JP3312932B2 - 蛍光ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラスビード製造装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラスビード製造装置Info
- Publication number
- JP3312932B2 JP3312932B2 JP27702892A JP27702892A JP3312932B2 JP 3312932 B2 JP3312932 B2 JP 3312932B2 JP 27702892 A JP27702892 A JP 27702892A JP 27702892 A JP27702892 A JP 27702892A JP 3312932 B2 JP3312932 B2 JP 3312932B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass bead
- analysis
- flatness
- smoothness
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス，鉄鉱
石，セメント等の粉末酸化物のガラスビード法による蛍
光Ｘ線分析に好適な蛍光Ｘ線分析用ガラスビード製造方
法及びガラスビード製造装置に関する。
石，セメント等の粉末酸化物のガラスビード法による蛍
光Ｘ線分析に好適な蛍光Ｘ線分析用ガラスビード製造方
法及びガラスビード製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】セラミックス，鉄鉱石，セメント等の粉
末酸化物の元素の含有率を求めるのに、元素の含有率に
より蛍光Ｘ線強度が異なることを利用した蛍光Ｘ線分析
方法が一般に広く用いられている。また、この蛍光Ｘ線
分析を行う場合に、試料（粉末酸化物）を蛍光Ｘ線分析
に適した形態に調整する必要がある。その方法として粉
末プレス法とガラスビード法が代表的であるが、粉末プ
レス法より種々の点で優れるガラスビード法が一般的に
用いられている。
末酸化物の元素の含有率を求めるのに、元素の含有率に
より蛍光Ｘ線強度が異なることを利用した蛍光Ｘ線分析
方法が一般に広く用いられている。また、この蛍光Ｘ線
分析を行う場合に、試料（粉末酸化物）を蛍光Ｘ線分析
に適した形態に調整する必要がある。その方法として粉
末プレス法とガラスビード法が代表的であるが、粉末プ
レス法より種々の点で優れるガラスビード法が一般的に
用いられている。
【０００３】このガラスビード法では、図５に示すよう
に、容器１内にガラスビードの組成粉末２′を投入した
後、その投入した粉末２′の溶解，冷却工程を経ること
により、図６に示すようなガラス化したガラスビード２
を製造する。そしてガラスビード２の容器１の底部内面
（直径約３０ｍｍ）１ａに対応する面が、蛍光Ｘ線分析
における分析面２ａとなる。
に、容器１内にガラスビードの組成粉末２′を投入した
後、その投入した粉末２′の溶解，冷却工程を経ること
により、図６に示すようなガラス化したガラスビード２
を製造する。そしてガラスビード２の容器１の底部内面
（直径約３０ｍｍ）１ａに対応する面が、蛍光Ｘ線分析
における分析面２ａとなる。
【０００４】また、ガラスビード法で用いられる容器１
は、得られるガラスビード２に不純物が混入せず、ま
た、ガラスビード２が冷却した場合の剥離性が良好で、
変形し難いことが望ましい。そのような材質としては、
一般に、白金と金の合金又は白金と金とロジウムの合金
などの高価な貴金属が用いられている。しかしながら、
この容器１，ガラスビード２間の熱膨脹差が大きいた
め、冷却した際の熱応力により、繰り返し使用するにつ
れ容器１の底部内面１ａは図５の想像線で示すように変
形し、ガラスビード２の分析面２ａも図６の想像線で示
すように変形（平坦度が最大０．８ｍｍ）してくる。よ
って１つの容器１で数百個のガラスビード２を製造する
と変形がさらに大きくなり、分析精度が低下する。
は、得られるガラスビード２に不純物が混入せず、ま
た、ガラスビード２が冷却した場合の剥離性が良好で、
変形し難いことが望ましい。そのような材質としては、
一般に、白金と金の合金又は白金と金とロジウムの合金
などの高価な貴金属が用いられている。しかしながら、
この容器１，ガラスビード２間の熱膨脹差が大きいた
め、冷却した際の熱応力により、繰り返し使用するにつ
れ容器１の底部内面１ａは図５の想像線で示すように変
形し、ガラスビード２の分析面２ａも図６の想像線で示
すように変形（平坦度が最大０．８ｍｍ）してくる。よ
って１つの容器１で数百個のガラスビード２を製造する
と変形がさらに大きくなり、分析精度が低下する。
【０００５】一方、日本工業規格（ＪＩＳ）では、ガラ
スビード２の分析面２ａについての規定はなく、容器１
の底部内面１ａに関し、「ビードの剥離性を良好に保つ
ために、底部内面を平滑に保つ」如く規定されているだ
けであるため、従来、底部内面１ａを平滑にする考えは
あっても、平坦にするという考えはなかった。
スビード２の分析面２ａについての規定はなく、容器１
の底部内面１ａに関し、「ビードの剥離性を良好に保つ
ために、底部内面を平滑に保つ」如く規定されているだ
けであるため、従来、底部内面１ａを平滑にする考えは
あっても、平坦にするという考えはなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
技術革新に伴い、高い分析精度が要求されるようにな
り、その要求を満たすガラスビード２を得ようとする
と、従来法では１つの容器１でせいぜい１０個程度しか
製造できないことになり、量産性が低下する。また、そ
の都度改鋳したのではコスト高を招くことにもなる。
技術革新に伴い、高い分析精度が要求されるようにな
り、その要求を満たすガラスビード２を得ようとする
と、従来法では１つの容器１でせいぜい１０個程度しか
製造できないことになり、量産性が低下する。また、そ
の都度改鋳したのではコスト高を招くことにもなる。
【０００７】そこで、本発明は、上記事情に鑑みてなさ
れたものであり、分析精度の向上が図れ、しかも量産性
に優れる蛍光Ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラ
スビード製造装置を提供することを目的としている。
れたものであり、分析精度の向上が図れ、しかも量産性
に優れる蛍光Ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラ
スビード製造装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１記載の製造方法は、底部内面が平滑な有底容
器内にガラスビードの組成粉末を投入した後、前記容器
に投入した粉末の溶解，冷却工程を経て、前記底部内面
に接する面を分析面とするガラスビードを得る蛍光Ｘ線
分析用ガラスビード製造方法において、前記分析面の平
滑度が５μｍ以下、平坦度が５０μｍ以下の値となるよ
うにその分析面を研磨することを特徴とするものであ
る。
に請求項１記載の製造方法は、底部内面が平滑な有底容
器内にガラスビードの組成粉末を投入した後、前記容器
に投入した粉末の溶解，冷却工程を経て、前記底部内面
に接する面を分析面とするガラスビードを得る蛍光Ｘ線
分析用ガラスビード製造方法において、前記分析面の平
滑度が５μｍ以下、平坦度が５０μｍ以下の値となるよ
うにその分析面を研磨することを特徴とするものであ
る。
【０００９】また、請求項２記載の製造方法は、前記分
析面の平滑度及び平坦度の数値は、分析対象元素により
異なることを特徴とするものである。
析面の平滑度及び平坦度の数値は、分析対象元素により
異なることを特徴とするものである。
【００１０】また、請求項３記載の製造装置は、底部内
面が平滑な有底容器内にガラスビードの組成粉末を投入
した後、前記容器に投入した粉末の溶解，冷却工程を経
て、前記底部内面に接する面を分析面とするガラスビー
ドを得るガラスビード製造装置において、前記分析面の
平滑度及び平坦度を測定する測定部と、前記分析面の平
滑度が５μｍ以下、平坦度が５０μｍ以下の値となるよ
うに分析面を研磨する研磨部とを有することを特徴とす
るものである。
面が平滑な有底容器内にガラスビードの組成粉末を投入
した後、前記容器に投入した粉末の溶解，冷却工程を経
て、前記底部内面に接する面を分析面とするガラスビー
ドを得るガラスビード製造装置において、前記分析面の
平滑度及び平坦度を測定する測定部と、前記分析面の平
滑度が５μｍ以下、平坦度が５０μｍ以下の値となるよ
うに分析面を研磨する研磨部とを有することを特徴とす
るものである。
【００１１】また、請求項４記載の製造装置は、前記分
析面の平滑度及び平坦度の数値は、分析対象元素により
異なることを特徴とするものである。
析面の平滑度及び平坦度の数値は、分析対象元素により
異なることを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】請求項１記載の製造方法によれば、溶解，冷却
工程を経て得られるガラスビードの分析面には、容器の
底部内面の平滑度，平坦度がそのまま転写される。この
ため、底部内面を平滑にすることにより平滑な分析面が
得られるが、分析精度は、分析面の平滑度よりもむしろ
平坦度により左右される。従って、溶解，冷却工程によ
り容器が変形し、平滑度及び平坦度が悪くなっても、ガ
ラスビード自体を平滑度が５μｍ以下、平坦度が５０μ
ｍ以下の値となるように研磨することにより、分析精度
が向上し、量産性も向上する。
工程を経て得られるガラスビードの分析面には、容器の
底部内面の平滑度，平坦度がそのまま転写される。この
ため、底部内面を平滑にすることにより平滑な分析面が
得られるが、分析精度は、分析面の平滑度よりもむしろ
平坦度により左右される。従って、溶解，冷却工程によ
り容器が変形し、平滑度及び平坦度が悪くなっても、ガ
ラスビード自体を平滑度が５μｍ以下、平坦度が５０μ
ｍ以下の値となるように研磨することにより、分析精度
が向上し、量産性も向上する。
【００１３】請求項２記載の製造方法によれば、分析対
象元素に応じて平滑度及び平坦度の数値を定めることに
より、分析対象元素に応じた分析精度の向上が図れる。
象元素に応じて平滑度及び平坦度の数値を定めることに
より、分析対象元素に応じた分析精度の向上が図れる。
【００１４】請求項３記載の製造装置によれば、請求項
１記載と同様、溶解，冷却工程を経て得られるガラスビ
ードの分析面には、容器の底部内面の平滑度，平坦度が
そのまま転写される。このため、底部内面を平滑にする
ことにより平滑な分析面が得られるが、分析精度は、分
析面の平滑度よりもむしろ平坦度により左右される。従
って、溶解，冷却工程により容器が変形し、平滑度及び
平坦度が悪くなっても、測定部によりその平滑度及び平
坦度の測定をしてその良否判定が可能となり、研磨部に
より不良と判定されたガラスビードの分析面の平滑度が
５μｍ以下、平坦度が５０μｍ以下の値となるように研
磨することにより、分析精度が向上し、量産性も向上す
る。
１記載と同様、溶解，冷却工程を経て得られるガラスビ
ードの分析面には、容器の底部内面の平滑度，平坦度が
そのまま転写される。このため、底部内面を平滑にする
ことにより平滑な分析面が得られるが、分析精度は、分
析面の平滑度よりもむしろ平坦度により左右される。従
って、溶解，冷却工程により容器が変形し、平滑度及び
平坦度が悪くなっても、測定部によりその平滑度及び平
坦度の測定をしてその良否判定が可能となり、研磨部に
より不良と判定されたガラスビードの分析面の平滑度が
５μｍ以下、平坦度が５０μｍ以下の値となるように研
磨することにより、分析精度が向上し、量産性も向上す
る。
【００１５】請求項４記載の製造装置によれば、請求項
２記載と同様に、分析対象元素に応じて平滑度及び平坦
度の数値を定めることにより、分析対象元素に応じた分
析精度の向上が図れる。
２記載と同様に、分析対象元素に応じて平滑度及び平坦
度の数値を定めることにより、分析対象元素に応じた分
析精度の向上が図れる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳述
する。
する。
【００１７】図２は本発明に係るガラスビード製造装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【００１８】同図に示す製造装置１０は、ガラスビード
２の組成粉末（試料）２′を入れるための前記図５に示
したのと同様の容器１と、容器１内に投入された試料，
融剤を振動により混合する混合部１１と、容器１を例え
ば高周波誘導により最大１２００℃まで加熱可能な加熱
部１２と、例えば容器１に冷却用エアーを送風すること
により容器１を冷却する冷却部１３と、ガラスビード２
の分析面２ａの平坦度，平滑度を測定する測定部１４
と、分析面２ａを研磨する研磨部１５とを有して概略構
成されている。
２の組成粉末（試料）２′を入れるための前記図５に示
したのと同様の容器１と、容器１内に投入された試料，
融剤を振動により混合する混合部１１と、容器１を例え
ば高周波誘導により最大１２００℃まで加熱可能な加熱
部１２と、例えば容器１に冷却用エアーを送風すること
により容器１を冷却する冷却部１３と、ガラスビード２
の分析面２ａの平坦度，平滑度を測定する測定部１４
と、分析面２ａを研磨する研磨部１５とを有して概略構
成されている。
【００１９】前記測定部１４は、例えば、平坦度，平滑
度の測定として一般に用いられている表面あらさ計が適
用される。なお、ここでいう「平滑度」とは、ＪＩＳＢ
０６０１で定義されている「表面粗さ」のことをいい、
分析面２ａ全域における中心線平均粗さ（Ｒａ）で示
す。また、「平坦度」とは、ＪＩＳＢ０６１０で定義さ
れている「表面うねり」のことをいい、「基準長さ」を
分析面２ａの直径（約３０ｍｍ）とした場合の「最大う
ねり」で示す。
度の測定として一般に用いられている表面あらさ計が適
用される。なお、ここでいう「平滑度」とは、ＪＩＳＢ
０６０１で定義されている「表面粗さ」のことをいい、
分析面２ａ全域における中心線平均粗さ（Ｒａ）で示
す。また、「平坦度」とは、ＪＩＳＢ０６１０で定義さ
れている「表面うねり」のことをいい、「基準長さ」を
分析面２ａの直径（約３０ｍｍ）とした場合の「最大う
ねり」で示す。
【００２０】前記研磨部１５は、図示しない研磨手段に
より分析面２ａを機械研磨することにより、分析面２ａ
の平坦度が１０μｍ以下、平滑度が５μｍ以下となるよ
うに構成されている。研磨手段は、例えば、研磨布，砥
石，研磨紙などに各種粒度の人造コランダム研磨材（Ａ
ｌ2 Ｏ3 ）やカーボランダム（ＳｉＣ）などの研磨材を
塗布したものが適用される。なお、平坦度５０μｍ以
下，平滑度５μｍ以下でも所望する分析精度が得られる
ならば、手による研磨でもよい。
より分析面２ａを機械研磨することにより、分析面２ａ
の平坦度が１０μｍ以下、平滑度が５μｍ以下となるよ
うに構成されている。研磨手段は、例えば、研磨布，砥
石，研磨紙などに各種粒度の人造コランダム研磨材（Ａ
ｌ2 Ｏ3 ）やカーボランダム（ＳｉＣ）などの研磨材を
塗布したものが適用される。なお、平坦度５０μｍ以
下，平滑度５μｍ以下でも所望する分析精度が得られる
ならば、手による研磨でもよい。
【００２１】次に、上記構成の製造装置１０を用いた本
発明のガラスビード製造方法の一実施例を図１に示す工
程図に従って説明する。
発明のガラスビード製造方法の一実施例を図１に示す工
程図に従って説明する。
【００２２】まず、所定量の試料２′を容器１内に投入
する（工程Ａ）。この工程Ａの後、仮焼工程及び冷却工
程を入れてもよい。次に、所定量の融剤を容器１内に投
入し（工程Ｂ）、混合部１１にて容器１に振動を与えて
試料２′と融剤とを混合し（工程Ｃ）、所定量の剥離剤
を容器１内に投入する（工程Ｄ）。続いて、加熱部１２
にて容器１内に投入した試料２′，融剤，剥離剤が溶解
するまで加熱し（工程Ｅ）、冷却部１３にて容器１に冷
却用エアを送風して容器１を冷却し（工程Ｆ）、ビード
２を剥離する（工程Ｇ）。
する（工程Ａ）。この工程Ａの後、仮焼工程及び冷却工
程を入れてもよい。次に、所定量の融剤を容器１内に投
入し（工程Ｂ）、混合部１１にて容器１に振動を与えて
試料２′と融剤とを混合し（工程Ｃ）、所定量の剥離剤
を容器１内に投入する（工程Ｄ）。続いて、加熱部１２
にて容器１内に投入した試料２′，融剤，剥離剤が溶解
するまで加熱し（工程Ｅ）、冷却部１３にて容器１に冷
却用エアを送風して容器１を冷却し（工程Ｆ）、ビード
２を剥離する（工程Ｇ）。
【００２３】そして、このようにして得られたビード２
の分析面２ａの平坦度，平滑度を測定部１４にて全数測
定する（工程Ｈ）。この工程Ｈにより得られた測定結果
に基づき、目標とする分析精度，分析対象元素などによ
り予め定めた許容値（例えば平坦度５０μｍ以下、平滑
度５μｍ以下）を満たすか否かにより良否を判定する
（工程Ｉ）。この判定は、自動判定でも人間による判定
でもよい。研磨部１５にて前記工程Ｉで不良品と判定さ
れたビード２の分析面２ａを研磨する（工程Ｊ）。これ
により、分析面２ａの平坦度が５０μｍ以下のビード２
が量産可能となる。その後、ビード２は蛍光Ｘ線分析に
供される。なお、全てのビード２を研磨した後、確認の
意味で平坦度，平滑度の測定を行ってもよい。
の分析面２ａの平坦度，平滑度を測定部１４にて全数測
定する（工程Ｈ）。この工程Ｈにより得られた測定結果
に基づき、目標とする分析精度，分析対象元素などによ
り予め定めた許容値（例えば平坦度５０μｍ以下、平滑
度５μｍ以下）を満たすか否かにより良否を判定する
（工程Ｉ）。この判定は、自動判定でも人間による判定
でもよい。研磨部１５にて前記工程Ｉで不良品と判定さ
れたビード２の分析面２ａを研磨する（工程Ｊ）。これ
により、分析面２ａの平坦度が５０μｍ以下のビード２
が量産可能となる。その後、ビード２は蛍光Ｘ線分析に
供される。なお、全てのビード２を研磨した後、確認の
意味で平坦度，平滑度の測定を行ってもよい。
【００２４】このようにしてビード２を得る本実施例の
製造方法の効果を図３，図４，表１をも参照して説明す
る。
製造方法の効果を図３，図４，表１をも参照して説明す
る。
【００２５】図３はジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度と
平坦度との関係を示すグラフである。同図は平坦度によ
りＸ線強度が大きく変化していることを示している。同
図に示すように、本実施例によれば、平坦度が従来最大
０．８ｍｍあったものが、本実施例では全て５０μｍ以
下となるため、ジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度が従来
４６．７乃至４７．７ｋｐｓとばらついていたものが、
本実施例では４６．１０乃至４６．１３ｋｐｓとばらつ
きが小さくなり、高精度の分析が可能となった。
平坦度との関係を示すグラフである。同図は平坦度によ
りＸ線強度が大きく変化していることを示している。同
図に示すように、本実施例によれば、平坦度が従来最大
０．８ｍｍあったものが、本実施例では全て５０μｍ以
下となるため、ジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度が従来
４６．７乃至４７．７ｋｐｓとばらついていたものが、
本実施例では４６．１０乃至４６．１３ｋｐｓとばらつ
きが小さくなり、高精度の分析が可能となった。
【００２６】また、表１は研磨前後によるＸ線強度のＣ
Ｖ値の比較を示すものである。なお、ＣＶ値は、１００
α／Ｘを示す。（α：標準偏差，Ｘ：平均値）Ａ／Ｂ比
はＢａ／（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比を示し、ｎはサンプル
数（１０個）を示す。
Ｖ値の比較を示すものである。なお、ＣＶ値は、１００
α／Ｘを示す。（α：標準偏差，Ｘ：平均値）Ａ／Ｂ比
はＢａ／（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比を示し、ｎはサンプル
数（１０個）を示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】表１から明らかなように、ＣＶ値は研磨前
はＢａＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｒＯ2 がそれぞれ０．０５，
０．２０，０．８２あったものが、研磨後（平坦度５０
μｍ以下）はそれぞれ０．０２，０．０８，０．１４と
小さくなっていることから、ＺｒＯ2 と同様にＢａＯ，
ＴｉＯ2 においてもＸ線強度のばらつきが小さくなり、
高精度の分析が可能となった。
はＢａＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｒＯ2 がそれぞれ０．０５，
０．２０，０．８２あったものが、研磨後（平坦度５０
μｍ以下）はそれぞれ０．０２，０．０８，０．１４と
小さくなっていることから、ＺｒＯ2 と同様にＢａＯ，
ＴｉＯ2 においてもＸ線強度のばらつきが小さくなり、
高精度の分析が可能となった。
【００２９】なお、図４は元素毎の相対強度と相対距離
との関係を示すグラフである。相対強度は、ある基準位
置における各元素のＸ線強度を基準としたものである。
相対距離は、基準位置からＸ線管球に近づく方向をマイ
ナス、Ｘ線管球から遠ざかる方向をプラスで示す。
との関係を示すグラフである。相対強度は、ある基準位
置における各元素のＸ線強度を基準としたものである。
相対距離は、基準位置からＸ線管球に近づく方向をマイ
ナス、Ｘ線管球から遠ざかる方向をプラスで示す。
【００３０】同図から明らかなように、基準位置からの
距離が変化すると各元素のＸ線強度も変化する。また、
元素毎にＸ線強度の変化率は異なる。更に同じ元素でも
分析装置が異なると変化の仕方も異なってくる。それは
使用する分析装置の光学条件、特にブラック角と光学系
による。従って分析対象元素により、目標とする平坦度
を設定することにより、分析対象元素に応じた分析精度
の向上が図れる。
距離が変化すると各元素のＸ線強度も変化する。また、
元素毎にＸ線強度の変化率は異なる。更に同じ元素でも
分析装置が異なると変化の仕方も異なってくる。それは
使用する分析装置の光学条件、特にブラック角と光学系
による。従って分析対象元素により、目標とする平坦度
を設定することにより、分析対象元素に応じた分析精度
の向上が図れる。
【００３１】なお、本発明は、上記実施例に限定され
ず、種々に変形実施できる。
ず、種々に変形実施できる。
【００３２】
【発明の効果】以上詳述した請求項１記載の発明によれ
ば、分析面の平滑度及び平坦度が前述の値の範囲となる
ようにその分析面を研磨しているので、分析精度の向上
が図れ、しかも量産性に優れる蛍光Ｘ線分析用ガラスビ
ード製造方法を提供することができる。
ば、分析面の平滑度及び平坦度が前述の値の範囲となる
ようにその分析面を研磨しているので、分析精度の向上
が図れ、しかも量産性に優れる蛍光Ｘ線分析用ガラスビ
ード製造方法を提供することができる。
【００３３】また、請求項２記載の発明によれば、分析
対象元素に応じて平滑度及び平坦度の数値を定めること
により、分析対象元素に応じた分析精度の向上が図れ
る。
対象元素に応じて平滑度及び平坦度の数値を定めること
により、分析対象元素に応じた分析精度の向上が図れ
る。
【００３４】また、請求項３記載の発明によれば、分析
面の平滑度及び平坦度の測定によりその良否判定が可能
になり、不良と判定されたガラスビードの分析面の平滑
度及び平坦度が前述の値の範囲となるように分析面を研
磨できるので、分析精度の向上が図れ、しかも量産性に
優れるガラスビード製造装置を提供することができる。
面の平滑度及び平坦度の測定によりその良否判定が可能
になり、不良と判定されたガラスビードの分析面の平滑
度及び平坦度が前述の値の範囲となるように分析面を研
磨できるので、分析精度の向上が図れ、しかも量産性に
優れるガラスビード製造装置を提供することができる。
【００３５】また、請求項４記載の発明によれば、請求
項２記載と同様に、分析対象元素に応じた分析精度の向
上が図れる。
項２記載と同様に、分析対象元素に応じた分析精度の向
上が図れる。
【図１】本発明のガラスビード製造方法の一実施例を示
す工程図である。
す工程図である。
【図２】本発明に係るガラスビード製造装置の概略構成
図である。
図である。
【図３】ジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度と平坦度との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図４】元素毎の相対強度と相対距離との関係を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図５】容器の断面図及び従来の問題点を示す図であ
る。
る。
【図６】ガラスビードの断面図及び従来の問題点を示す
図である。
図である。
１ 容器 １ａ 底部内面 ２ ガラスビード ２′ 粉末 ２ａ 分析面 １０ ガラスビード製造装置 １４ 測定部 １５ 研磨部
フロントページの続き (72)発明者 柚原 由太郎 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭50−56996（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−197444（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−28736（ＪＰ，Ａ) 特公 昭49−41586（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/00 - 23/227 G01N 1/28
Claims (4)
- 【請求項１】 底部内面が平滑な有底容器内にガラスビ
ードの組成粉末を投入した後、前記容器に投入した粉末
の溶解，冷却工程を経て、前記底部内面に接する面を分
析面とするガラスビードを得る蛍光Ｘ線分析用ガラスビ
ード製造方法において、前記分析面の平滑度が５μｍ以
下、平坦度が５０μｍ以下の値となるようにその分析面
を研磨することを特徴とする蛍光Ｘ線分析用ガラスビー
ド製造方法。 - 【請求項２】 前記分析面の平滑度及び平坦度の数値
は、分析対象元素により異なることを特徴とする請求項
１記載の蛍光Ｘ線分析用ガラスビード製造方法。 - 【請求項３】 底部内面が平滑な有底容器内にガラスビ
ードの組成粉末を投入した後、前記容器に投入した粉末
の溶解，冷却工程を経て、前記底部内面に接する面を分
析面とするガラスビードを得るガラスビード製造装置に
おいて、前記分析面の平滑度及び平坦度を測定する測定
部と、前記分析面の平滑度が５μｍ以下、平坦度が５０
μｍ以下の値となるように分析面を研磨する研磨部とを
有することを特徴とするガラスビード製造装置。 - 【請求項４】 前記分析面の平滑度及び平坦度の数値
は、分析対象元素により異なることを特徴とする請求項
３記載のガラスビード製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27702892A JP3312932B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 蛍光ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラスビード製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27702892A JP3312932B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 蛍光ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラスビード製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06129963A JPH06129963A (ja) | 1994-05-13 |
| JP3312932B2 true JP3312932B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=17577771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27702892A Expired - Lifetime JP3312932B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 蛍光ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラスビード製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3312932B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3384010B2 (ja) | 1992-12-28 | 2003-03-10 | ティーディーケイ株式会社 | 蛍光ｘ線分析用標準試料の作成方法 |
-
1992
- 1992-10-15 JP JP27702892A patent/JP3312932B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3384010B2 (ja) | 1992-12-28 | 2003-03-10 | ティーディーケイ株式会社 | 蛍光ｘ線分析用標準試料の作成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06129963A (ja) | 1994-05-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20110189379A1 (en) | Method for the thermographic inspection of nonmetallic materials, particularly coated nonmetallic materials, as well as method for the production thereof and an object produced according to the method | |
| WO2021082991A1 (zh) | 一种用于定型耐火材料形变测试的散斑制备方法 | |
| JP3312932B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析用ガラスビード製造方法及びガラスビード製造装置 | |
| JP3219489B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3153710B2 (ja) | シリコン台座用ガラス及びシリコン基材型センサー | |
| JP2827337B2 (ja) | ガラスレンズの製造方法およびその方法に用いる金型 | |
| US8052856B2 (en) | Support for capillaries, case for constraining capillaries including the same | |
| JPS6227334A (ja) | 光学素子の成形方法 | |
| JP2003137677A (ja) | 表示部を有するセラミック部材及びその製造方法 | |
| Bronk et al. | A Quasi Non‐destructive Microsampling Technique for the Analysis of Intact Glass Objects By Sem/edxa | |
| JPH10170414A (ja) | 蛍光ｘ線分析用ガラスビードの製造方法及び係るガラスビードを用いた蛍光ｘ線分析方法 | |
| JP3555681B2 (ja) | モールドプレス成形用ガラス | |
| JPH09166589A (ja) | 鉄鋼スラグの迅速分析方法 | |
| JPH0648843A (ja) | セラミックス等粉末焼結品の製造方法 | |
| JP3956258B2 (ja) | 高純度溝切り面を有するシリコンウエーハ熱処理用石英ガラス治具およびその製造方法 | |
| JPH11304675A (ja) | 蛍光ｘ線分析用スラグサンプルの調整方法およびサンプラ | |
| TW527260B (en) | System and method for inspecting emery wheel profile | |
| Burzacchini et al. | Examination of Fast‐Fire Frits and Glazes Using a Hot Stage Microscope at Different Heating Rates | |
| JPS614949A (ja) | セラミツクスの圧痕き裂識別方法 | |
| JPH11344455A (ja) | 蛍光ｘ線分析用試料マスク、試料ホルダおよびスラグの蛍光ｘ線分析方法 | |
| JP2000143361A (ja) | セラミックス構造体及びその製造方法 | |
| JPH0369852B2 (ja) | ||
| JPH06201549A (ja) | 蛍光ｘ線分析用標準試料の作成方法 | |
| CN118275290A (zh) | 基于热丝法的无机非金属材料高温失重原位测试方法 | |
| JPH10267915A (ja) | 鉄鋼スラグ用サンプラ及びその使用方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020514 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080531 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100531 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110531 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130531 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130531 Year of fee payment: 11 |