JP3287618B2 - 光ファイバ母材製造装置 - Google Patents

光ファイバ母材製造装置

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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、反応容器の中でバーナ
で合成したガラス微粒子を種棒の先端に堆積させて光フ
ァイバ母材を形成する光ファイバ母材製造装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来の光ファイバ母材製造装置
の例を示したものである。該光ファイバ母材製造装置
は、反応容器1にコアバーナ2,クラッドバーナ3と排
気管4とを図示のように対向配置し,反応容器1の開口
部からその内部に種棒5を下向きに挿入し、コアバーナ
2の火炎2a中で合成したコア用のガラス微粒子とクラ
ッドバーナ3の火炎3a中で合成したクラッド用のガラ
ス微粒子とを、回転しつつ引上げる種棒5の下端に堆積
させて光ファイバ母材6の製造を行っていた。光ファイ
バ母材6として付着しないガラス微粒子及びHCl等
は、光ファイバ母材6を間にしてコアバーナ2及びクラ
ッドバーナ3の反対側に存在する排気管4より排気させ
ていた。
【0003】この場合、コアバーナ2の先端での反応
は、次の通りである。 SiCl4 +2H2 O→SiO2 +4HCl GeCl4 +2H2 O→GeO2 +4HCl ここで、H2 Oは水素ガスと酸素ガスを原料ガスと共に
コアバーナ2に供給して、酸水素火炎2aを作ることに
より形成される。
【0004】このような光ファイバ母材製造装置では、
屈折率付与剤であるGeO2 をSiO2 からなる光ファ
イバ母材6内に設計通りに分布させることが必要であ
る。即ち、図5(A)に示すようにコア部(SiO2
GeO2 )6aとクラッド部(SiO2 )6bとからな
る光ファイバ母材6内に、図5(B)に示すようにGe
2 の濃度分布を正確に決めることが、シングルモード
光ファイバの屈折率のプロファイルを決定する上で必要
である。光ファイバ母材6内のGeO2 の濃度分布が正
しく形成されないと、例えば図6に示すように該GeO
2 の濃度分布の裾部及び上部がだれてしまうことにな
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光ファイバ母材製造装置では、図4及び図7に示すよう
に各火炎2a,3aの周囲及び排気管4の入口の周囲等
で無数のガスの渦7等による乱れがあり、ガス等の流れ
が時間的,空間的に安定しないため、コアバーナ2から
供給されるGeO2 の流れが乱れて、光ファイバ母材6
のコア部6aに正しく堆積せず、該光ファイバ母材6内
のGeO2 の濃度分布を正しく作ることができない問題
点があった。
【0006】反応容器1内のガスの流れを安定させるた
め、(イ)種棒5の上部からダウンフローを与える、
(ロ)バーナ2,3の周囲からエアーを供給する、
(ハ)排気管4の吸引風量を大きくする等の対策が考え
られているが、いずれも問題があり、光ファイバ母材6
内のGeO2 の濃度分布を正しく作ることができる光フ
ァイバ母材製造装置の開発が望まれている。
【0007】本発明の目的は、光ファイバ母材内の屈折
率付与剤の濃度分布を正しく作ることができる光ファイ
バ母材製造装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明の構成を説明すると、本発明はバーナの火炎中で合
成したガラス微粒子を反応容器の中で種棒の先端に堆積
させて光ファイバ母材を形成し、前記反応容器内の不要
ガスを排気管で該反応容器の外に排出させる光ファイバ
母材製造装置において、前記反応容器内の前記排気管の
入口の周囲に、旋回流を発生させる旋回流発生ユニット
が設けられていることを特徴とする。
【0009】
【作用】このように反応容器内の排気管の入口の周囲
に、旋回流を発生させる旋回流発生ユニットを設ける
と、該反応容器内の排気管の入口の周囲に龍巻のような
旋回流が発生し、この旋回流で排気管の吸引能力が高ま
る。その結果、反応容器内で浮遊している不要なガス等
がこの旋回流により吸引されて除去され、該反応容器内
のガス等の流れが安定し、コアバーナから供給される屈
折率付与剤が光ファイバ母材のコア部に正しく堆積し、
光ファイバ母材内に屈折率付与剤の濃度分布を正しく形
成することができる。
【0010】
【実施例】図1及び図3は、本発明に係る光ファイバ母
材製造装置の一実施例を示したものである。なお、前述
した図4と対応する部分には、同一符号を付けて示して
いる。
【0011】本実施例では、反応容器1内の排気管4の
入口の周囲に、龍巻のような旋回流を発生させる旋回流
発生ユニット8を設けている。該旋回流発生ユニット8
は、所定間隔で同軸配置された内筒8aと外筒8bの両
端が端板8c,8dで閉塞され、内筒8aと外筒8bと
の間にはオリフィス8eが設けられ、外筒8bの先端外
周には複数のノズル8fが設けられ、外筒8bの基端に
はインレット部8gが設けられた構造になっている。
【0012】このような旋回流発生ユニット8を備えた
光ファイバ母材製造装置においては、コアバーナ2の火
炎2a中で合成したコア用のガラス微粒子とクラッドバ
ーナ3の火炎3a中で合成したクラッド用のガラス微粒
子とを、回転しつつ引上げる種棒5の下端に堆積させて
光ファイバ母材6の製造を行う際に、旋回流発生ユニッ
ト8のインレット部8gからエアーを供給すると、該旋
回流発生ユニット8の先端外周の各ノズル8fからエア
ーが図3に示すように渦状の旋回流として放出される。
これにより排気管4の入口の周囲に龍巻のような旋回流
が発生し、排気管4の吸引能力が高まり、反応容器1内
の不要なガス等がこの旋回流により吸引されて除去さ
れ、該反応容器1内のガス等の流れが安定し、コアバー
ナ2aから供給される屈折率付与剤であるGeO2 が光
ファイバ母材6のコア部6aに正しく堆積し、該光ファ
イバ母材6内にGeO2 の濃度分布を正しく形成するこ
とができる。
【0013】実験例 コアバーナ2 H2 :5 l/min O2 :5 l/min SiCl4 :300 cc/min GeCl4 :20〜30 cc/min クラッドバーナ3 H2 :10 l/min O2 :10 l/min SiCl4 :300 cc/min 排気管4内の圧力:−2mmH2 O 種棒5の上部からのエアーの流量:150 l/min 旋回流発生ユニット8へのエアー供給量:5〜30 l/min ノズル8fの口径:1〜3mmφ ノズル8fの個数:16個 上記実施例では、旋回流発生ユニット8にエアーを供給
したが、エアーの代わりにN2 やAr等を用いることも
できる。
【0014】ノズル8fの口径は、もっと小さくするこ
ともできる。また、ノズル8fの個数は16個に限定され
るものではなく、旋回流を作れる個数であれば何個でも
よい。更に、ノズル8fは端板8cに設けることもでき
る。
【0015】旋回流発生ユニット8は、ガラスや表面に
防食処理を施した金属等で形成することができる。
【0016】該旋回流発生ユニット8へのガスの供給量
は、少なくても多くてもよくないので、適性範囲の供給
量を適宜決める必要がある。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る光ファ
イバ母材製造装置においては、反応容器内の排気管の入
口の周囲に、旋回流を発生させる旋回流発生ユニットを
設けるので、該反応容器内の排気管の入口の周囲に龍巻
のような旋回流が発生し、この旋回流で排気管の吸引能
力が高まり、反応容器内の不要なガス等がこの旋回流に
より吸引されて除去され、該反応容器内のガス等の流れ
が安定し、コアバーナから供給される屈折率付与剤が光
ファイバ母材のコア部に正しく堆積し、光ファイバ母材
内に屈折率付与剤の濃度分布を正しく形成することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ファイバ母材製造装置の概略構
成を示す縦断面図である。
【図2】本実施例で用いている旋回流発生ユニットの縦
断面図である。
【図3】図1のX−X線矢視図である。
【図4】従来の光ファイバ母材製造装置の概略構成を示
す縦断面図である。
【図5】(A)は光ファイバ母材の横断面図、(B)は
光ファイバ母材内におけるGeO2 の正しい濃度分布の
一例を示す濃度分布図である。
【図6】光ファイバ母材内における不適正なGeO2
濃度分布図である。
【図7】図4のY−Y線矢視図である。
【符号の説明】
1 反応容器 2 コアバーナ 2a 火炎 3 クラッドバーナ 3a 火炎 4 排気管 5 種棒 6 光ファイバ母材 7 渦 8 旋回流発生ユニット 8a 内筒 8b 外筒 8c,8d 端板 8e オリフィス 8f ノズル 8g インレット部
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−41539(JP,A) 特開 昭64−93435(JP,A) 特開 平4−270133(JP,A) 特開 昭59−64539(JP,A) 特開 平3−69527(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C03B 37/018 C03B 8/04

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 バーナの火炎中で合成したガラス微粒子
    を反応容器の中で種棒の先端に堆積させて光ファイバ母
    材を形成し、前記反応容器内の不要ガスを排気管で該反
    応容器の外に排出させる光ファイバ母材製造装置におい
    て、 前記反応容器内の前記排気管の入口の周囲に、旋回流を
    発生させる旋回流発生ユニットが設けられていることを
    特徴とする光ファイバ母材製造装置。
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