JP3314995B2 - 溶融金属清浄化用インペラ - Google Patents
溶融金属清浄化用インペラInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶融金属清浄化用イン
ペラに関するもので、特にアルミニウム溶湯の脱ガス及
び介在物除去に用いるインペラ（ローター）に関するも
のでものである。
ペラに関するもので、特にアルミニウム溶湯の脱ガス及
び介在物除去に用いるインペラ（ローター）に関するも
のでものである。
【０００２】
【従来技術】従来公知の、特開昭６３−３０３０１４号
公報には、窒素、アルゴン等の不活性ガス、あるいは、
これに塩素ガスを混合した不活性ガス（一般に、フラキ
シングガスと呼ばれる）を供給しながら、アルミニウム
やアルミニウム合金溶湯（以下アルミニウム溶湯とい
う）をインペラで撹拌して、アルミニウム溶湯中に浮遊
する水素ガス等のガス抜き、酸化物等の介在物の除去を
行なう清浄化装置について記載されている。上記公知例
に記載された清浄化装置の構造は、図１、図２のようで
あり、ａは耐火物で形成された溶湯処理槽、ｂは入湯
口、ｃは出湯口、ｄはアルミニウム溶湯、ｅは浮上滓の
分離取出室、ｆは浮上滓、ｇは溶湯処理槽ａの中心部に
設けた耐火物の垂直中空回転軸、ｈは垂直中空回転軸ｇ
の下端に螺合したインペラである。上記公知例の、イン
ペラｈの拡大図は、図３と図４のようであり、前記回転
軸ｇの下端ｉに形成したネジ部に下方から螺合するネジ
溝を有する円筒部ｊと、該円筒部ｊの上縁より鍔状に一
体的に突出する正円形の水平円盤部ｋと、該円盤部ｋの
下面側に設けた放射状の羽根ｎとから形成されている。
図５〜６は、実開平４−１２３２５０号公報に記載され
たインペラｈで、円筒部ｊの直径を極端に大にしてその
外周部を円盤部ｋとし、円筒部ｊと円盤部ｋの下面側は
面一の水平面とし、円筒部ｊと円盤部ｋの上面側は外側
程低くなる傾斜面とし、円盤部ｋの外周には放射状の撹
拌羽根ｐを８本程突出させ、インペラｈの下面側には、
回転軸ｇから撹拌羽根ｐの先端に至る凹溝ｍを形成した
ものである。
公報には、窒素、アルゴン等の不活性ガス、あるいは、
これに塩素ガスを混合した不活性ガス（一般に、フラキ
シングガスと呼ばれる）を供給しながら、アルミニウム
やアルミニウム合金溶湯（以下アルミニウム溶湯とい
う）をインペラで撹拌して、アルミニウム溶湯中に浮遊
する水素ガス等のガス抜き、酸化物等の介在物の除去を
行なう清浄化装置について記載されている。上記公知例
に記載された清浄化装置の構造は、図１、図２のようで
あり、ａは耐火物で形成された溶湯処理槽、ｂは入湯
口、ｃは出湯口、ｄはアルミニウム溶湯、ｅは浮上滓の
分離取出室、ｆは浮上滓、ｇは溶湯処理槽ａの中心部に
設けた耐火物の垂直中空回転軸、ｈは垂直中空回転軸ｇ
の下端に螺合したインペラである。上記公知例の、イン
ペラｈの拡大図は、図３と図４のようであり、前記回転
軸ｇの下端ｉに形成したネジ部に下方から螺合するネジ
溝を有する円筒部ｊと、該円筒部ｊの上縁より鍔状に一
体的に突出する正円形の水平円盤部ｋと、該円盤部ｋの
下面側に設けた放射状の羽根ｎとから形成されている。
図５〜６は、実開平４−１２３２５０号公報に記載され
たインペラｈで、円筒部ｊの直径を極端に大にしてその
外周部を円盤部ｋとし、円筒部ｊと円盤部ｋの下面側は
面一の水平面とし、円筒部ｊと円盤部ｋの上面側は外側
程低くなる傾斜面とし、円盤部ｋの外周には放射状の撹
拌羽根ｐを８本程突出させ、インペラｈの下面側には、
回転軸ｇから撹拌羽根ｐの先端に至る凹溝ｍを形成した
ものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５〜６のものは、円
筒部ｊと円盤部ｋの厚みは略同一であり、円盤部ｋの外
周に放射状の撹拌羽根ｐを８本程突出させた構造である
が、この公知例は、アルミニウム溶湯面の波立ちはあま
りみられないものの、フラキシングガスの微細化には問
題がある。即ち、円盤部ｋ及び撹拌羽根ｐの下面には回
転軸ｇから噴出したガスを誘導する凹溝ｍを設けてある
が、実際には誘導されずに横に洩れ、横洩れしたガスは
微細化されずにそのまま浮上する。そのため、脱ガス効
果は充分でない。フラキシングガスの微細化という面か
らみると、図３〜４のものの方が有利である。しかし、
図３〜４のものは、インペラｈに熱衝撃に原因するひび
割れｓが起こるという課題がある。ひび割れｓは、図５
〜６のものでも見られるが、図３〜４の方がより強くみ
られるようである。その理由はつぎのようである。図３
〜４に図示した公知例は、インペラｈについては耐火物
とだけ記載されていて、その材質については特に記載さ
れていないが、当初はカーボン製としたものである。イ
ンペラｈをカーボン製とした理由は、７００℃を越える
高温のアルミニウム溶湯中に予熱なしで投入したり、使
用後溶湯中からいきなり引抜いたりしても、熱衝撃によ
るひび割れが生じないようにしたためである。しかし、
カーボン製のインペラｈは、脱ガス効果を上げる目的で
３００rpm 〜８００rpm もの高速で回転させることもあ
るから、必然的に摩耗が著しくまた耐酸化性も弱く短命
であり、交換頻度は高く、頻繁な交換のため作業性も低
下し、経済的にも不利であった。インペラｈを高速で回
転させても、耐摩耗性及び耐酸化性に充分耐えるように
するためには、カーボン製ではなくセラミック材、例え
ば窒化珪素、又はサイアロン系セラミックとしなければ
ならない。しかし、セラミック製にすると、前記のよう
に、高温のアルミニウム溶湯に予熱なしで投入したり、
使用後高温度の溶湯中からいきなり引抜いたりすると、
円筒部ｊにひび割れｓが生じる。即ち、インペラｈをア
ルミニウム溶湯に挿入浸漬させるときに、中空回転軸ｇ
内にその下端開口部からアルミニウム溶湯が浸入して固
化することを防止するため、フラキシングガスを下端開
口部から噴出しながら挿入するようにする。すると、円
盤部ｋの上面側は、アルミニウム溶湯に直ちに接触して
加温されるが、円盤部ｋの下面側は、噴出するフラキシ
ングガスによりアルミニウム溶湯は遮断されるから、円
筒部ｊ、羽根ｎの部分の加温は遅れる。そのため、上面
の円盤部ｋと下面の円筒部ｊ、羽根ｎの部分に温度差が
生じてその熱応力によりひび割れｓが生じると考えられ
る。本発明は、このときの熱応力を緩和させるものであ
る。
筒部ｊと円盤部ｋの厚みは略同一であり、円盤部ｋの外
周に放射状の撹拌羽根ｐを８本程突出させた構造である
が、この公知例は、アルミニウム溶湯面の波立ちはあま
りみられないものの、フラキシングガスの微細化には問
題がある。即ち、円盤部ｋ及び撹拌羽根ｐの下面には回
転軸ｇから噴出したガスを誘導する凹溝ｍを設けてある
が、実際には誘導されずに横に洩れ、横洩れしたガスは
微細化されずにそのまま浮上する。そのため、脱ガス効
果は充分でない。フラキシングガスの微細化という面か
らみると、図３〜４のものの方が有利である。しかし、
図３〜４のものは、インペラｈに熱衝撃に原因するひび
割れｓが起こるという課題がある。ひび割れｓは、図５
〜６のものでも見られるが、図３〜４の方がより強くみ
られるようである。その理由はつぎのようである。図３
〜４に図示した公知例は、インペラｈについては耐火物
とだけ記載されていて、その材質については特に記載さ
れていないが、当初はカーボン製としたものである。イ
ンペラｈをカーボン製とした理由は、７００℃を越える
高温のアルミニウム溶湯中に予熱なしで投入したり、使
用後溶湯中からいきなり引抜いたりしても、熱衝撃によ
るひび割れが生じないようにしたためである。しかし、
カーボン製のインペラｈは、脱ガス効果を上げる目的で
３００rpm 〜８００rpm もの高速で回転させることもあ
るから、必然的に摩耗が著しくまた耐酸化性も弱く短命
であり、交換頻度は高く、頻繁な交換のため作業性も低
下し、経済的にも不利であった。インペラｈを高速で回
転させても、耐摩耗性及び耐酸化性に充分耐えるように
するためには、カーボン製ではなくセラミック材、例え
ば窒化珪素、又はサイアロン系セラミックとしなければ
ならない。しかし、セラミック製にすると、前記のよう
に、高温のアルミニウム溶湯に予熱なしで投入したり、
使用後高温度の溶湯中からいきなり引抜いたりすると、
円筒部ｊにひび割れｓが生じる。即ち、インペラｈをア
ルミニウム溶湯に挿入浸漬させるときに、中空回転軸ｇ
内にその下端開口部からアルミニウム溶湯が浸入して固
化することを防止するため、フラキシングガスを下端開
口部から噴出しながら挿入するようにする。すると、円
盤部ｋの上面側は、アルミニウム溶湯に直ちに接触して
加温されるが、円盤部ｋの下面側は、噴出するフラキシ
ングガスによりアルミニウム溶湯は遮断されるから、円
筒部ｊ、羽根ｎの部分の加温は遅れる。そのため、上面
の円盤部ｋと下面の円筒部ｊ、羽根ｎの部分に温度差が
生じてその熱応力によりひび割れｓが生じると考えられ
る。本発明は、このときの熱応力を緩和させるものであ
る。
【０００４】
【発明の目的】熱応力の小さいインペラを得る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】よって、本発明は、下端
より不活性ガスを噴出する垂直の中空回転軸１３の下端
部に、円盤部１５と円筒部１６と撹拌羽根１７を持つイ
ンペラ１４を取付けたものにおいて、前記インペラ１４
の前記円盤部１５は、円周方向に等分割した複数の扇型
盤１８の組合せとした溶融金属清浄化用インペラとした
ものである。また、本発明は、前記インペラにおいて、
前記円盤部１５と前記円筒部１６は別体とし、前記撹拌
羽根１７は前記円盤部１５側に一体とした溶融金属清浄
化用インペラとしたものである。また、本発明は、前記
インペラにおいて、前記各扇形盤１８の内端１９には下
方に屈曲する屈曲部２０を形成し、前記円筒部１６の上
端部には前記屈曲部２０に下方から係合する環状係合凹
部２４を設けた溶融金属清浄化用インペラとしたもので
ある。また、本発明は、前記インペラにおいて、前記扇
形盤１８の内端１９には下方に屈曲する屈曲部２０を形
成し、前記扇形盤１８の下面側には前記撹拌羽根１７を
一体的に設け、前記回転軸１３の下端側に段部２２を形
成し、前記段部２２より下方の前記回転軸１３の外面に
ネジ溝２３を形成し、前記各扇形盤１８は前記内端１９
を前記回転軸１３の外面に当接させると共に前記内端１
９側の上面を前記段部２２の下面に当接させ、前記回転
軸１３の前記ネジ溝２３には下方から前記円筒部１６を
螺合させ、前記円筒部１６の上端部には前記円筒部１６
を前記ネジ溝２３に螺合させると前記屈曲部２０に係合
して前記扇形盤１８を保持する環状係合凹部２４を設け
た溶融金属清浄化用インペラとしたものである。
より不活性ガスを噴出する垂直の中空回転軸１３の下端
部に、円盤部１５と円筒部１６と撹拌羽根１７を持つイ
ンペラ１４を取付けたものにおいて、前記インペラ１４
の前記円盤部１５は、円周方向に等分割した複数の扇型
盤１８の組合せとした溶融金属清浄化用インペラとした
ものである。また、本発明は、前記インペラにおいて、
前記円盤部１５と前記円筒部１６は別体とし、前記撹拌
羽根１７は前記円盤部１５側に一体とした溶融金属清浄
化用インペラとしたものである。また、本発明は、前記
インペラにおいて、前記各扇形盤１８の内端１９には下
方に屈曲する屈曲部２０を形成し、前記円筒部１６の上
端部には前記屈曲部２０に下方から係合する環状係合凹
部２４を設けた溶融金属清浄化用インペラとしたもので
ある。また、本発明は、前記インペラにおいて、前記扇
形盤１８の内端１９には下方に屈曲する屈曲部２０を形
成し、前記扇形盤１８の下面側には前記撹拌羽根１７を
一体的に設け、前記回転軸１３の下端側に段部２２を形
成し、前記段部２２より下方の前記回転軸１３の外面に
ネジ溝２３を形成し、前記各扇形盤１８は前記内端１９
を前記回転軸１３の外面に当接させると共に前記内端１
９側の上面を前記段部２２の下面に当接させ、前記回転
軸１３の前記ネジ溝２３には下方から前記円筒部１６を
螺合させ、前記円筒部１６の上端部には前記円筒部１６
を前記ネジ溝２３に螺合させると前記屈曲部２０に係合
して前記扇形盤１８を保持する環状係合凹部２４を設け
た溶融金属清浄化用インペラとしたものである。
【０００６】
【実施例】本発明の一実施例を図面により説明すると、
溶湯処理装置は公知例と同一でも差支えなく、図７、８
において、１はアルミニウム溶湯の溶湯処理槽で、耐火
物で形成されている周壁２と底壁３で囲まれた処理室４
と、浮上滓５（スキム）の分離取出室６とを有する。処
理室４にはアルミニウム溶湯等の金属溶湯を供給する入
湯口７と、精製された金属溶湯の出湯口８とを設ける。
溶湯処理室４と分離取出室６との間には処理室４で浮上
した浮上滓５が分離取出室６に流入する流入口９を形成
し、流入口９以外は仕切壁１０で仕切る。また、出湯口
８は、浮上滓５が処理室４から出湯口８に流出しないよ
うに、下部に連通口１１を形成した仕切壁１２により仕
切る。
溶湯処理装置は公知例と同一でも差支えなく、図７、８
において、１はアルミニウム溶湯の溶湯処理槽で、耐火
物で形成されている周壁２と底壁３で囲まれた処理室４
と、浮上滓５（スキム）の分離取出室６とを有する。処
理室４にはアルミニウム溶湯等の金属溶湯を供給する入
湯口７と、精製された金属溶湯の出湯口８とを設ける。
溶湯処理室４と分離取出室６との間には処理室４で浮上
した浮上滓５が分離取出室６に流入する流入口９を形成
し、流入口９以外は仕切壁１０で仕切る。また、出湯口
８は、浮上滓５が処理室４から出湯口８に流出しないよ
うに、下部に連通口１１を形成した仕切壁１２により仕
切る。
【０００７】しかして、処理室４の中心部には、上から
下に向けてフラキシングガスを通す垂直中空回転軸１３
を設け、垂直中空回転軸１３の下端部には、インペラ１
４を取付ける。インペラ１４は、前記のように、例えば
窒化珪素、又はサイアロン系セラミックにより形成す
る。インペラ１４は、図１４のように、円盤部１５と、
円筒部１６と、撹拌羽根１７とから形成されるが、円盤
部１５は図９のように、円周方向に数等分された扇形盤
１８が構成され、実施例では６枚の扇形盤１８を組合せ
て円盤部１５が形成されている。
下に向けてフラキシングガスを通す垂直中空回転軸１３
を設け、垂直中空回転軸１３の下端部には、インペラ１
４を取付ける。インペラ１４は、前記のように、例えば
窒化珪素、又はサイアロン系セラミックにより形成す
る。インペラ１４は、図１４のように、円盤部１５と、
円筒部１６と、撹拌羽根１７とから形成されるが、円盤
部１５は図９のように、円周方向に数等分された扇形盤
１８が構成され、実施例では６枚の扇形盤１８を組合せ
て円盤部１５が形成されている。
【０００８】各扇形盤１８は、その内端１９に、下方に
屈曲する屈曲部２０をそれぞれ形成し、下面側には前記
撹拌羽根１７を一体的に形成する。撹拌羽根１７は円筒
部１６に固定することもある。回転軸１３の下部には、
該回転軸１３より僅かに細い小径部２１を形成して、そ
の境に段部２２を形成し（段部２２はインペラ１４を止
める手段であるから、段部２２の代りに膨出部を形成し
てもよい。膨出部を形成するときは小径部２１は不要に
なる）、小径部２１の外面にネジ溝２３を刻設する。前
記小径部２１に対して外方から６個の扇形盤１８の内端
１９を突合せる。このとき、各扇形盤１８は、前記段部
２２に当接されて上下の位置決めがされる。この状態
で、小径部２１のネジ溝２３に下方から円筒部１６のネ
ジ溝２６を螺合させ、螺合させた円筒部１６により各扇
形盤１８を止着できるようにする。つまり、円筒部１６
の直径は、各扇形盤１８の６個の内端１９を突合せて形
成される円形窓部２７の直径より大きくして、円筒部１
６の上端部には環状係合凹部２４を形成し、小径部２１
に円筒部１６を螺合させると環状係合凹部２４内に各内
端１９に形成した全ての屈曲部２０が差し込まれて、円
筒部１６により各扇形 盤１８を止着できる。なお、撹拌
羽根１７を扇形盤１８に形成したときは、撹拌羽根１７
の内端縁２８を円筒部１６の外周面２９で支受させる。
図１５は組立完成図であり、２５はモルタルやセラミッ
クファイバー等の充填材である。
屈曲する屈曲部２０をそれぞれ形成し、下面側には前記
撹拌羽根１７を一体的に形成する。撹拌羽根１７は円筒
部１６に固定することもある。回転軸１３の下部には、
該回転軸１３より僅かに細い小径部２１を形成して、そ
の境に段部２２を形成し（段部２２はインペラ１４を止
める手段であるから、段部２２の代りに膨出部を形成し
てもよい。膨出部を形成するときは小径部２１は不要に
なる）、小径部２１の外面にネジ溝２３を刻設する。前
記小径部２１に対して外方から６個の扇形盤１８の内端
１９を突合せる。このとき、各扇形盤１８は、前記段部
２２に当接されて上下の位置決めがされる。この状態
で、小径部２１のネジ溝２３に下方から円筒部１６のネ
ジ溝２６を螺合させ、螺合させた円筒部１６により各扇
形盤１８を止着できるようにする。つまり、円筒部１６
の直径は、各扇形盤１８の６個の内端１９を突合せて形
成される円形窓部２７の直径より大きくして、円筒部１
６の上端部には環状係合凹部２４を形成し、小径部２１
に円筒部１６を螺合させると環状係合凹部２４内に各内
端１９に形成した全ての屈曲部２０が差し込まれて、円
筒部１６により各扇形 盤１８を止着できる。なお、撹拌
羽根１７を扇形盤１８に形成したときは、撹拌羽根１７
の内端縁２８を円筒部１６の外周面２９で支受させる。
図１５は組立完成図であり、２５はモルタルやセラミッ
クファイバー等の充填材である。
【０００９】
【作用】次に作用を述べる。 （組立の方法） 回転軸１３を倒立させて小径部２１を上にして固定し、
段部２２の下面（倒立後の上面）に少量のモルタルを接
着材として塗り、一例として６個に分割された扇形盤１
８の各接合部にモルタルを塗ってから回転軸１３の段部
２２のモルタル塗布面上に、上下反転させた各扇形盤１
８の内端１９側の上面（反転後の下面）を当接させると
共に各内端１９を小径部２１の外面に突合せて保持固定
し、上方から反転させた円筒部１６を螺合させて締挙げ
ると、円筒部１６の上端面（反転後の下端面）に形成さ
れている環状係合凹部２４は、各扇形盤１８の内端１９
に形成した各屈曲部２０を抱持するように各屈曲部２０
に係合するから、一体化されて組立完了する。なお、モ
ルタルを塗ると説明してあるが、省略もできる。
段部２２の下面（倒立後の上面）に少量のモルタルを接
着材として塗り、一例として６個に分割された扇形盤１
８の各接合部にモルタルを塗ってから回転軸１３の段部
２２のモルタル塗布面上に、上下反転させた各扇形盤１
８の内端１９側の上面（反転後の下面）を当接させると
共に各内端１９を小径部２１の外面に突合せて保持固定
し、上方から反転させた円筒部１６を螺合させて締挙げ
ると、円筒部１６の上端面（反転後の下端面）に形成さ
れている環状係合凹部２４は、各扇形盤１８の内端１９
に形成した各屈曲部２０を抱持するように各屈曲部２０
に係合するから、一体化されて組立完了する。なお、モ
ルタルを塗ると説明してあるが、省略もできる。
【００１０】（本発明の独自の作用） 図は省略されているが、垂直中空回転軸１３の上方に
は、回転機構のモーターとフラキシングガスの供給装置
が接続されており、フラキシングガス供給装置を作動さ
せて、回転軸１３の下端からフラキシングガスを激しく
噴出させた状態で処理室４内のアルミニウム溶湯中にイ
ンペラ１４を予熱なしで投入する。すると、回転軸１３
の下端から回転軸１３内にアルミニウム溶湯が浸入しよ
うとしても、激しく噴出するフラキシングガスにより浸
入は阻止され、回転軸１３内にアルミニウム溶湯が浸入
して固化することが防止される。インペラ１４がアルミ
ニウム溶湯中に挿入されると、円盤部１５の下面側は、
回転軸１３の下端から激しく噴出するフラキシングガス
によりアルミニウム溶湯から分断されて加熱が遅れて、
円盤部１５の上面側が下面側に先んじて高温度のアルミ
ニウム溶湯により加熱され、これにより円盤部１５の上
下では急激な温度差が発生して熱応力が生じるが、本発
明の円盤部１５は、一例として円周方向に６等分された
６個の扇形盤１８から形成されているので、熱応力は小
さく、図４、６のひび割れｓは生じない。また、円盤部
１５と円筒部１６は、別体構成なので、急激な温度差が
発生してもひび割れは発生しない。
は、回転機構のモーターとフラキシングガスの供給装置
が接続されており、フラキシングガス供給装置を作動さ
せて、回転軸１３の下端からフラキシングガスを激しく
噴出させた状態で処理室４内のアルミニウム溶湯中にイ
ンペラ１４を予熱なしで投入する。すると、回転軸１３
の下端から回転軸１３内にアルミニウム溶湯が浸入しよ
うとしても、激しく噴出するフラキシングガスにより浸
入は阻止され、回転軸１３内にアルミニウム溶湯が浸入
して固化することが防止される。インペラ１４がアルミ
ニウム溶湯中に挿入されると、円盤部１５の下面側は、
回転軸１３の下端から激しく噴出するフラキシングガス
によりアルミニウム溶湯から分断されて加熱が遅れて、
円盤部１５の上面側が下面側に先んじて高温度のアルミ
ニウム溶湯により加熱され、これにより円盤部１５の上
下では急激な温度差が発生して熱応力が生じるが、本発
明の円盤部１５は、一例として円周方向に６等分された
６個の扇形盤１８から形成されているので、熱応力は小
さく、図４、６のひび割れｓは生じない。また、円盤部
１５と円筒部１６は、別体構成なので、急激な温度差が
発生してもひび割れは発生しない。
【００１１】本発明のインペラ１４は、脱ガス効果を上
げる目的で、ガスの気泡を微細化するために、３００rp
m 〜８００rpm もの高速で回転させるが、窒化珪素、又
はサイアロン系セラミック等で形成されているので、耐
摩耗性及び耐酸化性は充分である。
げる目的で、ガスの気泡を微細化するために、３００rp
m 〜８００rpm もの高速で回転させるが、窒化珪素、又
はサイアロン系セラミック等で形成されているので、耐
摩耗性及び耐酸化性は充分である。
【００１２】
【発明の効果】以上のように、本発明は、下端より不活
性ガスを噴出する垂直の中空回転軸１３の下端部に、円
盤部１５と円筒部１６と撹拌羽根１７を持つインペラ１
４を取付けたものにおいて、前記インペラ１４の前記円
盤部１５は、円周方向に等分割した複数の扇型盤１８の
組合せとした溶融金属清浄化用インペラとしたものであ
るから、噴出するフラキシングガスにより円盤部１５の
上下に温度差が生じても、その熱応力による影響は分断
されるので、ひび割れは生じない。
性ガスを噴出する垂直の中空回転軸１３の下端部に、円
盤部１５と円筒部１６と撹拌羽根１７を持つインペラ１
４を取付けたものにおいて、前記インペラ１４の前記円
盤部１５は、円周方向に等分割した複数の扇型盤１８の
組合せとした溶融金属清浄化用インペラとしたものであ
るから、噴出するフラキシングガスにより円盤部１５の
上下に温度差が生じても、その熱応力による影響は分断
されるので、ひび割れは生じない。
【図１】 公知の溶湯処理槽平面図。
【図２】 公知の溶湯処理槽断面図。
【図３】 第１公知例の垂直中空回転軸とインペラの
断面図。
断面図。
【図４】 第１公知例のインペラの横断面図。
【図５】 第２公知例の垂直中空回転軸とインペラの
断面図。
断面図。
【図６】 第２公知例のインペラの底面図。
【図７】 本発明の溶湯処理槽平面図。
【図８】 本発明の溶湯処理槽断面図。
【図９】 本発明の円盤部の平面図。
【図１０】 本発明の円盤部の背面図。
【図１１】 Ａ−Ａ断面図。
【図１２】 Ｂ−Ｂ断面図。
【図１３】 Ｃ−Ｃ断面図。
【図１４】 本発明の分解図。
【図１５】 図１４の組立図。
１…溶湯処理槽、２…周壁、３…底壁、４…処理室、５
…浮上滓、６…浮上滓の分離取出室、７…入湯口、８…
出湯口、９…流入口、１０…仕切壁、１１…連通口、１
２…仕切壁、１３…垂直中空回転軸、１４…インペラ、
１５…円盤部、１６…円筒部、１７…撹拌羽根、１８…
扇形盤、１９…内端、２０…屈曲部、２１…小径部、２
２…段部、２３…ネジ溝、２４…環状係合凹部、２５…
充填材、２６…ネジ溝、２７…円形窓部、２８…内端
縁、２９…外周面。
…浮上滓、６…浮上滓の分離取出室、７…入湯口、８…
出湯口、９…流入口、１０…仕切壁、１１…連通口、１
２…仕切壁、１３…垂直中空回転軸、１４…インペラ、
１５…円盤部、１６…円筒部、１７…撹拌羽根、１８…
扇形盤、１９…内端、２０…屈曲部、２１…小径部、２
２…段部、２３…ネジ溝、２４…環状係合凹部、２５…
充填材、２６…ネジ溝、２７…円形窓部、２８…内端
縁、２９…外周面。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C22B 1/00 - 61/00
Claims (4)
- 【請求項１】 下端より不活性ガスを噴出する垂直の中
空回転軸１３の下端部に、円盤部１５と円筒部１６と撹
拌羽根１７を持つインペラ１４を取付けたものにおい
て、前記インペラ１４の前記円盤部１５は、円周方向に
等分割した複数の扇型盤１８の組合せとした溶融金属清
浄化用インペラ。 - 【請求項２】 請求項１において、前記円盤部１５と前
記円筒部１６は別体とし、前記撹拌羽根１７は前記円盤
部１５側に一体とした溶融金属清浄化用インペラ。 - 【請求項３】 請求項１において、前記各扇形盤１８の
内端１９には下方に屈曲する屈曲部２０を形成し、前記
円筒部１６の上端部には前記屈曲部２０に下方から係合
する環状係合凹部２４を設けた溶融金属清浄化用インペ
ラ。 - 【請求項４】 請求項１において、前記扇形盤１８の内
端１９には下方に屈曲する屈曲部２０を形成し、前記扇
形盤１８の下面側には前記撹拌羽根１７を一体的に設
け、前記回転軸１３の下端側に段部２２を形成し、前記
段部２２より下方の前記回転軸１３の外面にネジ溝２３
を形成し、前記各扇形盤１８は前記内端１９を前記回転
軸１３の外面に当接させると共に前記内端１９側の上面
を前記段部２２の下面に当接させ、前記回転軸１３の前
記ネジ溝２３には下方から前記円筒部１６を螺合させ、
前記円筒部１６の上端部には前記円筒部１６を前記ネジ
溝２３に螺合させると前記屈曲部２０に係合して前記扇
形盤１８を保持する環状係合凹部２４を設けた溶融金属
清浄化用インペラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22824693A JP3314995B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 溶融金属清浄化用インペラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22824693A JP3314995B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 溶融金属清浄化用インペラ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0762459A JPH0762459A (ja) | 1995-03-07 |
| JP3314995B2 true JP3314995B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=16873457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22824693A Expired - Fee Related JP3314995B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 溶融金属清浄化用インペラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3314995B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4839683B2 (ja) * | 2005-06-08 | 2011-12-21 | 日産自動車株式会社 | アルミニウム溶湯脱ガス清浄化装置および脱ガス清浄化方法 |
| MX2021013843A (es) * | 2019-05-14 | 2022-07-11 | Pyrotek Inc | Lavado por desgasificacion. |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP22824693A patent/JP3314995B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0762459A (ja) | 1995-03-07 |
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