JP3276745B2 - 可変波長発光素子とその制御方法 - Google Patents
可変波長発光素子とその制御方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は発光デバイスにかかわ
り、とくに情報通信分野用の光論理デバイス、表示素
子、通信用発光デバイス、情報ファイルの読み／書き用
ヘッド、印刷装置、センサなどに好適な可変波長化した
エレクトロルミネッセンス（以下ＥＬと略称する）素子
に関する。
り、とくに情報通信分野用の光論理デバイス、表示素
子、通信用発光デバイス、情報ファイルの読み／書き用
ヘッド、印刷装置、センサなどに好適な可変波長化した
エレクトロルミネッセンス（以下ＥＬと略称する）素子
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプ
ライド・フィジクス誌、ｖｏｌ．２７，ＮＯ．２（１９
８８）ｐｐ．Ｌ２６９−Ｌ２７１には、有機蛍光体薄膜
の各蛍光体の分子式に応じた発光スペクトルが得られる
ことが開示されている。図２は上記有機蛍光体薄膜を用
いた一般的な有機発光素子の断面図である。硝子基板１
０１上に透明導電膜１０３、ジアミン誘導体（ＴＡＤ）
のホール注入層１０４、発光層１０５、金属電極１０６
を順次形成する。
ライド・フィジクス誌、ｖｏｌ．２７，ＮＯ．２（１９
８８）ｐｐ．Ｌ２６９−Ｌ２７１には、有機蛍光体薄膜
の各蛍光体の分子式に応じた発光スペクトルが得られる
ことが開示されている。図２は上記有機蛍光体薄膜を用
いた一般的な有機発光素子の断面図である。硝子基板１
０１上に透明導電膜１０３、ジアミン誘導体（ＴＡＤ）
のホール注入層１０４、発光層１０５、金属電極１０６
を順次形成する。
【０００３】透明導電膜１０３と金属電極１０６を互い
に直交するマトリクス状に形成し、透明導電膜１０３ｂ
をプラス、金属電極１０６をマイナスとして５〜２０Ｖ
の直流電圧を印加すると、両者の交差部分が発光し、光
が硝子基板１０１側から出射するようにっている。この
発光部部分を画素と呼ぶ。この発光スペクトルは発光物
質の種類により決定される。発光物質をアルミキレート
（ＡＬＱ）とした場合、図３に示したようなブロードな
発光スペクトルが得られるが、この発光スペクトルはほ
ぼ一義的に定まっていた。また、発光スペクトルを変更
する場合にはカラーフィルタを付加することが行われて
いたが、一度作成した素子の発光スペクトルを自在に変
更することはできなかった。
に直交するマトリクス状に形成し、透明導電膜１０３ｂ
をプラス、金属電極１０６をマイナスとして５〜２０Ｖ
の直流電圧を印加すると、両者の交差部分が発光し、光
が硝子基板１０１側から出射するようにっている。この
発光部部分を画素と呼ぶ。この発光スペクトルは発光物
質の種類により決定される。発光物質をアルミキレート
（ＡＬＱ）とした場合、図３に示したようなブロードな
発光スペクトルが得られるが、この発光スペクトルはほ
ぼ一義的に定まっていた。また、発光スペクトルを変更
する場合にはカラーフィルタを付加することが行われて
いたが、一度作成した素子の発光スペクトルを自在に変
更することはできなかった。
【０００４】また、Appl.Phys.Lett.誌、Vol.６３
（５），Ｎｏ２，１９９３年８月には図８に示すよう
に、図２の金属電極１０６を有機薄膜のミラ−電極と
し、硝子基板１０１上にＴiＯ2膜とＳiＯ2膜の多層膜の
よりなる半透明反射膜（ハ−フミラ−）１０２を形成
し、その上に透明導電膜１０３、ジアミン誘導体（ＴＡ
Ｄ）のホール注入層１０４、アルミキレート（ＡＬＱ）
の発光層１０５、金属電極１０６を順次形成して、金属
電極１０６と半透明反射膜１０２間の光に対するキャビ
ティ効果を利用して有機薄膜の発光強度を高め、同時に
その発光スペクトラムを狭くすることが開示されてい
る。
（５），Ｎｏ２，１９９３年８月には図８に示すよう
に、図２の金属電極１０６を有機薄膜のミラ−電極と
し、硝子基板１０１上にＴiＯ2膜とＳiＯ2膜の多層膜の
よりなる半透明反射膜（ハ−フミラ−）１０２を形成
し、その上に透明導電膜１０３、ジアミン誘導体（ＴＡ
Ｄ）のホール注入層１０４、アルミキレート（ＡＬＱ）
の発光層１０５、金属電極１０６を順次形成して、金属
電極１０６と半透明反射膜１０２間の光に対するキャビ
ティ効果を利用して有機薄膜の発光強度を高め、同時に
その発光スペクトラムを狭くすることが開示されてい
る。
【０００５】即ち、金属電極１０６と半透明反射膜１０
２間の間隔を発光層１０５の発光スペクトル範囲(４５
０ｎｍ〜７００ｎｍ)の中の特定の波長に合わせて設定
することにより、図９に示すように上記特定波長の光を
共振させてその強度を強めることが報告されている。
２間の間隔を発光層１０５の発光スペクトル範囲(４５
０ｎｍ〜７００ｎｍ)の中の特定の波長に合わせて設定
することにより、図９に示すように上記特定波長の光を
共振させてその強度を強めることが報告されている。
【０００６】また、米国特許ｕｓｐ５，００３，２２１
号公報には、透明基板１１とその上に構成したストライ
プ電極１３、誘電体層１４、ＥＬ層１５、誘電体層１
６、ストライプ電極１７等よりなる液晶素子間に薄膜層
１２を設け、透明基板１１と液晶素子間の回折係数差が
最小とするように薄膜層１２の回折係数を設定して、該
液晶装置の外来光反射を低減することが開示されてい
る。
号公報には、透明基板１１とその上に構成したストライ
プ電極１３、誘電体層１４、ＥＬ層１５、誘電体層１
６、ストライプ電極１７等よりなる液晶素子間に薄膜層
１２を設け、透明基板１１と液晶素子間の回折係数差が
最小とするように薄膜層１２の回折係数を設定して、該
液晶装置の外来光反射を低減することが開示されてい
る。
【０００７】上記従来技術では成した発光素子の発光ス
ペクトル波長をかえることは不可能であった。一方、特
開平３−１９７９２３号公報には、検光子と偏光子の間
に電圧により複屈折率の変化する少なくとも２層の液晶
層を設け、液晶電極間電圧により上記複屈折量を制御し
て該多層液晶層を可変色フィルタとして利用することが
開示されているが、光源をこの液晶素子の外部に設ける
必要上、上記薄膜ＥＬ素子に比べて装置が大型であっ
た。
ペクトル波長をかえることは不可能であった。一方、特
開平３−１９７９２３号公報には、検光子と偏光子の間
に電圧により複屈折率の変化する少なくとも２層の液晶
層を設け、液晶電極間電圧により上記複屈折量を制御し
て該多層液晶層を可変色フィルタとして利用することが
開示されているが、光源をこの液晶素子の外部に設ける
必要上、上記薄膜ＥＬ素子に比べて装置が大型であっ
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、発光素子の発光色が発光材料や素子構造等により一
義的に決定されるので、発光色を制御できないという問
題があった。すなわち、上記Appl.Phys.Lett.誌に開示
の方法では、発光スペクトラムを外部信号により制御で
きないという問題があった。また、上記特開平３−１９
７９２３号公報に開示の方法では、該多層の液晶層を可
変色フィルタとして用いるので光の透過損失が大きいう
え、光源が外部に設けられので装置が大型化するという
問題があった。本発明の目的は、上記色フィルタのよう
な光の透過損失を原理的に発生することのない可変波長
発光素子を提供することにある。
は、発光素子の発光色が発光材料や素子構造等により一
義的に決定されるので、発光色を制御できないという問
題があった。すなわち、上記Appl.Phys.Lett.誌に開示
の方法では、発光スペクトラムを外部信号により制御で
きないという問題があった。また、上記特開平３−１９
７９２３号公報に開示の方法では、該多層の液晶層を可
変色フィルタとして用いるので光の透過損失が大きいう
え、光源が外部に設けられので装置が大型化するという
問題があった。本発明の目的は、上記色フィルタのよう
な光の透過損失を原理的に発生することのない可変波長
発光素子を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決する手段】上記課題を解決するために、発
光層の上面側と下面側に設けた二つの光反射層間の発光
層の光学的距離を外部信号により制御して、出力光の発
光スペクトルを上記外部信号により制御するようにす
る。このため、透明基板上に少なくとも上記反射層の一
方である透明反射膜と、第１の透明導電膜、光学距離可
変層、第２の透明導電膜、有機薄膜発光層、上記反射層
の他方である金属電極を順次積層し、上記第１と第２の
透明導電膜間に上記外部信号を印加するようにする。
光層の上面側と下面側に設けた二つの光反射層間の発光
層の光学的距離を外部信号により制御して、出力光の発
光スペクトルを上記外部信号により制御するようにす
る。このため、透明基板上に少なくとも上記反射層の一
方である透明反射膜と、第１の透明導電膜、光学距離可
変層、第２の透明導電膜、有機薄膜発光層、上記反射層
の他方である金属電極を順次積層し、上記第１と第２の
透明導電膜間に上記外部信号を印加するようにする。
【００１０】また、上記光学距離可変層を電圧により屈
折率または厚みが変化する物質、例えばポリマー分散型
液晶材により構成する。また、上記光学距離可変層を
熱、圧力、音波、磁場、電場、重力、電磁波等の外部信
号に応じて膜厚変化を生じる物質により構成する。この
ため、上記透明基板および／または金属電極面上にフレ
キシブルな保護層を設け、上記透明基板および／または
金属電極面上に印加される機械的外力に応じて上記光学
距離可変層の膜厚変化が生じるようにする。
折率または厚みが変化する物質、例えばポリマー分散型
液晶材により構成する。また、上記光学距離可変層を
熱、圧力、音波、磁場、電場、重力、電磁波等の外部信
号に応じて膜厚変化を生じる物質により構成する。この
ため、上記透明基板および／または金属電極面上にフレ
キシブルな保護層を設け、上記透明基板および／または
金属電極面上に印加される機械的外力に応じて上記光学
距離可変層の膜厚変化が生じるようにする。
【００１１】また、上記透明基板および／または金属電
極面上に設けたフレキシブルな保護層の少なくとも一方
に帯磁した磁性層を設け、外部磁場の印加により上記光
学距離可変層の膜厚変化を生じるようにする。また、上
記光学距離可変層を光照射により膜厚変化を生じる物質
により構成する。また、上記有機薄膜発光層を青色波長
（４００〜４８０ｎｍ）に発光ピークを有する発光材料
にアルミキレートを１〜２０％添加した発光材により構
成する。
極面上に設けたフレキシブルな保護層の少なくとも一方
に帯磁した磁性層を設け、外部磁場の印加により上記光
学距離可変層の膜厚変化を生じるようにする。また、上
記光学距離可変層を光照射により膜厚変化を生じる物質
により構成する。また、上記有機薄膜発光層を青色波長
（４００〜４８０ｎｍ）に発光ピークを有する発光材料
にアルミキレートを１〜２０％添加した発光材により構
成する。
【００１２】また、第１、および第２の透明導電膜、お
よび金属電極のそれぞれを相互に交差するストライプ形
状とし、これらのストライプ形状の交差部を画素とす
る。また、、第１と第２の透明導電膜を相互に平行する
ストライプ形状とし、さらに、金属電極を上記第１、第
２の透明導電膜に対して交差するストライプ形状にす
る。また、第１の透明導電膜のストライプ幅を第２の透
明導電膜のストライプ幅内に２本以上納まるように狭く
する。
よび金属電極のそれぞれを相互に交差するストライプ形
状とし、これらのストライプ形状の交差部を画素とす
る。また、、第１と第２の透明導電膜を相互に平行する
ストライプ形状とし、さらに、金属電極を上記第１、第
２の透明導電膜に対して交差するストライプ形状にす
る。また、第１の透明導電膜のストライプ幅を第２の透
明導電膜のストライプ幅内に２本以上納まるように狭く
する。
【００１３】また、第１と第２の透明導電膜間に赤、
緑、青の発光成分を通過させる電圧を切替て印加する。
また、第１と第２の透明導電膜間に赤、緑、青の発光成
分を通過させる電圧を順次印加する。また、第１と第２
の透明導電膜を画面内で２分し、その一方には可視波長
領域の上半分または下半分を通過させる電圧を印加し、
他方には可視波長領域の下半分または上半分を通過させ
る電圧を印加する。
緑、青の発光成分を通過させる電圧を切替て印加する。
また、第１と第２の透明導電膜間に赤、緑、青の発光成
分を通過させる電圧を順次印加する。また、第１と第２
の透明導電膜を画面内で２分し、その一方には可視波長
領域の上半分または下半分を通過させる電圧を印加し、
他方には可視波長領域の下半分または上半分を通過させ
る電圧を印加する。
【００１４】
【作用】発光層の両面に設けた二つの光反射層は発光層
の光を共振し、外部信号はこの共振の光学的距離を制御
して、出力発光スペクトルを制御する。上記透明反射膜
と金属電極は上記二つの光反射層に該当し、上記第１と
第２の透明導電膜間に印加した外部信号は上記共振の光
学的距離を制御する。
の光を共振し、外部信号はこの共振の光学的距離を制御
して、出力発光スペクトルを制御する。上記透明反射膜
と金属電極は上記二つの光反射層に該当し、上記第１と
第２の透明導電膜間に印加した外部信号は上記共振の光
学的距離を制御する。
【００１５】また、例えばポリマ−分散型液晶材により
構成した上記光学距離可変層は電圧により屈折率または
厚みを変化して上記共振の光学的距離を変化させる。ま
た、熱、圧力、音波、磁場、電場、重力、電磁波等によ
り膜厚変化を生じる物質はこれらの外部信号により上記
光学距離を変化させる。また、上記フレキシブルな保護
層は発光素子を保護して機械的外力を光学距離可変層に
伝える。
構成した上記光学距離可変層は電圧により屈折率または
厚みを変化して上記共振の光学的距離を変化させる。ま
た、熱、圧力、音波、磁場、電場、重力、電磁波等によ
り膜厚変化を生じる物質はこれらの外部信号により上記
光学距離を変化させる。また、上記フレキシブルな保護
層は発光素子を保護して機械的外力を光学距離可変層に
伝える。
【００１６】また、上記帯磁した磁性層は外部磁場力を
光学距離可変層に伝える。また、上記光照射により膜厚
変化を生じる物質は外部光照射により上記光学距離可変
層を変化させる。また、上記青色領域（４００〜４８０
ｎｍ）に発光ピークを有する発光材料にアルミキレート
を１〜２０％添加した発光材は可視光範囲全域を制御で
きる有機薄膜発光層を提供する。
光学距離可変層に伝える。また、上記光照射により膜厚
変化を生じる物質は外部光照射により上記光学距離可変
層を変化させる。また、上記青色領域（４００〜４８０
ｎｍ）に発光ピークを有する発光材料にアルミキレート
を１〜２０％添加した発光材は可視光範囲全域を制御で
きる有機薄膜発光層を提供する。
【００１７】また、それぞれ相互に交差するストライプ
形状の第１、および第２の透明導電膜、および金属電極
は、ストライプ形状の交差部を画素として選択する。ま
た、第１と第２の透明導電膜を相互に平行するストライ
プ形状とする場合は、金属電極と第１、第２の透明導電
膜のストライプ形状の交叉部を画素とする。また、第１
の透明導電膜のストライプ幅を第２の透明導電膜のスト
ライプ幅内に２本以上納まるようした場合は、第１の透
明導電膜のストライプ幅内に二つ以上の画素をつくる。
形状の第１、および第２の透明導電膜、および金属電極
は、ストライプ形状の交差部を画素として選択する。ま
た、第１と第２の透明導電膜を相互に平行するストライ
プ形状とする場合は、金属電極と第１、第２の透明導電
膜のストライプ形状の交叉部を画素とする。また、第１
の透明導電膜のストライプ幅を第２の透明導電膜のスト
ライプ幅内に２本以上納まるようした場合は、第１の透
明導電膜のストライプ幅内に二つ以上の画素をつくる。
【００１８】また、第１と第２の透明導電膜間に赤、
緑、青の発光成分を通過させる電圧を切替て印加する場
合は、を切替て出射できる。また、第１と第２の透明導
電膜間に赤、緑、青の発光成分を通過させる電圧を順次
印加する場合には、赤、緑、青の各画素の位置が固定さ
れる。また、第１と第２の透明導電膜を２分して、その
一方には可視波長領域の上半分または下半分を通過させ
る電圧を印加し、他方には可視波長領域の下半分または
上半分を通過させる電圧を印加する場合には、２個の画
素が組になって可視波長領域を受け持つが、有機薄膜発
光層の光学距離制御範囲が半減される。
緑、青の発光成分を通過させる電圧を切替て印加する場
合は、を切替て出射できる。また、第１と第２の透明導
電膜間に赤、緑、青の発光成分を通過させる電圧を順次
印加する場合には、赤、緑、青の各画素の位置が固定さ
れる。また、第１と第２の透明導電膜を２分して、その
一方には可視波長領域の上半分または下半分を通過させ
る電圧を印加し、他方には可視波長領域の下半分または
上半分を通過させる電圧を印加する場合には、２個の画
素が組になって可視波長領域を受け持つが、有機薄膜発
光層の光学距離制御範囲が半減される。
【００１９】
〔実施例 １〕図１は本発明による可変波長発光素子実
施例の断面図である。硝子基板１０１上に、ＴｉＯ2膜
とＳｉＯ2膜を積層した半透明反射膜１０２を形成し、
その上に透明導電膜（ＩＴＯ）１０３ａ、光学距離可変
層（ポリマー分散型液晶）２０１、透明導電膜（ＩＴ
Ｏ）１０３ｂ，ジアミン誘導体（ＴＡＤ）のホール注入
層１０４、アルミキレート（ＡＬＱ）の発光層１０５、
Ａｇ：Ｍｇの金属電極１０６を順次形成する。
施例の断面図である。硝子基板１０１上に、ＴｉＯ2膜
とＳｉＯ2膜を積層した半透明反射膜１０２を形成し、
その上に透明導電膜（ＩＴＯ）１０３ａ、光学距離可変
層（ポリマー分散型液晶）２０１、透明導電膜（ＩＴ
Ｏ）１０３ｂ，ジアミン誘導体（ＴＡＤ）のホール注入
層１０４、アルミキレート（ＡＬＱ）の発光層１０５、
Ａｇ：Ｍｇの金属電極１０６を順次形成する。
【００２０】また、図４に示すように、透明導電膜１０
３ｂと金属電極１０６を互いに直交するマトリクス状に
形成し、５〜２０Ｖの直流電圧を透明導電膜１０３ｂに
プラス、金属電極１０６にマイナスで印加して量電極の
交差部を画素として発光させる。また、透明導電膜１０
３ａと１０３ｂも互いに直交するマトリクス状に構成す
ると、透明導電膜１０３ａと１０３ｂ間にかける電圧に
より上記各画素の出射光のスペクトルを画素毎に制御す
ることができる。
３ｂと金属電極１０６を互いに直交するマトリクス状に
形成し、５〜２０Ｖの直流電圧を透明導電膜１０３ｂに
プラス、金属電極１０６にマイナスで印加して量電極の
交差部を画素として発光させる。また、透明導電膜１０
３ａと１０３ｂも互いに直交するマトリクス状に構成す
ると、透明導電膜１０３ａと１０３ｂ間にかける電圧に
より上記各画素の出射光のスペクトルを画素毎に制御す
ることができる。
【００２１】また、図５に示すように、透明導電膜１０
３ａと１０３ｂを互いに平行するストライプ状に構成す
ると、透明導電膜１０３ａと１０３ｂ間にかける電圧に
より画素列毎の出射光スペクトルをまとめて制御するこ
とができる。
３ａと１０３ｂを互いに平行するストライプ状に構成す
ると、透明導電膜１０３ａと１０３ｂ間にかける電圧に
より画素列毎の出射光スペクトルをまとめて制御するこ
とができる。
【００２２】また、図６、７に示すように、図４または
図５における透明導電膜１０３ａの幅を同１０３ｂの幅
の２分の１以下にすると、金属電極１０６と透明導電膜
１０３ｂが作る１画素毎に複数の発光色を組合わせて出
射することができる。また、透明導電膜１０３ａ，１０
３ｂ，ホール注入層１０４、発光層１０５、および光学
距離可変層２０１の各膜厚と屈折率の積から得られる光
学的距離の和ｄを、半透明反射膜１０２がない時の図３
に示したＡＬＱの発光スペクトルの範囲（４５０〜７０
０ｎｍ）間の値とする。
図５における透明導電膜１０３ａの幅を同１０３ｂの幅
の２分の１以下にすると、金属電極１０６と透明導電膜
１０３ｂが作る１画素毎に複数の発光色を組合わせて出
射することができる。また、透明導電膜１０３ａ，１０
３ｂ，ホール注入層１０４、発光層１０５、および光学
距離可変層２０１の各膜厚と屈折率の積から得られる光
学的距離の和ｄを、半透明反射膜１０２がない時の図３
に示したＡＬＱの発光スペクトルの範囲（４５０〜７０
０ｎｍ）間の値とする。
【００２１】本発明では透明導電膜１０３ａと１０３ｂ
間に印加する電圧により光学距離可変層２０１の屈折率
を１．５〜１．８の範囲に変えて光学的距離の和ｄの値
を共振器の長さにし往復で２００ｎｍ変化させるように
する。このため、光学距離可変層２０１の膜厚を３４０
ｎｍに設定する。すなわち、発光スペクトルを透明導電
膜１０３ａと１０３ｂ間の印加電圧に応じて金属電極１
０６と半透明反射膜１０２間の距離を制御し、この距離
に応じた波長の光を共振させてその発光強度を損失少な
く高め、同時にその発光スペクトラムを狭くするように
する。この結果、図１０に示すように上記発光層１０５
の発光スペクトル範囲(４５０ｎｍ〜７００ｎｍ)内の特
定波長の発光成分を任意に抜き出してその強度を強める
ことができる。
間に印加する電圧により光学距離可変層２０１の屈折率
を１．５〜１．８の範囲に変えて光学的距離の和ｄの値
を共振器の長さにし往復で２００ｎｍ変化させるように
する。このため、光学距離可変層２０１の膜厚を３４０
ｎｍに設定する。すなわち、発光スペクトルを透明導電
膜１０３ａと１０３ｂ間の印加電圧に応じて金属電極１
０６と半透明反射膜１０２間の距離を制御し、この距離
に応じた波長の光を共振させてその発光強度を損失少な
く高め、同時にその発光スペクトラムを狭くするように
する。この結果、図１０に示すように上記発光層１０５
の発光スペクトル範囲(４５０ｎｍ〜７００ｎｍ)内の特
定波長の発光成分を任意に抜き出してその強度を強める
ことができる。
【００２２】〔実施例 ２〕図１１は図１に示した本発
明による発光素子を三原色対応のカラ−ディスプレイ用
素子として用いた場合の断面図である。均一に作成した
各画素の透明電極１０３ａ〜１０３ｂ間に赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色に対応する電圧を順次印加し
て３画素により３原色を発光できるようにし、透明導電
膜１０３ｂと金属電極１０６間に加える電圧により各画
素の発光強度を制御するようにする。この結果、Ｒ，
Ｇ，Ｂの色成分それぞれの発光強度を独立に制御できる
ので、３原色対応のカラー発光ディスプレイを実現する
ことができる。
明による発光素子を三原色対応のカラ−ディスプレイ用
素子として用いた場合の断面図である。均一に作成した
各画素の透明電極１０３ａ〜１０３ｂ間に赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色に対応する電圧を順次印加し
て３画素により３原色を発光できるようにし、透明導電
膜１０３ｂと金属電極１０６間に加える電圧により各画
素の発光強度を制御するようにする。この結果、Ｒ，
Ｇ，Ｂの色成分それぞれの発光強度を独立に制御できる
ので、３原色対応のカラー発光ディスプレイを実現する
ことができる。
【００２３】〔実施例 ３〕図１２は透明電極１０３ａ
〜１０３ｂ間に所要の色相に応じた電圧を連続的に印加
して各画素がそれぞれ独立に上記４５０〜７００ｎｍ内
の中間色も発光できるようにした場合である。なお、各
画素の発光強度は図１１の場合と同様に透明導電膜１０
３ｂと金属電極１０６間に加える電圧により制御する。
図１では３画素毎が一つのフルカラ−画素として機能し
ていたが、本実施例では各画素がそれぞれフルカラ−画
素として働くため表示密度や有効発光面積を略３倍化す
ることができ、計算機端末用の表示装置などに用いるこ
とができる。
〜１０３ｂ間に所要の色相に応じた電圧を連続的に印加
して各画素がそれぞれ独立に上記４５０〜７００ｎｍ内
の中間色も発光できるようにした場合である。なお、各
画素の発光強度は図１１の場合と同様に透明導電膜１０
３ｂと金属電極１０６間に加える電圧により制御する。
図１では３画素毎が一つのフルカラ−画素として機能し
ていたが、本実施例では各画素がそれぞれフルカラ−画
素として働くため表示密度や有効発光面積を略３倍化す
ることができ、計算機端末用の表示装置などに用いるこ
とができる。
【００２４】〔実施例 ４〕図１３はフルカラ−用の全
発光範囲を分割し、この分割した各発光範囲を分割した
画素グル−プに割り当てるようにした場合である。この
結果、各画素グル−プの波長制御範囲を狭くできるの
で、対応する光学距離可変層２０１の膜厚も狭くでき、
表示素子の膜厚設計余裕を大きくとることができる。ま
た、光学距離可変層２０１の膜厚が厚い場合には主発光
ピーク以外の不要発光ピークが発生し易いく、このため
色純度が低下するという問題があったが、この問題を改
善することができる。
発光範囲を分割し、この分割した各発光範囲を分割した
画素グル−プに割り当てるようにした場合である。この
結果、各画素グル−プの波長制御範囲を狭くできるの
で、対応する光学距離可変層２０１の膜厚も狭くでき、
表示素子の膜厚設計余裕を大きくとることができる。ま
た、光学距離可変層２０１の膜厚が厚い場合には主発光
ピーク以外の不要発光ピークが発生し易いく、このため
色純度が低下するという問題があったが、この問題を改
善することができる。
【００２５】図１３では、フルカラ−の発光波長範囲を
上下に２分し、この２分した波長範囲に対応する電圧を
一画素毎に交互に印加するようにしている。各画素の発
光波長範囲が１／２化されるので、それぞれ最適化する
ことができる。
上下に２分し、この２分した波長範囲に対応する電圧を
一画素毎に交互に印加するようにしている。各画素の発
光波長範囲が１／２化されるので、それぞれ最適化する
ことができる。
【００２６】〔実施例 ５〕図１４は本発明の可変波長
発光素子を光スイッチとして用いる実施例の断面図であ
る。図１に示した本発明の可変波長発光素子は、透明電
極１０３ａ、１０３ｂ間の印加電圧により発光波長が変
化するので、出射部にレンズ１１０、プリズム１１２等
を設けて発光波長に応じて出射光路を偏向させ、光ディ
テクタ１１３により所定の偏向角の出射光を検出するよ
うにする。この場合、光学距離可変層２０１による光学
距離ｄの変化範囲を上記カラ−ディスプレイほど大きく
する必要がないので、光学距離可変層２０１にはニオブ
酸リチウムのような応答速度の早い非線型光学材料を用
いることができる。
発光素子を光スイッチとして用いる実施例の断面図であ
る。図１に示した本発明の可変波長発光素子は、透明電
極１０３ａ、１０３ｂ間の印加電圧により発光波長が変
化するので、出射部にレンズ１１０、プリズム１１２等
を設けて発光波長に応じて出射光路を偏向させ、光ディ
テクタ１１３により所定の偏向角の出射光を検出するよ
うにする。この場合、光学距離可変層２０１による光学
距離ｄの変化範囲を上記カラ−ディスプレイほど大きく
する必要がないので、光学距離可変層２０１にはニオブ
酸リチウムのような応答速度の早い非線型光学材料を用
いることができる。
【００２７】この結果、透明電極１０３ａと１０３ｂ間
の印加電圧により出射光がスイッチングされる光スイッ
チ素子を得ることができる。また、例えば、発光層１０
５に印加する電圧と光学距離可変層２０１に印加する電
圧とをそれぞれ論理入力とすれば、ＡＮＤ，ＯＲ等の論
理演算を光学的に行わせることができ、、また、金属電
極１０６や透明電極１０３ａと１０３ｂ等の構成を変え
ることによりさらに複雑な光論理回路を構成することが
できる。
の印加電圧により出射光がスイッチングされる光スイッ
チ素子を得ることができる。また、例えば、発光層１０
５に印加する電圧と光学距離可変層２０１に印加する電
圧とをそれぞれ論理入力とすれば、ＡＮＤ，ＯＲ等の論
理演算を光学的に行わせることができ、、また、金属電
極１０６や透明電極１０３ａと１０３ｂ等の構成を変え
ることによりさらに複雑な光論理回路を構成することが
できる。
【００２８】〔実施例 ６〕図１５は、光学距離可変層
２０１に非固体状の光学距離可変物質を用いた場合の実
施例断面図である。硝子基板１０１ａ上に半透明反射膜
１０２、透明導電膜１０３ａを形成し、その上の透明導
電膜１０３ｂ間に例えばポリマー分散型液晶材等の光学
距離可変物質２０１を封入する。次いで、透明基板１０
１ｂ上にホール注入層１０４、発光層１０５、金属電極
１０６を順次形成し、封止部材１１４によりこの光学距
離可変素子の全体を固定して光学距離可変物質２０１の
厚みが所定の値となるように２枚の基板１０１ａと同１
０１ｂで封止する。
２０１に非固体状の光学距離可変物質を用いた場合の実
施例断面図である。硝子基板１０１ａ上に半透明反射膜
１０２、透明導電膜１０３ａを形成し、その上の透明導
電膜１０３ｂ間に例えばポリマー分散型液晶材等の光学
距離可変物質２０１を封入する。次いで、透明基板１０
１ｂ上にホール注入層１０４、発光層１０５、金属電極
１０６を順次形成し、封止部材１１４によりこの光学距
離可変素子の全体を固定して光学距離可変物質２０１の
厚みが所定の値となるように２枚の基板１０１ａと同１
０１ｂで封止する。
【００２９】〔実施例 ７〕上記本発明の各実施例にお
いては発光層１０５に高輝度が安定に得られるＡＬＱ材
を用いたが、発光波長の下限が４５０ｎｍであるため用
途によっては青色成分が十分する場合が発生する。この
問題はＡＬＱにアゾメチン亜鉛錯体等の発光ピークを４
００〜４８０ｎｍの青色領域に有する物質を添加するこ
とにより改善することができる。図１６はその一例であ
り、ＡＬＱの発光領域１に上記青色領域２を加えると、
３に示すような略４００〜７００ｎｍにわたる広い発光
領域を得ることができる。
いては発光層１０５に高輝度が安定に得られるＡＬＱ材
を用いたが、発光波長の下限が４５０ｎｍであるため用
途によっては青色成分が十分する場合が発生する。この
問題はＡＬＱにアゾメチン亜鉛錯体等の発光ピークを４
００〜４８０ｎｍの青色領域に有する物質を添加するこ
とにより改善することができる。図１６はその一例であ
り、ＡＬＱの発光領域１に上記青色領域２を加えると、
３に示すような略４００〜７００ｎｍにわたる広い発光
領域を得ることができる。
【００３０】図１７は上記ＡＬＱの添加率とＡＬＱピ−
クに対する青ピ−ク強度比の関係図である。ディスプレ
イ用としては青色の発光強度が緑色の発光強度の１／１
０程度であれば十分であるから、青色発光強度の１０倍
がＡＬＱ発光強度の５分の１ないし５倍の範囲内にある
ようにし、このためＡＬＱの添加量を１〜２０％に設定
する。
クに対する青ピ−ク強度比の関係図である。ディスプレ
イ用としては青色の発光強度が緑色の発光強度の１／１
０程度であれば十分であるから、青色発光強度の１０倍
がＡＬＱ発光強度の５分の１ないし５倍の範囲内にある
ようにし、このためＡＬＱの添加量を１〜２０％に設定
する。
【００３１】〔実施例 ８〕図１８、図１９は、外部光
の反射を低減するために、出射部にブラックマスク１１
５を設け、さらに各画素光の出射部分にそれぞれの発光
領域のみを透過するカラーフィルター１１６を設けた場
合の断面図である。図１８は各画素の出射光をカラーフ
ィルタ１１６の透過範囲内で制御する場合であり、図１
９では透明導電膜１０３ａを省略して出射光のスペクト
ルをカラーフィルタ１１６により一義的に規制するよう
にした場合である。なお、ブラックマスク１１５とカラ
ーフィルター１１６は硝子基板１０１の外側につけるこ
とも出来る。
の反射を低減するために、出射部にブラックマスク１１
５を設け、さらに各画素光の出射部分にそれぞれの発光
領域のみを透過するカラーフィルター１１６を設けた場
合の断面図である。図１８は各画素の出射光をカラーフ
ィルタ１１６の透過範囲内で制御する場合であり、図１
９では透明導電膜１０３ａを省略して出射光のスペクト
ルをカラーフィルタ１１６により一義的に規制するよう
にした場合である。なお、ブラックマスク１１５とカラ
ーフィルター１１６は硝子基板１０１の外側につけるこ
とも出来る。
【００３２】光学距離可変層２０１は微小光共振器構造
を有する発光素子全てに適用可能であり、光学距離可変
材には有機、無機等の各種の材料を用いることができる
が、有機発光材を用いると光学距離可変層２０１の膜厚
を発光波長オーダーに設定しやすいため、設計、製造が
比較的容易になり、また、良好な長時間安定性を得るこ
とができる。
を有する発光素子全てに適用可能であり、光学距離可変
材には有機、無機等の各種の材料を用いることができる
が、有機発光材を用いると光学距離可変層２０１の膜厚
を発光波長オーダーに設定しやすいため、設計、製造が
比較的容易になり、また、良好な長時間安定性を得るこ
とができる。
【００３３】しかし、光学距離可変層２０１には上記電
圧に応じて屈折率が変化する物質の他に、熱、圧力、音
波、光、磁場、電場、重力、電磁波等の外部信号に応じ
て膜厚変化を生じる物質を用いても同等の作用、効果を
得ることができる。また、これら物質の組み合わせて用
いることもできる。なお、これらの場合、透明導電膜
（ＩＴＯ）１０３ａは適宜省略してもよい。また、これ
らの発光素子のスペクトラムは熱、圧力、音波、磁場、
電場、重力、電磁波等の外部信号に応じて変化するの
で、上記、熱、圧力、音波、磁場、電場、重力、電磁波
等の検出装置として利用することもできる。
圧に応じて屈折率が変化する物質の他に、熱、圧力、音
波、光、磁場、電場、重力、電磁波等の外部信号に応じ
て膜厚変化を生じる物質を用いても同等の作用、効果を
得ることができる。また、これら物質の組み合わせて用
いることもできる。なお、これらの場合、透明導電膜
（ＩＴＯ）１０３ａは適宜省略してもよい。また、これ
らの発光素子のスペクトラムは熱、圧力、音波、磁場、
電場、重力、電磁波等の外部信号に応じて変化するの
で、上記、熱、圧力、音波、磁場、電場、重力、電磁波
等の検出装置として利用することもできる。
【００３４】〔実施例 ９〕図２０は光の照射によって
出射光の波長とその強度を制御する場合である。光学距
離可変層２０１に光の照射により光学距離が変わる非線
系光学材料を用いる。上記光（信号光）は、同図（ａ）
に示すように硝子基板１０１側から照射したり、また、
同図（ｂ）のように光学距離可変層２０１の側面側から
照射する。
出射光の波長とその強度を制御する場合である。光学距
離可変層２０１に光の照射により光学距離が変わる非線
系光学材料を用いる。上記光（信号光）は、同図（ａ）
に示すように硝子基板１０１側から照射したり、また、
同図（ｂ）のように光学距離可変層２０１の側面側から
照射する。
【００３５】図２１は上記信号光に対する出射光変化の
一例を示すスペクトル図である。信号光が無い時には波
長Ａの位置にあった出射光が、信号光の照射により波長
Ｂの位置に移動することを示している。したがって、図
２２に示すように、信号光の照射により波長Ａの出射光
強度が低下し、波長Ｂの出射光強度が増大するので、図
２０の素子は光−光変換素子として利用することができ
る。
一例を示すスペクトル図である。信号光が無い時には波
長Ａの位置にあった出射光が、信号光の照射により波長
Ｂの位置に移動することを示している。したがって、図
２２に示すように、信号光の照射により波長Ａの出射光
強度が低下し、波長Ｂの出射光強度が増大するので、図
２０の素子は光−光変換素子として利用することができ
る。
【００３６】〔実施例 １０〕図２３は光学距離可変層
２０１に圧力、引力等の機械的な力を加えて光学距離が
変化させるようにした場合である。この場合、金属電極
面にフレキシブル保護層を設けて電極を保護すると同時
に、画素周辺部に外部の力が波及しないようにする。
２０１に圧力、引力等の機械的な力を加えて光学距離が
変化させるようにした場合である。この場合、金属電極
面にフレキシブル保護層を設けて電極を保護すると同時
に、画素周辺部に外部の力が波及しないようにする。
【００３７】図２４は図２３の具体的一例である。上記
フレキシブル保護層上に、微細な垂直磁化膜、あるいは
鉄、コバルトのような単純な磁性物質を含む磁性層を設
け、上面側、あるいは下面側、あるいは上下両面側から
外部磁界を作用させると、磁界による圧力、引力等が光
学距離可変層２０１に作用して光学距離が変化する。な
お、硝子基板１０１側から外部磁界を作用させる場合に
は、硝子基板１０１に薄いフレキシブルな材料を用い、
金属電極側に保持板を設けるようにする。本発明の共振
器素子には、様々な電極材料、発光層材料、導電性材料
を用いることができる。その場合の「共振器の長さ」の
一般的な定義には高度な概念が必要になる。用いられる
電極材料や発光層材料によっては、導電性材料界面の電
荷蓄積による位相シフト、積層膜など反射体の反射特性
に依存したシフト、また、素子の動作温度による光路変
化等、素子内で生じる現象が共振器の光学的距離に寄与
する場合がある。その場合は、共振の光学的距離として
膜厚×屈折率から得られる幾何的な光学的距離に、これ
らの全ての現象を考慮して加えることで、発光波長の整
数倍（あるいは半整数倍）の共振器であることを示すこ
とができる。仮に、全ての現象が自明でないか、また
は、解析的でない場合でも、ミラー間の膜厚を様々に変
化させた素子を作製し、共振ピークが幾何的な光学的距
離の変化に対してどう変化するかを解析すれば、その勾
配から、発光波長の整数倍（あるいは半整数倍）の共振
器からもたらされた発光であることが分かる。
フレキシブル保護層上に、微細な垂直磁化膜、あるいは
鉄、コバルトのような単純な磁性物質を含む磁性層を設
け、上面側、あるいは下面側、あるいは上下両面側から
外部磁界を作用させると、磁界による圧力、引力等が光
学距離可変層２０１に作用して光学距離が変化する。な
お、硝子基板１０１側から外部磁界を作用させる場合に
は、硝子基板１０１に薄いフレキシブルな材料を用い、
金属電極側に保持板を設けるようにする。本発明の共振
器素子には、様々な電極材料、発光層材料、導電性材料
を用いることができる。その場合の「共振器の長さ」の
一般的な定義には高度な概念が必要になる。用いられる
電極材料や発光層材料によっては、導電性材料界面の電
荷蓄積による位相シフト、積層膜など反射体の反射特性
に依存したシフト、また、素子の動作温度による光路変
化等、素子内で生じる現象が共振器の光学的距離に寄与
する場合がある。その場合は、共振の光学的距離として
膜厚×屈折率から得られる幾何的な光学的距離に、これ
らの全ての現象を考慮して加えることで、発光波長の整
数倍（あるいは半整数倍）の共振器であることを示すこ
とができる。仮に、全ての現象が自明でないか、また
は、解析的でない場合でも、ミラー間の膜厚を様々に変
化させた素子を作製し、共振ピークが幾何的な光学的距
離の変化に対してどう変化するかを解析すれば、その勾
配から、発光波長の整数倍（あるいは半整数倍）の共振
器からもたらされた発光であることが分かる。
【００３８】
【発明の効果】本発明により、電圧、及び、熱、圧力、
音波、磁場、電場、重力、電磁波等の外部信号により共
振型発光素子の出力光スペクトルを制御することのでき
る可変波長発光素子を提供することができる。 また、上
記電圧信号によりマトリックス状に配列した各画素の発
光色や強度を制御できるので、平面状のカラ−ディスプ
レイ用発光素子を提供することができる 。
音波、磁場、電場、重力、電磁波等の外部信号により共
振型発光素子の出力光スペクトルを制御することのでき
る可変波長発光素子を提供することができる。 また、上
記電圧信号によりマトリックス状に配列した各画素の発
光色や強度を制御できるので、平面状のカラ−ディスプ
レイ用発光素子を提供することができる 。
【００３９】さらに、上記マトリックス状の電極間に印
化する電圧の組み合わせを入力とし、出射光のスペクト
ル変化を出力とすることにより、光出力のディジタル論
理素子を構成することができる。さらに、外部の光信号
により共振型発光素子の出力光スペクトルを制御するこ
とにより、光−光変換素子を提供することができる。さ
らに、磁気力等の機械的力信号により共振型発光素子の
出力光スペクトルを制御することにより、力−光変換素
子を提供することができる。
化する電圧の組み合わせを入力とし、出射光のスペクト
ル変化を出力とすることにより、光出力のディジタル論
理素子を構成することができる。さらに、外部の光信号
により共振型発光素子の出力光スペクトルを制御するこ
とにより、光−光変換素子を提供することができる。さ
らに、磁気力等の機械的力信号により共振型発光素子の
出力光スペクトルを制御することにより、力−光変換素
子を提供することができる。
【図１】本発明による可変波長発光素子実施例の断面図
である。
である。
【図２】従来の発光素子の断面図である。
【図３】図２の素子の発光スペクトラム例である。
【図４】図１におけるマトリックス電極の配置例を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図５】図１における他のマトリックス電極の配置例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図６】図１における他のマトリックス電極の配置例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図７】図１における他のマトリックス電極の配置例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図８】従来の共振形発光素子の断面図である。
【図９】図８の素子の発光スペクトラム例である。
【図１０】図１の素子の発光スペクトラム例である。
【図１１】本発明による可変波長発光素子を３原色対応
のカラ−ディスプレイとして用いた場合の断面図であ
る。
のカラ−ディスプレイとして用いた場合の断面図であ
る。
【図１２】本発明による可変波長発光素子の各画素をそ
れぞれフルカラ−発色化した場合の断面図である。
れぞれフルカラ−発色化した場合の断面図である。
【図１３】本発明による可変波長発光素子の各画素に２
分したフルカラ−波長範囲を割り当てた場合の断面図で
ある。
分したフルカラ−波長範囲を割り当てた場合の断面図で
ある。
【図１４】本発明による可変波長発光素子を光スイッチ
をして用いた場合の断面図である。
をして用いた場合の断面図である。
【図１５】本発明による可変波長発光素子の光学距離可
変層に非固体材を用いた断面図である。
変層に非固体材を用いた断面図である。
【図１６】図１の光学距離可変層材に青色発光材を加え
て全可視域発光化した場合の発光スペクトラム例であ
る。
て全可視域発光化した場合の発光スペクトラム例であ
る。
【図１７】図１６におけるＡＬＱ添加量対青発光ピーク
相対強度比特性図である。
相対強度比特性図である。
【図１８】図１の素子にブラックマスクとカラ−フィル
タよりなる視認性向上用フィルターを付けた場合の断面
図である。
タよりなる視認性向上用フィルターを付けた場合の断面
図である。
【図１９】図１の素子にブラックマスクとカラ−フィル
タよりなる視認性向上用フィルターを付けた場合の断面
図である。
タよりなる視認性向上用フィルターを付けた場合の断面
図である。
【図２０】本発明による外部からの信号光により出力光
を制御する可変波長発光素子実施例の断面図である。
を制御する可変波長発光素子実施例の断面図である。
【図２１】図２０における出力光スペクトル制御特性図
である。
である。
【図２２】図２０における出力光強度制御特性図であ
る。
る。
【図２３】本発明による外部からの力信号により出力光
を制御する可変波長発光素子実施例の断面図である。
を制御する可変波長発光素子実施例の断面図である。
【図２４】図２３における外部からの力信号に磁気力を
用いた可変波長発光素子実施例の断面図である。
用いた可変波長発光素子実施例の断面図である。
１０１…硝子基板、１０２…半透明反射膜、１０３…透
明導電膜、１０４…ホール注入層，１０５…発光層，１
０６…金属電極、１１０…レンズ、１１２…プリズム、
１１３…光ディテクタ、１１５…ブラックマスク、１１
６…カラ−フィルタ、２０１…光学距離可変層、
明導電膜、１０４…ホール注入層，１０５…発光層，１
０６…金属電極、１１０…レンズ、１１２…プリズム、
１１３…光ディテクタ、１１５…ブラックマスク、１１
６…カラ−フィルタ、２０１…光学距離可変層、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05B 33/00 - 33/28 H01L 33/00
Claims (18)
- 【請求項１】 発光層の上面側と下面側に光反射層を設
けてこの二つの反射層により発光層の光を共振せしめる
ようにした発光素子において、上記下の二つの反射層間
の光学的距離を外部信号により制御する手段を設けて、
出力光の発光スペクトルを上記外部信号により制御する
可変波長発光素子であって、 透 明基板上に前記反射層の一方である透明反射膜と、第
１の透明導電膜、光学距離可変層、第２の透明導電膜、
有機薄膜発光層、前記反射層の他方である金属電極を順
次積層し、前記第１と第２の透明導電膜間に前記外部信
号を印加して光学距離可変層の光学的距離を制御するよ
うにしたことを特徴とする可変波長発光素子。 - 【請求項２】 前記光学距離可変層を電圧により屈折率
または厚みが変化する物質により構成した請求項１に記
載の可変波長発光素子。 - 【請求項３】 前記光学距離可変層をポリマー分散型液
晶により構成した請求項２に記載の可変波長発光素子。 - 【請求項４】 前記光学距離可変層を熱、圧力、音波、
磁場、電場、重力、電磁波等の外部信号に応じて膜厚変
化を生じる物質により構成した請求項１に記載の可変波
長発光素子。 - 【請求項５】 前記透明基板および／または金属電極面
上にフレキシブルな保護層を設け、前記透明基板および
／または金属電極面上に印加される機械的外力に応じて
前記光学距離可変層の膜厚が変化するよう構成した請求
項４に記載の可変波長発光素子。 - 【請求項６】 前記透明基板および／または金属電極面
上に設けたフレキシブルな保護層の少なくとも一方に帯
磁した磁性層を設け、外部磁場の印加により前記光学距
離可変層の膜厚が変化するよう構成した請求項５に記載
の可変波長発光素子。 - 【請求項７】 前記光学距離可変層を光照射により膜厚
変化を生じる物質により構成した請求項１に記載の可変
波長発光素子。 - 【請求項８】 前記第１の透明導電膜を省略した請求項
４〜７のいずれかに記載の可変波長発光素子。 - 【請求項９】 前記有機薄膜発光層を青色領域に発光ピ
ークを有する発光材料にアルミキレートを添加した発光
材により構成した請求項１，２または３に記載の可変波
長発光素子。 - 【請求項１０】 前記有機薄膜発光層を４００〜４８０
ｎｍに発光ピークを有する発光材料にアルミキレートを
添加した発光材により構成した請求項１，２または３に
記載の可変波長発光素子。 - 【請求項１１】 前記アルミキレートの添加量を１〜２
０％とした請求項９または１０に記載の可変波長発光素
子。 - 【請求項１２】 前記第１と第２の透明導電膜、およ
び、金属電極のそれぞれが相互に交差するストライプ形
状とし、概ストライプ形状の交差部を画素とした請求項
１〜１１のいずれかに記載の可変波長発光素子。 - 【請求項１３】 前記第１と第２の透明導電膜を相互に
平行するストライプ形状とし、さらに、金属電極を前記
第１、第２の透明導電膜に対して交差するストライプ形
状とした請求項１〜１１のいずれかに記載の可変波長発
光素子。 - 【請求項１４】 前記第１の透明導電膜のストライプ幅
を第２の透明導電膜のストライプ幅内に２本以上納まる
ように狭くした請求項１２または１３に記載の可変波長
発光素子。 - 【請求項１５】 請求項１〜１４のいずれかに記載の可
変波長発光素子の光出射面側に、カラーフィルター、お
よび／または、ブラックマスクを設け、外部光の表面反
射を低減するようにしたことを特徴とする可変波長発光
素子。 - 【請求項１６】 請求項１〜１４のいずれかに記載の可
変波長発光素子の制御方法において、第１と第２の透明
導電膜間に赤、緑、青の発光成分を通過させる電圧を切
り替えて印加するようにしたことを特徴とする可変波長
発光素子の制御方法。 - 【請求項１７】 請求項１〜１４のいずれかに記載の可
変波長発光素子の制御方法において、第１と第２の透明
導電膜間に赤、緑、青の発光成分を通過させる電圧を順
次印加するようにしたことを特徴とする可変波長発光素
子の制御方法。 - 【請求項１８】 請求項１〜１４のいずれかに記載の可
変波長発光素子の制御方法において、第１と第２の透明
導電膜を画面内で２分し、その一方には記載の可変波長
発光素子の可視波長領域の上半分または下半分を通過さ
せる電圧を印加し、他方には可視波長領域の下半分また
は上半分を通過させる電圧を印加するようにしたことを
特徴とする可変波長発光素子の制御方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28475893A JP3276745B2 (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 可変波長発光素子とその制御方法 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JPH07142171A JPH07142171A (ja) | 1995-06-02 |
| JP3276745B2 true JP3276745B2 (ja) | 2002-04-22 |
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ID=17682631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28475893A Expired - Lifetime JP3276745B2 (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 可変波長発光素子とその制御方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5559400A (ja) |
| EP (1) | EP0653902B1 (ja) |
| JP (1) | JP3276745B2 (ja) |
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