JP5147638B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
式(1)による反応により、活性酸素(O*)が生成される。この活性酸素は強い酸化剤である。
式(2)による反応により、カロ酸(ペルオキソ酸ともいう、H2SO5)が生成される。このカロ酸も活性酸素と同様に強い酸化剤であるが、ウエハに付着するレジストのような有機物を分解するには、カロ酸の方が活性酸素よりも効果が大きい。すなわち、硫酸と過酸化水素水を混合させ、カロ酸を生成させることにより、ウエハに付着するレジストを十分に剥離することができるようになる。
更に、硫酸と過酸化水素水の温度をウエハの洗浄に適した温度(例えば、100〜150℃)に保持する場合、式(3)の反応によって過酸化水素水は分解して濃度が減少してしまうため、過酸化水素水を所定の濃度で供給することができないという問題があった。
(第1の実施の形態)
図1乃至図6を参照し、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置及び基板処理方法を説明する。
このようにして発生された活性酸素は、硫酸と反応し、例えば以下の式(5)に示す化学反応を起こし、カロ酸が発生する。
ここで、上記式(4)及び式(5)の化学反応を促進するためには、反応速度を増大させるためになるべく高温に保持することが望ましい。ただし、供給される過酸化水素水中の過酸化水素は、100℃より高い温度では分解しやすくなるため、例えば70℃〜100℃が好適である。
(第1の実施の形態の変形例)
次に、第1の実施の形態の変形例に係る基板処理装置及び基板処理方法について説明する。
(第2の実施の形態)
次に、図6乃至図9を参照し、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置及び基板処理方法を説明する。
(第2の実施の形態の変形例)
次に、図10及び図11を参照し、第2の実施の形態の変形例に係る基板処理装置及び基板処理方法について説明する。
10 処理槽
10a、11a、67 排液口
11 外槽
12、53 ドレン弁
13、52、54 ドレン管
17 メッシュ
18 第1の処理液取出管
19 比抵抗値検出器
20 第1の処理液収容タンク
24a 上限センサ
24b 下限センサ
24c 適量センサ
26 供給管
26a 過酸化水素水供給配管
28 供給ノズル
29、63g、64f 開閉弁
30 ウェハボート
31 基板昇降機構
32 取付部材
32a ボルト
33 支持部材
34 中央保持棒
35 側部保持棒
34a、35a 保持溝
40、64a 蒸気・ミスト供給ノズル(蒸気・ミスト供給手段)
40a、42a、50a ノズル本体
40b、42b、50b ノズル孔
42 ジェットノズル
43 循環管路
44 ポンプ
45 ダンパ
46、63e、64e フィルタ
47、49、51 切換弁
49a 第1の処理液供給源
61、61a スピンチャック
62 モータ
63 処理液供給手段
63a 処理液供給ノズル
63b 処理液供給源
63c 処理液供給管路
63d 処理液供給ポンプ
63f、64g 温度コントローラ
64 蒸気・ミスト供給手段
64b 蒸気・ミスト供給源
64c 蒸気・ミスト供給管路
64d 流量コントローラ
65 CPU(制御手段)
66 カップ
68 排気口
69a、69b 移動機構
Claims (8)
- 硫酸を含む第1の処理液及び過酸化水素水を含む第2の処理液を用いて基板を処理する基板処理装置であって、
前記第1の処理液を常温より高温の状態で貯留する処理槽と、
前記処理槽の上方に配置され、前記第1の処理液及び前記第2の処理液を用いて基板を処理する処理容器と、
前記処理槽と前記処理容器との間で基板を昇降させる基板昇降機構と、
前記基板昇降機構によって基板を前記処理槽から引上げるか又は前記処理槽に浸漬させる際に、前記基板の前記処理槽に貯留された前記第1の処理液の液面近傍に、前記第2の処理液のミストを供給するミスト供給手段と
を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理槽からオーバーフローした前記第1の処理液を受け止める外槽と、
前記外槽から前記第1の処理液を回収し、再び前記処理槽に供給する処理液循環手段とを有することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記ミスト供給手段は、前記処理容器の内部であって前記処理槽に貯留された前記第1の処理液の液面の近傍に設けられることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記処理容器の内部に設けられ、前記処理容器内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を有することを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 前記不活性ガス供給手段は、前記ミスト供給手段の上方に設けられることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 硫酸を含む第1の処理液及び過酸化水素水を含む第2の処理液を用いて基板を処理する基板処理方法であって、
スピンチャックによって保持された前記基板に常温より高温の状態の前記第1の処理液を供給すること、処理槽に常温より高温の状態で貯留された前記第1の処理液に前記基板を浸漬すること又は前記処理槽の上方に配置された処理容器と該処理槽との間で前記基板を昇降させる基板昇降機構を用いて該第1の処理液から前記基板を引上げることによって、該基板に前記第1の処理液の液膜を形成する液膜形成工程と、
ミスト供給手段を用いて、前記基板の前記第1の処理液の液面近傍に、前記第2の処理液のミストを供給するミスト供給工程と
を有することを特徴とする基板処理方法。 - 気密可能に前記基板を処理する前記処理容器内に不活性ガスを供給することを特徴とする請求項6記載の基板処理方法。
- 前記第2の処理液の前記ミストを供給する前記ミスト供給手段より上方から前記不活性ガスを供給することを特徴とする請求項7記載の基板処理方法。
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