JP3287536B2 - トリミングコンデンサ - Google Patents
トリミングコンデンサInfo
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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Description
ンサ、特に、レーザビームにてトリミング処理が行われ
るトリミングコンデンサに関する。
は、トリミングコンデンサが用いられている。このトリ
ミングコンデンサは、例えば、図7に示すように、内部
容量電極52,53を内蔵したセラミック誘電体51の
表面に広面積のトリミング用容量電極54を設け、レー
ザビームLにてトリミング用容量電極54の一部分54
aを除去して容量電極53との対向面積を減少させて静
電容量を微調整し、所望の静電容量を得ることができる
コンデンサ50である。そして、セラミック誘電体51
の材料には、一般に、誘電体セラミック材料が採用され
ている。誘電体セラミック材料は、通常大気中で焼成さ
れる材料であり、中性又は還元雰囲気では、容易に還元
される。図7において、60,61は外部入出力電極で
ある。
トリミングコンデンサ50にあっては、セラミック誘電
体51の材料に誘電体セラミック材料が採用されている
ので、トリミング用容量電極54に照射されるレーザビ
ームLの高エネルギーの影響によってセラミック誘電体
51の一部分51a(具体的には、トリミング用容量電
極54の除去部分54aの近傍であって、内部容量電極
53とトリミング用容量電極54の間の部分)が高温に
なると、この部分51aが還元して半導体化され、Qが
低下するという問題があった。
グ時におけるQの低下を抑えることができるトリミング
コンデンサを提供することにある。
め、本発明に係るトリミングコンデンサは、 (a)中性及び還元雰囲気のいずれか一方の雰囲気で焼
成した非還元性セラミック材料からなる誘電体と、 (b)前記誘電体の表面又は内部の少なくともいずれか
一方に設けられ、レーザビームにてトリミングが施され
るトリミング用容量電極と、 (c)前記誘電体内に設けられ、前記トリミング用容量
電極に対向して静電容量を形成する内部容量電極と、を
備えたことを特徴とする。
を採用したため、トリミング用容量電極に照射されるレ
ーザビームの高エネルギーの影響によって誘電体が高温
になっても、この誘電体は還元されにくく、半導体化さ
れにくい。
ンデンサの一実施形態について添付図面を参照して説明
する。図1に示すように、トリミングコンデンサ1は、
トリミング用容量電極3を表面に設けた誘電体セラミッ
クシート2、内部容量電極4,5を表面に設けた誘電体
セラミックシート2、保護用誘電体セラミックシート2
等にて構成されている。
元雰囲気のいずれか一方の雰囲気で焼成可能な非還元性
セラミック材料を結合剤等と共に混練した後、例えばド
クターブレード法等によってグリーンシート状にしたも
のが用いられる。トリミング用容量電極3は、誘電体セ
ラミックシート2の表面中央部にNi,Cu,Ag−P
d,Pd等の導電性ペーストを用いて印刷やスパッタリ
ング等の方法により形成される。
シート2の左側部に位置し、その引出し部4aはシート
2の左辺に露出している。内部容量電極5はシート2の
右側部に位置し、その引出し部5aはシート2の右辺に
露出している。内部容量電極4,5は、誘電体セラミッ
クシート2の表面にNi,Cu,Ag−Pd,Pd等の
導電性ペーストを用いて印刷やスパッタリング等の方法
により形成される。内部容量電極4,5の材料にNi,
Cu等の卑金属材料を使って製造コストの低減を図るこ
とができるのは、誘電体セラミックシート2の材料に非
還元性セラミック材料を採用しているため、後述のセラ
ミックシート2の焼成時に内部容量電極4,5が酸化さ
れることがないからである。
サの場合には、誘電体セラミックシートの材料に誘電体
セラミック材料が採用されているので、内部容量電極の
材料に卑金属材料を使用すると、焼成時に内部容量電極
が酸化して導電性等の電気特性が低下する。従って、従
来のトリミングコンデンサは、内部容量電極の材料に、
Pd,Ag−Pd等の貴金属を使用しなければならず、
高コストであった。
ラミックシート2と、保護用誘電体シート2は積み重ね
られて積層体とされた後、中性及び還元雰囲気のいずれ
か一方の雰囲気で焼成される。誘電体セラミックシート
2はセラミック誘電体6とされる。図2に示すように、
積層体の左右の端面部にはそれぞれ入出力外部電極1
0,11が形成されている。外部電極10,11はスパ
ッタリング法や塗布法等の方法により形成され、Cu,
Ag−Pd,Ag,Pd等の材料からなる。入出力外部
電極10は内部容量電極4の引出し部4aに電気的に接
続され、入出力外部電極11は内部容量電極5の引出し
部5aに電気的に接続されている。そして、トリミング
用容量電極3と内部容量電極4,5の対向部分で静電容
量を発生させる。トリミング用容量電極3は広面積に形
成されており、通常、このときの静電容量は所望の値よ
り大きい。
ビームLをトリミング用容量電極3の縁部に照射して、
トリミング用容量電極3の一部分3aを除去する。この
とき、トリミング用容量電極3に照射されるレーザビー
ムLの高エネルギーの影響によってセラミック誘電体6
の一部分、より詳細には、トリミング用容量電極3の除
去部分3aの近傍の部分であって、内部容量電極5とト
リミング用容量電極3の間の部分が高温になる。しか
し、セラミック誘電体6の材料として、非還元性セラミ
ック材料を採用しているので、この部分が高温になって
も、還元作用が働きにくく、半導体化されにくい。従っ
て、レーザトリミング後のQ値の低下を抑えることがで
きる。なお、レーザビームLの強度によっては、図4に
示したように、セラミック誘電体6の一部6aが除去さ
れることがあるが、トリミングコンデンサ1の品質に対
しては、何ら問題はない。
されたトリミング用容量電極3は、内部容量電極5との
対向面積が減少し、所望の静電容量値に調整されること
になる。なお、本発明に係るトリミングコンデンサは前
記実施形態に限定するものではなく、その要旨の範囲内
で種々に変更することができる。
トリミング用容量電極3を樹脂やガラス、セラミック等
からなる保護膜にて被覆してもよい。さらに、レーザビ
ームLをトリミング用容量電極3の縁部に照射する替わ
りに、図5に示すように、中央寄りの位置を照射し、ト
リミング用容量電極3を2分割するようにして所望の静
電容量を得るようにしてもよい。
であり、例えば、図6に示すように、内部容量電極23
を内蔵したセラミック誘電体22の表面に広面積のトリ
ミング用容量電極24を設け、トリミング用容量電極2
4の引出し部24aをセラミック誘電体22の左端部に
設けた外部入出力電極30に電気的に接続し、内部容量
電極23の引出し部23aをセラミック誘電体22の右
端部に設けた外部入出力電極31に電気的に接続した構
造であってもよい。静電容量は、トリミング用容量電極
24と内部容量電極23の対向部分で発生する。レーザ
ビームLにてトリミング用容量電極24の縁部24bを
除去して内部容量電極23との対向面積を減少させて所
望の静電容量値に調整する。
も誘電体6や22の表面に形成するものに限ることな
く、誘電体6や22の内部に埋設したものでもよい。こ
の場合、電極材料としてはNiやCuを用いることがで
きると共に、図1の実施形態では保護用誘電体セラミッ
クシート2をトリミング用容量電極3を形成したシート
2上に積み重ねて一体焼成することによって製造され
る。
リミングコンデンサを製作した。
非還元性セラミック材料を使用した。比較のため、従来
のCaZrO3系の誘電体セラミック材料を使用したト
リミングコンデンサも製作した。実施例1の場合は焼成
時の酸素分圧を1.5×10 -10MPaとし、実施例2
の場合は7.8×10-12MPaとした。一方、従来例
の場合は焼成時の酸素分圧を2.1×10-2MPaとし
た。
レーザトリミング前後のQの値を測定した結果である。
することにより、レーザトリミング後のQ値の低下を、
従来のトリミングコンデンサより抑えることができるこ
とがわかる。
よれば、誘電体の材料として、非還元性セラミック材料
を採用したので、この誘電体は耐還元性に優れたものに
なり、トリミング用容量電極に照射されるレーザビーム
の高エネルギーの影響によって誘電体が高温になって
も、半導体化が抑えられる。この結果、レーザトリミン
グ時のQ値の低下を抑えることができる。
態を示す分解斜視図。
Claims (1)
- 【請求項1】 中性及び還元雰囲気のいずれか一方の雰
囲気で焼成した非還元性セラミック材料からなる誘電体
と、 前記誘電体の表面又は内部の少なくともいずれか一方に
設けられ、レーザビームにてトリミングが施されるトリ
ミング用容量電極と、 前記誘電体内に設けられ、前記トリミング用容量電極に
対向して静電容量を形成する内部容量電極と、 を備えたことを特徴とするトリミングコンデンサ。
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