JP3288584B2 - 錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴 - Google Patents
錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴Info
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- JP3288584B2 JP3288584B2 JP21476596A JP21476596A JP3288584B2 JP 3288584 B2 JP3288584 B2 JP 3288584B2 JP 21476596 A JP21476596 A JP 21476596A JP 21476596 A JP21476596 A JP 21476596A JP 3288584 B2 JP3288584 B2 JP 3288584B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、鋼板上に錫めっき
を行う場合、即ち連続電気ブリキラインにおいて錫のス
ラッジ発生を抑制することが可能なめっき浴に関するも
のである。
を行う場合、即ち連続電気ブリキラインにおいて錫のス
ラッジ発生を抑制することが可能なめっき浴に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】電気ブリキラインはフェノールスルフォ
ン酸を主体とするフェロスタンラインと塩化物を主体と
するハロゲンラインに大別される。近年では、更に高生
産性の不溶性陽極を使用するフェロスタンラインが稼働
しており、また、排水公害の少ないメタンスルフォン酸
に代表されるアルカンスルフォン酸及び２−ヒドロキシ
エタン−１−スルフォン酸等に代表されるアルカノール
スルフォン酸浴を用いるめっき方法も新たに開発されて
いる（特公昭６２−１４６３９号公報，特公平２−４１
５８９号公報）。不溶性陽極を用いる電気ブリキライン
では、錫スラッジの発生があり、特にアルカンスルフォ
ン酸を使用しためっき浴では不溶性陽極化は困難であり
特公平２−４１５８９号公報では、錫酸化防止剤として
ジヒドロキシベンゼン化合物等を添加する方法または、
特開平５−１５６４８８号公報に示されるように、特殊
なアルカノールスルフォン酸を使用することが提案され
ている。
ン酸を主体とするフェロスタンラインと塩化物を主体と
するハロゲンラインに大別される。近年では、更に高生
産性の不溶性陽極を使用するフェロスタンラインが稼働
しており、また、排水公害の少ないメタンスルフォン酸
に代表されるアルカンスルフォン酸及び２−ヒドロキシ
エタン−１−スルフォン酸等に代表されるアルカノール
スルフォン酸浴を用いるめっき方法も新たに開発されて
いる（特公昭６２−１４６３９号公報，特公平２−４１
５８９号公報）。不溶性陽極を用いる電気ブリキライン
では、錫スラッジの発生があり、特にアルカンスルフォ
ン酸を使用しためっき浴では不溶性陽極化は困難であり
特公平２−４１５８９号公報では、錫酸化防止剤として
ジヒドロキシベンゼン化合物等を添加する方法または、
特開平５−１５６４８８号公報に示されるように、特殊
なアルカノールスルフォン酸を使用することが提案され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような錫
酸化防止剤の添加及び特殊な酸を使用してもなお、不溶
性陽極を用いる電気ブリキラインにおいて不可避となる
Ｆｅイオン及び硫酸根イオンの混入によって発生する錫
スラッジの抑制を可能とする錫めっき浴を提供するもの
である。
酸化防止剤の添加及び特殊な酸を使用してもなお、不溶
性陽極を用いる電気ブリキラインにおいて不可避となる
Ｆｅイオン及び硫酸根イオンの混入によって発生する錫
スラッジの抑制を可能とする錫めっき浴を提供するもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】以下、本発明について詳
細に述べる。本発明は不溶性陽極を使用する電気ブリキ
ラインにおいて、特に、錫めっき浴にアルカンスルフォ
ン酸または、アルカノールスルフォン酸を用いる場合、
不純物硫酸濃度及び鉄イオン濃度をある値以下に制限す
ることにより、錫スラッジの発生を抑制することを特徴
とするものである。
細に述べる。本発明は不溶性陽極を使用する電気ブリキ
ラインにおいて、特に、錫めっき浴にアルカンスルフォ
ン酸または、アルカノールスルフォン酸を用いる場合、
不純物硫酸濃度及び鉄イオン濃度をある値以下に制限す
ることにより、錫スラッジの発生を抑制することを特徴
とするものである。
【０００５】アルカンスルフォン酸または、アルカノー
ルスルフォン酸をベースとする錫めっき浴については、
特公昭６２−１４６３９号，特開昭６３−１６１１８３
号，特公平２−４１５８９号，特開平５−１５６４８８
号公報等に既に記載されているが、錫スラッジについて
は、特公平２−４１５８９号公報では、ジヒドロキシベ
ンゼン化合物を添加する方法、特開平５−１５６４８８
号公報では、βアルカノールスルフォン酸を用いること
が記載されている。本発明者らは、錫スラッジの発生に
ついて錫めっき浴中の不純物イオンに着目した結果、先
ず、硫酸根イオン（ＳＯ4 2- ）の存在により、スラッジ
発生が増加することと、更に、鋼板をめっきする際に不
可避となる鉄イオンの存在もスラッジ発生に影響を与え
ることを見出し、これらの不純物量を限定することによ
り、錫スラッジ発生の少ないめっき浴を提供することを
可能とした。
ルスルフォン酸をベースとする錫めっき浴については、
特公昭６２−１４６３９号，特開昭６３−１６１１８３
号，特公平２−４１５８９号，特開平５−１５６４８８
号公報等に既に記載されているが、錫スラッジについて
は、特公平２−４１５８９号公報では、ジヒドロキシベ
ンゼン化合物を添加する方法、特開平５−１５６４８８
号公報では、βアルカノールスルフォン酸を用いること
が記載されている。本発明者らは、錫スラッジの発生に
ついて錫めっき浴中の不純物イオンに着目した結果、先
ず、硫酸根イオン（ＳＯ4 2- ）の存在により、スラッジ
発生が増加することと、更に、鋼板をめっきする際に不
可避となる鉄イオンの存在もスラッジ発生に影響を与え
ることを見出し、これらの不純物量を限定することによ
り、錫スラッジ発生の少ないめっき浴を提供することを
可能とした。
【０００６】以下、本発明の請求範囲に述べた限定範囲
について説明する。本発明の錫めっき浴は不溶性陽極を
使用する電気ブリキラインで用いれば、その効果を最大
限に発揮することができる。一方、溶解性電極を使用す
るラインあるいは、鉄を基体にして錫めっきをバッチ方
式で電気めっきする場合等においても効果を得ることは
できる。先ず、錫イオン濃度の範囲であるが、一般的に
は酸性錫めっき浴では、Ｓｎ2+濃度として１〜２００ｇ
／ｌの範囲であり、下限はめっき最大電流密度、上限は
浴コストから限定される。次に、ベース酸となるアルカ
ンスルフォン酸または、アルカノールスルフォン酸の量
であるが、一般的には、錫イオン濃度と等量か多いもの
が通常であり、その濃度は最大電流密度によって決定さ
れる。
について説明する。本発明の錫めっき浴は不溶性陽極を
使用する電気ブリキラインで用いれば、その効果を最大
限に発揮することができる。一方、溶解性電極を使用す
るラインあるいは、鉄を基体にして錫めっきをバッチ方
式で電気めっきする場合等においても効果を得ることは
できる。先ず、錫イオン濃度の範囲であるが、一般的に
は酸性錫めっき浴では、Ｓｎ2+濃度として１〜２００ｇ
／ｌの範囲であり、下限はめっき最大電流密度、上限は
浴コストから限定される。次に、ベース酸となるアルカ
ンスルフォン酸または、アルカノールスルフォン酸の量
であるが、一般的には、錫イオン濃度と等量か多いもの
が通常であり、その濃度は最大電流密度によって決定さ
れる。
【０００７】従って、下限は錫イオン濃度の下限１ｇ／
ｌとし、上限は浴コストとの関係から３００ｇ／ｌが一
般的である。また、光沢剤については、平滑な錫めっき
皮膜を得る場合に必須であり、酸性錫めっき浴用として
一般的なエトキシ化αナフトール，エトキシ化αナフト
ールスルフォン酸，ポリエチレングリコール，酸化アル
キレン化合物等があり、その適量範囲は各々の添加剤の
種類と電流密度によって異なるが、０．０１〜１０ｇ／
ｌの範囲が一般的であり、その下限は錫めっき皮膜の平
滑度、上限は最大電流密度とコストによって決定され
る。
ｌとし、上限は浴コストとの関係から３００ｇ／ｌが一
般的である。また、光沢剤については、平滑な錫めっき
皮膜を得る場合に必須であり、酸性錫めっき浴用として
一般的なエトキシ化αナフトール，エトキシ化αナフト
ールスルフォン酸，ポリエチレングリコール，酸化アル
キレン化合物等があり、その適量範囲は各々の添加剤の
種類と電流密度によって異なるが、０．０１〜１０ｇ／
ｌの範囲が一般的であり、その下限は錫めっき皮膜の平
滑度、上限は最大電流密度とコストによって決定され
る。
【０００８】本発明のポイントである、めっき浴中の不
純物硫酸濃度の限定範囲については、下限は０であって
全く不純物を含まないものが理想的であるが、現実的に
は一般的な検出限界である０．１ｐｐｍとなる。上限
は、錫イオン濃度、酸濃度、酸種等の条件によって変化
するが、最大でも０．１ｇ／ｌ未満とすることが望まし
い。硫酸濃度のコントロールについては、通常はベース
酸の製造時に除去することが重要となるが、めっき中に
混入した硫酸についてはイオンフィルターによる除去及
びめっき液の希釈法等により行われる。更に、鋼板をめ
っきする際に不可避となる酸性めっき浴中への鉄の溶解
による鉄イオン濃度の混入についても、錫スラッジ生成
を促進させる因子となるため、鉄イオン濃度についても
最大で、２０ｇ／ｌ未満とすることが望ましい。
純物硫酸濃度の限定範囲については、下限は０であって
全く不純物を含まないものが理想的であるが、現実的に
は一般的な検出限界である０．１ｐｐｍとなる。上限
は、錫イオン濃度、酸濃度、酸種等の条件によって変化
するが、最大でも０．１ｇ／ｌ未満とすることが望まし
い。硫酸濃度のコントロールについては、通常はベース
酸の製造時に除去することが重要となるが、めっき中に
混入した硫酸についてはイオンフィルターによる除去及
びめっき液の希釈法等により行われる。更に、鋼板をめ
っきする際に不可避となる酸性めっき浴中への鉄の溶解
による鉄イオン濃度の混入についても、錫スラッジ生成
を促進させる因子となるため、鉄イオン濃度についても
最大で、２０ｇ／ｌ未満とすることが望ましい。
【０００９】また、錫スラッジを抑制するための酸化防
止剤として、ジヒドロキシベンゼン化合物としてのカテ
コール，ヒドロキノン等が一般的であるが、これらの酸
化防止剤を併用することで更にスラッジ抑制の効果が得
られる。特に、電気ブリキラインでは不可避である鉄イ
オン混入の影響については、これらの酸化防止剤の効果
を損なう場合が多く、硫酸を含めた不純物量の低減によ
り本来のスラッジ抑制機能を発揮させることが可能とな
る。
止剤として、ジヒドロキシベンゼン化合物としてのカテ
コール，ヒドロキノン等が一般的であるが、これらの酸
化防止剤を併用することで更にスラッジ抑制の効果が得
られる。特に、電気ブリキラインでは不可避である鉄イ
オン混入の影響については、これらの酸化防止剤の効果
を損なう場合が多く、硫酸を含めた不純物量の低減によ
り本来のスラッジ抑制機能を発揮させることが可能とな
る。
【００１０】これら、酸化防止添加剤については、その
種類により限定範囲は若干異なるが、一般的にはその効
果が発揮され始める量は０．００１ｇ／ｌ以上であり、
上限はコストの関係から１０．０ｇ／ｌとされている。
なお、鉄イオン濃度については、鉄イオンによって錫ス
ラッジの生成を促進させるだけでなく、めっき外観に及
ぼす影響が大きく、２０．０ｇ／ｌ以上では正常なめっ
き外観は得られなくなり、一般的には希釈によって調整
されている。
種類により限定範囲は若干異なるが、一般的にはその効
果が発揮され始める量は０．００１ｇ／ｌ以上であり、
上限はコストの関係から１０．０ｇ／ｌとされている。
なお、鉄イオン濃度については、鉄イオンによって錫ス
ラッジの生成を促進させるだけでなく、めっき外観に及
ぼす影響が大きく、２０．０ｇ／ｌ以上では正常なめっ
き外観は得られなくなり、一般的には希釈によって調整
されている。
【００１１】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明の内容を説明
する。 （実施例１）通常の方法で冷間圧延、及び焼鈍された低
炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ ブライト仕
様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った後、（１）に示
す処理条件でＳｎめっきを施した後、各種評価試験に供
した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８（ｇ／ｍ2 ）と
した。 （１）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜５０ ｇ／ｌ メタンスルフォン酸 ： ２０〜８０ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ カテコール ： １〜２ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
する。 （実施例１）通常の方法で冷間圧延、及び焼鈍された低
炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ ブライト仕
様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った後、（１）に示
す処理条件でＳｎめっきを施した後、各種評価試験に供
した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８（ｇ／ｍ2 ）と
した。 （１）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜５０ ｇ／ｌ メタンスルフォン酸 ： ２０〜８０ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ カテコール ： １〜２ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
【００１２】（実施例２）通常の方法で冷間圧延、及び
焼鈍された低炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ
ブライト仕様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った
後、（２）に示す処理条件でＳｎめっきを施した後、各
種評価試験に供した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８
（ｇ／ｍ2 ）とした。 （２）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜５０ ｇ／ｌ ２−ヒドロキシエタン −１−スルフォン酸 ： ２０〜８０ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
焼鈍された低炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ
ブライト仕様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った
後、（２）に示す処理条件でＳｎめっきを施した後、各
種評価試験に供した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８
（ｇ／ｍ2 ）とした。 （２）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜５０ ｇ／ｌ ２−ヒドロキシエタン −１−スルフォン酸 ： ２０〜８０ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
【００１３】（実施例３）通常の方法で冷間圧延、及び
焼鈍された低炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ
ブライト仕様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った
後、（３）に示す処理条件でＳｎめっきを施した後、各
種評価試験に供した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８
（ｇ／ｍ2 ）とした。 （３）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜５０ ｇ／ｌ ２−ヒドロキシエタン −１−スルフォン酸 ： ２０〜８０ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ カテコール ： １〜２ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
焼鈍された低炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ
ブライト仕様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った
後、（３）に示す処理条件でＳｎめっきを施した後、各
種評価試験に供した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８
（ｇ／ｍ2 ）とした。 （３）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜５０ ｇ／ｌ ２−ヒドロキシエタン −１−スルフォン酸 ： ２０〜８０ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ カテコール ： １〜２ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
【００１４】（実施例４）通常の方法で冷間圧延、及び
焼鈍された低炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ
ブライト仕様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った
後、（４）に示す処理条件でＳｎめっきを施した後、各
種評価試験に供した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８
（ｇ／ｍ2 ）とした。 （４）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜６０ ｇ／ｌ ２−ヒドロキシプロパ ン−１−スルフォン酸： ２０〜１００ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
焼鈍された低炭素冷延鋼板（表面粗度：０．２５μＲａ
ブライト仕様）に通常の方法で脱脂・酸洗を行った
後、（４）に示す処理条件でＳｎめっきを施した後、各
種評価試験に供した。錫めっきの付着量はＳｎ＝２．８
（ｇ／ｍ2 ）とした。 （４）Ｓｎメッキ 浴条件 Ｓｎ2+ ： ２０〜６０ ｇ／ｌ ２−ヒドロキシプロパ ン−１−スルフォン酸： ２０〜１００ ｇ／ｌ ＥＮ ： ３〜５ ｇ／ｌ ＳＯ4 2- ： ０．００１〜０．０１ ｇ／ｌ Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+ ： ５〜１０ ｇ／ｌ メッキ条件 浴温度 ：４０〜５０ ℃ 電流密度 ： ２〜５０ Ａ／ｄｍ2
【００１５】（比較例１）実施例１においてＳＯ4 2- 濃
度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目は
実施例１と同じである。 （比較例２）実施例１においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て実施例１
と同じである。 （比較例３）比較例１においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例１
と同じである。
度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目は
実施例１と同じである。 （比較例２）実施例１においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て実施例１
と同じである。 （比較例３）比較例１においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例１
と同じである。
【００１６】（比較例４）実施例２においてＳＯ4 2- 濃
度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目は
実施例２と同じである。 （比較例５）実施例２においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て実施例２
と同じである。 （比較例６）比較例４においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例４
と同じである。
度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目は
実施例２と同じである。 （比較例５）実施例２においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て実施例２
と同じである。 （比較例６）比較例４においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例４
と同じである。
【００１７】（比較例７）実施例３においてＳＯ4 2- 濃
度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目は
実施例３と同じである。 （比較例８）実施例３においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て実施例３
と同じである。 （比較例９）比較例７においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例７
と同じである。
度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目は
実施例３と同じである。 （比較例８）実施例３においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て実施例３
と同じである。 （比較例９）比較例７においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を２
０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例７
と同じである。
【００１８】（比較例１０）実施例４においてＳＯ4 2-
濃度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目
は実施例４と同じである。 （比較例１１）実施例４においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を
２０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例
４と同じである。 （比較例１２）比較例１０においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度
を２０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較
例１０と同じである。
濃度を０．１ｇ／ｌとした実施例であり、その他の項目
は実施例４と同じである。 （比較例１１）実施例４においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度を
２０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較例
４と同じである。 （比較例１２）比較例１０においてＦｅ2+＋Ｆｅ3+濃度
を２０ｇ／ｌとした実施例であり、他の条件は全て比較
例１０と同じである。
【００１９】以上、本発明実施例、比較例を以下に示す
（ａ）及び（ｂ）の評価テストに供し、特性を比較し
た。 （ａ）錫スラッジ生成量測定 不溶性陽極を用いて錫めっきを連続して約６時間行い、
めっき後の浴を濾過し、濾紙上に付着した残渣物を錫ス
ラッジとして重量測定を行った。 （ｂ）めっき表面外観 実施例と比較例で示した条件で錫めっきを行い、表面外
観を判定し、ヤケのない良好な状態を〇、ヤケ発生状態
を×とした。以上、テスト結果を表１にまとめて示し
た。
（ａ）及び（ｂ）の評価テストに供し、特性を比較し
た。 （ａ）錫スラッジ生成量測定 不溶性陽極を用いて錫めっきを連続して約６時間行い、
めっき後の浴を濾過し、濾紙上に付着した残渣物を錫ス
ラッジとして重量測定を行った。 （ｂ）めっき表面外観 実施例と比較例で示した条件で錫めっきを行い、表面外
観を判定し、ヤケのない良好な状態を〇、ヤケ発生状態
を×とした。以上、テスト結果を表１にまとめて示し
た。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように本発明は不溶性陽極を
用いた連続電気ブリキラインにおいて錫スラッジの少な
いめっき浴を提供するものであり、特に、補給錫の低減
によるコスト改善、錫イオン濃度アップによる高電流密
度操業を可能とすることによって安価な表面処理鋼板の
供給と生産性の向上並びに製造コストの低減をもたらす
ものである。
用いた連続電気ブリキラインにおいて錫スラッジの少な
いめっき浴を提供するものであり、特に、補給錫の低減
によるコスト改善、錫イオン濃度アップによる高電流密
度操業を可能とすることによって安価な表面処理鋼板の
供給と生産性の向上並びに製造コストの低減をもたらす
ものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−48692（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−333590（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−20893（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−156488（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−161183（ＪＰ，Ａ) 特公 昭62−14639（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平２−41589（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25D 3/32
Claims (2)
- 【請求項１】 錫イオン濃度１〜２００ｇ／ｌ、アルカ
ンスルフォン酸または、アルカノールスルフォン酸１〜
３００ｇ／ｌ、光沢剤０．０１〜１０．０ｇ／ｌからな
る光沢錫めっき浴において、浴中の不純物硫酸濃度がＳ
Ｏ4 2- イオン濃度換算で０．１ｇ／ｌ未満及び、Ｆｅイ
オン濃度の総量が２０．０ｇ／ｌ未満であることを特徴
とする錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴。 - 【請求項２】 請求項１に記載の錫めっき浴に更に酸化
防止添加剤を０．００１〜１０．０ｇ／ｌ含有すること
を特徴とする錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21476596A JP3288584B2 (ja) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | 錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21476596A JP3288584B2 (ja) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | 錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1060681A JPH1060681A (ja) | 1998-03-03 |
| JP3288584B2 true JP3288584B2 (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=16661175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21476596A Expired - Fee Related JP3288584B2 (ja) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | 錫スラッジ抑制に優れた錫めっき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3288584B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4742677B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2011-08-10 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 錫めっき鋼帯の製造方法 |
| JP5831123B2 (ja) * | 2011-10-19 | 2015-12-09 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 錫めっき鋼帯の製造方法 |
-
1996
- 1996-08-14 JP JP21476596A patent/JP3288584B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1060681A (ja) | 1998-03-03 |
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