JPH0552540A - 干渉計レーザ表面粗さ計 - Google Patents

干渉計レーザ表面粗さ計

Info

Publication number
JPH0552540A
JPH0552540A JP4022969A JP2296992A JPH0552540A JP H0552540 A JPH0552540 A JP H0552540A JP 4022969 A JP4022969 A JP 4022969A JP 2296992 A JP2296992 A JP 2296992A JP H0552540 A JPH0552540 A JP H0552540A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
output
light source
optical
coupled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4022969A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0830651B2 (ja
Inventor
Peter Degroot
ピーター・デグルート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Raytheon Co
Original Assignee
Hughes Aircraft Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hughes Aircraft Co filed Critical Hughes Aircraft Co
Publication of JPH0552540A publication Critical patent/JPH0552540A/ja
Publication of JPH0830651B2 publication Critical patent/JPH0830651B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers
    • G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
    • G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers
    • G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/30—Grating as beam-splitter
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/45—Multiple detectors for detecting interferometer signals
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/70—Using polarization in the interferometer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、比較的安価な多重モードレーザを
使用して表面粗さを測定する装置を提供することを目的
とする。 【構成】 光出力を有する多重波長光源レーザ18と、位
相変調された基準ビーム32と表面方向に向けられる測定
ビーム34を供給するためのビーム分割器30と、表面の特
性を決定するための基準ビームと測定ビームの間の位相
差を検出するための手段とを具備し、多重出力波長光源
は合成波長を誘導するための複数の光学波長を同時に生
成するための多重モードレーザ18であることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学的計測学に関し、
特に表面に使用される多重モードレーザダイオードを具
備している合成波長干渉計に関する。
【０００２】
【従来の技術】可視波長干渉計は、高精度な変位測定お
よび表面粗さ計に広範囲に使用される。しかしながら、
これらの装置に関する既知の問題は干渉位相あいまい性
に関連する。粗い表面上の可視レーザ光線によって生成
されるスペックルパターンは２πより大きい標準偏差の
本質的なランダム位相を有するため、通常の干渉計は粗
い表面のプロフィルに関して有効な情報を与えない。結
果として、機械的ゲージは精密な機械、検査および光学
的製造において干渉計の代りに使用されることがある。
しかしながら、それは常に所望されるものではなく、表
面測定を実行するため表面に機械的に接触することは物
理的に不可能である。
【０００３】干渉計の計測技術の応用の範囲を広げるた
めのある既知の方法は、２つの異なる波長で干渉計位相
を測定することである。
【０００４】２つの位相測定間の差は、次の式によって
与えられる合成波長（Λ）と対応する。
【０００５】Λ＝λ1 λ2 ／（λ2 −λ1） ここでλ1 およびλ2 は２つの異なる光学波長である。
合成波長が可視光線波長と比較して非常に大きいため、
通常の干渉計の能力を超えている不連続なプロフィルの
表面と粗い表面を適応させることが可能である。
【０００６】1989年５月23日、J.C.Wyant 氏らによる米
国特許第 4,832,489号明細書に記載されるように、２波
長位相シフト干渉計は球状表面のような急峻な表面を再
構成するための２つのレーザ光源を使用する。２５６×
２５６検出アレイが使用され、その技術は各検出器に独
立して等価な位相を計算している。
【０００７】次に表面粗さ計の合成波長の使用における
種々の観点について述べる。
【０００８】1985年K.Creath氏、Y.Cheng 氏およびJ.Wy
ant 氏による論文（Optica Acta 第32巻、第12号、1455
乃至1464頁）において、アルゴンイオンレーザおよびＨ
ｅ−Ｎｅレーザを使用している２波長ホログラフィーが
記載されている。被覆していない非球面表面は干渉計の
１アームに位置され、２．１３マイクロメートルと２．
７５マイクロメートルの合成波長が使用される。最初の
干渉グラフは、二重照射測定からの２次の干渉グラフを
生成するためにコンピュータによって処理された。
【０００９】1989年６月１日、C.Williams氏およびH.Wi
ckramasinghe氏による文献（OpticsLetters第14巻、第1
1号）において、集積回路構造上で実行される波長増加
した干渉計および表面プロフィル測定が記載されてい
る。一対のＧａＡｌＡ単一モードダイオードレーザが光
源として使用されている。
【００１０】1988年１月15日、A.J. de Boef氏による文
献（“単一の波長ダイオードレーザを使用している２波
長走査箇所干渉計”Appl.Opt. 第27巻、第２号306 乃至
311頁）において、粗い表面のプロフィルを測定する２
つ単一波長レーザダイオードの使用が記載されている。
２つの波長は時間多重化されないで、一定で存在する。
【００１１】A.Fercher 氏、U.Vry 氏およびW.Werner氏
による文献（Engineering 11,1989271 乃至279 頁）に
おいて、２つの近接した振動モードの間でスイッチされ
る単一モードダイオードからなる時間多重化された２波
長光源が記載されている。スイッチングはダイオード出
力が一方の波長出力から他の波長出力へ容易にスイッチ
する領域であるいわゆる“モードホップ”に近い領域に
熱的に同調されるダイオードによるポンプ電流変調によ
って達成される。この技術は、４マイクロメータの設定
された表面の粗さを有する研磨レンズ面プロフィルを可
能にする。
【００１２】これは、表面プロフィルの標準偏差が単一
の波長よりも大きい場合に十分に発達したスペックルフ
ィールドが得られることを報告する。スペックルフィー
ルドの振幅および位相は反射表面の微視的構造によって
決定されるが、単一波長干渉図形の位相と測定される表
面あるいは距離の間に決定的な関係は存在しない。しか
しながら、２波長が使用される場合、対応するスペック
ルフィールドの間の位相差は、微視的表面の粗さに関す
る情報だけでなく巨視的表面プロフィルあるいは距離に
関する情報も含む。この情報は、実効波長よりも小さい
微視的表面プロフィルの標準偏差が正確に与えられる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような単一モードダイオードはバーンインされ、特に振
動モードの間の制御されたスイッチングが必要とされる
場合に、監視された環境において注意深く特性が定めら
れる。
【００１４】多重波長干渉計は最新の計測問題に適当な
多数の応用において既知の技術であるが、その使用は実
用的で、信頼性があり低価格性な多重波長源および検出
器を得ることは困難なため広く使用されていない。
【００１５】本発明の目的は、比較的安価な多重モード
レーザダイオードの多重モード特性の利用によって表面
粗さ測定を達成するための装置を提供することである。
【００１６】さらに本発明の目的は、単一モードレーザ
ダイオードの使用および、または２波長が時間多重化さ
れる必要性を避けて粗面測定を達成するための装置を提
供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】前記あるいはその他の問
題は克服され、本発明の目的は多重モードレーザダイオ
ードの使用によって粗面測定を達成する方法および装置
によって実現される。この表面粗さ計（プロフィル計）
は、多数の別々の波長で同時に振動する多重モードダイ
オードレーザを使用し、したがって安定した合成波長の
領域を連続的に供給する。強い多重モードレーザダイオ
ードのスペクトル特性は予測可能であり、モードホッピ
ングの影響がなく、時間あるいは温度によってあまり変
化せず、それによって従来技術に関して経験された問題
を克服する。
【００１８】本発明に従って、表面の特性を決定するた
めの計測装置が提供される。装置は、光出力を有する多
重波長光源を含む。装置の好ましい実施例において、光
源は計測目的のために合成波長が導出される複数の波長
を同時に供給するための多重モードレーザダイオードを
含む。装置はさらに基準ビームおよび測定ビームを供給
するための光出力に結合される偏光ビームスプリッタを
含み、測定ビームは特徴とされる表面に衝突し、基準ビ
ームは位相変調される。装置はさらに、表面の特性を決
定するための基準ビームと反射される測定ビームの間の
位相差を検出するための光学部品および装置を含む。回
折格子は７８５ナノメートルのようなレーザダイオード
の通常の特性の出力に対して構成され、反射されるレー
ザ光線の種々の波長を空間的に分解する。分解された波
長はレンズシステムによる２つのビームとして供給さ
れ、一対の光検出器によって検出される。
【００１９】光検出器の出力に結合されたデータプロセ
ッサは、２波長で干渉計位相を決定する。計算された位
相差は、λ／２の間隔内の表面に対する絶対距離を計算
するλ／πによって乗算される。目的物体の表面の形状
プロフィルは、一対の測定の記録によって生成され、測
定ビームに関連する表面を移動させる。
【００２０】
【実施例】図１を参照すると、非鏡面の変位あるいは粗
さのような特性を定めるために動作される２波長干渉計
装置10が示されている。装置10は、物体16の表面特性を
測定するための位相変調された２ビーム干渉計14と結合
された光源12を含む。光源12は、多重モードレーザダイ
オード18から形成される。適当な多重モードレーザダイ
オードは例えば株式会社シャープによって製造され、Ｌ
ＴＯ２３ＭＤＯとして知られている装置である。このよ
うな多重モードレーザダイオードは多数の別々の波長で
同時に発振し、安定した合成波長の領域を連続的に供給
している。多重モードレーザダイオード18のスペクトル
特性は予測でき、モードホッピングの影響を受けず、時
間あるいは温度によってはあまり変化しない。この実施
例に関して、レーザダイオード18の公称波長は約７８５
ナノメートルである。約３オングストロームの最小の分
離を有する２波長は、合成波長を供給するために選択さ
れる。この説明された実施例に関して、合成波長は約６
２０マイクロメートルである。０．１℃への多重モード
レーザダイオード18の温度調節は、出力光スペクトルを
安定させるために適当であることが認められている。
【００２１】光学アイソレータ（示されていない）は、
受信する後方反射からレーザダイオード18を保護する。
レンズ部品20は、光ファイバ24の入力カプラ22にレーザ
ダイオード18の出力を集束させる。光ファイバ24は、光
源ビームが空間的に可干渉性であることを確実にするた
めにろ過する単一のモードファイバであることが好まし
い。光ファイバ24の使用はまた、干渉計14を光源12から
離れて配置されることを許容する。光ファイバ出力カプ
ラ26は、視準レンズシステム28に空間的可干渉性、多重
モードビームを供給する。
【００２２】干渉計14は、基準ビーム32および測定ある
いは対物ビーム34を供給する偏光ビームスプリッタ30を
含む。ビーム32および34は、干渉計の効率を改善するた
めに使用される既知の技術であるビームスプリッタ30を
通り互いに直交偏光される。各ビーム32および34は、ビ
ームの偏光を回転するための１／４波長プレート36およ
び38を通る。プレート36および38は、それぞれ集束レン
ズシステム40および42にビームを供給するために配置さ
れる。基準ビーム32の経路は、圧電性作動装置46に結合
されるミラー44を含んでいる位相変調部品を含む。作動
装置46は、およそ１乃至１０００Ｈｚの範囲内の割合で
約０．５マイクロメートルの変位でミラー44を変動さ
せ、多重モード基準ビームに位相変調を与える。本発明
の他の実施例においては、カーセルのような光電子装置
が基準ビーム32に位相変調を伝えるために使用される。
【００２３】ミラー44および目的物体16の表面から反射
するレーザ光線は、集束レンズシステム50の前に配置さ
れている偏光子48へ１／４波長プレート36および38とビ
ームスプリッタ30を介して供給される。偏光子48は、共
通の偏光に別々に偏光された基準ビームおよび対物ビー
ムを変化させるように機能する。レンズシステム50は、
第２の光ファイバ54の入力カプラ52中に測定および基準
ビームを注入するために設けられている。光ファイバ54
の出力カプラ56は、その出力に配置される視準光学部品
58を有する。第２の光ファイバ54はスペックル干渉パタ
ーンを空間的にろ波し、それを通る結合したビームにほ
ぼ球形の波頭を与える。反射されたレーザ光線の種々の
波長は、回折格子60によって空間的に分解され、光検出
器64および66上に２つの異なる波長λ1 およびλ2 を集
束するレンズシステム62に与えられる。説明された実施
例において、格子60は７８５ナノメートルの波長に対し
て設計される。λ1 およびλ2 は、多重モードスペクト
ルにおいて約１．１ナノメートル間隔を有している。
【００２４】データプロセッサ68は検出器64および66の
出力に結合され、これら２つの波長で干渉計位相を決定
する。このためにP.Harihran氏,B.F.Oreb 氏およびT.Ei
ju氏による論文（Appl. Opt.26 2504,1987）によって説
明される５ポイントの位相変調アルゴリズムは、干渉計
位相を決定するために使用されることができる。計算さ
れた位相差はλ／２の間隔内の目的物体16までの絶対距
離を計算するためにλ／πによって乗算され、距離は基
準ミラー44の表面によって定められる基準点に関連す
る。目的物体16の表面の断面形状は測定対の記録によっ
て生成され、測定ビーム34に関して目的物体16を変換す
る。線形トランスレータ70あるいは同様の手段がこの目
的のために目的物体16に結合されている。
【００２５】合成波長干渉計14の正確度は、測定される
位相の精度および目的物体16の表面によって生成される
スペックルパターンの細部によって定められる。円滑に
移動される目的物体ミラーの通常の光学位相追跡と合成
波長測定の比較によって、図１の装置が１／１０００の
位相測定精密度を有することが定められる。
【００２６】図２は、図１の装置10を使用している２つ
の異なる波長の位相測定の差および目的物体16のような
微細研磨（５マイクロメートル）ゼロオーダー光学平面
から生ずるフリンジオーダーデータを示しているグラフ
である。２つの波長の相対的な干渉計位相の分析は、目
的物体16の表面に対する距離情報を与える。
【００２７】６２０マイクロメートルの合成波長および
微細研磨（５マイクロメートル）光学平面に関して、ス
ペックル現象が１／１０００よりも大きい位相変動が生
ずることが図２に表されるデータのばらつきから分か
る。このような変動の振幅は粗い表面が走査されるとき
に劇的に変化する干渉信号の強度に関連して強いことが
文献（U.Vry,Opt.Act.,33 1221(1986)）に発表されてい
る。
【００２８】結果として、有効な表面データはスペック
ルパターンの輝いたローブの間の領域に対応している第
１の廃棄する弱信号測定によって位相情報から抽出され
る。残りのデータは高い空間的周波数の雑音を含むこと
が認められているが、この高周波数雑音は、平均化する
技術によって減少されることができる。この平均化は図
２のデータプロットの隣接した点にわたって行われ、多
数の点が所望なＲＭＳ不確定性に基づいて平均化され、
目的物体16の表面のプロフィルの細部の最大空間的周波
数が測定される。スケーリング係数によって達成される
平均の乗算は、マイクロメートルにおける距離を与える
合成波長の半分と等しい。
【００２９】図３は、低い信号対雑音比を有するデータ
を排除し、残りのデータを平均化するために図２のフリ
ンジオーダーデータの処理の結果を表すグラフである。
図３の処理された表面プロフィル情報は、５ｍｍ-1の最
大の空間的周波数および３１０マイクロメートルのあい
まい性間隔にわたる０．７５マイクロメートルの最小二
乗法の一時的適合に応じるＲＭＳ変化を示す。図３の特
性は、目的物体16として供給される光学平面が走査方向
に対して傾斜されることを明らかに示す。
【００３０】本発明の使用は、通常の干渉計にほぼ匹敵
する複雑さを有する装置である合成波長点走査干渉計を
提供する。さらに、レーザダイオード装置の開発におけ
る予想される発展は、多重波長を使用する非接触表面お
よび光学検査に対する応用をさらに広げることが予想さ
れる。
【００３１】本発明は特定の波長および光学部品に関し
て記載されているが、図１に示される以外の他の波長お
よび多数の光学部品が使用され、同じ結果を得ているこ
とが理解されるべきである。さらに、種々のレンズシス
テムは簡単なレンズ部品として表されているが、所望の
機能を達成するための多数の光学部品をそれぞれ含むこ
とが理解されるべきである。例によると、集束レンズシ
ステム62は望遠鏡でよい。このように、本発明はこの実
施例に関して特別に示され記載されているが、形態にお
ける変化および詳細が本発明の技術的範囲内から逸脱す
ることなしに行われることが当業者によって理解される
であろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の合成波長表面粗さ計の概略図。
【図２】図１の装置を使用している２つの異なる波長の
位相測定の差および目的物体表面として微細研磨（５マ
イクロメートル）ゼロオーダー光学平面から生ずるフリ
ンジオーダーデータを示しているグラフ。
【図３】低い信号対雑音比を有するデータを排除し、残
りのデータを平均化するための図２のフリンジオーダー
データの処理の結果を表すグラフ。
【符号の説明】
10…装置、12…光源、18…レーザダイオード、30…ビー
ムスプリッタ、32…基準ビーム、34…測定ビーム、60…
回折格子、62…レンズシステム、64,66 …光検出器、68
…データプロセッサ。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光学出力を有する多重波長光源手段と、 位相変調された基準ビームおよび表面方向に向けられる
    測定ビームを供給するための光学出力に結合される手段
    と、 表面の特性を決定するための基準ビームと測定ビームの
    間の位相差を検出するための手段とを具備し、多重出力
    波長光源手段は合成波長を誘導するための複数の光学波
    長を同時に生成するための多重モードレーザ手段を含ん
    でいることを特徴とする表面特性決定のための光学計測
    学装置。
  2. 【請求項２】 測定ビーム供給手段が反射された基準ビ
    ームと反射された測定ビームとを結合するための手段を
    含み、さらにそれぞれ関係した波長を有する複数のビー
    ムに結合されたビームを分けるための手段を含んでいる
    請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 ビーム強度を測定するための複数のビー
    ムのそれぞれ１つを受けるように配置された複数の光検
    出器を具備している請求項２記載の装置。
  4. 【請求項４】 表面の特性を決定する出力を処理するた
    めに複数の検出器の各出力に結合される手段を具備して
    いる請求項３記載の装置。
  5. 【請求項５】 光源手段が多重モードレーザ手段の出力
    に結合される単一モードの光ファイバを含んでいる請求
    項１記載の装置。
  6. 【請求項６】 供給手段が光源手段の光学出力を受け、
    測定ビームに対して基準ビームを直交偏光するために配
    置される偏光ビームスプリッタを具備している請求項１
    記載の装置。
  7. 【請求項７】 複数の出力波長を有する光源ビームを供
    給するための多重モードレーザダイオードを含んでいる
    多重波長光源手段と、 位相変調された基準ビームおよび表面に衝突するように
    向けられる測定ビームを供給するための光源ビームに結
    合される手段と、 表面からの測定ビームの反射後に測定ビームと基準ビー
    ムを結合するための手段と、 表面の特性を決定するための基準ビームと反射された測
    定ビームの間の位相差を検出するための手段とを具備し
    ている表面の特性を決定するための合成波長光学計測学
    装置。
  8. 【請求項８】 検出手段が結合された基準ビームおよび
    反射された測定ビームを空間的にフィルタし、それぞれ
    関係した波長を有する複数のビームに結合されたビーム
    を分ける回折格子手段に結合されたビームを向けるため
    の単一モード光ファイバを具備している請求項７記載の
    装置。
  9. 【請求項９】 ビーム強度を測定するための複数のビー
    ムの１つを受けるためにそれぞれ配置される複数の光検
    出器と、基準点に対する表面の変位を決定する出力を処
    理するための複数の光検出器の各出力に結合された手段
    とをさらに具備している請求項８記載の装置。
  10. 【請求項１０】 ビーム供給手段がビーム光源を受け、
    測定ビームに対して基準ビームを直交偏光するために配
    置されている偏光ビームスプリッタを含んでいる請求項
    ７記載の装置。
JP4022969A 1991-02-08 1992-02-07 干渉計レーザ表面粗さ計 Expired - Fee Related JPH0830651B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US65269891A 1991-02-08 1991-02-08
US652698 1991-02-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0552540A true JPH0552540A (ja) 1993-03-02
JPH0830651B2 JPH0830651B2 (ja) 1996-03-27

Family

ID=24617801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4022969A Expired - Fee Related JPH0830651B2 (ja) 1991-02-08 1992-02-07 干渉計レーザ表面粗さ計

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5349440A (ja)
EP (1) EP0498541A1 (ja)
JP (1) JPH0830651B2 (ja)
KR (1) KR920016823A (ja)
IL (1) IL100655A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100769214B1 (ko) * 2005-06-07 2007-10-22 후지논 가부시키가이샤 광빔 측정장치
EP2581700A1 (en) 2011-10-11 2013-04-17 Canon Kabushiki Kaisha Absolute distance measurement with multiple-wavelength interferometer
JP2019515249A (ja) * 2016-04-20 2019-06-06 クオリティー ヴィジョン インターナショナル インコーポレイテッドＱｕａｌｉｔｙ Ｖｉｓｉｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ， Ｉｎｃ． 光学測定機のための遠隔操作プローブ

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5716324A (en) * 1992-08-25 1998-02-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Endoscope with surface and deep portion imaging systems
CH693968A5 (de) * 1993-04-21 2004-05-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung fuer die Topographiepruefung von Oberflaechen.
US5473434A (en) * 1994-05-16 1995-12-05 Zygo Corporation Phase shifting interferometer and method for surface topography measurement
US5671050A (en) * 1994-11-07 1997-09-23 Zygo Corporation Method and apparatus for profiling surfaces using diffracative optics
US5548403A (en) * 1994-11-28 1996-08-20 The Regents Of The University Of California Phase shifting diffraction interferometer
US5504303A (en) * 1994-12-12 1996-04-02 Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. Laser finishing and measurement of diamond surface roughness
US6454761B1 (en) 1995-01-30 2002-09-24 Philip D. Freedman Laser surgery device and method
CA2169141A1 (en) 1995-04-07 1996-10-08 Ivan Prikryl Interferometer having a micromirror
DE19520305C2 (de) * 1995-06-02 1997-04-17 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Meßvorrichtung zur interferometrischen Abstandsmessung
GB2309777B (en) * 1996-02-05 2000-09-06 Secretary Trade Ind Brit Interferometer
DE19604076C2 (de) * 1996-02-05 1998-02-19 F & O Electronic Systems Vorrichtung zur Inspektion der Oberfläche von Holz zwecks Feststellung von Oberflächenmerkmalen und Verfahren hierzu
US5739906A (en) * 1996-06-07 1998-04-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Interferometric thickness variation test method for windows and silicon wafers using a diverging wavefront
US5818601A (en) * 1996-10-04 1998-10-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Wavelength independent optical probe
DE19720246C2 (de) * 1997-05-15 1999-04-15 Deutsche Telekom Ag Abstimmbares Interferometer
DE19721882C2 (de) * 1997-05-26 1999-04-29 Bosch Gmbh Robert Interferometrische Meßvorrichtung
AUPO810997A0 (en) * 1997-07-18 1997-08-14 Lions Eye Institute Of Western Australia Incorporated, The Method and apparatus for calibration of ablation lasers
AU746383B2 (en) * 1997-07-18 2002-05-02 David Clyde Macpherson Method and apparatus for surface profiling of materials and calibration of ablation lasers
DE29715904U1 (de) * 1997-09-01 1997-10-23 OMECA Messtechnik GmbH, 14513 Teltow Interferenzoptische Meßeinrichtung
US5963329A (en) * 1997-10-31 1999-10-05 International Business Machines Corporation Method and apparatus for measuring the profile of small repeating lines
DE19801469C2 (de) * 1998-01-16 2001-05-17 Campus Technologies Ag Zug Vorrichtung zur Erfassung oder Erzeugung optischer Signale
DE19814057B4 (de) * 1998-03-30 2009-01-02 Carl Zeiss Meditec Ag Anordnung zur optischen Kohärenztomographie und Kohärenztopographie
DE19819762A1 (de) * 1998-05-04 1999-11-25 Bosch Gmbh Robert Interferometrische Meßeinrichtung
JP2002525856A (ja) 1998-09-11 2002-08-13 ニュー・フォーカス・インコーポレイテッド 波長可変レーザ
WO2000023764A1 (en) 1998-10-16 2000-04-27 New Focus, Inc. Interferometer for optical wavelength monitoring
JP3796363B2 (ja) * 1998-10-30 2006-07-12 キヤノン株式会社 位置検出装置及びそれを用いた露光装置
US6853654B2 (en) 1999-07-27 2005-02-08 Intel Corporation Tunable external cavity laser
US6879619B1 (en) 1999-07-27 2005-04-12 Intel Corporation Method and apparatus for filtering an optical beam
US6847661B2 (en) * 1999-09-20 2005-01-25 Iolon, Inc. Tunable laser with microactuator
US6856632B1 (en) 1999-09-20 2005-02-15 Iolon, Inc. Widely tunable laser
US7209498B1 (en) 2000-05-04 2007-04-24 Intel Corporation Method and apparatus for tuning a laser
US7120176B2 (en) 2000-07-27 2006-10-10 Intel Corporation Wavelength reference apparatus and method
US7115858B1 (en) 2000-09-25 2006-10-03 Nanometrics Incorporated Apparatus and method for the measurement of diffracting structures
US6658031B2 (en) 2001-07-06 2003-12-02 Intel Corporation Laser apparatus with active thermal tuning of external cavity
US6898537B1 (en) 2001-04-27 2005-05-24 Nanometrics Incorporated Measurement of diffracting structures using one-half of the non-zero diffracted orders
KR100416497B1 (ko) * 2001-05-03 2004-01-31 (주) 인펙 박막패턴 검사장치
US6713753B1 (en) 2001-07-03 2004-03-30 Nanometrics Incorporated Combination of normal and oblique incidence polarimetry for the characterization of gratings
US6724797B2 (en) 2001-07-06 2004-04-20 Intel Corporation External cavity laser with selective thermal control
US6901088B2 (en) 2001-07-06 2005-05-31 Intel Corporation External cavity laser apparatus with orthogonal tuning of laser wavelength and cavity optical pathlength
US6822979B2 (en) 2001-07-06 2004-11-23 Intel Corporation External cavity laser with continuous tuning of grid generator
US6804278B2 (en) 2001-07-06 2004-10-12 Intel Corporation Evaluation and adjustment of laser losses according to voltage across gain medium
US7061615B1 (en) 2001-09-20 2006-06-13 Nanometrics Incorporated Spectroscopically measured overlay target
DE10249409B4 (de) * 2001-10-25 2007-09-20 Canon K.K. Interferometer und Positionsmessvorrichtung
US7557929B2 (en) 2001-12-18 2009-07-07 Massachusetts Institute Of Technology Systems and methods for phase measurements
US6934035B2 (en) * 2001-12-18 2005-08-23 Massachusetts Institute Of Technology System and method for measuring optical distance
US7365858B2 (en) * 2001-12-18 2008-04-29 Massachusetts Institute Of Technology Systems and methods for phase measurements
US7230959B2 (en) 2002-02-22 2007-06-12 Intel Corporation Tunable laser with magnetically coupled filter
US6982793B1 (en) 2002-04-04 2006-01-03 Nanometrics Incorporated Method and apparatus for using an alignment target with designed in offset
US6949462B1 (en) 2002-04-04 2005-09-27 Nanometrics Incorporated Measuring an alignment target with multiple polarization states
WO2003091661A1 (en) * 2002-04-26 2003-11-06 Massachussetts Institute Of Technology Adjustable focusing composite for use in an optical profilometer system and method
US7133137B2 (en) * 2002-06-27 2006-11-07 Visx, Incorporated Integrated scanning and ocular tomography system and method
US6992764B1 (en) 2002-09-30 2006-01-31 Nanometrics Incorporated Measuring an alignment target with a single polarization state
DE10256273B3 (de) * 2002-12-03 2004-03-18 Carl Mahr Holding Gmbh Interferenzoptische Formmesseinrichtung mit Phasenschiebung
DE10333562A1 (de) 2003-07-23 2005-02-17 Carl Zeiss Meditec Ag Verfahren, Vorrichtung und System zur Bestimmung eines Systemparameters eines Laserstrahl-Behandlungssystems
US7791727B2 (en) 2004-08-16 2010-09-07 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization
US20080144036A1 (en) 2006-12-19 2008-06-19 Asml Netherlands B.V. Method of measurement, an inspection apparatus and a lithographic apparatus
EP1939581A1 (en) 2006-12-27 2008-07-02 Heliotis AG Apparatus for the contact-less, interferometric determination of surface height profiles and depth scattering profiles
CN100455986C (zh) * 2007-05-29 2009-01-28 北京交通大学 利用光线扫描的干涉型纳米表面三维在线测量系统及方法
WO2008148237A1 (en) * 2007-06-06 2008-12-11 Exalos Ag Optical coherence tomography sensor
DE102008020584B3 (de) * 2008-04-24 2009-09-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Interferometer und Verfahren zur Untersuchung einer Oberfläche eines Objektes mittels eines Interferometers
JP5954979B2 (ja) * 2011-12-15 2016-07-20 キヤノン株式会社 多波長干渉計を有する計測装置
US9599572B2 (en) 2014-04-07 2017-03-21 Orbotech Ltd. Optical inspection system and method
KR102221714B1 (ko) * 2016-08-23 2021-03-03 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 공정에 의해 기판 상에 형성된 구조체를 측정하는 메트롤로지 장치, 리소그래피 시스템, 및 리소그래피 공정에 의해 기판 상에 형성된 구조체를 측정하는 방법
RU2650840C1 (ru) * 2016-12-27 2018-04-17 Общество с ограниченной ответственностью "Спецдортехника" Лазерный профилометр для определения геометрических параметров профиля поверхности
US10107614B1 (en) 2017-04-18 2018-10-23 Quality Vision International, Inc. Optical pen for interferometric measuring machine
CN108168441B (zh) * 2018-01-29 2023-12-12 北京科技大学 基于时分复用的散斑干涉三维动态检测系统
DE102018211913B4 (de) * 2018-07-17 2022-10-13 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Erfassen einer Objektoberfläche mittels elektromagnetischer Strahlung
US11555693B2 (en) 2020-05-12 2023-01-17 The Boeing Company Measurement of surface profiles using unmanned aerial vehicles
CN114754669B (zh) * 2022-03-22 2024-01-30 南京理工大学 一种多模光纤束扩展光源抑制干涉仪相干噪声的方法
WO2024145532A1 (en) * 2022-12-29 2024-07-04 Onto Innovation Inc. Polarization interferometer
CN116878394B (zh) * 2023-08-02 2024-04-19 哈尔滨工业大学 微探头偏振光相位调制的干涉位移测量系统及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60306A (ja) * 1983-06-16 1985-01-05 Agency Of Ind Science & Technol 合成波長法による測距方法
JPS60177207A (ja) * 1984-02-24 1985-09-11 Toshiba Corp ひずみ測定装置
JPS6183911A (ja) * 1984-10-01 1986-04-28 Sony Magnescale Inc 光学式変位測定装置
JPH0315709A (ja) * 1989-03-30 1991-01-24 Ishikawa Pref Gov 非接触表面微細形状測定装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2851750B1 (de) * 1978-11-30 1980-03-06 Ibm Deutschland Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Ebenheit der Rauhigkeit oder des Kruemmungsradius einer Messflaeche
DE3318678A1 (de) * 1983-05-21 1984-11-22 Adolf Friedrich Prof. Dr.-Phys. Fercher Verfahren und vorrichtung zur interferometrie rauher oberflaechen
DE3906118A1 (de) * 1989-02-28 1990-08-30 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur interferometrischen erfassung von oberflaechenstrukturen
US5153669A (en) * 1991-03-27 1992-10-06 Hughes Danbury Optical Systems, Inc. Three wavelength optical measurement apparatus and method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60306A (ja) * 1983-06-16 1985-01-05 Agency Of Ind Science & Technol 合成波長法による測距方法
JPS60177207A (ja) * 1984-02-24 1985-09-11 Toshiba Corp ひずみ測定装置
JPS6183911A (ja) * 1984-10-01 1986-04-28 Sony Magnescale Inc 光学式変位測定装置
JPH0315709A (ja) * 1989-03-30 1991-01-24 Ishikawa Pref Gov 非接触表面微細形状測定装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100769214B1 (ko) * 2005-06-07 2007-10-22 후지논 가부시키가이샤 광빔 측정장치
EP2581700A1 (en) 2011-10-11 2013-04-17 Canon Kabushiki Kaisha Absolute distance measurement with multiple-wavelength interferometer
JP2019515249A (ja) * 2016-04-20 2019-06-06 クオリティー ヴィジョン インターナショナル インコーポレイテッドＱｕａｌｉｔｙ Ｖｉｓｉｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ， Ｉｎｃ． 光学測定機のための遠隔操作プローブ

Also Published As

Publication number Publication date
KR920016823A (ko) 1992-09-25
IL100655A0 (en) 1992-09-06
EP0498541A1 (en) 1992-08-12
JPH0830651B2 (ja) 1996-03-27
IL100655A (en) 1994-11-28
US5349440A (en) 1994-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0552540A (ja) 干渉計レーザ表面粗さ計
US5153669A (en) Three wavelength optical measurement apparatus and method
US5159408A (en) Optical thickness profiler using synthetic wavelengths
Knüttel et al. Stationary depth-profiling reflectometer based on low-coherence interferometry
Hariharan Basics of interferometry
US5166751A (en) Interferometric profilometer sensor
KR100808886B1 (ko) 위치 검출장치 및 방법
US20060187465A1 (en) Interferometry systems and methods
EP1748276B1 (en) Interference measurement apparatus
US8345258B2 (en) Synchronous frequency-shift mechanism in fizeau interferometer
US7551290B2 (en) Absolute position measurement apparatus
North-Morris et al. Phase-shifting multiwavelength dynamic interferometer
US7423766B1 (en) Interferometric optical profiler
US20230236125A1 (en) Dynamic phase-shift interferometer utilizing a synchronous optical frequency-shift
US20230062525A1 (en) Heterodyne light source for use in metrology system
US6525824B1 (en) Dual beam optical interferometer
CN111770719B (zh) 通过迈克尔逊型自由光束干涉仪产生二维干涉图的方法
Farr et al. Beamsplitter cube for white light interferometry
JP5355659B2 (ja) 干渉測定装置及び測定原点決定方法
US20230069087A1 (en) Digital holography metrology system
Aleksoff et al. Discrete step wavemeter
JP4835908B2 (ja) 光学特性測定装置
Schwider Coarse frequency comb interferometry
Otani et al. Light source with orthogonally linear polarized two-frequency beam from laser diode and its application
JPH06160044A (ja) 干渉計

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090327

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100327

Year of fee payment: 14

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees