JP3325715B2 - 反射防止性を有する光学部材の製造方法 - Google Patents
反射防止性を有する光学部材の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、反射防止性を有する光
学部材の製造方法に関する。
学部材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より光学基材上に反射防止膜を施す
ことはよく知られている。その例として、特公平４−９
２８１号公報には、酸化アンチモンなどの微粒子状金属
酸化物と有機材料とを含む液状組成物を高屈折率層の形
成材料に、そして有機ケイ素化合物を含む液状材料を低
屈折率層の形成材料にして、これらの形成材料をプラス
チック基材上に順次塗布硬化して反射防止膜を形成する
方法が開示されている。
ことはよく知られている。その例として、特公平４−９
２８１号公報には、酸化アンチモンなどの微粒子状金属
酸化物と有機材料とを含む液状組成物を高屈折率層の形
成材料に、そして有機ケイ素化合物を含む液状材料を低
屈折率層の形成材料にして、これらの形成材料をプラス
チック基材上に順次塗布硬化して反射防止膜を形成する
方法が開示されている。
【０００３】また特公平６−５３２４号公報には、Ｔｉ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 などの金属酸化
物を用いて物理蒸着（ＰＶＤ）法によりプラスチック基
材上に単層または多層の反射防止膜を形成する方法が開
示されている。
Ｏ2 、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 などの金属酸化
物を用いて物理蒸着（ＰＶＤ）法によりプラスチック基
材上に単層または多層の反射防止膜を形成する方法が開
示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら特公平４
−９２８１号公報に開示されている反射防止膜の形成方
法では、最表層の低屈折率層が有機ケイ素化合物からな
るため耐擦傷性の向上には限界があった。またこの方法
は、高屈折率層用および低屈折率層用の液状のコーティ
ング組成物を予め調製する必要があり、これに通常２〜
３日要し、またコーティグ組成物の塗布硬化に通常２〜
３時間要するので、生産性に著しく劣るという欠点があ
る。また調製した液状のコーティング組成物は、低温で
保存しても経時的に劣化し、例えば調製後２ケ月経過し
たコーティング組成物を用いて形成された反射防止膜
は、調製直後のコーティング組成物を用いて形成された
反射防止膜に比べ、反射防止性、耐擦傷性、膜厚の均一
性において一段と劣るという欠点がある。
−９２８１号公報に開示されている反射防止膜の形成方
法では、最表層の低屈折率層が有機ケイ素化合物からな
るため耐擦傷性の向上には限界があった。またこの方法
は、高屈折率層用および低屈折率層用の液状のコーティ
ング組成物を予め調製する必要があり、これに通常２〜
３日要し、またコーティグ組成物の塗布硬化に通常２〜
３時間要するので、生産性に著しく劣るという欠点があ
る。また調製した液状のコーティング組成物は、低温で
保存しても経時的に劣化し、例えば調製後２ケ月経過し
たコーティング組成物を用いて形成された反射防止膜
は、調製直後のコーティング組成物を用いて形成された
反射防止膜に比べ、反射防止性、耐擦傷性、膜厚の均一
性において一段と劣るという欠点がある。
【０００５】また特公平６−５３２４号公報に開示され
た反射防止膜の形成方法は、プラスチック基材と反射防
止膜との密着性、耐熱性が十分でないという欠点があ
る。
た反射防止膜の形成方法は、プラスチック基材と反射防
止膜との密着性、耐熱性が十分でないという欠点があ
る。
【０００６】本発明は上述した課題を解決するためにな
されたもので、その目的は耐擦傷性、密着性および耐熱
性に優れた反射防止膜を有する光学部材を生産性良く製
造する方法を提供することにある。
されたもので、その目的は耐擦傷性、密着性および耐熱
性に優れた反射防止膜を有する光学部材を生産性良く製
造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであり、有機金属化合物の種
類および／または有機金属化合物に対する酸素ガスの相
対的供給量を変化させるプラズマ重合法により、光学基
材上に、膜厚がλ／４の低屈折率層、膜厚がλ／２の高
屈折率層および膜厚がλ／４の低屈折率層を順次有する
交互積層体または膜厚がλ／４の高屈折率層および膜厚
がλ／４の低屈折率層を順次有する交互積層体からなる
反射防止膜を形成する工程を含むことを特徴とする反射
防止性を有する光学部材の製造方法を要旨とする。
成するためになされたものであり、有機金属化合物の種
類および／または有機金属化合物に対する酸素ガスの相
対的供給量を変化させるプラズマ重合法により、光学基
材上に、膜厚がλ／４の低屈折率層、膜厚がλ／２の高
屈折率層および膜厚がλ／４の低屈折率層を順次有する
交互積層体または膜厚がλ／４の高屈折率層および膜厚
がλ／４の低屈折率層を順次有する交互積層体からなる
反射防止膜を形成する工程を含むことを特徴とする反射
防止性を有する光学部材の製造方法を要旨とする。
【０００８】以下本発明を詳説する。本発明の方法にお
いて反射防止膜が形成される光学基材としては、メチル
メタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１
種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノ
マーとの共重合体、イオウ含有重合体、ハロゲン含有共
重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリウレタンなどのプラスチック製光学基材、ある
いは無機ガラス製光学基板などが挙げられる。
いて反射防止膜が形成される光学基材としては、メチル
メタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１
種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノ
マーとの共重合体、イオウ含有重合体、ハロゲン含有共
重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリウレタンなどのプラスチック製光学基材、ある
いは無機ガラス製光学基板などが挙げられる。
【０００９】本発明の方法において用いられる光学基材
は、上記プラスチック製または無機ガラス製の光学基板
上にハードコート層またはプライマー層とハードコート
層を設けた状態の光学基材も包含される。
は、上記プラスチック製または無機ガラス製の光学基板
上にハードコート層またはプライマー層とハードコート
層を設けた状態の光学基材も包含される。
【００１０】本発明の方法によれば、上記光学基材上
に、高屈折率層と低屈折率層との交互積層体からなる反
射防止膜を形成するが、この反射防止膜の形成は、有機
金属化合物の種類および／または有機金属化合物に対す
る酸素ガスの相対的供給量を変化させるプラズマ重合法
により行なわれる。
に、高屈折率層と低屈折率層との交互積層体からなる反
射防止膜を形成するが、この反射防止膜の形成は、有機
金属化合物の種類および／または有機金属化合物に対す
る酸素ガスの相対的供給量を変化させるプラズマ重合法
により行なわれる。
【００１１】このプラズマ重合法に用いられる有機金属
化合物としては、テトラメチルジシロキサン、メチルト
リメトキシシラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジビニルシラン、ヘキサメチ
ルジシロキサン、ヘキサメチルシラザン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、トリメチ
ルビニルシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジエトキ
シジフェニルシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ト
リメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
テトラメチルシラン、メチルトリエトキシシラン、トリ
イソプロポキシビニルシラン、アリロキシトリメチルシ
ラン、アリルトリメチルシラン、アリルトリメトキシシ
ラン、アリルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン、フェニルシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリメチルシラン、アニリノトリ
メチルシラン、ヘキサエチルジシロキサン、アリルジメ
チルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、メトキシ
ジメチルビニルシラン、テトラビニルシラン、トリアセ
トキシビニルシラン、テトラビニルシラン、トリメチル
シリルイソシアネート、ジブトキシジアセトキシシラ
ン、フェニルトリビニルシラン、Ｎ−メチル−Ｎ−トリ
メチルシリアアセトアミドなどの有機ケイ素化合物や、
アルミニウムトリ−Ｓ−ブトキシド、テトラエチルオル
ソチタネート、テトラ−ｎ−プロピルオルソチタネー
ト、チタニウムテトライソプロプキシド、チタニウムテ
トラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウム−ｔ−ブトキシ
ド、テトラキス（トリメチルシロキシ）チタニウム、ジ
ルコニウム２−メチル−２−ブトキシドなどの他の有機
金属化合物が挙げられる。
化合物としては、テトラメチルジシロキサン、メチルト
リメトキシシラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジビニルシラン、ヘキサメチ
ルジシロキサン、ヘキサメチルシラザン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、トリメチ
ルビニルシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジエトキ
シジフェニルシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ト
リメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
テトラメチルシラン、メチルトリエトキシシラン、トリ
イソプロポキシビニルシラン、アリロキシトリメチルシ
ラン、アリルトリメチルシラン、アリルトリメトキシシ
ラン、アリルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン、フェニルシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリメチルシラン、アニリノトリ
メチルシラン、ヘキサエチルジシロキサン、アリルジメ
チルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、メトキシ
ジメチルビニルシラン、テトラビニルシラン、トリアセ
トキシビニルシラン、テトラビニルシラン、トリメチル
シリルイソシアネート、ジブトキシジアセトキシシラ
ン、フェニルトリビニルシラン、Ｎ−メチル−Ｎ−トリ
メチルシリアアセトアミドなどの有機ケイ素化合物や、
アルミニウムトリ−Ｓ−ブトキシド、テトラエチルオル
ソチタネート、テトラ−ｎ−プロピルオルソチタネー
ト、チタニウムテトライソプロプキシド、チタニウムテ
トラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウム−ｔ−ブトキシ
ド、テトラキス（トリメチルシロキシ）チタニウム、ジ
ルコニウム２−メチル−２−ブトキシドなどの他の有機
金属化合物が挙げられる。
【００１２】これらの有機金属化合物は、プラズマ重合
法により成膜したときに固有の屈折率を与える。従っ
て、反射防止膜を構成する高屈折率層の形成には、高屈
折率を付与する有機金属化合物が選択され、低屈折率層
の形成には、低屈折率を与える有機金属化合物が選択さ
れる。
法により成膜したときに固有の屈折率を与える。従っ
て、反射防止膜を構成する高屈折率層の形成には、高屈
折率を付与する有機金属化合物が選択され、低屈折率層
の形成には、低屈折率を与える有機金属化合物が選択さ
れる。
【００１３】高屈折率層形成用材料および低屈折率層形
成用材料は有機金属化合物の混合物でも良く、この場
合、混合物を構成する各有機金属化合物の屈折率および
混合比によって形成された膜の屈折率が決定される。有
機金属化合物の混合物を用いることによって膜の屈折率
を任意に調整できるというメリットがある。
成用材料は有機金属化合物の混合物でも良く、この場
合、混合物を構成する各有機金属化合物の屈折率および
混合比によって形成された膜の屈折率が決定される。有
機金属化合物の混合物を用いることによって膜の屈折率
を任意に調整できるというメリットがある。
【００１４】プラズマ重合法によって形成される膜の屈
折率は、有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給
量を変化させることによって変動させることができ、例
えば有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給量を
小さくすると（場合によっては酸素ガスを供給しなくて
もよい）、耐擦傷性は相対的に劣るが、高屈折率の膜が
形成され、一方有機金属化合物に対する酸素ガスの供給
量を多くすると、耐擦傷性に優れ、低屈折率の膜が形成
される。
折率は、有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給
量を変化させることによって変動させることができ、例
えば有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給量を
小さくすると（場合によっては酸素ガスを供給しなくて
もよい）、耐擦傷性は相対的に劣るが、高屈折率の膜が
形成され、一方有機金属化合物に対する酸素ガスの供給
量を多くすると、耐擦傷性に優れ、低屈折率の膜が形成
される。
【００１５】有機金属化合物またはその混合物を必要に
応じて酸素ガスとともに供給して高屈折率層を形成し、
次いで有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給量
を多くした状態で有機金属化合物またはその混合物と酸
素ガスを供給して低屈折率層を形成する、上記の方法に
おいて、両層の形成に用いる有機金属化合物は同一のも
のを用いれば、製造において複雑なコントロールを必要
とせず、製造上の好ましい態様の一つとなる。
応じて酸素ガスとともに供給して高屈折率層を形成し、
次いで有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給量
を多くした状態で有機金属化合物またはその混合物と酸
素ガスを供給して低屈折率層を形成する、上記の方法に
おいて、両層の形成に用いる有機金属化合物は同一のも
のを用いれば、製造において複雑なコントロールを必要
とせず、製造上の好ましい態様の一つとなる。
【００１６】なお本発明の方法において、反射防止膜の
形成に先立ち、光学基材との密着性をさらに高めるた
め、アルカリ処理、グロー放電により励起されるプラズ
マ処理あるいはイオンによる処理などの予備処理を行う
ことができる。
形成に先立ち、光学基材との密着性をさらに高めるた
め、アルカリ処理、グロー放電により励起されるプラズ
マ処理あるいはイオンによる処理などの予備処理を行う
ことができる。
【００１７】反射防止膜形成に際しての放電方式（直
流、低周波、高周波、マイクロ波等）、電極方式（内
部、外部、無電極）、投入電力波形制御（方形、三角波
等）はいずれでもよく、適時設定され特に限定はない。
流、低周波、高周波、マイクロ波等）、電極方式（内
部、外部、無電極）、投入電力波形制御（方形、三角波
等）はいずれでもよく、適時設定され特に限定はない。
【００１８】有機金属化合物ガスは酸素ガスの混合系と
して真空槽内へ導入することも、別々に導入したのち真
空槽内にて混合することも可能である。さらに有機金属
化合物ガスはアルゴン、キセノン、ネオン、ヘリウム等
の不活性ガスをキャリアガスとして真空槽へ導入するこ
とも可能である。
して真空槽内へ導入することも、別々に導入したのち真
空槽内にて混合することも可能である。さらに有機金属
化合物ガスはアルゴン、キセノン、ネオン、ヘリウム等
の不活性ガスをキャリアガスとして真空槽へ導入するこ
とも可能である。
【００１９】本発明の方法により得られる反射防止膜
は、高屈折率層と低屈折率層との交互積層体からなる。
高屈折率層と低屈折率層の２層体からなる場合は、光学
設計の理論上、低屈折率層が最表面層となる。２層体の
場合の好ましい膜厚はλ／４−λ／４である。３層体か
らなる場合は、光学基材上に低屈折率層、高屈折率層、
低屈折率層をこの順で設ける。３層体の場合の好ましい
膜厚はλ／４−λ／２−λ／４である。なお本発明にお
ける低屈折率層、高屈折率層とは、屈折率値で定められ
るものではなく、互いに接触した２つの層を比較して、
屈折率値の大きい方を高屈折率層、屈折率値の小さい方
を低屈折率層としている。
は、高屈折率層と低屈折率層との交互積層体からなる。
高屈折率層と低屈折率層の２層体からなる場合は、光学
設計の理論上、低屈折率層が最表面層となる。２層体の
場合の好ましい膜厚はλ／４−λ／４である。３層体か
らなる場合は、光学基材上に低屈折率層、高屈折率層、
低屈折率層をこの順で設ける。３層体の場合の好ましい
膜厚はλ／４−λ／２−λ／４である。なお本発明にお
ける低屈折率層、高屈折率層とは、屈折率値で定められ
るものではなく、互いに接触した２つの層を比較して、
屈折率値の大きい方を高屈折率層、屈折率値の小さい方
を低屈折率層としている。
【００２０】上述のように、本発明の方法において用い
られる光学基材は、プラスチック製または無機ガラス製
の光学基材上にハードコート層またはプライマー層とハ
ードコート層を設けた光学基材をも包含する。ここにハ
ードコート層とは、光学基材に耐擦傷性を付与するため
の層であり、このハードコート層の形成に先立ち設けら
れるプライマー層は、光学基板とハードコート層との間
の屈折率差を補償することにより、干渉縞の発生を防止
するためのものであり、プライマー層の屈折率は光学基
板接触部で光学基板の屈折率と一致または近似し、光学
基板側からハードコート層側に向けて連続的にまたは段
階的に変化し、ハードコート層接触部でハードコート層
と一致または近似している。
られる光学基材は、プラスチック製または無機ガラス製
の光学基材上にハードコート層またはプライマー層とハ
ードコート層を設けた光学基材をも包含する。ここにハ
ードコート層とは、光学基材に耐擦傷性を付与するため
の層であり、このハードコート層の形成に先立ち設けら
れるプライマー層は、光学基板とハードコート層との間
の屈折率差を補償することにより、干渉縞の発生を防止
するためのものであり、プライマー層の屈折率は光学基
板接触部で光学基板の屈折率と一致または近似し、光学
基板側からハードコート層側に向けて連続的にまたは段
階的に変化し、ハードコート層接触部でハードコート層
と一致または近似している。
【００２１】このハードコート層またはプライマー層と
ハードコート層の形成も、上記反射防止膜の形成に用い
たプラズマ重合法により行なうことができる。すなわ
ち、本発明の方法の一態様によれば、プライマー層、ハ
ードコート層、反射防止膜の形成を同一のプラズマ重合
装置内で真空を破らず実施できるという利点がある。
ハードコート層の形成も、上記反射防止膜の形成に用い
たプラズマ重合法により行なうことができる。すなわ
ち、本発明の方法の一態様によれば、プライマー層、ハ
ードコート層、反射防止膜の形成を同一のプラズマ重合
装置内で真空を破らず実施できるという利点がある。
【００２２】なお、プライマー層、ハードコート層の形
成に用いる有機金属化合物は、上記反射防止膜の形成に
用いた有機金属化合物の中から選択使用することができ
る。
成に用いる有機金属化合物は、上記反射防止膜の形成に
用いた有機金属化合物の中から選択使用することができ
る。
【００２３】本発明の方法において、光学基材上に直接
反射防止膜を設けた場合、反射防止膜上に撥水層などの
保護層を設けることができる。この保護層の形成方法と
しては、プラズマＣＶＤ法、ＰＶＤ法、保護液の塗布硬
化法などが挙げられる。
反射防止膜を設けた場合、反射防止膜上に撥水層などの
保護層を設けることができる。この保護層の形成方法と
しては、プラズマＣＶＤ法、ＰＶＤ法、保護液の塗布硬
化法などが挙げられる。
【００２４】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明す
る。
る。
【００２５】［実施例１］図１に示したプラズマＣＶＤ
装置において、真空槽１内にある絶縁された基材ホルダ
２にジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ベ
ンジルメタクリレートおよびジアリルテレフタレートの
三元共重合体よりなるレンズ基材３（屈折率１．５５）
をセットし、真空槽１内を排気バルブ４により０．００
１torrまで排気した。
装置において、真空槽１内にある絶縁された基材ホルダ
２にジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ベ
ンジルメタクリレートおよびジアリルテレフタレートの
三元共重合体よりなるレンズ基材３（屈折率１．５５）
をセットし、真空槽１内を排気バルブ４により０．００
１torrまで排気した。
【００２６】その後、１００℃に加熱された容器５から
フェニルジメチルシランガス０．０２５torrを、そして
５０℃に加熱された容器９からヘキサメチルジシロキサ
ンガス０．０１５torrを供給管６を通して導入した。そ
して、形成される層の屈折率が１．５８、膜厚がλ／４
となるように、真空槽１内の容量的に結合された電極
７，８に４００ワットの高周波電力（１３．５６MHz ）
を投入しＯ2 ガス流を５sccmにして３０秒間プラズマ重
合を行なって、高屈折率層を形成した。
フェニルジメチルシランガス０．０２５torrを、そして
５０℃に加熱された容器９からヘキサメチルジシロキサ
ンガス０．０１５torrを供給管６を通して導入した。そ
して、形成される層の屈折率が１．５８、膜厚がλ／４
となるように、真空槽１内の容量的に結合された電極
７，８に４００ワットの高周波電力（１３．５６MHz ）
を投入しＯ2 ガス流を５sccmにして３０秒間プラズマ重
合を行なって、高屈折率層を形成した。
【００２７】次に、形成される層の屈折率が１．４４、
膜厚がλ／４となるように、フェニルジメチルシランガ
スの供給を停止し、かつ電極７，８に投入される高周波
電力を２４０ワットに、Ｏ2 ガス流を５０sccmに変更し
た以外は前記高屈折率層形成条件と同一にして低屈折率
層を形成した。このようにしてレンズ基材上に高屈折率
層、低屈折率層とからなる反射防止膜を有する光学部材
を得た。
膜厚がλ／４となるように、フェニルジメチルシランガ
スの供給を停止し、かつ電極７，８に投入される高周波
電力を２４０ワットに、Ｏ2 ガス流を５０sccmに変更し
た以外は前記高屈折率層形成条件と同一にして低屈折率
層を形成した。このようにしてレンズ基材上に高屈折率
層、低屈折率層とからなる反射防止膜を有する光学部材
を得た。
【００２８】得られた反射防止膜付き光学部材の視感反
射率、耐擦傷性、密着性、耐熱性について下記の試験方
法により試験した。
射率、耐擦傷性、密着性、耐熱性について下記の試験方
法により試験した。
【００２９】Ａ．視感反射率：日立製作所製Ｕ３４１０
型自記分光光度計を用い光学部材の片面視感反射率
（％）を測定した。
型自記分光光度計を用い光学部材の片面視感反射率
（％）を測定した。
【００３０】Ｂ．耐擦傷性（スチールウールテスト） １cm2 当り５００ｇの荷重をかけた＃００００のスチー
ルウールでコート面を１０ストローク擦り、傷つき具合
を肉眼観察し、下記判定基準で耐擦傷性を評価した。 判定基準 ５：良好 ４：ＣＲ−３９（ジエチレングリコールビスアリルカー
ボネート単独重合体）レンズ素材より傷が少ない（ほぼ
良好） ３：ＣＲ−３９レンズ素材と同程度の傷がつく ２：傷が非常に多い １：反射防止膜が傷により剥離した
ルウールでコート面を１０ストローク擦り、傷つき具合
を肉眼観察し、下記判定基準で耐擦傷性を評価した。 判定基準 ５：良好 ４：ＣＲ−３９（ジエチレングリコールビスアリルカー
ボネート単独重合体）レンズ素材より傷が少ない（ほぼ
良好） ３：ＣＲ−３９レンズ素材と同程度の傷がつく ２：傷が非常に多い １：反射防止膜が傷により剥離した
【００３１】Ｃ．密着性（クロスカットテスト） 反射防止膜に１mm間隔の基材に達する切断線を縦、横そ
れぞれ１１本、ナイフで入れて１mm2 の目数を１００個
つくり、その上にセロハンテープを貼りつけ、急激には
がし、下記判定基準例のように評価した。 判定基準例 100 ／100 ：剥離しない目の数が１００個を意味する 0 ／100 ：剥離しない目の数が０個（全ての目が剥離し
たこと）を意味する
れぞれ１１本、ナイフで入れて１mm2 の目数を１００個
つくり、その上にセロハンテープを貼りつけ、急激には
がし、下記判定基準例のように評価した。 判定基準例 100 ／100 ：剥離しない目の数が１００個を意味する 0 ／100 ：剥離しない目の数が０個（全ての目が剥離し
たこと）を意味する
【００３２】Ｄ．耐熱性 反射防止膜付き光学部材をオーブンに１００℃、３０分
間入れて加熱した後、クラック発生の有無を調べた。
間入れて加熱した後、クラック発生の有無を調べた。
【００３３】実施例１の反射防止膜付き光学部材の試験
結果は表１にまとめて示した。表１より実施例１の反射
防止膜付き光学部材は視感反射率が１．８％であり反射
防止性に優れていた。また耐擦傷性（評価４）、密着性
（クロスカットテスト100 ／100 ）、耐熱性（クラック
発生なし）に優れていた。
結果は表１にまとめて示した。表１より実施例１の反射
防止膜付き光学部材は視感反射率が１．８％であり反射
防止性に優れていた。また耐擦傷性（評価４）、密着性
（クロスカットテスト100 ／100 ）、耐熱性（クラック
発生なし）に優れていた。
【００３４】また実施例１の反射防止膜付き光学部材の
接触角を常法により測定したところ、７８°であった。
接触角を常法により測定したところ、７８°であった。
【００３５】［実施例２］図１に示したプラズマＣＶＤ
装置において、真空槽１内の絶縁された基材ホルダ２に
光学基材３として、実施例１で用いたと同一のジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート、ジアリルテレフ
タレートおよびベンジルメタクリレートの共重合体から
なるレンズ（屈折率１．５５）をセットし、真空槽１内
を排気バルブ４により０．００１torrまで排気した。次
に、形成される層の屈折率が前記レンズの屈折率と同程
度となるように、１００℃に加熱された容器５からフェ
ニルジメチルシランガス０．０１０torrを、そして５０
℃に加熱された容器９からヘキサメチルジシロキサンガ
ス０．０１５torrを供給管６を通し導入した後、容量的
に結合された真空槽１内の電極７，８に２４０ワットの
高周波電力（１３．５６MHz ）を投入し６０秒間プラズ
マ重合を行なった。
装置において、真空槽１内の絶縁された基材ホルダ２に
光学基材３として、実施例１で用いたと同一のジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート、ジアリルテレフ
タレートおよびベンジルメタクリレートの共重合体から
なるレンズ（屈折率１．５５）をセットし、真空槽１内
を排気バルブ４により０．００１torrまで排気した。次
に、形成される層の屈折率が前記レンズの屈折率と同程
度となるように、１００℃に加熱された容器５からフェ
ニルジメチルシランガス０．０１０torrを、そして５０
℃に加熱された容器９からヘキサメチルジシロキサンガ
ス０．０１５torrを供給管６を通し導入した後、容量的
に結合された真空槽１内の電極７，８に２４０ワットの
高周波電力（１３．５６MHz ）を投入し６０秒間プラズ
マ重合を行なった。
【００３６】次に、形成される層の屈折率が基材側から
上方に向って前記レンズの屈折率と同程度の屈折率か
ら、１．４７〜１．４３程度の屈折率まで連続的に減少
するように、フェニルジメチルシランガスの供給を停止
すると同時にＯ2 ガス流５sccmを導入し、Ｏ2 ガス流を
５sccmから５０sccmまで連続的に上昇させながら、２４
０ワットの高周波電力のもとで継続して５分間プラズマ
重合によりプライマー層の形成を行なった。
上方に向って前記レンズの屈折率と同程度の屈折率か
ら、１．４７〜１．４３程度の屈折率まで連続的に減少
するように、フェニルジメチルシランガスの供給を停止
すると同時にＯ2 ガス流５sccmを導入し、Ｏ2 ガス流を
５sccmから５０sccmまで連続的に上昇させながら、２４
０ワットの高周波電力のもとで継続して５分間プラズマ
重合によりプライマー層の形成を行なった。
【００３７】その後、形成される層の屈折率が前記プラ
イマー層の表面の屈折率と同程度になるように、シラン
ガスの供給を続け、Ｏ2 ガス流を５０sccm一定に保持し
たまま２０分間プラズマ重合によりハードコート層の形
成を行った。
イマー層の表面の屈折率と同程度になるように、シラン
ガスの供給を続け、Ｏ2 ガス流を５０sccm一定に保持し
たまま２０分間プラズマ重合によりハードコート層の形
成を行った。
【００３８】次に、形成される層の屈折率が１．５８、
膜厚がλ／４となるように、ヘキサメチルジシロキサン
ガスと高周波電力の供給を一定としたままＯ2 ガス流を
５sccmへ変更し、同時にフェニルジメチルシランガスを
放電真空度が０．０１８torrになるまで導入し３０秒間
かけて、高屈折率層の形成を行った。
膜厚がλ／４となるように、ヘキサメチルジシロキサン
ガスと高周波電力の供給を一定としたままＯ2 ガス流を
５sccmへ変更し、同時にフェニルジメチルシランガスを
放電真空度が０．０１８torrになるまで導入し３０秒間
かけて、高屈折率層の形成を行った。
【００３９】次に、形成される層の屈折率が１．４５、
膜厚がλ／４となるように、フェニルジメチルシランガ
スの供給を停止すると同時にＯ2 ガス流を５０sccmまで
上昇させ６０秒間かけて、低屈折率層の膜形成を行っ
た。このように高屈折率層と低屈折率層を形成すること
によって反射防止膜を設けた。
膜厚がλ／４となるように、フェニルジメチルシランガ
スの供給を停止すると同時にＯ2 ガス流を５０sccmまで
上昇させ６０秒間かけて、低屈折率層の膜形成を行っ
た。このように高屈折率層と低屈折率層を形成すること
によって反射防止膜を設けた。
【００４０】このようにして得られた、レンズ基材上に
プライマー層、ハードコート層、反射防止膜を順次有す
る光学部材の視感反射率、耐擦傷性、密着性、耐熱性を
実施例１と同様に試験した結果を表１に示す。
プライマー層、ハードコート層、反射防止膜を順次有す
る光学部材の視感反射率、耐擦傷性、密着性、耐熱性を
実施例１と同様に試験した結果を表１に示す。
【００４１】表１より、実施例２の反射防止膜付き光学
部材も反射防止性、耐擦傷性、密着性、耐熱性に優れて
いることが明らかである。
部材も反射防止性、耐擦傷性、密着性、耐熱性に優れて
いることが明らかである。
【００４２】また実施例２の反射防止膜付き光学部品の
接触角を常法により測定したところ８２°であった。
接触角を常法により測定したところ８２°であった。
【００４３】またプラスチックレンズ基材とハードコー
ト層との間に、プラスチックレンズ基材側からハードコ
ート層に向けて屈折率が連続的に減少するプライマー層
を設けているため、干渉縞が観察されないという効果も
有する。
ト層との間に、プラスチックレンズ基材側からハードコ
ート層に向けて屈折率が連続的に減少するプライマー層
を設けているため、干渉縞が観察されないという効果も
有する。
【００４４】［比較例１］有機ケイ素化合物含有液状組
成物を用いてプラスチック基材上に反射防止膜を形成し
た。その詳細は以下のとおりである。
成物を用いてプラスチック基材上に反射防止膜を形成し
た。その詳細は以下のとおりである。
【００４５】(i) 高屈折率層用液状組成物の調製 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加水分解
物の２−メトキシエタノール溶液を２．６ｇ取り、これ
を酢酸３．０ｇとともに２−メトキシエタノール中に添
加し攪拌した後、メタノール分散五酸化アンチモンゾル
（日産化学工業（株）製ＡＭＴ−１３０、粒子径２０〜
６０ｍμ、Ｓｂ2 Ｏ5 ３１．２％）を９．４ｇ添加し、
さらに滑剤としてフッ素系界面活性剤（住友スリーエム
（株）製フロラードＦＣ−１７０Ｃ）を１０％含有する
２−メトキシエタノール溶液０．６ｇ及び硬化剤として
のアルミニウムアセチルアセトネート０．１５ｇを添加
し、室温で４時間攪拌した。得られた混合物を２０℃に
保持して２日間熟成して、高屈折率層用液状組成物（各
液状組成物の全量は９２．０ｇである）を得た。
物の２−メトキシエタノール溶液を２．６ｇ取り、これ
を酢酸３．０ｇとともに２−メトキシエタノール中に添
加し攪拌した後、メタノール分散五酸化アンチモンゾル
（日産化学工業（株）製ＡＭＴ−１３０、粒子径２０〜
６０ｍμ、Ｓｂ2 Ｏ5 ３１．２％）を９．４ｇ添加し、
さらに滑剤としてフッ素系界面活性剤（住友スリーエム
（株）製フロラードＦＣ−１７０Ｃ）を１０％含有する
２−メトキシエタノール溶液０．６ｇ及び硬化剤として
のアルミニウムアセチルアセトネート０．１５ｇを添加
し、室温で４時間攪拌した。得られた混合物を２０℃に
保持して２日間熟成して、高屈折率層用液状組成物（各
液状組成物の全量は９２．０ｇである）を得た。
【００４６】(ii)低屈折率層用液状組成物の調製 水分散コロイダルシリカ（触媒化成工業（株）ＳＩ−４
０、粒子径１６〜２０ｍμ、ＳｉＯ2 ４０〜４１％）を
２．１ｇ取り、これに、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランとγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシランとの同時加水分解物の２−メトキシエタノー
ル溶液を攪拌しながら２．８ｇ素早く添加し、さらに酢
酸０．５ｇ、２−メトキシエタノール２３．０ｇ、２−
プロパノール５．０ｇ、ｎ−ブタノール１８．０ｇの順
に添加、３０分攪拌し、次いで溶液を水冷しながらアル
ミニウムアセチルアセトネート０．１ｇ、フッ素系界面
活性剤（１０％ＦＣ−１７０Ｃ）０．０５ｇを添加し、
４時間攪拌を行ない、低屈折率層用液状組成物を得た。
０、粒子径１６〜２０ｍμ、ＳｉＯ2 ４０〜４１％）を
２．１ｇ取り、これに、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランとγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシランとの同時加水分解物の２−メトキシエタノー
ル溶液を攪拌しながら２．８ｇ素早く添加し、さらに酢
酸０．５ｇ、２−メトキシエタノール２３．０ｇ、２−
プロパノール５．０ｇ、ｎ−ブタノール１８．０ｇの順
に添加、３０分攪拌し、次いで溶液を水冷しながらアル
ミニウムアセチルアセトネート０．１ｇ、フッ素系界面
活性剤（１０％ＦＣ−１７０Ｃ）０．０５ｇを添加し、
４時間攪拌を行ない、低屈折率層用液状組成物を得た。
【００４７】(iii) 反射防止膜の形成 実施例１で用いたと同一のレンズ基材上に、上記(i) で
調製された高屈折率層用液状組成物をスピンコート法
（１３００rpm ）により塗布した後、１２０℃で２０分
加熱硬化させて高屈折率層を形成させた。
調製された高屈折率層用液状組成物をスピンコート法
（１３００rpm ）により塗布した後、１２０℃で２０分
加熱硬化させて高屈折率層を形成させた。
【００４８】次いで高屈折率層上に、上記(ii)で調製し
た低屈折率層用液状組成物をスピンコート法（１５００
rpm ）により塗布した後、１２０℃で２時間加熱硬化さ
せて高屈折率層を形成させて、反射防止膜付き光学部材
を得た。
た低屈折率層用液状組成物をスピンコート法（１５００
rpm ）により塗布した後、１２０℃で２時間加熱硬化さ
せて高屈折率層を形成させて、反射防止膜付き光学部材
を得た。
【００４９】比較例１によれば、コーティング液を用い
る方法は、コーティング液の調製に３日、反射防止膜の
形成に４時間以上かかり、生産性に劣ることが明らかと
なった。
る方法は、コーティング液の調製に３日、反射防止膜の
形成に４時間以上かかり、生産性に劣ることが明らかと
なった。
【００５０】得られた反射防止膜付き光学部材の視感反
射率、耐擦傷性、密着性、耐熱性について実施例１と同
様に試験した結果を表１に示す。
射率、耐擦傷性、密着性、耐熱性について実施例１と同
様に試験した結果を表１に示す。
【００５１】表１より、比較例１の反射防止膜付き光学
部材は、耐擦傷性が実施例１〜３のものよりも劣ってい
ることが明らかとなった。
部材は、耐擦傷性が実施例１〜３のものよりも劣ってい
ることが明らかとなった。
【００５２】［比較例２］比較例１の上記(i) および(i
i)で得られたコーティング液を５℃で２ケ月保存した
後、比較例１と同様にして基材上に塗布硬化して反射防
止膜を形成したが、表１より明らかなように、耐擦傷
性、密着性が著しく劣っていた。
i)で得られたコーティング液を５℃で２ケ月保存した
後、比較例１と同様にして基材上に塗布硬化して反射防
止膜を形成したが、表１より明らかなように、耐擦傷
性、密着性が著しく劣っていた。
【００５３】
【表１】
【００５４】
【発明の効果】本発明によれば、耐擦傷性、密着性およ
び耐熱性に優れた反射防止膜を有する光学部材を生産性
良く製造する方法が提供された。
び耐熱性に優れた反射防止膜を有する光学部材を生産性
良く製造する方法が提供された。
【図１】本発明の反射防止膜付き光学部材の製造に用い
たプラズマＣＶＤ装置の概略図
たプラズマＣＶＤ装置の概略図
１ 真空槽 ２ 基材ホルダ ３ レンズ基材 ４ 排気バルブ ５ 有機ケイ素化合物充填容器 ６ 供給管 ７，８ 電極 ９ 有機ケイ素化合物充填容器 １０ 酸素ガスボンベ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 1/10 - 1/12
Claims (6)
- 【請求項１】 有機金属化合物の種類および／または有
機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給量を変化さ
せるプラズマ重合法により、光学基材上に、膜厚がλ／
４の低屈折率層、膜厚がλ／２の高屈折率層および膜厚
がλ／４の低屈折率層を順次有する交互積層体または膜
厚がλ／４の高屈折率層および膜厚がλ／４の低屈折率
層を順次有する交互積層体からなる反射防止膜を形成す
る工程を含むことを特徴とする反射防止性を有する光学
部材の製造方法。 - 【請求項２】 高屈折率を付与する有機金属化合物また
はその混合物を、必要に応じて酸素を供給しながら、供
給し、プラズマ重合を行なって光学基材上に高屈折率層
を形成した後、低屈折率を付与する有機金属化合物また
はその混合物と酸素とを供給し、プラズマ重合を行なっ
て高屈折率層上に低屈折率層を形成する、請求項１に記
載の方法。 - 【請求項３】 有機金属化合物と酸素ガスを供給し、プ
ラズマ重合を行なって光学基材上に高屈折率層を形成し
た後、有機金属化合物に対する酸素ガスの相対的供給量
を多くした状態で有機金属化合物と酸素ガスを供給し、
プラズマ重合を行なって高屈折率層上に低屈折率層を形
成する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 高屈折率層の形成に用いる有機金属化合
物と低屈折率層の形成に用いる有機金属化合物が同一物
質である、請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】 光学基材が、プラスチック製または無機
ガラス製の光学基板上にハードコート層またはプライマ
ー層とハードコート層を設けた光学基材からなる、請求
項１〜４のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項６】 反射防止膜上に保護層を設ける工程を含
む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19957194A JP3325715B2 (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 反射防止性を有する光学部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19957194A JP3325715B2 (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 反射防止性を有する光学部材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0862401A JPH0862401A (ja) | 1996-03-08 |
| JP3325715B2 true JP3325715B2 (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=16410051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19957194A Expired - Fee Related JP3325715B2 (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 反射防止性を有する光学部材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3325715B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030071054A (ko) * | 2002-02-27 | 2003-09-03 | 주식회사 림스텍 | 플라스틱 렌즈의 플라즈마 코팅방법 및 이 플라즈마코팅방법을 적용한 플라스틱 렌즈 |
| US6852474B2 (en) * | 2002-04-30 | 2005-02-08 | Brewer Science Inc. | Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| US20050255410A1 (en) | 2004-04-29 | 2005-11-17 | Guerrero Douglas J | Anti-reflective coatings using vinyl ether crosslinkers |
| MY157487A (en) | 2008-10-17 | 2016-06-15 | Hitachi Chemical Co Ltd | Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member |
| US9640396B2 (en) | 2009-01-07 | 2017-05-02 | Brewer Science Inc. | Spin-on spacer materials for double- and triple-patterning lithography |
-
1994
- 1994-08-24 JP JP19957194A patent/JP3325715B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0862401A (ja) | 1996-03-08 |
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