JP3325640B2 - 高強度高導電率銅合金の製造方法 - Google Patents
高強度高導電率銅合金の製造方法Info
- Publication number
- JP3325640B2 JP3325640B2 JP07482193A JP7482193A JP3325640B2 JP 3325640 B2 JP3325640 B2 JP 3325640B2 JP 07482193 A JP07482193 A JP 07482193A JP 7482193 A JP7482193 A JP 7482193A JP 3325640 B2 JP3325640 B2 JP 3325640B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strength
- heat treatment
- copper alloy
- conductivity
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高強度高導電率銅合金
であるＣｕ−Ａｇ合金の製造方法に関し、特にＡｇ濃度
が１乃至１０重量％のＣｕ−Ａｇ合金の強度を向上させ
た高強度高導電率銅合金の製造方法に関する。
であるＣｕ−Ａｇ合金の製造方法に関し、特にＡｇ濃度
が１乃至１０重量％のＣｕ−Ａｇ合金の強度を向上させ
た高強度高導電率銅合金の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子部品等の軽量化、薄型化及び小型化
に伴い、近年、電子部品用電線も細線化してきていると
共に、この電子部品用電線には高強度と高導電率を兼ね
備えた特性が要求されている。しかし、導電材料用銅合
金の導電率と強度とは相反するものであり、強度を高め
るべく合金成分を添加すると、導電率が低下し、純度を
高めて導電率を高めると、強度が不足するというよう
に、高強度と高導電率とを両立させることは困難であ
る。
に伴い、近年、電子部品用電線も細線化してきていると
共に、この電子部品用電線には高強度と高導電率を兼ね
備えた特性が要求されている。しかし、導電材料用銅合
金の導電率と強度とは相反するものであり、強度を高め
るべく合金成分を添加すると、導電率が低下し、純度を
高めて導電率を高めると、強度が不足するというよう
に、高強度と高導電率とを両立させることは困難であ
る。
【０００３】而して、このような問題点を解決した高強
度高導電率銅合金として、４〜３２at％（６．５〜５２
重量％）のＡｇを含有する銅合金及びその製造方法が提
案されている（特開平4-120227号）。この銅合金は、Ｃ
ｕに４〜３２at％のＡｇを添加することにより、初晶Ｃ
ｕと、Ｃｕ及びＡｇの共晶相とを均一且つ微細に晶出さ
せたものである。そして、伸線加工を行うことにより、
初相Ｃｕと共晶相がフィラメント状に引き延ばされて、
Ｃｕ−Ａｇ合金の強度を向上させることができる。更
に、加工途中において、真空雰囲気又は不活性ガス中で
温度３００〜５５０℃、熱処理時間０．５〜４０時間の
条件で多段熱処理を施すことにより、初晶及び共晶相中
に固溶しているＡｇ及びＣｕを析出させ、強度と共に導
電率を向上させることを可能としている。
度高導電率銅合金として、４〜３２at％（６．５〜５２
重量％）のＡｇを含有する銅合金及びその製造方法が提
案されている（特開平4-120227号）。この銅合金は、Ｃ
ｕに４〜３２at％のＡｇを添加することにより、初晶Ｃ
ｕと、Ｃｕ及びＡｇの共晶相とを均一且つ微細に晶出さ
せたものである。そして、伸線加工を行うことにより、
初相Ｃｕと共晶相がフィラメント状に引き延ばされて、
Ｃｕ−Ａｇ合金の強度を向上させることができる。更
に、加工途中において、真空雰囲気又は不活性ガス中で
温度３００〜５５０℃、熱処理時間０．５〜４０時間の
条件で多段熱処理を施すことにより、初晶及び共晶相中
に固溶しているＡｇ及びＣｕを析出させ、強度と共に導
電率を向上させることを可能としている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の製造方法により高強度高導電率銅合金を製造する場
合、４at％（６．５重量％）以上のように比較的高濃度
のＡｇを添加してあるものは問題ないが、６．５重量％
以下のようなＡｇ添加量が少ないものは鋳造時のＣｕー
Ａｇ合金の共晶相の晶出量が少ないため、伸線後に多段
熱処理を行う際に、１回目の熱処理時にＣｕマトリクス
が再結晶してしまうという難点がある。この再結晶によ
り、銅合金の強度が著しく低下する。更に、添加Ａｇ量
が少ない場合、１回目の熱処理で初晶及び共晶相中に固
溶しているＡｇ及びＣｕの大部分が析出してしまうた
め、２回目以降の熱処理での析出物の量は少なく、熱処
理を行う効果が殆ど認められない。このため、６．５重
量％以下のようにＡｇ添加量が少ないＣｕ−Ａｇ合金に
おいては、熱処理によって強度を改善する効果が得られ
ず、高価なＡｇの添加及び熱処理コストが無駄であっ
た。
来の製造方法により高強度高導電率銅合金を製造する場
合、４at％（６．５重量％）以上のように比較的高濃度
のＡｇを添加してあるものは問題ないが、６．５重量％
以下のようなＡｇ添加量が少ないものは鋳造時のＣｕー
Ａｇ合金の共晶相の晶出量が少ないため、伸線後に多段
熱処理を行う際に、１回目の熱処理時にＣｕマトリクス
が再結晶してしまうという難点がある。この再結晶によ
り、銅合金の強度が著しく低下する。更に、添加Ａｇ量
が少ない場合、１回目の熱処理で初晶及び共晶相中に固
溶しているＡｇ及びＣｕの大部分が析出してしまうた
め、２回目以降の熱処理での析出物の量は少なく、熱処
理を行う効果が殆ど認められない。このため、６．５重
量％以下のようにＡｇ添加量が少ないＣｕ−Ａｇ合金に
おいては、熱処理によって強度を改善する効果が得られ
ず、高価なＡｇの添加及び熱処理コストが無駄であっ
た。
【０００５】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、比較的低濃度のＡｇを含有する銅合金にお
いても、その強度を高めることができ、強度及び導電率
の双方を改善することができる高強度高導電率銅合金の
製造方法を提供することを目的とする。
のであって、比較的低濃度のＡｇを含有する銅合金にお
いても、その強度を高めることができ、強度及び導電率
の双方を改善することができる高強度高導電率銅合金の
製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る高強度高導
電率銅合金の製造方法は、１乃至１０重量％のＡｇを含
有し、残部がＣｕ及び不可避的不純物からなる銅合金組
成の鋳塊に７００乃至９５０℃で熱間加工を施し、更に
冷間加工を行い、この冷間加工の途中で、真空雰囲気又
は不活性ガス雰囲気中で、２５０℃以上４００℃未満の
温度で０．５乃至４０時間にわたり熱処理を施すことを
特徴とする。
電率銅合金の製造方法は、１乃至１０重量％のＡｇを含
有し、残部がＣｕ及び不可避的不純物からなる銅合金組
成の鋳塊に７００乃至９５０℃で熱間加工を施し、更に
冷間加工を行い、この冷間加工の途中で、真空雰囲気又
は不活性ガス雰囲気中で、２５０℃以上４００℃未満の
温度で０．５乃至４０時間にわたり熱処理を施すことを
特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明においては、１乃至１０重量％のＡｇを
Ｃｕに添加し、鋳込んだ後、熱間加工することにより、
鋳造時に生成した共晶相をＣｕマトリクス中に固溶さ
せ、Ｃｕマトリクスを再結晶させて粒界を細かくする。
その後、冷間加工し、再結晶が起こらないよう低温側で
の熱処理を施すと、Ｃｕマトリクス中に固溶しているＡ
ｇが微細に析出し、その結果、強度と共に導電率をも向
上させることができる。
Ｃｕに添加し、鋳込んだ後、熱間加工することにより、
鋳造時に生成した共晶相をＣｕマトリクス中に固溶さ
せ、Ｃｕマトリクスを再結晶させて粒界を細かくする。
その後、冷間加工し、再結晶が起こらないよう低温側で
の熱処理を施すと、Ｃｕマトリクス中に固溶しているＡ
ｇが微細に析出し、その結果、強度と共に導電率をも向
上させることができる。
【０００８】本発明においては、Ａｇの添加量は１乃至
１０重量％である。Ａｇ含有量が１重量％未満の場合で
は、Ａｇの析出量が極めて少なくなるため、熱処理によ
る特性改善の効果を殆ど得ることができない。逆に、Ａ
ｇの添加量が１０重量％を超えると、低温側の析出を目
的とした熱処理を施した際に十分な析出が得られ、再結
晶も起こりにくいので、熱間加工を特に行わなくても、
強度の著しい低下は見られなくなり、高価なＡｇの過剰
の添加は無駄である。以上の点から、Ａｇの添加量は１
乃至１０重量％とする。なお、本願発明においては、Ａ
ｇ以外の種々の成分の存在は、不純物量程度であれば、
合金の特性上さしつかえない。
１０重量％である。Ａｇ含有量が１重量％未満の場合で
は、Ａｇの析出量が極めて少なくなるため、熱処理によ
る特性改善の効果を殆ど得ることができない。逆に、Ａ
ｇの添加量が１０重量％を超えると、低温側の析出を目
的とした熱処理を施した際に十分な析出が得られ、再結
晶も起こりにくいので、熱間加工を特に行わなくても、
強度の著しい低下は見られなくなり、高価なＡｇの過剰
の添加は無駄である。以上の点から、Ａｇの添加量は１
乃至１０重量％とする。なお、本願発明においては、Ａ
ｇ以外の種々の成分の存在は、不純物量程度であれば、
合金の特性上さしつかえない。
【０００９】本願発明においては、熱間加工の温度範囲
が７００乃至９５０℃である。７００℃未満の温度で熱
間加工を行うと、鋳造時に生成した共晶相がＣｕマトリ
クス中に固溶しきらず、次の低温側での熱処理時に析出
するＡｇの量が少ないため、強度が上がらない。また、
熱間加工温度が９５０℃を超える場合には、合金が一部
溶融してしまう。
が７００乃至９５０℃である。７００℃未満の温度で熱
間加工を行うと、鋳造時に生成した共晶相がＣｕマトリ
クス中に固溶しきらず、次の低温側での熱処理時に析出
するＡｇの量が少ないため、強度が上がらない。また、
熱間加工温度が９５０℃を超える場合には、合金が一部
溶融してしまう。
【００１０】このＣｕ−Ａｇ合金は鋳造後、７００乃至
９５０℃の高温で熱間加工した後、冷間加工を行い、更
に２５０℃以上４００℃の未満の低温側での熱処理によ
ってＡｇを析出させ、強度と導電率を上昇させている。
この低温側での熱処理の温度が２５０℃未満の場合は、
Ａｇの十分な析出が実用的な時間では起こらない。ま
た、熱処理時間が４００℃以上の場合は、Ｃｕマトリク
スの再結晶が発生し、強度が低下してしまう。
９５０℃の高温で熱間加工した後、冷間加工を行い、更
に２５０℃以上４００℃の未満の低温側での熱処理によ
ってＡｇを析出させ、強度と導電率を上昇させている。
この低温側での熱処理の温度が２５０℃未満の場合は、
Ａｇの十分な析出が実用的な時間では起こらない。ま
た、熱処理時間が４００℃以上の場合は、Ｃｕマトリク
スの再結晶が発生し、強度が低下してしまう。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について、その比較例
と比較して説明する。Ｃｕに１〜１０重量％の範囲の種
々の割合でＡｇを添加し、真空又は不活性ガス雰囲気中
でＣｕ−Ａｇ合金の鋳塊を溶製した。次いで、この鋳塊
の表面を研削した後、スウェージングによる熱間加工を
７００℃、８００℃、９００℃の温度で夫々減面率５０
％まで行った。
と比較して説明する。Ｃｕに１〜１０重量％の範囲の種
々の割合でＡｇを添加し、真空又は不活性ガス雰囲気中
でＣｕ−Ａｇ合金の鋳塊を溶製した。次いで、この鋳塊
の表面を研削した後、スウェージングによる熱間加工を
７００℃、８００℃、９００℃の温度で夫々減面率５０
％まで行った。
【００１２】更に、減面率７０％まで冷間伸線加工を施
し、その後２５０℃〜４００℃で０．５〜５時間の熱処
理を施した。更に、減面率８０％まで冷間伸線加工を施
した後、再度２５０〜４００℃で０．５〜１時間の熱処
理を施したものも作製した。熱処理後、再び伸線加工を
行い、所定の径で室温での引張試験及び導電率測定を行
った。
し、その後２５０℃〜４００℃で０．５〜５時間の熱処
理を施した。更に、減面率８０％まで冷間伸線加工を施
した後、再度２５０〜４００℃で０．５〜１時間の熱処
理を施したものも作製した。熱処理後、再び伸線加工を
行い、所定の径で室温での引張試験及び導電率測定を行
った。
【００１３】図１は、横軸にＡｇ添加量（重量％）をと
り、縦軸に引張強さ（ｋｇｆ／ｍｍ2）をとって、９
９．３％の減面率まで伸線加工した場合の、Ａｇ添加量
と、引張強さ及び導電率との関係を示すグラフ図であ
る。図１中白抜き○、□は本発明にて規定した熱間加工
を行った後、冷間伸線加工した場合、黒●、■は従来の
ように熱間加工せずに冷間伸線とその途中の熱処理のみ
を施した場合である。本発明の場合は、従来法と比較す
ると、導電率が低下することなく、強度が大きく上昇し
ている。特に、Ａｇ添加量が１〜７重量％という低Ａｇ
含有量の場合にも引張強さが極めて高い。
り、縦軸に引張強さ（ｋｇｆ／ｍｍ2）をとって、９
９．３％の減面率まで伸線加工した場合の、Ａｇ添加量
と、引張強さ及び導電率との関係を示すグラフ図であ
る。図１中白抜き○、□は本発明にて規定した熱間加工
を行った後、冷間伸線加工した場合、黒●、■は従来の
ように熱間加工せずに冷間伸線とその途中の熱処理のみ
を施した場合である。本発明の場合は、従来法と比較す
ると、導電率が低下することなく、強度が大きく上昇し
ている。特に、Ａｇ添加量が１〜７重量％という低Ａｇ
含有量の場合にも引張強さが極めて高い。
【００１４】また、図２はＣｕ−５重量％Ａｇ合金の伸
線加工の減面率に対する強度の変化を示したものであ
る。図中の曲線２は非熱処理材を示し、曲線３は減面率
７０％まで冷間伸線加工し、その後４５０℃で１時間の
熱処理を行った後、再度伸線加工したもの、曲線１は本
実施例にて減面率５０％まで８００℃で熱間加工（スウ
ェージング）を行い、その後冷間伸線加工し、減面率７
０％において、３５０℃で３時間の熱処理を行った後、
再度伸線加工したものを示している。非熱処理材（曲線
２）及び低温側の熱処理のみを行ったもの（曲線３）と
比較して、熱間加工及び低温側の熱処理を併せて行った
もの（曲線１）は、最終製品において、強度が高いこと
がわかる。
線加工の減面率に対する強度の変化を示したものであ
る。図中の曲線２は非熱処理材を示し、曲線３は減面率
７０％まで冷間伸線加工し、その後４５０℃で１時間の
熱処理を行った後、再度伸線加工したもの、曲線１は本
実施例にて減面率５０％まで８００℃で熱間加工（スウ
ェージング）を行い、その後冷間伸線加工し、減面率７
０％において、３５０℃で３時間の熱処理を行った後、
再度伸線加工したものを示している。非熱処理材（曲線
２）及び低温側の熱処理のみを行ったもの（曲線３）と
比較して、熱間加工及び低温側の熱処理を併せて行った
もの（曲線１）は、最終製品において、強度が高いこと
がわかる。
【００１５】また、下記表１はＣｕ−３重量％Ａｇ合金
の強度と導電率に及ぼす熱間加工及び熱処理の効果を示
したものである。熱間加工及び熱処理条件により強度及
び導電率が著しく変化し、熱間加工（スウェージング）
を行ってから低温側で熱処理を行ったものが導電率を低
下させずに強度を向上させていることがわかる。
の強度と導電率に及ぼす熱間加工及び熱処理の効果を示
したものである。熱間加工及び熱処理条件により強度及
び導電率が著しく変化し、熱間加工（スウェージング）
を行ってから低温側で熱処理を行ったものが導電率を低
下させずに強度を向上させていることがわかる。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は鋳塊の熱
間加工（スウェージング）を７００乃至９５０℃の温度
で行い、更に、冷間加工の途中で２５０℃以上４００℃
未満の熱処理を０．５乃至５時間行うことにより、低濃
度のＡｇを添加したＣｕ合金において、導電率を低下さ
せることなく、強度を著しく向上させることができる。
その結果、比較的安価に高強度及び高導電性を兼ね備え
た線材を得ることができる。
間加工（スウェージング）を７００乃至９５０℃の温度
で行い、更に、冷間加工の途中で２５０℃以上４００℃
未満の熱処理を０．５乃至５時間行うことにより、低濃
度のＡｇを添加したＣｕ合金において、導電率を低下さ
せることなく、強度を著しく向上させることができる。
その結果、比較的安価に高強度及び高導電性を兼ね備え
た線材を得ることができる。
【図１】Ａｇ添加量と引張強さ及び導電率との関係を本
発明方法と従来方法との場合を比較して示すグラフ図で
ある。
発明方法と従来方法との場合を比較して示すグラフ図で
ある。
【図２】減面率に対する強度の変化を、本発明方法、従
来方法及び熱処理なしの場合と比較して示すグラフ図で
ある。
来方法及び熱処理なしの場合と比較して示すグラフ図で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−93398（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−93399（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−192801（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−192802（ＪＰ，Ａ) 特公 昭51−34371（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C22F 1/08 C22C 9/00 - 9/10
Claims (1)
- 【請求項１】 １乃至１０重量％のＡｇを含有し、残部
がＣｕ及び不可避的不純物からなる銅合金組成の鋳塊に
７００乃至９５０℃で熱間加工を施し、更に冷間加工を
行い、この冷間加工の途中で、真空雰囲気又は不活性ガ
ス雰囲気中で、２５０℃以上４００℃未満の温度で０．
５乃至４０時間にわたり熱処理を施すことを特徴とする
高強度高導電率銅合金の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07482193A JP3325640B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 高強度高導電率銅合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07482193A JP3325640B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 高強度高導電率銅合金の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06287728A JPH06287728A (ja) | 1994-10-11 |
| JP3325640B2 true JP3325640B2 (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=13558368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07482193A Expired - Lifetime JP3325640B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 高強度高導電率銅合金の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3325640B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241872A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-28 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 耐屈曲性導線及びその製造方法 |
| JP4311277B2 (ja) | 2004-05-24 | 2009-08-12 | 日立電線株式会社 | 極細銅合金線の製造方法 |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP07482193A patent/JP3325640B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06287728A (ja) | 1994-10-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3273613B2 (ja) | 高い強さおよび導電率を有する銅合金の製造方法 | |
| US2842438A (en) | Copper-zirconium alloys | |
| JP5051647B2 (ja) | 高強度・高導電率Ｃｕ−Ａｇ合金細線とその製造方法 | |
| JPH0841612A (ja) | 銅合金およびその製造方法 | |
| JP3383615B2 (ja) | 電子材料用銅合金及びその製造方法 | |
| WO2012132765A1 (ja) | 電子材料用Ｃｕ－Ｓｉ－Ｃｏ系銅合金及びその製造方法 | |
| JP2002241873A (ja) | 高強度・高導電性銅合金および銅合金材の製造方法 | |
| US5322574A (en) | Method of manufacturing a high strength, high conductivity copper-silver alloy | |
| JP3325639B2 (ja) | 高強度高導電率銅合金の製造方法 | |
| JPS6216269B2 (ja) | ||
| JP3376840B2 (ja) | 銅合金材の製造方法 | |
| JP3325641B2 (ja) | 高強度高導電率銅合金の製造方法 | |
| JP3325640B2 (ja) | 高強度高導電率銅合金の製造方法 | |
| JP4144188B2 (ja) | 導電用耐熱アルミニウム合金線の製造方法 | |
| JP3325638B2 (ja) | 高強度高導電率銅合金の製造方法 | |
| JPH0635633B2 (ja) | 電気および電子部品用銅合金及びその製造方法 | |
| JP3302840B2 (ja) | 伸び特性及び屈曲特性に優れた導電用高力銅合金、及びその製造方法 | |
| JPH0125822B2 (ja) | ||
| JPH09176808A (ja) | 析出硬化形の銅合金の製造方法 | |
| JP3320455B2 (ja) | Ｃｕ−Ａｇ合金導体の製造方法 | |
| JP3407527B2 (ja) | 電子機器用銅合金材 | |
| JP2945208B2 (ja) | 電気電子機器用銅合金の製造方法 | |
| JP3333654B2 (ja) | 伸び特性及び屈曲特性に優れた導電用高力銅合金、及びその製造方法 | |
| JPH09143597A (ja) | リードフレーム用銅合金およびその製造法 | |
| JPH10152736A (ja) | 銅合金材及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080705 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090705 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090705 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100705 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110705 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110705 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120705 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120705 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130705 Year of fee payment: 11 |