JP3287948B2 - 石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法 - Google Patents
石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信システムの一部
品として利用される石英系光導波路のコア膜用材料の製
造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法に関する
ものである。
品として利用される石英系光導波路のコア膜用材料の製
造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】光導波路の中で石英系光導波路は、低損
失で、光ファイバとの接続損失も非常に小さく、低価格
の光部品として有望視されている。
失で、光ファイバとの接続損失も非常に小さく、低価格
の光部品として有望視されている。
【０００３】基板上に石英系光導波路を製造する方法と
して、火炎堆積法と反応性イオンエッチングによる方法
が、河内氏著、オプトロニクス、１９８８年８号８５頁
に記載されている。この方法は、シリコン基板上に火炎
堆積法によりアンダークラッド層、コア膜となるガラス
微粒子を堆積させて多孔質膜を形成し、電気炉などで高
温に加熱して透明ガラス化する。ガラス化したコア膜を
反応性イオンエッチングにより矩形にした後、ガラス微
粒子を堆積しオーバークラッド層を形成して、高温に加
熱してガラス化する。
して、火炎堆積法と反応性イオンエッチングによる方法
が、河内氏著、オプトロニクス、１９８８年８号８５頁
に記載されている。この方法は、シリコン基板上に火炎
堆積法によりアンダークラッド層、コア膜となるガラス
微粒子を堆積させて多孔質膜を形成し、電気炉などで高
温に加熱して透明ガラス化する。ガラス化したコア膜を
反応性イオンエッチングにより矩形にした後、ガラス微
粒子を堆積しオーバークラッド層を形成して、高温に加
熱してガラス化する。
【０００４】また基板上に石英系光導波路を製造する方
法として、電子ビーム蒸着法と反応性イオンエッチング
と火炎堆積法による方法が、井本他、日立評論、１９９
０年７２（４）５１頁に記載されている。この方法は、
アンダークラッド層を兼ねた石英ガラス基板上に電子ビ
ーム蒸着法によりコア膜を形成し、コア膜を反応性イオ
ンエッチングにより矩形にした後、火炎堆積法によりガ
ラス微粒子を堆積しオーバークラッド層を形成して、高
温に加熱してガラス化する。この製造方法ではコア膜を
形成する材料として、石英ガラスに屈折率制御用添加物
としてＴｉを含有したものが使用されている。また特開
平５−１５７９２７号公報には、コア材料として、Ｓｉ
Ｏ2 とＴａ2 Ｏ5 粉末を均一混合した後、これをホット
プレスにより所定形状に固形化したものが開示されてい
る。
法として、電子ビーム蒸着法と反応性イオンエッチング
と火炎堆積法による方法が、井本他、日立評論、１９９
０年７２（４）５１頁に記載されている。この方法は、
アンダークラッド層を兼ねた石英ガラス基板上に電子ビ
ーム蒸着法によりコア膜を形成し、コア膜を反応性イオ
ンエッチングにより矩形にした後、火炎堆積法によりガ
ラス微粒子を堆積しオーバークラッド層を形成して、高
温に加熱してガラス化する。この製造方法ではコア膜を
形成する材料として、石英ガラスに屈折率制御用添加物
としてＴｉを含有したものが使用されている。また特開
平５−１５７９２７号公報には、コア材料として、Ｓｉ
Ｏ2 とＴａ2 Ｏ5 粉末を均一混合した後、これをホット
プレスにより所定形状に固形化したものが開示されてい
る。
【０００５】火炎堆積法は、ガラス微粒子の堆積後にガ
ラス化するために１１００℃〜１４００℃で１〜３時間
の熱処理を必要とし、この熱処理はガラス化後のコア
膜、クラッド層とシリコン基板との熱膨張係数が大きく
違うためコア膜に大きな熱応力を発生させてしまう。こ
の大きな熱応力は本来等方性であるコア膜を異方性とし
てしまい、デバイスを形成した場合、偏波依存性を発生
させるという欠点を有していた。また膜厚制御や面内の
膜厚分布を均一にするのが困難で、ガラス微粒子の堆積
後、高温加熱によりガラス化したアンダークラッド層、
コア膜、オーバークラッド層の各層は、面内の膜厚分布
を均一にするためにポリッシュを行なわなければならな
かった。
ラス化するために１１００℃〜１４００℃で１〜３時間
の熱処理を必要とし、この熱処理はガラス化後のコア
膜、クラッド層とシリコン基板との熱膨張係数が大きく
違うためコア膜に大きな熱応力を発生させてしまう。こ
の大きな熱応力は本来等方性であるコア膜を異方性とし
てしまい、デバイスを形成した場合、偏波依存性を発生
させるという欠点を有していた。また膜厚制御や面内の
膜厚分布を均一にするのが困難で、ガラス微粒子の堆積
後、高温加熱によりガラス化したアンダークラッド層、
コア膜、オーバークラッド層の各層は、面内の膜厚分布
を均一にするためにポリッシュを行なわなければならな
かった。
【０００６】電子ビーム蒸着法は、成膜時に膜厚制御が
可能であり、面内の膜厚分布も均一であるためポリッシ
ュを行なう必要はなく有効な方法である。
可能であり、面内の膜厚分布も均一であるためポリッシ
ュを行なう必要はなく有効な方法である。
【０００７】しかしながら、電子ビーム蒸着法によりコ
ア膜を製造する際に使用するコア材料として石英ガラス
に屈折率制御用添加物としてＴｉを含有したものを用い
ると、Ｔｉにより光が吸収されて伝搬損失が大きくな
る。
ア膜を製造する際に使用するコア材料として石英ガラス
に屈折率制御用添加物としてＴｉを含有したものを用い
ると、Ｔｉにより光が吸収されて伝搬損失が大きくな
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記したＳｉＯ2 とＴ
ａ2 Ｏ5 の粉末を用いた方法において、本発明者は材料
をＳｉＯ2 とＧｅＯ2 の粉末として試みた。その結果、
ＳｉＯ2 とＧｅＯ2 の粉末を均一に混合してホットプレ
スしたものをコア材料として石英系光導波路コア膜を製
造すると、低損失の石英系光導波路コア膜を製造するこ
とができるが、ＳｉＯ2 とＧｅＯ2 の融点の差が大き過
ぎるためコア材料の蒸発速度に差が生じ、製造されたコ
ア膜にクラスターが基板面内の一部に発生することが分
かった。さらに膜厚方向でのＧｅの含有量が均一でない
ため、バッチ間での特性が安定しなかった。
ａ2 Ｏ5 の粉末を用いた方法において、本発明者は材料
をＳｉＯ2 とＧｅＯ2 の粉末として試みた。その結果、
ＳｉＯ2 とＧｅＯ2 の粉末を均一に混合してホットプレ
スしたものをコア材料として石英系光導波路コア膜を製
造すると、低損失の石英系光導波路コア膜を製造するこ
とができるが、ＳｉＯ2 とＧｅＯ2 の融点の差が大き過
ぎるためコア材料の蒸発速度に差が生じ、製造されたコ
ア膜にクラスターが基板面内の一部に発生することが分
かった。さらに膜厚方向でのＧｅの含有量が均一でない
ため、バッチ間での特性が安定しなかった。
【０００９】本発明は前記の課題を解決するためなされ
たもので、信頼性が高く、極めて低損失で、しかも特性
が安定した石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法お
よび石英系光導波路コア膜の製造方法を提供することを
目的とする。
たもので、信頼性が高く、極めて低損失で、しかも特性
が安定した石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法お
よび石英系光導波路コア膜の製造方法を提供することを
目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めになされた本発明の石英系光導波路のコア膜用材料の
製造方法は、図１に示すように、ＳｉＣｌ4 とＧｅＣｌ
4 とを酸水素炎を用いた火炎加水分解反応により微粉末
多孔質材３を形成し、微粉末多孔質材３を燒結して透明
ガラス化した固化物とする。前記固化物の外周部を所定
量除去することが好ましい。
めになされた本発明の石英系光導波路のコア膜用材料の
製造方法は、図１に示すように、ＳｉＣｌ4 とＧｅＣｌ
4 とを酸水素炎を用いた火炎加水分解反応により微粉末
多孔質材３を形成し、微粉末多孔質材３を燒結して透明
ガラス化した固化物とする。前記固化物の外周部を所定
量除去することが好ましい。
【００１１】前記の目的を達成するためになされた本発
明の石英系光導波路コア膜の製造方法は、図３に示すよ
うに、真空室１１内で、電子銃１３でコア膜用材料１２
を蒸発させアンダークラッドを兼ねた基板またはアンダ
ークラッドを形成した基板１５に付着させる石英系光導
波路コア膜の製造方法において、コア膜用材料１２がＳ
ｉＣｌ4 と屈折率制御用元素の塩化物とを酸水素炎の火
炎加水分解反応により微粉末多孔質材を形成し、該微粉
末多孔質材を燒結して透明ガラス化した固化物である。
前記屈折率制御用元素はＧｅであることが好ましい。
明の石英系光導波路コア膜の製造方法は、図３に示すよ
うに、真空室１１内で、電子銃１３でコア膜用材料１２
を蒸発させアンダークラッドを兼ねた基板またはアンダ
ークラッドを形成した基板１５に付着させる石英系光導
波路コア膜の製造方法において、コア膜用材料１２がＳ
ｉＣｌ4 と屈折率制御用元素の塩化物とを酸水素炎の火
炎加水分解反応により微粉末多孔質材を形成し、該微粉
末多孔質材を燒結して透明ガラス化した固化物である。
前記屈折率制御用元素はＧｅであることが好ましい。
【００１２】
【作用】ＳｉＣｌ4 とＧｅＣｌ4 を酸水素炎を用いて火
炎加水分解反応により形成した微粉末多孔質材を燒結し
て透明ガラス化した固化物は、燒結時に外周部のＧｅが
揮発してＧｅ濃度が小さくなってしまうが、その外周部
を所定量除去することにより、Ｇｅが均一に添加された
コア材料として使用することができる。またＳｉＣｌ4
とＧｅＣｌ4 を酸水素炎を用いて火炎加水分解反応によ
り微粉末多孔質材を形成すると同時に、ＳｉＯ2 のみの
微粉末多孔質を外周部に形成し、燒結を行なうことによ
っても、燒結時に外周部のＧｅの揮発を防止することが
できる。
炎加水分解反応により形成した微粉末多孔質材を燒結し
て透明ガラス化した固化物は、燒結時に外周部のＧｅが
揮発してＧｅ濃度が小さくなってしまうが、その外周部
を所定量除去することにより、Ｇｅが均一に添加された
コア材料として使用することができる。またＳｉＣｌ4
とＧｅＣｌ4 を酸水素炎を用いて火炎加水分解反応によ
り微粉末多孔質材を形成すると同時に、ＳｉＯ2 のみの
微粉末多孔質を外周部に形成し、燒結を行なうことによ
っても、燒結時に外周部のＧｅの揮発を防止することが
できる。
【００１３】本発明の製造方法により石英系光導波路コ
ア膜を製造すると、電子ビーム蒸着法におけるコア材料
を屈折率制御用添加物を含有した固化物とすることによ
り、コア膜中のクラスターをなくすことができる。また
ＳｉＯ2 と屈折率制御用添加物が電子ビームの加熱によ
り同時に蒸発するため、屈折率制御用添加物がアンダー
クラッド層にコア膜として面内、膜厚方向に均一に添加
される。このためコア膜の面内、膜厚方向の屈折率が均
一なコア膜を製造することができ、バッチ間の特性が安
定する。
ア膜を製造すると、電子ビーム蒸着法におけるコア材料
を屈折率制御用添加物を含有した固化物とすることによ
り、コア膜中のクラスターをなくすことができる。また
ＳｉＯ2 と屈折率制御用添加物が電子ビームの加熱によ
り同時に蒸発するため、屈折率制御用添加物がアンダー
クラッド層にコア膜として面内、膜厚方向に均一に添加
される。このためコア膜の面内、膜厚方向の屈折率が均
一なコア膜を製造することができ、バッチ間の特性が安
定する。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【００１５】図１は、本発明を適用する石英系光導波路
のコア膜用材料の製造方法を実施する装置の概略構成図
である。
のコア膜用材料の製造方法を実施する装置の概略構成図
である。
【００１６】同図に示すように、軸付けチャンバー１に
は導入口５、６、および残留ガスや残留微粉末を排気す
るための排気口７が開けられている。導入口５には上方
から軸２が上部で支えられて導入され、導入口６には微
粉末多孔質材３の形成材料となるガスを通すノズル４が
導入されている。
は導入口５、６、および残留ガスや残留微粉末を排気す
るための排気口７が開けられている。導入口５には上方
から軸２が上部で支えられて導入され、導入口６には微
粉末多孔質材３の形成材料となるガスを通すノズル４が
導入されている。
【００１７】上記装置を使用して、ＳｉＣｌ4 、ＧｅＣ
ｌ4 、Ｏ2 およびＨ2 ガスがノズル４を通って軸付けチ
ャンバー１内に導入され、軸２の先端部に吹きつけられ
る。軸２は火炎加水分解反応により微粉末多孔質材３を
形成しながら上方に引き上げられる。形成された微粉末
多孔質材３は燒結され透明ガラス化した固化物となる。
ｌ4 、Ｏ2 およびＨ2 ガスがノズル４を通って軸付けチ
ャンバー１内に導入され、軸２の先端部に吹きつけられ
る。軸２は火炎加水分解反応により微粉末多孔質材３を
形成しながら上方に引き上げられる。形成された微粉末
多孔質材３は燒結され透明ガラス化した固化物となる。
【００１８】上記の装置、動作により、火炎加水分解反
応を行なう際のガス流量をＳｉＣｌ4 が０．５２ｌ／ｍ
ｉｎ、ＧｅＣｌ4 が０．０６１ｌ／ｍｉｎ、Ｏ2 が１０
ｌ／ｍｉｎ、Ｈ2 が６ｌ／ｍｉｎとして微粉末多孔質材
３を形成し、Ｈｅ雰囲気中１６００℃で燒結して、透明
ガラス化した固化物を得た。
応を行なう際のガス流量をＳｉＣｌ4 が０．５２ｌ／ｍ
ｉｎ、ＧｅＣｌ4 が０．０６１ｌ／ｍｉｎ、Ｏ2 が１０
ｌ／ｍｉｎ、Ｈ2 が６ｌ／ｍｉｎとして微粉末多孔質材
３を形成し、Ｈｅ雰囲気中１６００℃で燒結して、透明
ガラス化した固化物を得た。
【００１９】得られた透明ガラス化した固化物の径方向
のＧｅ濃度分布を測定し、その結果を図２に示した。同
図に示すように、微粉末多孔質材３を燒結するときに外
周部のＧｅが揮発してしまうため、固化物の外周部はＧ
ｅの濃度が小さい。このＧｅの濃度が小さい固化物の外
周部を除去するために、外周から中心に向かって１０ｍ
ｍ円筒研削を行ない、研削された固化物を任意の大きさ
に切断してＧｅ濃度の均一な固化物を製造し、コア材料
として使用する。前記外周部を除去する方法としてはフ
ッ酸によるウェットエッチングでも良い。
のＧｅ濃度分布を測定し、その結果を図２に示した。同
図に示すように、微粉末多孔質材３を燒結するときに外
周部のＧｅが揮発してしまうため、固化物の外周部はＧ
ｅの濃度が小さい。このＧｅの濃度が小さい固化物の外
周部を除去するために、外周から中心に向かって１０ｍ
ｍ円筒研削を行ない、研削された固化物を任意の大きさ
に切断してＧｅ濃度の均一な固化物を製造し、コア材料
として使用する。前記外周部を除去する方法としてはフ
ッ酸によるウェットエッチングでも良い。
【００２０】図３は、本発明を適用する石英系光導波路
コア膜の製造方法を実施する装置の概略構成図である。
コア膜の製造方法を実施する装置の概略構成図である。
【００２１】同図に示すように、チャンバー１１はボル
ト３１とナット３２により台１９に固定され密閉されて
おり、台１９にはチャンバー１１内を真空にするための
真空排気系１６が接続されている。また台１９の側部に
は電源２０が固設されている。チャンバー１１内の上部
には基板ホルダ２１が固定されており、基板ホルダ２１
には石英ガラス基板１５が固定されている。チャンバー
１１内の下部には電子銃１３が固設されており、電子銃
１３の上には石英系光導波路コア膜のコア材料１２がル
ツボ１４に入れて置かれている。コア材料１２の両側に
はヒータ２２が固設されており、ヒータ２２は電源２０
に接続され、電流供給量を変えて温度を調節できるよう
になっている。
ト３１とナット３２により台１９に固定され密閉されて
おり、台１９にはチャンバー１１内を真空にするための
真空排気系１６が接続されている。また台１９の側部に
は電源２０が固設されている。チャンバー１１内の上部
には基板ホルダ２１が固定されており、基板ホルダ２１
には石英ガラス基板１５が固定されている。チャンバー
１１内の下部には電子銃１３が固設されており、電子銃
１３の上には石英系光導波路コア膜のコア材料１２がル
ツボ１４に入れて置かれている。コア材料１２の両側に
はヒータ２２が固設されており、ヒータ２２は電源２０
に接続され、電流供給量を変えて温度を調節できるよう
になっている。
【００２２】上記の装置を用いて次のように石英系光導
波路コア膜を製造する。真空排気系１６を作動させ、チ
ャンバー１１内を真空にする。ヒータ２２に電流を流し
て、石英ガラス基板１５の表面を加熱する。電子銃１３
から電子ビームをコア材料１２に照射して蒸発させ、石
英ガラス基板１５の表面に蒸着させて石英系光導波路コ
ア膜を形成する。
波路コア膜を製造する。真空排気系１６を作動させ、チ
ャンバー１１内を真空にする。ヒータ２２に電流を流し
て、石英ガラス基板１５の表面を加熱する。電子銃１３
から電子ビームをコア材料１２に照射して蒸発させ、石
英ガラス基板１５の表面に蒸着させて石英系光導波路コ
ア膜を形成する。
【００２３】上記の装置、動作により、直径１００ｍｍ
の石英ガラス基板１５を用いて、その表面を３５０℃に
保ちながら、コア材料１２を蒸発させ、成膜速度１．２
ｎｍ／ｓｅｃで厚さ８μｍの石英系光導波路コア膜を形
成した。尚、石英系光導波路コア膜の屈折率がアンダー
クラッド層を兼ねた石英ガラス基板１５よりも０．３％
高くなるようにコア材料１２のＧｅ添加量を調節した。
の石英ガラス基板１５を用いて、その表面を３５０℃に
保ちながら、コア材料１２を蒸発させ、成膜速度１．２
ｎｍ／ｓｅｃで厚さ８μｍの石英系光導波路コア膜を形
成した。尚、石英系光導波路コア膜の屈折率がアンダー
クラッド層を兼ねた石英ガラス基板１５よりも０．３％
高くなるようにコア材料１２のＧｅ添加量を調節した。
【００２４】上記製造方法により石英系光導波路コア膜
を５バッチ製造し、それらの面内屈折率分布および伝搬
損失を測定した。面内屈折率分布は、図４に示すよう
に、石英系光導波路コア膜の中心点Ａと、外周から中心
点Ａに向かって１０ｍｍの点Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの５点で測
定し、面内屈折率分布偏差を計算した。伝搬損失はプリ
ズムカプラ法により測定した。それらの結果を表１に示
す。
を５バッチ製造し、それらの面内屈折率分布および伝搬
損失を測定した。面内屈折率分布は、図４に示すよう
に、石英系光導波路コア膜の中心点Ａと、外周から中心
点Ａに向かって１０ｍｍの点Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの５点で測
定し、面内屈折率分布偏差を計算した。伝搬損失はプリ
ズムカプラ法により測定した。それらの結果を表１に示
す。
【００２５】コア膜の面内屈折率分布偏差σは、設定屈
折率をｎ、測定屈折率をｎm として以下のように定義す
る。
折率をｎ、測定屈折率をｎm として以下のように定義す
る。
【００２６】
【数１】
【００２７】
【表１】
【００２８】表１に示すように、どのバッチ回数におい
ても、製造された石英系光導波路コア膜の面内屈折率分
布がほとんどないため面内屈折率分布偏差が小さく、伝
搬損失も極めて小さかった。
ても、製造された石英系光導波路コア膜の面内屈折率分
布がほとんどないため面内屈折率分布偏差が小さく、伝
搬損失も極めて小さかった。
【００２９】比較のため、上記実施例と同一の装置、条
件において、図１に示す装置で製造された固化物の外周
部を除去せずに、図３に示す装置で石英系光導波路コア
膜を製造した。この製造方法により石英系光導波路コア
膜を５バッチ製造し、実施例と同様にそれらの面内屈折
率分布および伝搬損失を測定し面内屈折率分布偏差を計
算した。それらの結果を表２に示す。
件において、図１に示す装置で製造された固化物の外周
部を除去せずに、図３に示す装置で石英系光導波路コア
膜を製造した。この製造方法により石英系光導波路コア
膜を５バッチ製造し、実施例と同様にそれらの面内屈折
率分布および伝搬損失を測定し面内屈折率分布偏差を計
算した。それらの結果を表２に示す。
【００３０】
【表２】
【００３１】表２に示すように、コア材料を均一に蒸発
することができた１、４、５バッチ目は、実施例と同程
度の結果が得られたが、２、３バッチ目はコア材料の蒸
発時の偏りのため面内屈折率分布偏差および伝搬損失が
大きくなってしまい、バッチごとに特性が異なり安定し
なかった。
することができた１、４、５バッチ目は、実施例と同程
度の結果が得られたが、２、３バッチ目はコア材料の蒸
発時の偏りのため面内屈折率分布偏差および伝搬損失が
大きくなってしまい、バッチごとに特性が異なり安定し
なかった。
【００３２】さらに比較のため、上記実施例において、
図１の装置でコア材料を製造せずに、ＳｉＯ2 とＧｅＯ
2 の粉末を均一に混合してホットプレスし所定形状に固
形化した固化物をコア材料として、図３に示す装置によ
り上記実施例と同じ条件で石英系光導波路コア膜を製造
した。この製造方法により石英系光導波路コア膜を５バ
ッチ製造し、実施例と同様にそれらの面内屈折率分布お
よび伝搬損失を測定し面内屈折率分布偏差を計算した。
それらの結果を表３に示す。
図１の装置でコア材料を製造せずに、ＳｉＯ2 とＧｅＯ
2 の粉末を均一に混合してホットプレスし所定形状に固
形化した固化物をコア材料として、図３に示す装置によ
り上記実施例と同じ条件で石英系光導波路コア膜を製造
した。この製造方法により石英系光導波路コア膜を５バ
ッチ製造し、実施例と同様にそれらの面内屈折率分布お
よび伝搬損失を測定し面内屈折率分布偏差を計算した。
それらの結果を表３に示す。
【００３３】
【表３】
【００３４】表３に示すように、どのバッチ回数におい
ても、製造された石英系光導波路コア膜の面内屈折率分
布偏差が大きく、伝搬損失も大きかった。また製造され
た石英系光導波路コア膜の中には１〜１０μｍのクラス
ターが観察された。
ても、製造された石英系光導波路コア膜の面内屈折率分
布偏差が大きく、伝搬損失も大きかった。また製造され
た石英系光導波路コア膜の中には１〜１０μｍのクラス
ターが観察された。
【００３５】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明の製
造方法による石英系光導波路のコア膜用材料を用いて、
石英系光導波路コア膜を製造すると、信頼性が高く、極
めて低損失で、しかも特性が安定した石英系光導波路コ
ア膜を製造することができ、しかも歩留りが良いため光
通信システムの一部品として用いた際に低価格の光部品
を提供することができる。
造方法による石英系光導波路のコア膜用材料を用いて、
石英系光導波路コア膜を製造すると、信頼性が高く、極
めて低損失で、しかも特性が安定した石英系光導波路コ
ア膜を製造することができ、しかも歩留りが良いため光
通信システムの一部品として用いた際に低価格の光部品
を提供することができる。
【図１】本発明を適用する石英系光導波路のコア膜用材
料の製造方法を実施する装置の概略構成図である。
料の製造方法を実施する装置の概略構成図である。
【図２】コア材料である固化物のＧｅ濃度分布を示す図
である。
である。
【図３】本発明を適用する石英系光導波路コア膜の製造
方法を実施する装置の概略構成図である。
方法を実施する装置の概略構成図である。
【図４】石英系光導波路コア膜の面内屈折率分布を測定
する位置を示す図である。
する位置を示す図である。
１は軸付けチャンバー、２は軸、３は微粉末多孔質材、
４はノズル、５・６は導入口、７は排気口、１１はチャ
ンバー、１２はコア材料、１３は電子銃、１４はルツ
ボ、１５は石英ガラス基板、１６は真空排気系、２１は
基板ホルダ、１９は台、２２はヒータ、３１はボルト、
３２はナットである。
４はノズル、５・６は導入口、７は排気口、１１はチャ
ンバー、１２はコア材料、１３は電子銃、１４はルツ
ボ、１５は石英ガラス基板、１６は真空排気系、２１は
基板ホルダ、１９は台、２２はヒータ、３１はボルト、
３２はナットである。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−157927（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−301721（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−61552（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−137346（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−215929（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−226733（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−341145（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−144867（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−57417（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 6/12 - 6/14 C03B 1/00 - 5/44 C03B 8/00 - 8/04 C03B 19/00 - 20/00 C03C 1/00 - 23/00 C23C 14/00 - 14/58
Claims (4)
- 【請求項１】 真空室内で、電子ビーム蒸着法によりコ
ア膜用材料を蒸発させアンダークラッドを兼ねた基板ま
たはアンダークラッドを形成した基板に付着させる石英
系光導波路コア膜の製造方法において、該コア膜用材料
がＳｉＣｌ4と屈折率制御用元素の塩化物とを酸水素炎
の火炎加水分解反応により微粉末多孔質材を形成し、該
微粉末多孔質材を燒結して透明ガラス化した固化物であ
ることを特徴とする石英系光導波路コア膜の製造方法。 - 【請求項２】 前記屈折率制御用元素がＧｅであること
を特徴とする請求項１に記載の石英系光導波路コア膜の
製造方法。 - 【請求項３】 ＳｉＣｌ4 とＧｅＣｌ4 とを酸水素炎の
火炎加水分解反応により微粉末多孔質材を形成し、該微
粉末多孔質材を燒結して透明ガラス化した固化物とする
ことを特徴とする石英系光導波路のコア膜用材料の製造
方法。 - 【請求項４】 前記固化物の外周部を所定量除去するこ
とを特徴とする請求項３に記載の石英系光導波路のコア
膜用材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10016494A JP3287948B2 (ja) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | 石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10016494A JP3287948B2 (ja) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | 石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07306327A JPH07306327A (ja) | 1995-11-21 |
| JP3287948B2 true JP3287948B2 (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=14266682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10016494A Expired - Fee Related JP3287948B2 (ja) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | 石英系光導波路のコア膜用材料の製造方法および石英系光導波路コア膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3287948B2 (ja) |
-
1994
- 1994-05-13 JP JP10016494A patent/JP3287948B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07306327A (ja) | 1995-11-21 |
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