
置は、塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若
しくはその両者の付着物が表面に付着したセラミックス
部材を内部に入れて配置され、該セラミックス部材が洗
浄後に内部から取り出される洗浄槽と、該洗浄槽内部の
温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段で制御され
該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手段と、反応
ガスを該洗浄槽の内部から継続して導出する手段と、必
要に応じて設けられる該洗浄槽内部の温度を降下させる
冷却手段とを備え、該セラミックス部材表面に付着した
塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくは
その両者に酸化還元反応を起こさせ、アルミナと塩素若
しくはアルミナとフッ素若しくはアルミナと塩素とフッ
素にすることにより、該セラミックス部材の表面洗浄を
完了するセラミックス部材の洗浄装置であって、該洗浄
槽内部の温度上昇過程と温度降下過程が、セラミックス
部材を洗浄対象にすることが可能に設定されると共に、
該洗浄槽内部で上昇させる最高温度の状態が約１０００
〜１３００℃程度の所定温度或いは所定温度範囲に設定
されて、該最高温度によって該付着物からアルミナを生
成することにより、該セラミックス部材の表面洗浄を完
了することを特徴とする。 好適には、前記洗浄装置は、
洗浄対象のセラミックス部材をアルミナセラミックス部
材とする、また、前記洗浄槽内部の温度上昇過程の室温
からの昇温速度を約１２５℃／ｈ程度とし、温度降下過
程の室温までの降温速度を約７０℃／ｈ程度として設定
する、また、前記温度上昇過程及び高温状態を約１０時
間程度かけて実行し、又、前記温度降下過程を約１４〜
１６時間程度かけて実行するように設定するとよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明のセラミックス部材
の洗浄方法及び洗浄装置を具体的な実施例に基づいて説
明する。図１は本発明によるセラミックス部材の洗浄装
置の第１実施例を示す概要図である。
の洗浄方法及び洗浄装置を具体的な実施例に基づいて説
明する。図１は本発明によるセラミックス部材の洗浄装
置の第１実施例を示す概要図である。
【００１６】図１の洗浄装置は、略直方体で周囲が密閉
された洗浄槽１を有し、洗浄槽１の上部外面及び周囲側
壁の外面に沿って加熱部２が近接して配設され、加熱部
２の加熱によって洗浄槽１内部を高温状態にすることが
できるようになっている。洗浄槽１の側壁と前記側壁の
外側の加熱部２には、その略上部の所定箇所に噴射口３
が連通して穿設されており、前記噴射口３を介して噴射
し、洗浄槽１の外部から内部へ酸素ガスを導入可能な構
成である。前記噴射口３に連通する流路には図に省略し
た弁が設けられている。４は洗浄対象となるセラミック
ス部材で、本実施例ではアルミナセラミックス部材であ
る。
された洗浄槽１を有し、洗浄槽１の上部外面及び周囲側
壁の外面に沿って加熱部２が近接して配設され、加熱部
２の加熱によって洗浄槽１内部を高温状態にすることが
できるようになっている。洗浄槽１の側壁と前記側壁の
外側の加熱部２には、その略上部の所定箇所に噴射口３
が連通して穿設されており、前記噴射口３を介して噴射
し、洗浄槽１の外部から内部へ酸素ガスを導入可能な構
成である。前記噴射口３に連通する流路には図に省略し
た弁が設けられている。４は洗浄対象となるセラミック
ス部材で、本実施例ではアルミナセラミックス部材であ
る。
【００１７】洗浄槽１の下部には、ガスが流通する流路
５ａが洗浄槽１の内部に一端が連通して設けられ、流路
５ａは図に省略した弁を有し、流路５ａの他端にはガス
を冷却する冷却トラップ６が設けられている。前記冷却
トラップ６はガスの流路５ｂを介して真空ポンプ７に接
続されており、真空ポンプ７は、流路５ｂから冷却トラ
ップ６を介して流路５ａ、更には洗浄槽１を順次減圧
し、洗浄槽１内部を例えば真空近くなど所定の気圧まで
減圧して洗浄槽１内部へ酸素ガスを導入すると共に洗浄
槽１内部からガスを導出し、洗浄槽１内から流路５ａ、
冷却トラップ６、流路５ｂを順次に経る方向でガスの流
れを形成する。
５ａが洗浄槽１の内部に一端が連通して設けられ、流路
５ａは図に省略した弁を有し、流路５ａの他端にはガス
を冷却する冷却トラップ６が設けられている。前記冷却
トラップ６はガスの流路５ｂを介して真空ポンプ７に接
続されており、真空ポンプ７は、流路５ｂから冷却トラ
ップ６を介して流路５ａ、更には洗浄槽１を順次減圧
し、洗浄槽１内部を例えば真空近くなど所定の気圧まで
減圧して洗浄槽１内部へ酸素ガスを導入すると共に洗浄
槽１内部からガスを導出し、洗浄槽１内から流路５ａ、
冷却トラップ６、流路５ｂを順次に経る方向でガスの流
れを形成する。
【００１８】前記真空ポンプ７はガスの流路５ｃを介し
て有毒ガス除去部８に接続されており、前記有毒ガス除
去部８は、クリーニングガスを導入して、流れるガス中
に含まれる有毒ガス或いは有毒成分と前記クリーニング
ガスに化学反応を起こさせ、固形物などの生成物を生成
し、有毒成分を除去するものである。前記有毒ガス除去
部８はガスを排出するための流路５ｄに一端が接続さ
れ、流路５ｄの他端の排出口からガスを外部に排出する
ようになっている。流路５ｄの途中には、ガス中の有毒
ガスの濃度を監視して無害であること或いは毒性の低い
ことを確認する有毒ガス探知部９が設けられており、有
毒ガス探知部９で無害或いは毒性が薄いことが確認され
たガスのみを大気中に排出する構成である。
て有毒ガス除去部８に接続されており、前記有毒ガス除
去部８は、クリーニングガスを導入して、流れるガス中
に含まれる有毒ガス或いは有毒成分と前記クリーニング
ガスに化学反応を起こさせ、固形物などの生成物を生成
し、有毒成分を除去するものである。前記有毒ガス除去
部８はガスを排出するための流路５ｄに一端が接続さ
れ、流路５ｄの他端の排出口からガスを外部に排出する
ようになっている。流路５ｄの途中には、ガス中の有毒
ガスの濃度を監視して無害であること或いは毒性の低い
ことを確認する有毒ガス探知部９が設けられており、有
毒ガス探知部９で無害或いは毒性が薄いことが確認され
たガスのみを大気中に排出する構成である。
【００１９】次に、上記実施例の洗浄装置でアルミナセ
ラミックス部材４の付着物を洗浄する過程について説明
する。
ラミックス部材４の付着物を洗浄する過程について説明
する。
【００２０】先ず、化学反応で生じた付着物が付着した
アルミナセラミックス部材４を準備し、図に省略した入
口からアルミナセラミックス部材４を洗浄槽１の内部に
入れて所定位置に載置し、洗浄槽１内部を密閉する。そ
して、噴射口３に連通する流路の弁を閉じた状態にして
おくと共に、流路５ａの弁は開状態にして真空ポンプ７
を作動し、流路５ｂ、冷却トラップ６、流路５ａ、洗浄
槽１内部を減圧していく。前記減圧によって、洗浄槽１
内部の気圧は例えば１０Ｐａ程度など数Ｐａ程度の所定
気圧まで低下され、洗浄槽１内部は所定気圧に減圧され
る。
アルミナセラミックス部材４を準備し、図に省略した入
口からアルミナセラミックス部材４を洗浄槽１の内部に
入れて所定位置に載置し、洗浄槽１内部を密閉する。そ
して、噴射口３に連通する流路の弁を閉じた状態にして
おくと共に、流路５ａの弁は開状態にして真空ポンプ７
を作動し、流路５ｂ、冷却トラップ６、流路５ａ、洗浄
槽１内部を減圧していく。前記減圧によって、洗浄槽１
内部の気圧は例えば１０Ｐａ程度など数Ｐａ程度の所定
気圧まで低下され、洗浄槽１内部は所定気圧に減圧され
る。
【００２１】洗浄槽１内部の減圧を所定気圧まで完了し
た後、洗浄槽１の周囲に設置した加熱部２の加熱によっ
て洗浄槽１内部を高温状態にしていき、アルミナセラミ
ックス部材４の温度を上昇させ高温状態にしていく。洗
浄槽１内部の温度は、好適には１０００℃〜１３００℃
程度の所定温度或いは所定温度範囲まで上昇させるが、
本実施例では図２に示すように、洗浄槽１内部の温度が
１０〜４０℃程度の温度、通常は２０℃〜３０℃の室温
から約１０００℃になるまで昇温速度１２５℃／ｈｏｕ
ｒで上昇させる。
た後、洗浄槽１の周囲に設置した加熱部２の加熱によっ
て洗浄槽１内部を高温状態にしていき、アルミナセラミ
ックス部材４の温度を上昇させ高温状態にしていく。洗
浄槽１内部の温度は、好適には１０００℃〜１３００℃
程度の所定温度或いは所定温度範囲まで上昇させるが、
本実施例では図２に示すように、洗浄槽１内部の温度が
１０〜４０℃程度の温度、通常は２０℃〜３０℃の室温
から約１０００℃になるまで昇温速度１２５℃／ｈｏｕ
ｒで上昇させる。
【００２２】また、前記温度を上昇させていくに伴い、
真空ポンプ７に通ずる流路５ａの弁を開状態に保持した
まま減圧を継続しつつ、噴射口３に連通する流路の弁を
開状態にして、例えば０．１ＭＰａ程度の圧力で酸素ガ
スを噴射口３から洗浄槽１内部へ噴射する。噴射された
酸素ガスは洗浄槽１内の低圧と相俟って洗浄槽１内部へ
導入される。前記酸素ガスの導入は、洗浄槽１内部に於
いて図２で示す昇温過程及び約１０００℃の最高温度の
状態に亘って継続して行われる。
真空ポンプ７に通ずる流路５ａの弁を開状態に保持した
まま減圧を継続しつつ、噴射口３に連通する流路の弁を
開状態にして、例えば０．１ＭＰａ程度の圧力で酸素ガ
スを噴射口３から洗浄槽１内部へ噴射する。噴射された
酸素ガスは洗浄槽１内の低圧と相俟って洗浄槽１内部へ
導入される。前記酸素ガスの導入は、洗浄槽１内部に於
いて図２で示す昇温過程及び約１０００℃の最高温度の
状態に亘って継続して行われる。
【００２３】前記昇温及び酸素ガスの導入によって、洗
浄槽１内部に配置されたアルミナセラミックス部材４に
付着した付着物に酸化還元反応など化学反応が生ずる。
例えばアルミナセラミックス部材４の表面に塩化アルミ
ニウムが付着している場合、ＡｌＣｌ３＋Ｏ２→Ａｌ２
Ｏ３＋Ｃｌ２等で塩化アルミニウムが酸化され、アルミ
ナと塩素が生成される。また、例えばアルミナセラミッ
クス部材４の表面にフッ化アルミニウムが付着している
場合、ＡｌＦ３＋Ｏ２→Ａｌ２Ｏ３＋Ｆ２等でフッ化ア
ルミニウムが酸化され、アルミナとフッ素が生成され
る。この際、真空ポンプ７による継続した減圧を行って
洗浄槽１内部に酸素ガスを効率よく導入し、前記酸化還
元反応の発生を促進して或いは効率よく起こす構成であ
る。
浄槽１内部に配置されたアルミナセラミックス部材４に
付着した付着物に酸化還元反応など化学反応が生ずる。
例えばアルミナセラミックス部材４の表面に塩化アルミ
ニウムが付着している場合、ＡｌＣｌ３＋Ｏ２→Ａｌ２
Ｏ３＋Ｃｌ２等で塩化アルミニウムが酸化され、アルミ
ナと塩素が生成される。また、例えばアルミナセラミッ
クス部材４の表面にフッ化アルミニウムが付着している
場合、ＡｌＦ３＋Ｏ２→Ａｌ２Ｏ３＋Ｆ２等でフッ化ア
ルミニウムが酸化され、アルミナとフッ素が生成され
る。この際、真空ポンプ７による継続した減圧を行って
洗浄槽１内部に酸素ガスを効率よく導入し、前記酸化還
元反応の発生を促進して或いは効率よく起こす構成であ
る。
【００２４】前記酸化還元反応で生成されたアルミナＡ
ｌ２Ｏ３は、アルミナセラミックス部材４の表面に付着
或いは一体化するので、アルミナセラミックス部材４表
面に付着した塩化物及びフッ化物を、アルミナセラミッ
クス部材４の表面にダメージを与えず除去することがで
きる。また、前記反応で生成された塩素やフッ素等を含
む洗浄槽１内のガスは、真空ポンプ７の減圧により洗浄
槽１内部から流路５ａへ導出され、冷却トラップ６で真
空ポンプ７に導入可能な温度、例えば１００℃程度まで
冷却され、流路５ｂを介して真空ポンプ７に導入され
る。
ｌ２Ｏ３は、アルミナセラミックス部材４の表面に付着
或いは一体化するので、アルミナセラミックス部材４表
面に付着した塩化物及びフッ化物を、アルミナセラミッ
クス部材４の表面にダメージを与えず除去することがで
きる。また、前記反応で生成された塩素やフッ素等を含
む洗浄槽１内のガスは、真空ポンプ７の減圧により洗浄
槽１内部から流路５ａへ導出され、冷却トラップ６で真
空ポンプ７に導入可能な温度、例えば１００℃程度まで
冷却され、流路５ｂを介して真空ポンプ７に導入され
る。
【００２５】真空ポンプ７に導入されたガスは、流路５
ｃを介して有毒ガス除去部８に導かれる。有毒ガス除去
部８では、別途クリーニングガスを導入し、流路５ｃを
介して導かれた塩素やフッ素などのガス中の有毒成分と
前記クリーニングガスに化学反応を起こさせ、塩素やフ
ッ素など有毒ガス或いは有毒成分を除去する。有毒成分
を除去されたガスは、有毒ガス除去部８から流路５ｄに
導いて大気に放出するが、この際に流路５ｄに設けられ
た有毒ガス探知部９の監視により、無害或いは毒性濃度
が低いことが確認されたガスのみを大気中に排出する構
成である。
ｃを介して有毒ガス除去部８に導かれる。有毒ガス除去
部８では、別途クリーニングガスを導入し、流路５ｃを
介して導かれた塩素やフッ素などのガス中の有毒成分と
前記クリーニングガスに化学反応を起こさせ、塩素やフ
ッ素など有毒ガス或いは有毒成分を除去する。有毒成分
を除去されたガスは、有毒ガス除去部８から流路５ｄに
導いて大気に放出するが、この際に流路５ｄに設けられ
た有毒ガス探知部９の監視により、無害或いは毒性濃度
が低いことが確認されたガスのみを大気中に排出する構
成である。
【００２６】そして、約１０時間程度かけて、洗浄槽１
内部の昇温及び高温状態と共に酸素ガスの導入を行った
後、噴射口３に連通する流路の弁を閉状態にし、洗浄槽
１内部への酸素ガスの導入を停止し、また、加熱部２に
よる加熱を停止して、洗浄槽１内部の温度を降下させ
る。洗浄槽１内部の降温は、本実施例に於いては図２に
示すように、洗浄槽１内部の温度が約１０００℃から２
０℃〜３０℃程度の室温になるまで降温速度７０℃／ｈ
ｏｕｒで降下させ、約１４〜１６時間程度で完了する。
尚、洗浄槽１内部の温度降下は、別途の冷却手段を用い
て行うことも可能である。洗浄槽１内部の温度を降下が
終了した後、流路５ａの弁を閉状態にして真空ポンプ７
の作動を停止することにより減圧を停止し、表面洗浄が
完了したアルミナセラミックス部材４を洗浄槽１から取
り出して洗浄処理が終了する。
内部の昇温及び高温状態と共に酸素ガスの導入を行った
後、噴射口３に連通する流路の弁を閉状態にし、洗浄槽
１内部への酸素ガスの導入を停止し、また、加熱部２に
よる加熱を停止して、洗浄槽１内部の温度を降下させ
る。洗浄槽１内部の降温は、本実施例に於いては図２に
示すように、洗浄槽１内部の温度が約１０００℃から２
０℃〜３０℃程度の室温になるまで降温速度７０℃／ｈ
ｏｕｒで降下させ、約１４〜１６時間程度で完了する。
尚、洗浄槽１内部の温度降下は、別途の冷却手段を用い
て行うことも可能である。洗浄槽１内部の温度を降下が
終了した後、流路５ａの弁を閉状態にして真空ポンプ７
の作動を停止することにより減圧を停止し、表面洗浄が
完了したアルミナセラミックス部材４を洗浄槽１から取
り出して洗浄処理が終了する。
【００２７】上記実施例の如く、本発明の洗浄方法或い
は洗浄装置は、酸やアルカリなどの薬液を使用せずに、
洗浄槽内部の高温化と洗浄槽内部への酸素の導入による
酸化還元反応によって洗浄を行うものであるため、洗浄
作業時等に於ける安全性がより高く、また、有毒成分を
除去して大気に放出すること等により、環境に対する悪
影響をより減少或いは無くすことが可能となる。
は洗浄装置は、酸やアルカリなどの薬液を使用せずに、
洗浄槽内部の高温化と洗浄槽内部への酸素の導入による
酸化還元反応によって洗浄を行うものであるため、洗浄
作業時等に於ける安全性がより高く、また、有毒成分を
除去して大気に放出すること等により、環境に対する悪
影響をより減少或いは無くすことが可能となる。
【００２８】また、洗浄槽内部に酸素を導入して酸化還
元反応を促進すること等により、洗浄時間をより短縮す
ることができる。また、洗浄装置として、洗浄槽、加熱
部、真空ポンプ、酸素供給手段等を用い、高温化と酸素
の導入で洗浄する構成であるから、設備面の低コスト化
を図ることができる。
元反応を促進すること等により、洗浄時間をより短縮す
ることができる。また、洗浄装置として、洗浄槽、加熱
部、真空ポンプ、酸素供給手段等を用い、高温化と酸素
の導入で洗浄する構成であるから、設備面の低コスト化
を図ることができる。
【００２９】次に、本発明のセラミックス部材の洗浄方
法及び洗浄装置の他の実施例について説明する。図３は
本発明によるセラミックス部材の洗浄装置の第２実施例
を示す概要図である。
法及び洗浄装置の他の実施例について説明する。図３は
本発明によるセラミックス部材の洗浄装置の第２実施例
を示す概要図である。
【００３０】第２実施例の洗浄装置は、図３に示すよう
に、真空ポンプ７をブロアー１０に代えている構成のみ
第１実施例の洗浄装置と相違し、他の構成は第１実施例
の洗浄装置と同一である。即ち、内部にアルミナセラミ
ックス部材４が配置される洗浄槽１の周囲に加熱部２が
設けられ、洗浄槽１内部へ酸素を噴出して導入する噴射
口３を有し、また、洗浄槽１内部は流路５ａを介して冷
却トラップ６に接続され、冷却トラップ６は流路５ｂを
介してブロアー１０に接続されている。ブロアー１０は
流路５ｂ、冷却トラップ６、流路５ａを介して洗浄槽１
内部のガスを吸引するものであり、ブロアー１０で洗浄
槽１内部の反応ガスが継続的に吸引して排出され、洗浄
槽１の内部が換気される。更に、ブロアー１０は流路５
ｃを介して有毒ガス除去部８に接続され、有毒ガス除去
部８は有毒ガス探知部９を途中に有する流路５ｄに接続
されている。
に、真空ポンプ７をブロアー１０に代えている構成のみ
第１実施例の洗浄装置と相違し、他の構成は第１実施例
の洗浄装置と同一である。即ち、内部にアルミナセラミ
ックス部材４が配置される洗浄槽１の周囲に加熱部２が
設けられ、洗浄槽１内部へ酸素を噴出して導入する噴射
口３を有し、また、洗浄槽１内部は流路５ａを介して冷
却トラップ６に接続され、冷却トラップ６は流路５ｂを
介してブロアー１０に接続されている。ブロアー１０は
流路５ｂ、冷却トラップ６、流路５ａを介して洗浄槽１
内部のガスを吸引するものであり、ブロアー１０で洗浄
槽１内部の反応ガスが継続的に吸引して排出され、洗浄
槽１の内部が換気される。更に、ブロアー１０は流路５
ｃを介して有毒ガス除去部８に接続され、有毒ガス除去
部８は有毒ガス探知部９を途中に有する流路５ｄに接続
されている。
【００３１】第２実施例の洗浄装置でアルミナセラミッ
クス部材４の付着物を洗浄する際には、アルミナセラミ
ックス部材４を洗浄槽１内部の配置して洗浄槽１内部を
密閉する。そして、加熱部２で加熱して洗浄槽１内部を
高温状態にしていき、アルミナセラミックス部材４の温
度を上昇させ高温状態にしていく。洗浄槽１内部の温度
上昇の仕方は、第１実施例と同様である。
クス部材４の付着物を洗浄する際には、アルミナセラミ
ックス部材４を洗浄槽１内部の配置して洗浄槽１内部を
密閉する。そして、加熱部２で加熱して洗浄槽１内部を
高温状態にしていき、アルミナセラミックス部材４の温
度を上昇させ高温状態にしていく。洗浄槽１内部の温度
上昇の仕方は、第１実施例と同様である。
【００３２】前記温度を上昇させていくに伴い、噴射口
３に連通する流路の弁を開状態にして、例えば０．１Ｍ
Ｐａ程度の圧力で噴射口３から洗浄槽１内部への酸素ガ
スの噴射を開始すると共に、ブロアー１０に通ずる流路
５ａの弁を開状態にして洗浄槽１内部の反応ガスの吸引
を開始する。洗浄槽１内部の気圧は、ブロアー１０の吸
引によって静圧で１００Ｐａ程度減圧されるので、約１
００ｋＰａ程度の大気圧から約９９ｋＰａ程度の気圧に
減圧される。酸素ガスは、前記減圧と上記噴射力によっ
て洗浄槽１内部へ導入される。前記酸素ガスの導入及び
ブロアー１０による反応ガスの吸引は、洗浄槽１内部に
於いて図２で示す昇温過程及び約１０００℃の最高温度
の状態に亘って継続して行われる。
３に連通する流路の弁を開状態にして、例えば０．１Ｍ
Ｐａ程度の圧力で噴射口３から洗浄槽１内部への酸素ガ
スの噴射を開始すると共に、ブロアー１０に通ずる流路
５ａの弁を開状態にして洗浄槽１内部の反応ガスの吸引
を開始する。洗浄槽１内部の気圧は、ブロアー１０の吸
引によって静圧で１００Ｐａ程度減圧されるので、約１
００ｋＰａ程度の大気圧から約９９ｋＰａ程度の気圧に
減圧される。酸素ガスは、前記減圧と上記噴射力によっ
て洗浄槽１内部へ導入される。前記酸素ガスの導入及び
ブロアー１０による反応ガスの吸引は、洗浄槽１内部に
於いて図２で示す昇温過程及び約１０００℃の最高温度
の状態に亘って継続して行われる。
【００３３】前記昇温及び酸素ガスの導入により、第１
実施例と同様に、洗浄槽１内部に配置されたアルミナセ
ラミックス部材４の表面の付着物に酸化還元反応など化
学反応が生じ、例えばＡｌＣｌ３＋Ｏ２→Ａｌ２Ｏ３＋
Ｃｌ２等で付着した塩化アルミニウムが酸化されアルミ
ナと塩素が生成され、またＡｌＦ３＋Ｏ２→Ａｌ２Ｏ ３
＋Ｆ２等で付着したフッ化アルミニウムが酸化されアル
ミナとフッ素が生成される。前記酸化還元反応で生成さ
れたアルミナＡｌ２Ｏ３は、アルミナセラミックス部材
４の表面に付着或いは一体化するので、付着した塩化物
及びフッ化物をアルミナセラミックス部材４の表面にダ
メージを与えずに除去することができる。
実施例と同様に、洗浄槽１内部に配置されたアルミナセ
ラミックス部材４の表面の付着物に酸化還元反応など化
学反応が生じ、例えばＡｌＣｌ３＋Ｏ２→Ａｌ２Ｏ３＋
Ｃｌ２等で付着した塩化アルミニウムが酸化されアルミ
ナと塩素が生成され、またＡｌＦ３＋Ｏ２→Ａｌ２Ｏ ３
＋Ｆ２等で付着したフッ化アルミニウムが酸化されアル
ミナとフッ素が生成される。前記酸化還元反応で生成さ
れたアルミナＡｌ２Ｏ３は、アルミナセラミックス部材
４の表面に付着或いは一体化するので、付着した塩化物
及びフッ化物をアルミナセラミックス部材４の表面にダ
メージを与えずに除去することができる。
【００３４】また、前記反応で生成された塩素やフッ素
等を含む洗浄槽１内のガスは、ブロアー１０の吸引で洗
浄槽１内部から流路５ａへ導出され、冷却トラップ６で
ブロアー１０に導入可能な温度、例えば１００℃程度ま
で冷却されて、流路５ｂを介してブロアー１０に導入さ
れ、ブロアー１０は吸引したガスを流路５ｃに排出す
る。ブロアー１０から排出されたガスは、流路５ｃを介
して有毒ガス除去部８に導かれ、クリーニングガスで塩
素やフッ素など有毒ガス或いは有毒成分が除去される。
有毒成分を除去されたガスは有毒ガス除去部８から流路
５ｄに導かれ、流路５ｄの有毒ガス探知部９の監視で無
害或いは毒性濃度が低いことが確認されたガスが大気に
放出される。
等を含む洗浄槽１内のガスは、ブロアー１０の吸引で洗
浄槽１内部から流路５ａへ導出され、冷却トラップ６で
ブロアー１０に導入可能な温度、例えば１００℃程度ま
で冷却されて、流路５ｂを介してブロアー１０に導入さ
れ、ブロアー１０は吸引したガスを流路５ｃに排出す
る。ブロアー１０から排出されたガスは、流路５ｃを介
して有毒ガス除去部８に導かれ、クリーニングガスで塩
素やフッ素など有毒ガス或いは有毒成分が除去される。
有毒成分を除去されたガスは有毒ガス除去部８から流路
５ｄに導かれ、流路５ｄの有毒ガス探知部９の監視で無
害或いは毒性濃度が低いことが確認されたガスが大気に
放出される。
【００３５】そして、約１０時間程度かけて洗浄槽１内
部の昇温及び高温状態と共に酸素ガスの導入を行った
後、噴射口３に連通する流路の弁を閉状態にして洗浄槽
１内部への酸素ガスの導入を停止し、また加熱部２によ
る加熱を停止し、第１実施例と同様の仕方で洗浄槽１内
部の温度を降下させる。洗浄槽１内部の温度降下後、流
路５ａの弁を閉状態にしてブロアー１０の作動を停止す
ることで洗浄槽１内部からの反応ガスの吸引を停止し、
表面洗浄が完了したアルミナセラミックス部材４を洗浄
槽１から取り出して洗浄処理が終了する。尚、洗浄槽１
内部の温度降下後まで或いは温度降下開始から所定時点
まで減圧或いは吸引による換気を継続すると、洗浄槽１
内部に残留する有毒成分を完全に除去することが可能と
なって好適である。
部の昇温及び高温状態と共に酸素ガスの導入を行った
後、噴射口３に連通する流路の弁を閉状態にして洗浄槽
１内部への酸素ガスの導入を停止し、また加熱部２によ
る加熱を停止し、第１実施例と同様の仕方で洗浄槽１内
部の温度を降下させる。洗浄槽１内部の温度降下後、流
路５ａの弁を閉状態にしてブロアー１０の作動を停止す
ることで洗浄槽１内部からの反応ガスの吸引を停止し、
表面洗浄が完了したアルミナセラミックス部材４を洗浄
槽１から取り出して洗浄処理が終了する。尚、洗浄槽１
内部の温度降下後まで或いは温度降下開始から所定時点
まで減圧或いは吸引による換気を継続すると、洗浄槽１
内部に残留する有毒成分を完全に除去することが可能と
なって好適である。
【００３６】
【発明の効果】本発明のセラミックス部材の洗浄方法及
び洗浄装置を用いることにより、アルミナセラミックス
など、セラミックス部材の表面にダメージを与えること
がなく、短時間で効率的にセラミックス部材表面の付着
物を洗浄する或いは除去することができる効果を奏す
る。従って、セラミックス部材表面の形状を整えるため
の上塗りなど再処理を行う必要がなく、簡素化した工程
で容易に洗浄することができる。
び洗浄装置を用いることにより、アルミナセラミックス
など、セラミックス部材の表面にダメージを与えること
がなく、短時間で効率的にセラミックス部材表面の付着
物を洗浄する或いは除去することができる効果を奏す
る。従って、セラミックス部材表面の形状を整えるため
の上塗りなど再処理を行う必要がなく、簡素化した工程
で容易に洗浄することができる。
【００３７】また、洗浄液やリンス液などの液体を使用
しない或いは極力使用しないで洗浄することが可能で、
かかる液体の後処理に要する労力やコストを無くす或い
は極力減らすことができること等から、低コスト、少な
い労力で、アルミナセラミックスなどセラミックス部材
表面の洗浄処理を行うことができる。
しない或いは極力使用しないで洗浄することが可能で、
かかる液体の後処理に要する労力やコストを無くす或い
は極力減らすことができること等から、低コスト、少な
い労力で、アルミナセラミックスなどセラミックス部材
表面の洗浄処理を行うことができる。
【図１】本発明によるセラミックス部材の洗浄装置の第
１実施例を示す概要図。
１実施例を示す概要図。
【図２】洗浄槽内の温度変化を示す図。
【図３】本発明によるセラミックス部材の洗浄装置の第
２実施例を示す概要図。
２実施例を示す概要図。
１ 洗浄槽 ２ 加熱部 ３ 噴射口 ４ アルミナセラミックス部材 ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ 流路 ６ 冷却トラップ ７ 真空ポンプ ８ 有毒ガス除去部 ９ 有毒ガス探知部 １０ ブロアー
Claims (7)
- 【請求項１】 塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミ
ニウム若しくはその両者が表面に付着したセラミックス
部材を洗浄槽内部に配置し、所定時間に亘って該洗浄槽
内部の温度を上昇させ、該洗浄槽内部に酸素を継続して
導入することにより、該セラミックス部材表面に付着し
た塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しく
はその両者に酸化還元反応を起こさせ、該付着した塩化
アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム若しくはその
両者を、アルミナと塩素若しくはアルミナとフッ素若し
くはアルミナと塩素とフッ素にし、該洗浄槽の内部から
継続して反応ガスを導出し、該セラミックス部材の表面
洗浄が完了した後に、該洗浄槽内部への酸素導入を停止
して該洗浄槽内部の温度を降下させ、その後に該セラミ
ックス部材を該洗浄槽内部から取り出すセラミックス部
材の洗浄方法であって、該洗浄槽内部の温度上昇過程と
温度降下過程を、セラミックス部材を洗浄対象にするこ
とが可能に設定すると共に、該洗浄槽内部に於ける最高
温度の状態を約１０００〜１３００℃程度の所定温度或
いは所定温度範囲まで上昇させて該付着物からアルミナ
を生成することにより、該セラミックス部材の表面洗浄
を完了することを特徴とするセラミックス部材の洗浄方
法。 - 【請求項２】 前記セラミックス部材がアルミナセラミ
ックス部材であることを特徴とする請求項１記載のセラ
ミックス部材の洗浄方法。 - 【請求項３】 前記洗浄槽内部の温度上昇過程の室温か
らの昇温速度を約１２５℃／ｈ程度とし、温度降下過程
の室温までの降温速度を約７０℃／ｈ程度とすることを
特徴とする請求項１又は２記載のセラミックス部材の洗
浄方法。 - 【請求項４】 前記温度上昇過程及び高温状態を約１０
時間程度かけて実行すると共に、前記温度降下過程を約
１４〜１６時間程度かけて実行することを特徴とする請
求項１、２又は３記載のセラミックス部材の洗浄方法。 - 【請求項５】 塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミ
ニウム若しくはその両者の付着物が表面に付着したセラ
ミックス部材を内部に入れて配置され、該セラミックス
部材が洗浄後に内部から取り出される洗浄槽と、該洗浄
槽内部の温度を上昇させる昇温部と、所定の制御手段で
制御され該洗浄槽内部に酸素を導入可能な酸素導入手段
と、反応ガスを該洗浄槽の内部から継続して導出する手
段と、必 要に応じて設けられる該洗浄槽内部の温度を降
下させる冷却手段とを備え、該セラミックス部材表面に
付着した塩化アルミニウム若しくはフッ化アルミニウム
若しくはその両者に酸化還元反応を起こさせ、アルミナ
と塩素若しくはアルミナとフッ素若しくはアルミナと塩
素とフッ素にすることにより、該セラミックス部材の表
面洗浄を完了するセラミックス部材の洗浄装置であっ
て、該洗浄槽内部の温度上昇過程と温度降下過程が、セ
ラミックス部材を洗浄対象にすることが可能に設定され
ると共に、該洗浄槽内部で上昇させる最高温度の状態が
約１０００〜１３００℃程度の所定温度或いは所定温度
範囲に設定されて、該最高温度によって該付着物からア
ルミナを生成することにより、該セラミックス部材の表
面洗浄を完了することを特徴とするセラミックス部材の
洗浄装置。 - 【請求項６】 前記セラミックス部材がアルミナセラミ
ックス部材であることを特徴とする請求項５記載のセラ
ミックス部材の洗浄装置。 - 【請求項７】 前記洗浄槽内部の温度上昇過程の室温か
らの昇温速度を約１２５℃／ｈ程度とし、温度降下過程
の室温までの降温速度を約７０℃／ｈ程度として設定さ
れていることを特徴とする請求項５又は６記載のセラミ
ックス部材の洗浄装置。
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