JP3219489B2 - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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- JP3219489B2 JP3219489B2 JP27703592A JP27703592A JP3219489B2 JP 3219489 B2 JP3219489 B2 JP 3219489B2 JP 27703592 A JP27703592 A JP 27703592A JP 27703592 A JP27703592 A JP 27703592A JP 3219489 B2 JP3219489 B2 JP 3219489B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- analysis
- glass bead
- polishing
- flatness
- container
- Prior art date
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス，鉄鉱
石，セメント等の粉末酸化物等からなるガラスビードを
用いた蛍光Ｘ線分析装置に関する。
石，セメント等の粉末酸化物等からなるガラスビードを
用いた蛍光Ｘ線分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】セラミックス，鉄鉱石，セメント等の粉
末酸化物の元素の含有率を求めるのに、元素の含有率に
より蛍光Ｘ線強度が異なることを利用した蛍光Ｘ線分析
方法が一般に広く用いられている。また、この蛍光Ｘ線
分析を行う場合に、試料（粉末酸化物）を蛍光Ｘ線分析
に適した形態に調整する必要がある。その方法として粉
末プレス法とガラスビード法が代表的であるが、粉末プ
レス法より種々の点で優れるガラスビード法が一般的に
用いられている。
末酸化物の元素の含有率を求めるのに、元素の含有率に
より蛍光Ｘ線強度が異なることを利用した蛍光Ｘ線分析
方法が一般に広く用いられている。また、この蛍光Ｘ線
分析を行う場合に、試料（粉末酸化物）を蛍光Ｘ線分析
に適した形態に調整する必要がある。その方法として粉
末プレス法とガラスビード法が代表的であるが、粉末プ
レス法より種々の点で優れるガラスビード法が一般的に
用いられている。
【０００３】このガラスビード法では、図５に示すよう
に、容器１内にガラスビードの組成粉末２′を投入した
後、その投入した粉末２′の溶解，冷却工程を経ること
により、図６に示すようなガラス化したガラスビード２
を製造する。そしてガラスビード２の容器１の底部内面
（直径約３０ｍｍ）１ａに対応する面が、蛍光Ｘ線分析
における分析面２ａとなる。
に、容器１内にガラスビードの組成粉末２′を投入した
後、その投入した粉末２′の溶解，冷却工程を経ること
により、図６に示すようなガラス化したガラスビード２
を製造する。そしてガラスビード２の容器１の底部内面
（直径約３０ｍｍ）１ａに対応する面が、蛍光Ｘ線分析
における分析面２ａとなる。
【０００４】また、ガラスビード法で用いられる容器１
は、得られるガラスビード２に不純物が混入せず、ま
た、ガラスビード２が冷却した場合の剥離性が良好で、
変形し難いことが望ましい。そのような材質としては、
一般に、白金と金の合金又は白金と金とロジウムの合金
などの高価な貴金属が用いられている。しかしながら、
この容器１，ガラスビード２間の熱膨脹差が大きいた
め、冷却した際の熱応力により、繰り返し使用するにつ
れ容器１の底部内面１ａは図５の想像線で示すように変
形し、ガラスビード２の分析面２ａも図６の想像線で示
すように変形（平坦度が最大０．８ｍｍ）してくる。よ
って１つの容器１で数百個のガラスビード２を製造する
と変形がさらに大きくなり、分析精度が低下する。
は、得られるガラスビード２に不純物が混入せず、ま
た、ガラスビード２が冷却した場合の剥離性が良好で、
変形し難いことが望ましい。そのような材質としては、
一般に、白金と金の合金又は白金と金とロジウムの合金
などの高価な貴金属が用いられている。しかしながら、
この容器１，ガラスビード２間の熱膨脹差が大きいた
め、冷却した際の熱応力により、繰り返し使用するにつ
れ容器１の底部内面１ａは図５の想像線で示すように変
形し、ガラスビード２の分析面２ａも図６の想像線で示
すように変形（平坦度が最大０．８ｍｍ）してくる。よ
って１つの容器１で数百個のガラスビード２を製造する
と変形がさらに大きくなり、分析精度が低下する。
【０００５】一方、日本工業規格（ＪＩＳ）では、ガラ
スビード２の分析面２ａについての規定はなく、容器１
の底部内面１ａに関し、「ビードの剥離性を良好に保つ
ために、底部内面を平滑に保つ」如く規定されているだ
けであるため、従来、底部内面１ａを平滑にする考えは
あっても、平坦にするという考えはなかった。
スビード２の分析面２ａについての規定はなく、容器１
の底部内面１ａに関し、「ビードの剥離性を良好に保つ
ために、底部内面を平滑に保つ」如く規定されているだ
けであるため、従来、底部内面１ａを平滑にする考えは
あっても、平坦にするという考えはなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
技術革新に伴い、高い分析精度が要求されるようにな
り、その要求を満たすガラスビード２を得ようとする
と、従来法では１つの容器１でせいぜい１０個程度しか
製造できないことになり、量産性が低下し、分析効率が
低下する。また、その都度改鋳したのではコスト高を招
くことにもなる。
技術革新に伴い、高い分析精度が要求されるようにな
り、その要求を満たすガラスビード２を得ようとする
と、従来法では１つの容器１でせいぜい１０個程度しか
製造できないことになり、量産性が低下し、分析効率が
低下する。また、その都度改鋳したのではコスト高を招
くことにもなる。
【０００７】そこで、本発明は、上記事情に鑑みてなさ
れたものであり、分析精度の向上を図るとともに分析効
率向上をも図った蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目
的としている。
れたものであり、分析精度の向上を図るとともに分析効
率向上をも図った蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目
的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１記載の分析装置は、ガラスビードを用いた蛍
光Ｘ線分析装置において、有底容器内に投入されるガラ
スビードの組成粉末を溶解する加熱部とこの加熱部によ
り溶解した前記粉末を冷却する冷却部とを有するガラス
ビード作製手段と、このガラスビード作製手段により作
製されたガラスビードの前記容器の底部内面に対応する
分析面の平坦度，平滑度を測定する測定手段と、前記分
析面を研磨する研磨手段と、前記分析面にＸ線を照射し
て蛍光Ｘ線強度を測定することにより前記粉末を分析す
る分析手段とを有することを特徴とするものである。
に請求項１記載の分析装置は、ガラスビードを用いた蛍
光Ｘ線分析装置において、有底容器内に投入されるガラ
スビードの組成粉末を溶解する加熱部とこの加熱部によ
り溶解した前記粉末を冷却する冷却部とを有するガラス
ビード作製手段と、このガラスビード作製手段により作
製されたガラスビードの前記容器の底部内面に対応する
分析面の平坦度，平滑度を測定する測定手段と、前記分
析面を研磨する研磨手段と、前記分析面にＸ線を照射し
て蛍光Ｘ線強度を測定することにより前記粉末を分析す
る分析手段とを有することを特徴とするものである。
【０００９】また、請求項２記載の分析装置は、前記研
磨手段は、分析対象元素に応じた平坦度，平滑度となる
ように研磨することを特徴とするものである。
磨手段は、分析対象元素に応じた平坦度，平滑度となる
ように研磨することを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】請求項１記載の分析装置によれば、ガラスビー
ド作製手段の加熱部，冷却部による溶解，冷却工程を経
て得られるガラスビードの分析面には、容器の底部内面
の平滑度，平坦度がそのまま転写される。このため、底
部内面を平滑にすることにより平滑な分析面が得られる
が、分析精度は、分析面の平滑度よりもむしろ平坦度に
より左右される。溶解，冷却工程により容器が変形して
平坦度，平滑度が悪くなっても、測定手段により平坦度
等を測定するため、分析面の良否判定が可能となり、不
良と判定されたガラスビードの分析面を研磨手段により
研磨することにより、高精度な分析面が得られるため、
分析手段の分析精度が向上し、分析効率も向上する。
ド作製手段の加熱部，冷却部による溶解，冷却工程を経
て得られるガラスビードの分析面には、容器の底部内面
の平滑度，平坦度がそのまま転写される。このため、底
部内面を平滑にすることにより平滑な分析面が得られる
が、分析精度は、分析面の平滑度よりもむしろ平坦度に
より左右される。溶解，冷却工程により容器が変形して
平坦度，平滑度が悪くなっても、測定手段により平坦度
等を測定するため、分析面の良否判定が可能となり、不
良と判定されたガラスビードの分析面を研磨手段により
研磨することにより、高精度な分析面が得られるため、
分析手段の分析精度が向上し、分析効率も向上する。
【００１１】請求項２記載の分析装置によれば、研磨手
段は、分析対象元素に応じた精度で研磨するので、分析
対象元素に応じた分析精度の向上が図れる。
段は、分析対象元素に応じた精度で研磨するので、分析
対象元素に応じた分析精度の向上が図れる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳述
する。
する。
【００１３】図１は本発明の蛍光Ｘ線分析装置の一実施
例を示す概略構成図である。
例を示す概略構成図である。
【００１４】同図に示す本実施例の分析装置１０は、ガ
ラスビード２の組成粉末（試料）２′を入れるための前
記図５に示したのと同様の容器１と、ガラスビード２を
作製するガラスビード作製手段３と、ガラスビード２の
分析面２ａの平坦度，平滑度を測定する測定手段４と、
分析面２ａを研磨する研磨手段５と、分析面２ａにＸ線
を照射して蛍光Ｘ線強度を測定することにより試料２′
を分析する分析手段６とを有して概略構成されている。
ラスビード２の組成粉末（試料）２′を入れるための前
記図５に示したのと同様の容器１と、ガラスビード２を
作製するガラスビード作製手段３と、ガラスビード２の
分析面２ａの平坦度，平滑度を測定する測定手段４と、
分析面２ａを研磨する研磨手段５と、分析面２ａにＸ線
を照射して蛍光Ｘ線強度を測定することにより試料２′
を分析する分析手段６とを有して概略構成されている。
【００１５】前記ガラスビード作製手段３は、容器１内
に投入された試料２′，融剤を振動により混合する混合
部１１と、容器１を例えば高周波誘導により最大１２０
０℃まで加熱可能な加熱部１２と、例えば容器１に冷却
用エアーを送風することにより容器１を冷却する冷却部
１３とを具備している。
に投入された試料２′，融剤を振動により混合する混合
部１１と、容器１を例えば高周波誘導により最大１２０
０℃まで加熱可能な加熱部１２と、例えば容器１に冷却
用エアーを送風することにより容器１を冷却する冷却部
１３とを具備している。
【００１６】前記測定手段４は、例えば、平坦度，平滑
度の測定として一般に用いられている表面あらさ計が適
用される。なお、ここでいう「平滑度」とは、ＪＩＳＢ
０６０１で定義されている「表面粗さ」のことをいい、
分析面２ａ全域における中心線平均粗さ（Ｒａ）で示
す。また、「平坦度」とは、ＪＩＳＢ０６１０で定義さ
れている「表面うねり」のことをいい、「基準長さ」を
分析面２ａの直径（約３０ｍｍ）とした場合の「最大う
ねり」で示す。
度の測定として一般に用いられている表面あらさ計が適
用される。なお、ここでいう「平滑度」とは、ＪＩＳＢ
０６０１で定義されている「表面粗さ」のことをいい、
分析面２ａ全域における中心線平均粗さ（Ｒａ）で示
す。また、「平坦度」とは、ＪＩＳＢ０６１０で定義さ
れている「表面うねり」のことをいい、「基準長さ」を
分析面２ａの直径（約３０ｍｍ）とした場合の「最大う
ねり」で示す。
【００１７】前記研磨手段５は、図示しない研磨具によ
り分析面２ａを機械研磨することにより、分析面２ａの
平坦度が１０μｍ以下、平滑度が５μｍ以下となるよう
に構成されている。研磨具は、例えば、研磨布，砥石，
研磨紙などに各種粒度の人造コランダム研磨材（Ａｌ2
Ｏ3 ）やカーボランダム（ＳｉＣ）などの研磨材を塗布
したものが適用される。なお、平坦度５０μｍ以下，平
滑度５μｍ以下でも所望する分析精度が得られるなら
ば、手による研磨でもよい。
り分析面２ａを機械研磨することにより、分析面２ａの
平坦度が１０μｍ以下、平滑度が５μｍ以下となるよう
に構成されている。研磨具は、例えば、研磨布，砥石，
研磨紙などに各種粒度の人造コランダム研磨材（Ａｌ2
Ｏ3 ）やカーボランダム（ＳｉＣ）などの研磨材を塗布
したものが適用される。なお、平坦度５０μｍ以下，平
滑度５μｍ以下でも所望する分析精度が得られるなら
ば、手による研磨でもよい。
【００１８】次に、本実施例装置１０の作用を図２に示
す工程図に従って説明する。
す工程図に従って説明する。
【００１９】まず、所定量の試料２′を容器１内に投入
する（工程Ａ）。この工程Ａの後、仮焼工程及び冷却工
程を入れてもよい。次に、所定量の融剤を容器１内に投
入し（工程Ｂ）、ガラスビード作製手段３の混合部１１
にて容器１に振動を与えて試料２′と融剤とを混合し
（工程Ｃ）、所定量の剥離剤を容器１内に投入する（工
程Ｄ）。続いて、加熱部１２にて容器１内に投入した試
料２′，融剤，剥離剤が溶解するまで加熱し（工程
Ｅ）、冷却部１３にて容器１に冷却用エアを送風して容
器１を冷却し（工程Ｆ）、ビード２を剥離する（工程
Ｇ）。
する（工程Ａ）。この工程Ａの後、仮焼工程及び冷却工
程を入れてもよい。次に、所定量の融剤を容器１内に投
入し（工程Ｂ）、ガラスビード作製手段３の混合部１１
にて容器１に振動を与えて試料２′と融剤とを混合し
（工程Ｃ）、所定量の剥離剤を容器１内に投入する（工
程Ｄ）。続いて、加熱部１２にて容器１内に投入した試
料２′，融剤，剥離剤が溶解するまで加熱し（工程
Ｅ）、冷却部１３にて容器１に冷却用エアを送風して容
器１を冷却し（工程Ｆ）、ビード２を剥離する（工程
Ｇ）。
【００２０】そして、このようにして得られたビード２
の分析面２ａの平坦度，平滑度を測定手段４にて全数測
定する（工程Ｈ）。この工程Ｈにより得られた測定結果
に基づき、目標とする分析精度，分析対象元素などによ
り予め定めた許容値（例えば平坦度５０μｍ以下、平滑
度５μｍ以下）を満たすか否かにより良否を判定する
（工程Ｉ）。この判定は、自動判定でも人間による判定
でもよい。研磨手段５にて前記工程Ｉで不良品と判定さ
れたビード２の分析面２ａを研磨する（工程Ｊ）。これ
により、分析面２ａの平坦度が５０μｍ以下のビード２
が量産可能となる。
の分析面２ａの平坦度，平滑度を測定手段４にて全数測
定する（工程Ｈ）。この工程Ｈにより得られた測定結果
に基づき、目標とする分析精度，分析対象元素などによ
り予め定めた許容値（例えば平坦度５０μｍ以下、平滑
度５μｍ以下）を満たすか否かにより良否を判定する
（工程Ｉ）。この判定は、自動判定でも人間による判定
でもよい。研磨手段５にて前記工程Ｉで不良品と判定さ
れたビード２の分析面２ａを研磨する（工程Ｊ）。これ
により、分析面２ａの平坦度が５０μｍ以下のビード２
が量産可能となる。
【００２１】その後、分析手段６によりビード２の分析
面２ａにＸ線を照射し、蛍光Ｘ線を分析することにより
試料２′の分析を行う（工程Ｋ）。なお、全てのビード
２を研磨した後、確認の意味で平坦度，平滑度の測定を
行ってもよい。また、各部を自動制御してガラスビード
の作製から試料２′の分析までを自動化してもよい。
面２ａにＸ線を照射し、蛍光Ｘ線を分析することにより
試料２′の分析を行う（工程Ｋ）。なお、全てのビード
２を研磨した後、確認の意味で平坦度，平滑度の測定を
行ってもよい。また、各部を自動制御してガラスビード
の作製から試料２′の分析までを自動化してもよい。
【００２２】このようにしてビード２を用いた本実施例
装置１０の効果を図３，図４，表１をも参照して説明す
る。
装置１０の効果を図３，図４，表１をも参照して説明す
る。
【００２３】図３はジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度と
平坦度との関係を示すグラフである。同図は平坦度によ
りＸ線強度が大きく変化していることを示している。同
図に示すように、本実施例によれば、平坦度が従来最大
０．８ｍｍあったものが、本実施例では全て５０μｍ以
下となるため、ジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度が従来
４６．７乃至４７．７ｋｐｓとばらついていたものが、
本実施例では４６．１０乃至４６．１３ｋｐｓとばらつ
きが小さくなり、高精度の分析が可能となった。
平坦度との関係を示すグラフである。同図は平坦度によ
りＸ線強度が大きく変化していることを示している。同
図に示すように、本実施例によれば、平坦度が従来最大
０．８ｍｍあったものが、本実施例では全て５０μｍ以
下となるため、ジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度が従来
４６．７乃至４７．７ｋｐｓとばらついていたものが、
本実施例では４６．１０乃至４６．１３ｋｐｓとばらつ
きが小さくなり、高精度の分析が可能となった。
【００２４】また、表１は研磨前後によるＸ線強度のＣ
Ｖ値の比較を示すものである。なお、ＣＶ値は、１００
α／Ｘを示す。（α：標準偏差，Ｘ：平均値）Ａ／Ｂ比
はＢａ／（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比を示し、ｎはサンプル
数（１０個）を示す。
Ｖ値の比較を示すものである。なお、ＣＶ値は、１００
α／Ｘを示す。（α：標準偏差，Ｘ：平均値）Ａ／Ｂ比
はＢａ／（Ｔｉ＋Ｚｒ）のモル比を示し、ｎはサンプル
数（１０個）を示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１から明らかなように、ＣＶ値は研磨前
はＢａＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｒＯ2 がそれぞれ０．０５，
０．２０，０．８２あったものが、研磨後（平坦度５０
μｍ以下）はそれぞれ０．０２，０．０８，０．１４と
小さくなっていることから、ＺｒＯ2 と同様にＢａＯ，
ＴｉＯ2 においてもＸ線強度のばらつきが小さくなり、
高精度の分析が可能となった。
はＢａＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｒＯ2 がそれぞれ０．０５，
０．２０，０．８２あったものが、研磨後（平坦度５０
μｍ以下）はそれぞれ０．０２，０．０８，０．１４と
小さくなっていることから、ＺｒＯ2 と同様にＢａＯ，
ＴｉＯ2 においてもＸ線強度のばらつきが小さくなり、
高精度の分析が可能となった。
【００２７】なお、図４は元素毎の相対強度と相対距離
との関係を示すグラフである。相対強度は、ある基準位
置における各元素のＸ線強度を基準としたものである。
相対距離は、基準位置からＸ線管球に近づく方向をマイ
ナス、Ｘ線管球から遠ざかる方向をプラスで示す。
との関係を示すグラフである。相対強度は、ある基準位
置における各元素のＸ線強度を基準としたものである。
相対距離は、基準位置からＸ線管球に近づく方向をマイ
ナス、Ｘ線管球から遠ざかる方向をプラスで示す。
【００２８】同図から明らかなように、基準位置からの
距離が変化すると各元素のＸ線強度も変化する。また、
元素毎にＸ線強度の変化率は異なる。更に同じ元素でも
分析装置が異なると変化の仕方も異なってくる。それは
使用する分析装置の光学条件、特にブラック角と光学系
による。従って分析対象元素により、目標とする平坦度
を設定することにより、分析対象元素に応じた分析精度
の向上が図れる。
距離が変化すると各元素のＸ線強度も変化する。また、
元素毎にＸ線強度の変化率は異なる。更に同じ元素でも
分析装置が異なると変化の仕方も異なってくる。それは
使用する分析装置の光学条件、特にブラック角と光学系
による。従って分析対象元素により、目標とする平坦度
を設定することにより、分析対象元素に応じた分析精度
の向上が図れる。
【００２９】なお、本発明は、上記実施例に限定され
ず、種々に変形実施できる。
ず、種々に変形実施できる。
【００３０】
【発明の効果】以上詳述した請求項１記載の発明によれ
ば、測定手段により平坦度，平滑度を測定するため、分
析面の良否判定が可能となり、不良と判定されたガラス
ビードの分析面を研磨手段により研磨することにより、
高精度な分析面が得られるため、分析精度の向上を図る
とともに分析効率向上をも図った蛍光Ｘ線分析装置を提
供することができる。
ば、測定手段により平坦度，平滑度を測定するため、分
析面の良否判定が可能となり、不良と判定されたガラス
ビードの分析面を研磨手段により研磨することにより、
高精度な分析面が得られるため、分析精度の向上を図る
とともに分析効率向上をも図った蛍光Ｘ線分析装置を提
供することができる。
【００３１】また、請求項２記載の発明によれば、分析
対象元素に応じた平坦度，平滑度となるように分析面を
研磨しているので、分析対象元素に応じた分析精度の向
上が図れる。
対象元素に応じた平坦度，平滑度となるように分析面を
研磨しているので、分析対象元素に応じた分析精度の向
上が図れる。
【図１】本発明の蛍光Ｘ線分析装置の一実施例を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】本実施例装置の作用を示す工程図である。
【図３】ジルコニウム（Ｚｒ）のＸ線強度と平坦度との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図４】元素毎の相対強度と相対距離との関係を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図５】容器の断面図及び従来の問題点を示す図であ
る。
る。
【図６】ガラスビードの断面図及び従来の問題点を示す
図である。
図である。
１ 容器 １ａ 底部内面 ２ ガラスビード ２′ 粉末 ２ａ 分析面 ３ ガラスビード作製手段 ４ 測定手段 ５ 研磨手段 ６ 分析手段 １０ 蛍光Ｘ線分析装置 １２ 加熱部 １３ 冷却部
フロントページの続き (72)発明者 柚原 由太郎 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−41948（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−41945（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−24545（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−197444（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−253643（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−28736（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−56996（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/00 - 23/227 G01N 1/28 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラスビードを用いた蛍光Ｘ線分析装置
において、有底容器内に投入されるガラスビードの組成
粉末を溶解する加熱部とこの加熱部により溶解した前記
粉末を冷却する冷却部とを有するガラスビード作製手段
と、 このガラスビード作製手段により作製されたガラスビー
ドの前記容器の底部内面に対応する分析面の平坦度，平
滑度を測定する測定手段と、 前記分析面を研磨する研磨手段と、 前記分析面にＸ線を照射して蛍光Ｘ線強度を測定するこ
とにより前記粉末を分析する分析手段とを有することを
特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 前記研磨手段は、分析対象元素に応じた
平坦度，平滑度となるように研磨することを特徴とする
請求項１記載の蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27703592A JP3219489B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27703592A JP3219489B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130006A JPH06130006A (ja) | 1994-05-13 |
| JP3219489B2 true JP3219489B2 (ja) | 2001-10-15 |
Family
ID=17577874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27703592A Expired - Lifetime JP3219489B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3219489B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3384010B2 (ja) | 1992-12-28 | 2003-03-10 | ティーディーケイ株式会社 | 蛍光ｘ線分析用標準試料の作成方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3428931B2 (ja) | 1998-09-09 | 2003-07-22 | キヤノン株式会社 | フラットパネルディスプレイの解体処理方法 |
-
1992
- 1992-10-15 JP JP27703592A patent/JP3219489B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3384010B2 (ja) | 1992-12-28 | 2003-03-10 | ティーディーケイ株式会社 | 蛍光ｘ線分析用標準試料の作成方法 |
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| JPH06130006A (ja) | 1994-05-13 |
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