JP3314993B2 - 溶融金属清浄化装置 - Google Patents
溶融金属清浄化装置Info
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- JP3314993B2 JP3314993B2 JP22057493A JP22057493A JP3314993B2 JP 3314993 B2 JP3314993 B2 JP 3314993B2 JP 22057493 A JP22057493 A JP 22057493A JP 22057493 A JP22057493 A JP 22057493A JP 3314993 B2 JP3314993 B2 JP 3314993B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶融金属清浄化装置に
関するもので、特にアルミニウム溶湯の脱ガス及び介在
物除去に用いるインペラ（ローター）に関するものでも
のである。
関するもので、特にアルミニウム溶湯の脱ガス及び介在
物除去に用いるインペラ（ローター）に関するものでも
のである。
【０００２】
【従来技術】従来公知の、特開昭６３−３０３０１４号
公報には、窒素、アルゴン等の不活性ガス、あるいは、
これに塩素ガスを混合した不活性ガス（一般に、フラキ
シングガスと呼ばれる）を供給しながら、アルミニウム
やアルミニウム合金溶湯（以下アルミニウム溶湯とい
う）をインペラで撹拌して、アルミニウム溶湯中に浮遊
する水素ガス等のガス抜き、酸化物等の介在物の除去を
行なう清浄化装置について記載されている。上記公知例
に記載された清浄化装置の構造は、図１、図２のようで
あり、ａは耐火物で形成された溶湯処理槽、ｂは入湯
口、ｃは出湯口、ｄはアルミニウム溶湯、ｅは浮上滓の
分離取出室、ｆは浮上滓、ｇは溶湯処理槽ａの中心部に
設けた耐火物の垂直中空回転軸、ｈは垂直中空回転軸ｃ
の下端に螺合したインペラである。上記公知例の、イン
ペラｈの拡大図は、図３と図４のようであり、前記回転
軸ｇの下端ｉのネジ部に下方から螺合するネジ溝を有す
る円筒部ｊと、該円筒部ｊの上縁より鍔状に突出する正
円形の水平円盤部ｋと、該円盤部ｋの下面側に設けた放
射状の羽根ｎとから形成されている。図５〜６のもの
は、実開平４−１２３２５０号公報に記載されたインペ
ラｈで、円筒部ｊの直径を極端に大にして円盤部ｋと兼
用にし、円筒部ｊと円盤部ｋの下面側は面一水平面と
し、円筒部ｊと円盤部ｋの上面側は外側程低くなる傾斜
面とし、円盤部ｋの外周よりこれをそのまま延長するよ
うに放射状に撹拌羽根ｐを８本程突出させ、回転軸ｇか
ら撹拌羽根ｐの先端まで凹溝ｍを形成したものである。
公報には、窒素、アルゴン等の不活性ガス、あるいは、
これに塩素ガスを混合した不活性ガス（一般に、フラキ
シングガスと呼ばれる）を供給しながら、アルミニウム
やアルミニウム合金溶湯（以下アルミニウム溶湯とい
う）をインペラで撹拌して、アルミニウム溶湯中に浮遊
する水素ガス等のガス抜き、酸化物等の介在物の除去を
行なう清浄化装置について記載されている。上記公知例
に記載された清浄化装置の構造は、図１、図２のようで
あり、ａは耐火物で形成された溶湯処理槽、ｂは入湯
口、ｃは出湯口、ｄはアルミニウム溶湯、ｅは浮上滓の
分離取出室、ｆは浮上滓、ｇは溶湯処理槽ａの中心部に
設けた耐火物の垂直中空回転軸、ｈは垂直中空回転軸ｃ
の下端に螺合したインペラである。上記公知例の、イン
ペラｈの拡大図は、図３と図４のようであり、前記回転
軸ｇの下端ｉのネジ部に下方から螺合するネジ溝を有す
る円筒部ｊと、該円筒部ｊの上縁より鍔状に突出する正
円形の水平円盤部ｋと、該円盤部ｋの下面側に設けた放
射状の羽根ｎとから形成されている。図５〜６のもの
は、実開平４−１２３２５０号公報に記載されたインペ
ラｈで、円筒部ｊの直径を極端に大にして円盤部ｋと兼
用にし、円筒部ｊと円盤部ｋの下面側は面一水平面と
し、円筒部ｊと円盤部ｋの上面側は外側程低くなる傾斜
面とし、円盤部ｋの外周よりこれをそのまま延長するよ
うに放射状に撹拌羽根ｐを８本程突出させ、回転軸ｇか
ら撹拌羽根ｐの先端まで凹溝ｍを形成したものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記公知例は、いずれ
も、脱ガス効果の他に、インペラ円筒部ｊと円盤部ｋの
ひび割れという課題を有している。例えば、図３、図４
に図示した公知例は、インペラｈについては耐火物とだ
け記載されていて、その材質については特に記載されて
いないが、実際はカーボンで作られていたものである。
インペラｈをカーボン製とした理由は、７００℃を越え
る高温のアルミニウム溶湯中に予熱なしで投入したり、
使用後溶湯中からいきなり引抜いたりしても、熱衝撃に
よるひび割れが生じないようにするためである。しか
し、カーボン製のインペラｈは、脱ガス効果を上げる目
的で３００rpm 〜８００rpm もの高速で回転させると、
必然的に摩耗が著しくまた耐酸化性も弱く短命であり、
交換頻度は高く、頻繁な交換のため作業性も低下し、経
済的にも不利であった。インペラｈを高速で回転させて
も、耐摩耗性及び耐酸化性に充分耐えるようにするため
には、カーボン製ではなくセラミック材、例えば窒化珪
素、又はサイアロン系セラミックとしなければならな
い。しかし、インペラｈをセラミック製にすると、前記
のように、高温のアルミニウム溶湯に予熱なしで投入し
たり、使用後高温度の溶湯中からいきなり引抜いたりす
ると、円盤部ｋにひび割れ（図４、図６のｓの部分）が
生ずる。このひび割れｓは、内側の肉の厚い円筒部ｊの
部分に発生する。それは、円筒部ｊの部分は肉厚が大で
あって、熱容量が大きいから加熱冷却のときの膨張収縮
が不均一になり、そのため、円筒部ｊと周縁部との熱応
力が大きく、熱的スポーリングに対して弱いと考えられ
る。また、図５〜６のインペラｈは、基本的には、凹溝
ｍにより誘導されたガスを凹溝ｍの終端（外縁）で微細
化するようにしたものであるが、ガス量が適正であれば
微細化されるが、多くなるとガスははみ出して微細化さ
れず、脱ガス効果に問題があった。
も、脱ガス効果の他に、インペラ円筒部ｊと円盤部ｋの
ひび割れという課題を有している。例えば、図３、図４
に図示した公知例は、インペラｈについては耐火物とだ
け記載されていて、その材質については特に記載されて
いないが、実際はカーボンで作られていたものである。
インペラｈをカーボン製とした理由は、７００℃を越え
る高温のアルミニウム溶湯中に予熱なしで投入したり、
使用後溶湯中からいきなり引抜いたりしても、熱衝撃に
よるひび割れが生じないようにするためである。しか
し、カーボン製のインペラｈは、脱ガス効果を上げる目
的で３００rpm 〜８００rpm もの高速で回転させると、
必然的に摩耗が著しくまた耐酸化性も弱く短命であり、
交換頻度は高く、頻繁な交換のため作業性も低下し、経
済的にも不利であった。インペラｈを高速で回転させて
も、耐摩耗性及び耐酸化性に充分耐えるようにするため
には、カーボン製ではなくセラミック材、例えば窒化珪
素、又はサイアロン系セラミックとしなければならな
い。しかし、インペラｈをセラミック製にすると、前記
のように、高温のアルミニウム溶湯に予熱なしで投入し
たり、使用後高温度の溶湯中からいきなり引抜いたりす
ると、円盤部ｋにひび割れ（図４、図６のｓの部分）が
生ずる。このひび割れｓは、内側の肉の厚い円筒部ｊの
部分に発生する。それは、円筒部ｊの部分は肉厚が大で
あって、熱容量が大きいから加熱冷却のときの膨張収縮
が不均一になり、そのため、円筒部ｊと周縁部との熱応
力が大きく、熱的スポーリングに対して弱いと考えられ
る。また、図５〜６のインペラｈは、基本的には、凹溝
ｍにより誘導されたガスを凹溝ｍの終端（外縁）で微細
化するようにしたものであるが、ガス量が適正であれば
微細化されるが、多くなるとガスははみ出して微細化さ
れず、脱ガス効果に問題があった。
【０００４】
【発明の目的】ひび割れが生じ難く、脱ガス効果の高い
溶融金属清浄化装置を得る。
溶融金属清浄化装置を得る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】よって、本発明は、溶湯
処理室４に設けられフラキシングガス供給通路を兼ねる
垂直中空回転軸１３と、前記回転軸１３の下方に任意の
手段で固定されるインペラ１４とを有し、前記インペラ
１４は、円盤部１９と、該円盤部１９に設けられ前記回
転軸１３の放射方向に伸びる複数の羽根２０とを持つも
のにおいて、前記円盤部１９は同一厚みで正円形の水平
盤とし、前記羽根２０は前記円盤部１９の中心部近傍を
除いて前記円盤部１９の中心側から前記円盤部１９の外
周縁２１に向けて伸びるように前記円盤部１９の下面側
に形成し、前記羽根２０の下方突出長さは中心側は長く
前記外周縁２１に至るに従い短かくし、前記回転軸１３
の下端２３には前記フラキシングガスが放出される開口
を形成し、前記下端２３は前記円盤部１９の中心部を突
抜けて前記円盤部１９の下面２７と前記羽根２０の内方
下端２６との間まで下方に突出させて前記溶湯処理室４
内の溶湯金属中に直接浸漬させ、前記回転軸１３の前記
下端２３と前記羽根２０の内端縁２４との間にガス溜部
２５を形成した溶融金属清浄化装置としたものである。
また、本発明は、前記装置において、前記垂直中空回転
軸１３の下部には該回転軸１３より僅かに小径の小径部
１５を形成して該小径部１５の外面にネジ１７を刻設
し、前記円盤部１９の中心には前記ネジ１７に螺合する
ネジ孔１８を形成した溶融金属清浄化装置としたもので
ある。
処理室４に設けられフラキシングガス供給通路を兼ねる
垂直中空回転軸１３と、前記回転軸１３の下方に任意の
手段で固定されるインペラ１４とを有し、前記インペラ
１４は、円盤部１９と、該円盤部１９に設けられ前記回
転軸１３の放射方向に伸びる複数の羽根２０とを持つも
のにおいて、前記円盤部１９は同一厚みで正円形の水平
盤とし、前記羽根２０は前記円盤部１９の中心部近傍を
除いて前記円盤部１９の中心側から前記円盤部１９の外
周縁２１に向けて伸びるように前記円盤部１９の下面側
に形成し、前記羽根２０の下方突出長さは中心側は長く
前記外周縁２１に至るに従い短かくし、前記回転軸１３
の下端２３には前記フラキシングガスが放出される開口
を形成し、前記下端２３は前記円盤部１９の中心部を突
抜けて前記円盤部１９の下面２７と前記羽根２０の内方
下端２６との間まで下方に突出させて前記溶湯処理室４
内の溶湯金属中に直接浸漬させ、前記回転軸１３の前記
下端２３と前記羽根２０の内端縁２４との間にガス溜部
２５を形成した溶融金属清浄化装置としたものである。
また、本発明は、前記装置において、前記垂直中空回転
軸１３の下部には該回転軸１３より僅かに小径の小径部
１５を形成して該小径部１５の外面にネジ１７を刻設
し、前記円盤部１９の中心には前記ネジ１７に螺合する
ネジ孔１８を形成した溶融金属清浄化装置としたもので
ある。
【０００６】
【実施例】本発明の一実施例を図面により説明すると、
溶湯処理装置は公知例と同一でも差支えなく、図７、８
において、１はアルミニウム溶湯の溶湯処理槽で、耐火
物で形成されている周壁２と底壁３で囲まれた処理室４
と、浮上滓５（スキム）の分離取出室６とを有する。処
理室４にはアルミニウム溶湯等の金属溶湯を供給する入
湯口７と、精製された金属溶湯の出湯口８とを設ける。
溶湯処理室４と分離取出室６との間には処理室４で浮上
した浮上滓５が分離取出室６に流入する流入口９を形成
し、流入口９以外は仕切壁１０で仕切る。また、出湯口
８は、浮上滓５が処理室４から出湯口８に流出しないよ
うに、下部に連通口１１を形成した仕切壁１２で仕切
る。
溶湯処理装置は公知例と同一でも差支えなく、図７、８
において、１はアルミニウム溶湯の溶湯処理槽で、耐火
物で形成されている周壁２と底壁３で囲まれた処理室４
と、浮上滓５（スキム）の分離取出室６とを有する。処
理室４にはアルミニウム溶湯等の金属溶湯を供給する入
湯口７と、精製された金属溶湯の出湯口８とを設ける。
溶湯処理室４と分離取出室６との間には処理室４で浮上
した浮上滓５が分離取出室６に流入する流入口９を形成
し、流入口９以外は仕切壁１０で仕切る。また、出湯口
８は、浮上滓５が処理室４から出湯口８に流出しないよ
うに、下部に連通口１１を形成した仕切壁１２で仕切
る。
【０００７】しかして、処理室４の中心部には、上から
下に向けてフラキシングガスを通す垂直中空回転軸１３
を設け、垂直中空回転軸１３の下端部には、インペラ１
４を取付ける。インペラ１４は、前記のように、例えば
窒化珪素、又はサイアロン系セラミックにより形成する
とともに、つぎの構成にする。
下に向けてフラキシングガスを通す垂直中空回転軸１３
を設け、垂直中空回転軸１３の下端部には、インペラ１
４を取付ける。インペラ１４は、前記のように、例えば
窒化珪素、又はサイアロン系セラミックにより形成する
とともに、つぎの構成にする。
【０００８】即ち、実施例では、回転軸１３の下部には
該回転軸１３より僅かに細い小径部１５を形成して段部
１６を形成し（段部１６の代りに膨出部を形成してもよ
い。膨出部を形成するときは小径部でなくともよい）、
小径部１５の外面にネジ１７を刻設しておき、インペラ
１４には前記ネジ１７に対し下方から螺合するネジ孔１
８を中心に有する正円形の水平円盤部１９を設ける（ネ
ジ螺合でなく、嵌め合せ結合にするときは、モルタル等
で固定する）。ネジ螺合のときは、ネジの方向を回転軸
１３の回転方向に対して逆にすると、使用中離脱しな
い。前記円盤部１９の下面２７側には６〜８枚程度の放
射状の羽根２０を形成するが、図３のような円筒部は有
しない。即ち、円盤部１９の厚さは下面２７に形成した
羽根２０を除くと均一であって、その中心には円筒部と
表現されるほど下方に突出した膨出部は形成されず、円
筒部を形成したとしても、極く小さなものにする。その
ため、インペラ１４の中心部の熱容量は小さくなり、い
きなり高温のアルミニウム溶湯中に漬けても外周縁と中
心部の熱応力は小さく、熱的スポーリング（熱衝撃）に
対して強い。
該回転軸１３より僅かに細い小径部１５を形成して段部
１６を形成し（段部１６の代りに膨出部を形成してもよ
い。膨出部を形成するときは小径部でなくともよい）、
小径部１５の外面にネジ１７を刻設しておき、インペラ
１４には前記ネジ１７に対し下方から螺合するネジ孔１
８を中心に有する正円形の水平円盤部１９を設ける（ネ
ジ螺合でなく、嵌め合せ結合にするときは、モルタル等
で固定する）。ネジ螺合のときは、ネジの方向を回転軸
１３の回転方向に対して逆にすると、使用中離脱しな
い。前記円盤部１９の下面２７側には６〜８枚程度の放
射状の羽根２０を形成するが、図３のような円筒部は有
しない。即ち、円盤部１９の厚さは下面２７に形成した
羽根２０を除くと均一であって、その中心には円筒部と
表現されるほど下方に突出した膨出部は形成されず、円
筒部を形成したとしても、極く小さなものにする。その
ため、インペラ１４の中心部の熱容量は小さくなり、い
きなり高温のアルミニウム溶湯中に漬けても外周縁と中
心部の熱応力は小さく、熱的スポーリング（熱衝撃）に
対して強い。
【０００９】前記羽根２０は、その中心側の内方下端２
６は下方に長く突出させ、円盤部１９の外周縁２１に至
る程突出長さを短かくして、下縁を上方上りの傾斜縁２
２にする。前記円盤部１９は前記段部１６に当るまで回
転軸１３の下端に螺合して取付ける。このとき、前記フ
ラキシングガスが放出される開口を形成した前記小径部
１５の下端２３は前記円盤部１９を突抜けて溶湯金属中
に浸漬するように円盤部１９の下面２７より下方に突出
すが、小径部１５の下端２３は羽根２０の内方下端２６
を越えず（羽根２０よりは出ない）、小径部１５の下端
２３と羽根２０の内端縁２４との間にガス溜部２５を形
成する。このことより、小径部１５の下端２３より噴出
したフラキシングガスは溜りやすくなり、気泡が均一に
分散するとともに、直に羽根２０の上下中間に臨んで微
細化されるようになる。
６は下方に長く突出させ、円盤部１９の外周縁２１に至
る程突出長さを短かくして、下縁を上方上りの傾斜縁２
２にする。前記円盤部１９は前記段部１６に当るまで回
転軸１３の下端に螺合して取付ける。このとき、前記フ
ラキシングガスが放出される開口を形成した前記小径部
１５の下端２３は前記円盤部１９を突抜けて溶湯金属中
に浸漬するように円盤部１９の下面２７より下方に突出
すが、小径部１５の下端２３は羽根２０の内方下端２６
を越えず（羽根２０よりは出ない）、小径部１５の下端
２３と羽根２０の内端縁２４との間にガス溜部２５を形
成する。このことより、小径部１５の下端２３より噴出
したフラキシングガスは溜りやすくなり、気泡が均一に
分散するとともに、直に羽根２０の上下中間に臨んで微
細化されるようになる。
【００１０】
【作用】次に作用を述べる。図は省略されているが、垂
直中空回転軸１３の上方にはジョイントを介してモータ
ーが設けられており、モーターに通電すると垂直中空回
転軸１３は回転し、該回転軸１３の回転に伴ない、回転
軸１３の下端に螺合したインペラ１４は回転する。しか
して、前記回転軸１３内を通りインペラ１４の中心より
噴出するフラキシングガスは、回転軸１３の下端２３が
円盤部１９を突抜けて、前記下端２３は円盤部１９の下
面２７と羽根２０の内方下端２６との間に臨むこと、回
転軸１３の下端２３と羽根２０の内端縁２４との間にガ
ス溜部２５を形成したことから、ガスはガス溜部２５に
溜りやすくなり、かつ直に羽根２０の上下中間に臨んで
微細化され、アルミニウム溶湯中を上昇し、アルミニウ
ム溶湯中に浮遊する水素ガス等の脱ガスを行なう。ま
た、インペラ１４の回転によりアルミニウム溶湯を撹拌
して滓を浮上させ、浮上した浮上滓５を分離取出室６に
集合させて掻き出す。
直中空回転軸１３の上方にはジョイントを介してモータ
ーが設けられており、モーターに通電すると垂直中空回
転軸１３は回転し、該回転軸１３の回転に伴ない、回転
軸１３の下端に螺合したインペラ１４は回転する。しか
して、前記回転軸１３内を通りインペラ１４の中心より
噴出するフラキシングガスは、回転軸１３の下端２３が
円盤部１９を突抜けて、前記下端２３は円盤部１９の下
面２７と羽根２０の内方下端２６との間に臨むこと、回
転軸１３の下端２３と羽根２０の内端縁２４との間にガ
ス溜部２５を形成したことから、ガスはガス溜部２５に
溜りやすくなり、かつ直に羽根２０の上下中間に臨んで
微細化され、アルミニウム溶湯中を上昇し、アルミニウ
ム溶湯中に浮遊する水素ガス等の脱ガスを行なう。ま
た、インペラ１４の回転によりアルミニウム溶湯を撹拌
して滓を浮上させ、浮上した浮上滓５を分離取出室６に
集合させて掻き出す。
【００１１】しかして、本発明のインペラ１４は、脱ガ
ス効果を上げる目的で、ガスの気泡を微細化するため
に、３００rpm 〜８００rpm もの高速で回転させるが、
窒化珪素、又はサイアロン系セラミック等で形成されて
いるので、耐摩耗性及び耐酸化性は充分である。また、
窒化珪素、又はサイアロン系セラミック等で形成されて
いるインペラ１４は、７００℃を越えるアルミニウム溶
湯中に予熱なしで投入したり、使用後溶湯中からいきな
り引抜いたりする使い方をすると、熱衝撃のため、ひび
割れすることがあるが、本発明のインペラ１４は、中空
回転軸１３の下端２３に正円形で同一厚みの水平円盤部
１９を任意の手段で固定してあって、図３〜４のような
円筒部分ｊを有しないから、インペラ１４の中心部は熱
容量が小さくなり、いきなり高温のアルミニウム溶湯中
に投入して漬けても、外周部と中心部との熱応力は小さ
く、熱的スポーリングに対して強いので、ひび割れは生
じにくい。また、実施例の場合は、中空回転軸１３の下
部に回転軸１３より僅かに小径の小径部１５を形成し、
該小径部１５の外面にネジ１７を刻設し、該ネジ１７に
対して水平円盤部１９の中心に形成したネジ孔１８を螺
合した構成にしてあるが、この構成にするときは、組立
も容易である。
ス効果を上げる目的で、ガスの気泡を微細化するため
に、３００rpm 〜８００rpm もの高速で回転させるが、
窒化珪素、又はサイアロン系セラミック等で形成されて
いるので、耐摩耗性及び耐酸化性は充分である。また、
窒化珪素、又はサイアロン系セラミック等で形成されて
いるインペラ１４は、７００℃を越えるアルミニウム溶
湯中に予熱なしで投入したり、使用後溶湯中からいきな
り引抜いたりする使い方をすると、熱衝撃のため、ひび
割れすることがあるが、本発明のインペラ１４は、中空
回転軸１３の下端２３に正円形で同一厚みの水平円盤部
１９を任意の手段で固定してあって、図３〜４のような
円筒部分ｊを有しないから、インペラ１４の中心部は熱
容量が小さくなり、いきなり高温のアルミニウム溶湯中
に投入して漬けても、外周部と中心部との熱応力は小さ
く、熱的スポーリングに対して強いので、ひび割れは生
じにくい。また、実施例の場合は、中空回転軸１３の下
部に回転軸１３より僅かに小径の小径部１５を形成し、
該小径部１５の外面にネジ１７を刻設し、該ネジ１７に
対して水平円盤部１９の中心に形成したネジ孔１８を螺
合した構成にしてあるが、この構成にするときは、組立
も容易である。
【００１２】
【発明の効果】以上のように、本発明は、溶湯処理室４
に設けられフラキシングガス供給通路を兼ねる垂直中空
回転軸１３と、前記回転軸１３の下方に任意の手段で固
定されるインペラ１４とを有し、前記インペラ１４は、
円盤部１９と、該円盤部１９に設けられ前記回転軸１３
の放射方向に伸びる複数の羽根２０とを持つものにおい
て、前記円盤部１９は同一厚みで正円形の水平盤とし、
前記羽根２０は前記円盤部１９の中心部近傍を除いて前
記円盤部１９の中心側から前記円盤部１９の外周縁２１
に向けて伸びるように前記円盤部１９の下面側に形成
し、前記羽根２０の下方突出長さは中心側は長く前記外
周縁２１に至るに従い短かくし、前記回転軸１３の下端
２３には前記フラキシングガスが放出される開口を形成
し、前記下端２３は前記円盤部１９の中心部を突抜けて
前記円盤部１９の下面２７と前記羽根２０の内方下端２
６との間まで下方に突出させて前記溶湯処理室４内の溶
湯金属中に直接浸漬させ、前記回転軸１３の前記下端２
３と前記羽根２０の内端縁２４との間にガス溜部２５を
形成した溶融金属清浄化装置とし、回転軸１３の下端２
３に中心に円筒部は有しない同一厚みの水平円盤部１９
を任意の手段で固定したので、水平円盤部１９は内外と
も熱容量は略等しく、熱応力は小さくなって熱的スポー
リングに対して強くなり、高温のアルミニウム溶湯に予
熱なしで投入したり使用後高温度のアルミニウム溶湯中
からいきなり引抜いたりしても、ひび割れは発生せず、
また、フラキシングガスは、回転軸１３の下端２３が円
盤部１９の下面２７と羽根２０の内方下端２６との間に
臨むこと、回転軸１３の下端２３と羽根２０の内端縁２
４との間にガス溜部２５を形成したことから、ガス溜部
２５に溜りやすくなり、かつ直に羽根２０の上下中間に
臨んで微細化されるから、脱ガスが良好に行われる。ま
た、本発明は、前記装置において、前記垂直中空回転軸
１３の下部には該回転軸１３より僅かに小径の小径部１
５を形成して該小径部１５の外面にネジ１７を刻設し、
前記円盤部１９の中心には前記ネジ１７に螺合するネジ
孔１８を形成した溶融金属清浄化装置としたものである
から、前記効果はそのまま奏する外、取付が一層容易に
なる。
に設けられフラキシングガス供給通路を兼ねる垂直中空
回転軸１３と、前記回転軸１３の下方に任意の手段で固
定されるインペラ１４とを有し、前記インペラ１４は、
円盤部１９と、該円盤部１９に設けられ前記回転軸１３
の放射方向に伸びる複数の羽根２０とを持つものにおい
て、前記円盤部１９は同一厚みで正円形の水平盤とし、
前記羽根２０は前記円盤部１９の中心部近傍を除いて前
記円盤部１９の中心側から前記円盤部１９の外周縁２１
に向けて伸びるように前記円盤部１９の下面側に形成
し、前記羽根２０の下方突出長さは中心側は長く前記外
周縁２１に至るに従い短かくし、前記回転軸１３の下端
２３には前記フラキシングガスが放出される開口を形成
し、前記下端２３は前記円盤部１９の中心部を突抜けて
前記円盤部１９の下面２７と前記羽根２０の内方下端２
６との間まで下方に突出させて前記溶湯処理室４内の溶
湯金属中に直接浸漬させ、前記回転軸１３の前記下端２
３と前記羽根２０の内端縁２４との間にガス溜部２５を
形成した溶融金属清浄化装置とし、回転軸１３の下端２
３に中心に円筒部は有しない同一厚みの水平円盤部１９
を任意の手段で固定したので、水平円盤部１９は内外と
も熱容量は略等しく、熱応力は小さくなって熱的スポー
リングに対して強くなり、高温のアルミニウム溶湯に予
熱なしで投入したり使用後高温度のアルミニウム溶湯中
からいきなり引抜いたりしても、ひび割れは発生せず、
また、フラキシングガスは、回転軸１３の下端２３が円
盤部１９の下面２７と羽根２０の内方下端２６との間に
臨むこと、回転軸１３の下端２３と羽根２０の内端縁２
４との間にガス溜部２５を形成したことから、ガス溜部
２５に溜りやすくなり、かつ直に羽根２０の上下中間に
臨んで微細化されるから、脱ガスが良好に行われる。ま
た、本発明は、前記装置において、前記垂直中空回転軸
１３の下部には該回転軸１３より僅かに小径の小径部１
５を形成して該小径部１５の外面にネジ１７を刻設し、
前記円盤部１９の中心には前記ネジ１７に螺合するネジ
孔１８を形成した溶融金属清浄化装置としたものである
から、前記効果はそのまま奏する外、取付が一層容易に
なる。
【図１】 公知の溶湯処理槽平面図。
【図２】 公知の溶湯処理槽断面図。
【図３】 第１公知例の垂直中空回転軸とインペラの
断面図。
断面図。
【図４】 第１公知例のインペラの横断面図。
【図５】 第２公知例の垂直中空回転軸とインペラの
断面図。
断面図。
【図６】 第２公知例のインペラの底面図。
【図７】 本発明の溶湯処理槽平面図。
【図８】 本発明の溶湯処理槽断面図。
【図９】 本発明の垂直中空回転軸とインペラの断面
図。
図。
【図１０】 本発明のインペラの底面図。
１…溶湯処理槽、２…周壁、３…底壁、４…処理室、５
…浮上滓、６…浮上滓の分離取出室、７…入湯口、８…
出湯口、９…流入口、１０…仕切壁、１１…連通口、１
２…仕切壁、１３…中空回転軸、１４…インペラ、１５
…小径部、１６…段部、１７…ネジ、１８…ネジ孔、１
９…水平円盤部、２０…羽根、２１…外周縁、２２…傾
斜縁、２３…下端、２４…内端縁、２５…ガス溜部、２
６…内方下端、２７…下面。
…浮上滓、６…浮上滓の分離取出室、７…入湯口、８…
出湯口、９…流入口、１０…仕切壁、１１…連通口、１
２…仕切壁、１３…中空回転軸、１４…インペラ、１５
…小径部、１６…段部、１７…ネジ、１８…ネジ孔、１
９…水平円盤部、２０…羽根、２１…外周縁、２２…傾
斜縁、２３…下端、２４…内端縁、２５…ガス溜部、２
６…内方下端、２７…下面。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−303014（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−183136（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−51226（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−15000（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C22B 1/00 - 61/00
Claims (2)
- 【請求項１】 溶湯処理室４に設けられフラキシングガ
ス供給通路を兼ねる垂直中空回転軸１３と、前記回転軸
１３の下方に任意の手段で固定されるインペラ１４とを
有し、前記インペラ１４は、円盤部１９と、該円盤部１
９に設けられ前記回転軸１３の放射方向に伸びる複数の
羽根２０とを持つものにおいて、前記円盤部１９は同一
厚みで正円形の水平盤とし、前記羽根２０は前記円盤部
１９の中心部近傍を除いて前記円盤部１９の中心側から
前記円盤部１９の外周縁２１に向けて伸びるように前記
円盤部１９の下面側に形成し、前記羽根２０の下方突出
長さは中心側は長く前記外周縁２１に至るに従い短かく
し、前記回転軸１３の下端２３には前記フラキシングガ
スが放出される開口を形成し、前記下端２３は前記円盤
部１９の中心部を突抜けて前記円盤部１９の下面２７と
前記羽根２０の内方下端２６との間まで下方に突出させ
て前記溶湯処理室４内の溶湯金属中に直接浸漬させ、前
記回転軸１３の前記下端２３と前記羽根２０の内端縁２
４との間にガス溜部２５を形成した溶融金属清浄化装
置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記垂直中空回転軸
１３の下部には該回転軸１３より僅かに小径の小径部１
５を形成して該小径部１５の外面にネジ１７を刻設し、
前記円盤部１９の中心には前記ネジ１７に螺合するネジ
孔１８を形成した溶融金属清浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22057493A JP3314993B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 溶融金属清浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22057493A JP3314993B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 溶融金属清浄化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0754059A JPH0754059A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3314993B2 true JP3314993B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=16753123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22057493A Expired - Lifetime JP3314993B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 溶融金属清浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3314993B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4839683B2 (ja) * | 2005-06-08 | 2011-12-21 | 日産自動車株式会社 | アルミニウム溶湯脱ガス清浄化装置および脱ガス清浄化方法 |
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| CN105436122B (zh) * | 2015-12-08 | 2018-07-20 | 江苏揽山环境科技股份有限公司 | 设有冲洗装置的环形叶片组 |
| CN117701984B (zh) * | 2024-02-05 | 2024-05-07 | 山西东方资源发展集团东耀精密材料有限公司 | 一种生产锰铁合金的底吹搅拌装置 |
-
1993
- 1993-08-12 JP JP22057493A patent/JP3314993B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0754059A (ja) | 1995-02-28 |
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