JP3281282B2 - 半導体レーザーの駆動装置 - Google Patents
半導体レーザーの駆動装置Info
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザーの
駆動装置に関し、特に半導体レーザーをそのバイアス印
加電流によって直接変調しつつ駆動する駆動装置に関す
るものである。
駆動装置に関し、特に半導体レーザーをそのバイアス印
加電流によって直接変調しつつ駆動する駆動装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体レーザーの発振周波数は、図５に
示すように、半導体レーザーのバイアス印加電流に対し
て線形（直線）偏移する。但し、ある特定の印加電流に
おいて発振周波数が急激にシフトする（図５の領域
Ｂ）。また、発振周波数は、図６に示すように、半導体
レーザーの温度（ＬＤ温度）の変化により大きく変化す
る。したがって、半導体レーザーを直接変調するために
は、印加電流により発振周波数が線形偏移する領域（図
５の領域Ａ）に印加電流を設定し、さらに温度変化の影
響を受けないように、半導体レーザーを温度制御する必
要がある。
示すように、半導体レーザーのバイアス印加電流に対し
て線形（直線）偏移する。但し、ある特定の印加電流に
おいて発振周波数が急激にシフトする（図５の領域
Ｂ）。また、発振周波数は、図６に示すように、半導体
レーザーの温度（ＬＤ温度）の変化により大きく変化す
る。したがって、半導体レーザーを直接変調するために
は、印加電流により発振周波数が線形偏移する領域（図
５の領域Ａ）に印加電流を設定し、さらに温度変化の影
響を受けないように、半導体レーザーを温度制御する必
要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
駆動装置では、半導体レーザー個々の印加電流−発振周
波数特性を測定した上で、温度的に安定させる必要があ
るため、半導体レーザーの制御が複雑で大規模なものと
なる。また、半導体レーザー個々の特性を事前に測定
し、その特性にそった調整が必要となるため、その制御
が煩雑になる。
駆動装置では、半導体レーザー個々の印加電流−発振周
波数特性を測定した上で、温度的に安定させる必要があ
るため、半導体レーザーの制御が複雑で大規模なものと
なる。また、半導体レーザー個々の特性を事前に測定
し、その特性にそった調整が必要となるため、その制御
が煩雑になる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体レー
ザーの駆動装置は、半導体レーザーをそのバイアス印加
電流によって直接変調しつつ駆動する駆動装置であっ
て、当該半導体レーザーを光源として干渉光出力を得る
手段と、その干渉光出力の高調波成分の振幅の和を検出
する高周波成分検出手段と、この高周波成分検出手段の
検出出力に基づいて半導体レーザーのバイアス印加電流
を制御する制御手段とを備えた構成となっている。
ザーの駆動装置は、半導体レーザーをそのバイアス印加
電流によって直接変調しつつ駆動する駆動装置であっ
て、当該半導体レーザーを光源として干渉光出力を得る
手段と、その干渉光出力の高調波成分の振幅の和を検出
する高周波成分検出手段と、この高周波成分検出手段の
検出出力に基づいて半導体レーザーのバイアス印加電流
を制御する制御手段とを備えた構成となっている。
【０００５】上記構成の半導体レーザーの駆動装置にお
いて、バイアス印加電流により直接変調された半導体レ
ーザーを光源として用いた干渉計では、干渉計の光路長
差により、干渉し合う２つの光の発振周波数に差が生じ
る。したがって、その干渉光出力は変調周波数成分を含
む。そこで、この干渉光出力の高調波成分の振幅の和を
検出し、これが最大になるように半導体レーザーのバイ
アス印加電流を制御する。
いて、バイアス印加電流により直接変調された半導体レ
ーザーを光源として用いた干渉計では、干渉計の光路長
差により、干渉し合う２つの光の発振周波数に差が生じ
る。したがって、その干渉光出力は変調周波数成分を含
む。そこで、この干渉光出力の高調波成分の振幅の和を
検出し、これが最大になるように半導体レーザーのバイ
アス印加電流を制御する。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は、本発明の一
実施形態を示す構成図である。
図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は、本発明の一
実施形態を示す構成図である。
【０００７】図１において、半導体レーザー１の出射光
（レーザー光）の光路中にはレンズ２およびキューブミ
ラー３が順に配置されている。このキューブミラー３
は、レンズ２を介して入射するレーザー光を２つの光に
分割する。キューブミラー３の入射面に直交する一方の
面および対向する面には、ハーフミラー４およびハーフ
ミラー５がそれぞれ配されている。
（レーザー光）の光路中にはレンズ２およびキューブミ
ラー３が順に配置されている。このキューブミラー３
は、レンズ２を介して入射するレーザー光を２つの光に
分割する。キューブミラー３の入射面に直交する一方の
面および対向する面には、ハーフミラー４およびハーフ
ミラー５がそれぞれ配されている。
【０００８】また、キューブミラー３の入射面に直交す
る他方の面側には、光検出器６が設けられている。光検
出器６の検出出力は、高周波成分検出部７に与えられ
る。一方、バイアス電流印加部８は、変調周波数発生部
９から半導体レーザー１に与えられるバイアス電流を、
高周波成分検出部７で検出された高周波成分に基づいて
制御する。
る他方の面側には、光検出器６が設けられている。光検
出器６の検出出力は、高周波成分検出部７に与えられ
る。一方、バイアス電流印加部８は、変調周波数発生部
９から半導体レーザー１に与えられるバイアス電流を、
高周波成分検出部７で検出された高周波成分に基づいて
制御する。
【０００９】上述した構成において、半導体レーザー１
から発せられるレーザー光はレンズ２を通過することに
より平行光となってキューブミラー３に入射する。キュ
ーブミラー３に入射した光はここで２つの光に分割され
る。そして、この分割された２つの光の一方は、キュー
ブミラー３の入射面に直交する一方の面に配されたハー
フミラー４の反射面Ｔ１で折り返され、他方はキューブ
ミラー３の入射面と対向する面に配されたハーフミラー
５の反射面Ｔ２で折り返される。
から発せられるレーザー光はレンズ２を通過することに
より平行光となってキューブミラー３に入射する。キュ
ーブミラー３に入射した光はここで２つの光に分割され
る。そして、この分割された２つの光の一方は、キュー
ブミラー３の入射面に直交する一方の面に配されたハー
フミラー４の反射面Ｔ１で折り返され、他方はキューブ
ミラー３の入射面と対向する面に配されたハーフミラー
５の反射面Ｔ２で折り返される。
【００１０】反射面Ｔ１，Ｔ２で折り返された各光は、
干渉光となって光検出器６に入射する。この光検出器６
で検出された干渉光出力は高周波成分検出部７に供給さ
れ、ここで干渉光出力の変調周波数成分（以下、高周波
成分と称する）の検出が行われる。この検出された高周
波成分はバイアス電流印加部８に供給される。バイアス
電流印加部８は、変調周波数発生部９で変調され、半導
体レーザー１に印加されるバイアス電流を、高周波成分
検出部７から与えられる高周波成分に基づいて制御す
る。
干渉光となって光検出器６に入射する。この光検出器６
で検出された干渉光出力は高周波成分検出部７に供給さ
れ、ここで干渉光出力の変調周波数成分（以下、高周波
成分と称する）の検出が行われる。この検出された高周
波成分はバイアス電流印加部８に供給される。バイアス
電流印加部８は、変調周波数発生部９で変調され、半導
体レーザー１に印加されるバイアス電流を、高周波成分
検出部７から与えられる高周波成分に基づいて制御す
る。
【００１１】ところで、図５に示す半導体レーザー１の
印加電流−発振周波数の特性において、その線形領域Ａ
の変化率（Δｆ／Δｉ）はどの領域Ａでもほぼ一定であ
る。したがって、半導体レーザー１のバイアス印加電流
の変調幅が、図５の何れかの領域Ａにありさえすれば、
バイアス印加電流による半導体レーザー１の周波数変調
は可能である。
印加電流−発振周波数の特性において、その線形領域Ａ
の変化率（Δｆ／Δｉ）はどの領域Ａでもほぼ一定であ
る。したがって、半導体レーザー１のバイアス印加電流
の変調幅が、図５の何れかの領域Ａにありさえすれば、
バイアス印加電流による半導体レーザー１の周波数変調
は可能である。
【００１２】印加電流により直接周波数変調された半導
体レーザーを干渉計の光源に使用すると、干渉計の光路
長差により、干渉し合う２つの光の発振周波数には差が
生じるため、干渉光出力は変調周波数成分を含む。これ
が、ヘテロダイン干渉法である。本発明は、このヘテロ
ダイン干渉法を応用したものである。また、干渉計とし
てキューブミラー３およびハーフミラー４，５を用いる
ことで、構成の簡素化を図っている。これにより、半導
体レーザー１、光学部品および光検出器６を含めて一体
化による装置の小型化に寄与できる。
体レーザーを干渉計の光源に使用すると、干渉計の光路
長差により、干渉し合う２つの光の発振周波数には差が
生じるため、干渉光出力は変調周波数成分を含む。これ
が、ヘテロダイン干渉法である。本発明は、このヘテロ
ダイン干渉法を応用したものである。また、干渉計とし
てキューブミラー３およびハーフミラー４，５を用いる
ことで、構成の簡素化を図っている。これにより、半導
体レーザー１、光学部品および光検出器６を含めて一体
化による装置の小型化に寄与できる。
【００１３】次に、上記構成の本実施形態に係る駆動装
置の動作について説明する。先ず、変調周波数発生部９
において、半導体レーザー１の印加電流に対して正弦波
変調を行う。これにより、変調印加電流が図５の領域Ａ
にあるとき、図２に示すように、半導体レーザー１の発
振周波数も正弦波変調される。この正弦波周波数変調さ
れた半導体レーザー１を光源とする干渉光出力（ヘテロ
ダイン干渉光）Ｉは、（１）式のように示される。
置の動作について説明する。先ず、変調周波数発生部９
において、半導体レーザー１の印加電流に対して正弦波
変調を行う。これにより、変調印加電流が図５の領域Ａ
にあるとき、図２に示すように、半導体レーザー１の発
振周波数も正弦波変調される。この正弦波周波数変調さ
れた半導体レーザー１を光源とする干渉光出力（ヘテロ
ダイン干渉光）Ｉは、（１）式のように示される。
【００１４】
【数１】 ここで、φは位相差、Ｚは位相変調幅、Ｉdcは直流成
分、Ｉo はビート信号、ωm は変調角周波数であり、そ
れぞれ次式で示される。
分、Ｉo はビート信号、ωm は変調角周波数であり、そ
れぞれ次式で示される。
【００１５】
【数２】
【００１６】ここで、ωo は半導体レーザー１の中心角
周波数、Ｌは干渉系の光路長差、ｃは光速、δは周波数
変調幅、ａは光検出器６に依存する定数、Ｐ1 は参照光
の電力、Ｐs は信号光の電力、Ｖは鮮明度である。ビー
ト信号Ｉo を変調角周波数ωm に対してフーリエ変換す
ると、（２）式で与えられる。
周波数、Ｌは干渉系の光路長差、ｃは光速、δは周波数
変調幅、ａは光検出器６に依存する定数、Ｐ1 は参照光
の電力、Ｐs は信号光の電力、Ｖは鮮明度である。ビー
ト信号Ｉo を変調角周波数ωm に対してフーリエ変換す
ると、（２）式で与えられる。
【００１７】
【数３】 ここで、Ｊn(Ｚ) はｎ次の第１種ベッセル関数である。
この出力を周波数成分で示したものが図３である。も
し、半導体レーザー１の変調印加電流が図５の領域Ｂを
含む場合、半導体レーザー１の変調発振周波数は、図４
に示すように正弦波変調されず、干渉光出力も変調角周
波数ωm を基本波とする高周波成分を含まなくなる。
この出力を周波数成分で示したものが図３である。も
し、半導体レーザー１の変調印加電流が図５の領域Ｂを
含む場合、半導体レーザー１の変調発振周波数は、図４
に示すように正弦波変調されず、干渉光出力も変調角周
波数ωm を基本波とする高周波成分を含まなくなる。
【００１８】そこで、高周波成分検出部７において、光
検出器６で検出した干渉光出力の第１，第２の高調波成
分を抽出すると、その振幅の和Ｉ12は（３）式のように
表せる。
検出器６で検出した干渉光出力の第１，第２の高調波成
分を抽出すると、その振幅の和Ｉ12は（３）式のように
表せる。
【数４】
【００１９】ここで、ビート電流Ｉo は半導体レーザー
１の印加電流が図５の領域Ａにあるとき最大となり、図
５の領域Ｂにあるとき最小となる。そこで、バイアス電
流印加部８において、高周波成分検出部７で検出した干
渉光出力の高周波成分、即ち上記振幅の和Ｉ12が最大と
なるように半導体レーザー１のバイアス印加電流を制御
する。これにより、半導体レーザー１の変調印加電流は
常に領域Ａにあり、安定した直接変調が実現できる。
１の印加電流が図５の領域Ａにあるとき最大となり、図
５の領域Ｂにあるとき最小となる。そこで、バイアス電
流印加部８において、高周波成分検出部７で検出した干
渉光出力の高周波成分、即ち上記振幅の和Ｉ12が最大と
なるように半導体レーザー１のバイアス印加電流を制御
する。これにより、半導体レーザー１の変調印加電流は
常に領域Ａにあり、安定した直接変調が実現できる。
【００２０】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、半導体レーザーをそのバイアス印加電流によって
直接変調しつつ駆動する駆動装置において、当該半導体
レーザーを光源として干渉光出力を得、この干渉光出力
の高調波成分の振幅の和を検出し、この検出出力に基づ
いて半導体レーザーのバイアス印加電流を制御するよう
にしたことにより、半導体レーザーの印加電流−発振周
波数特性を逐一調べなくても、常に直接周波数線形変調
が可能になるとともに、温度変化による発振周波数の変
動に対しても同様に直接周波数線形変調が可能になる。
れば、半導体レーザーをそのバイアス印加電流によって
直接変調しつつ駆動する駆動装置において、当該半導体
レーザーを光源として干渉光出力を得、この干渉光出力
の高調波成分の振幅の和を検出し、この検出出力に基づ
いて半導体レーザーのバイアス印加電流を制御するよう
にしたことにより、半導体レーザーの印加電流−発振周
波数特性を逐一調べなくても、常に直接周波数線形変調
が可能になるとともに、温度変化による発振周波数の変
動に対しても同様に直接周波数線形変調が可能になる。
【図１】本発明の一実施形態を示す構成図である。
【図２】本発明に係る印加電流−発振周波数の特性図で
ある。
ある。
【図３】干渉光出力を周波数成分で示した図である。
【図４】領域Ｂを含む場合の印加電流−発振周波数の特
性図である。
性図である。
【図５】半導体レーザーの印加電流−発振周波数の特性
図である。
図である。
【図６】ＬＤ温度が変化したときの印加電流−発振周波
数の特性図である。
数の特性図である。
１ 半導体レーザー ３ キューブミラー ４，５ ハーフミラー ６ 光検出器 ７ 高周波成分検出部 ８ バイアス電流印加部 ９ 変調周波数発生部
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体レーザーをそのバイアス印加電流
によって直接変調しつつ駆動する駆動装置であって、 前記半導体レーザーを光源として干渉光出力を得る干渉
計手段と、 前記干渉光出力の高調波成分の振幅の和を検出する高周
波成分検出手段と、 前記高周波成分検出手段の検出出力に基づいて前記バイ
アス印加電流を制御する制御手段とを備えたことを特徴
とする半導体レーザーの駆動装置。 - 【請求項２】 前記干渉計手段は、前記半導体レーザー
から発せられるレーザー光を取り込んで２つの光に分割
するキューブミラーと、前記キューブミラーの入射面に
直交する一方の面に配された第１のハーフミラーと、前
記キューブミラーの入射面に対向する面に配された第２
のハーフミラーとを有することを特徴とする請求項１記
載の半導体レーザーの駆動装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05571097A JP3281282B2 (ja) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | 半導体レーザーの駆動装置 |
| US09/037,760 US6104736A (en) | 1997-03-11 | 1998-03-10 | Driving apparatus for semiconductor laser and method for controlling driving of semiconductor laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05571097A JP3281282B2 (ja) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | 半導体レーザーの駆動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10256629A JPH10256629A (ja) | 1998-09-25 |
| JP3281282B2 true JP3281282B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=13006447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05571097A Expired - Fee Related JP3281282B2 (ja) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | 半導体レーザーの駆動装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6104736A (ja) |
| JP (1) | JP3281282B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2614654C2 (ru) * | 2012-04-17 | 2017-03-28 | Роберт Бош Гмбх | Схема для генерации сигнала управления лазерным диодом |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3611436A (en) * | 1969-01-24 | 1971-10-05 | Bell Telephone Labor Inc | Mode-selective laser using resonant prisms |
-
1997
- 1997-03-11 JP JP05571097A patent/JP3281282B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-10 US US09/037,760 patent/US6104736A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6104736A (en) | 2000-08-15 |
| JPH10256629A (ja) | 1998-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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