JP3260140B2 - 重合体状材料からなる支持体に接着させる酸化珪素の薄層を沈着させる方法 - Google Patents
重合体状材料からなる支持体に接着させる酸化珪素の薄層を沈着させる方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は重合体状材料からなる支持体に接着させる酸
化珪素の薄層を沈着させる（deposit）方法に関する。
化珪素の薄層を沈着させる（deposit）方法に関する。
現在、ポリオレフィンのごとき合成又は天然重合体材
料は種々の工業において使用されている。しかしなが
ら、これらの材料は接着性と湿潤性に欠けておりまたガ
スに対する高い透過性を有するため、その利用分野が制
限されている。
料は種々の工業において使用されている。しかしなが
ら、これらの材料は接着性と湿潤性に欠けておりまたガ
スに対する高い透過性を有するため、その利用分野が制
限されている。
重合体状材料、特にポリオレフィンのごとき可塑性材
料（plastic material）のこれらの欠点を排除するため
に種々の処理が提案されている。例えば、ポリオレフィ
ンフィルムを液相［スルホクロム（sulfo−chromic）］
中でプラズマで処理する（コロナ放電）か又は火焔で処
理することにより、その接着性と湿潤性とを改善するこ
と及びガス相中でのプラズマの下での沈着又は陰極粉砕
（cathodic pulverization）による沈着により、かかる
フィルム上にSiO2の沈着物を形成させることにより該フ
ィルムのガスに対する透過性を改善することが提案され
ている。
料（plastic material）のこれらの欠点を排除するため
に種々の処理が提案されている。例えば、ポリオレフィ
ンフィルムを液相［スルホクロム（sulfo−chromic）］
中でプラズマで処理する（コロナ放電）か又は火焔で処
理することにより、その接着性と湿潤性とを改善するこ
と及びガス相中でのプラズマの下での沈着又は陰極粉砕
（cathodic pulverization）による沈着により、かかる
フィルム上にSiO2の沈着物を形成させることにより該フ
ィルムのガスに対する透過性を改善することが提案され
ている。
しかしながら、提案されているこれらの処理方法は十
分に満足し得るものではなく、解決されるべき種々の重
大の問題、即ち、汚染物質（polluting agent）の生
成、液相中での処理により生ずる遅い処理速度、火焔又
はプラズマを使用する方法における均一性と選択性の欠
如、又、ガス相中でプラズマの下で又は陰極粉砕により
沈着物を形成させるための真空下での操作の必要性とい
う問題が残されている。
分に満足し得るものではなく、解決されるべき種々の重
大の問題、即ち、汚染物質（polluting agent）の生
成、液相中での処理により生ずる遅い処理速度、火焔又
はプラズマを使用する方法における均一性と選択性の欠
如、又、ガス相中でプラズマの下で又は陰極粉砕により
沈着物を形成させるための真空下での操作の必要性とい
う問題が残されている。
従って、重合体からなる支持体を処理する方法であっ
て、汚染物質を生成せず、支持体を製造するためのプラ
ントに従って10,000Paより高い圧力下で行うことができ
そして支持体の接着特性とガスに対する透過性を改善し
得る方法が要求されていた。
て、汚染物質を生成せず、支持体を製造するためのプラ
ントに従って10,000Paより高い圧力下で行うことができ
そして支持体の接着特性とガスに対する透過性を改善し
得る方法が要求されていた。
本発明の目的はプラスチック、特に、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン又はその共重合体のごとき重合体材料
からなる支持体に接着させる酸化珪素の薄層の沈着方法
を提供することにある。
ン、ポリエチレン又はその共重合体のごとき重合体材料
からなる支持体に接着させる酸化珪素の薄層の沈着方法
を提供することにある。
本発明は、特に、（１）重合体材料からなる支持体の
表面を10,000Paより高い圧力下で誘電バリアーを使用す
る放電（electrical discharge with dielectric barri
er）により処理すること及び（２）上記支持体表面を1
0,000Paより高い圧力下でかつ酸素又は酸素含有ガスの
存在下でシランを含有する雰囲気に暴露することを同時
的に又は連続的に行い、かくして、前記支持体表面に接
着した酸化珪素の薄膜の沈着物を形成させることを特徴
とする、重合体材料からなる支持体に接着させる酸化珪
素の薄膜の沈着方法に関する。
表面を10,000Paより高い圧力下で誘電バリアーを使用す
る放電（electrical discharge with dielectric barri
er）により処理すること及び（２）上記支持体表面を1
0,000Paより高い圧力下でかつ酸素又は酸素含有ガスの
存在下でシランを含有する雰囲気に暴露することを同時
的に又は連続的に行い、かくして、前記支持体表面に接
着した酸化珪素の薄膜の沈着物を形成させることを特徴
とする、重合体材料からなる支持体に接着させる酸化珪
素の薄膜の沈着方法に関する。
本発明はある種の理論によって限定されるものではな
いが、誘電バリアーを使用する放電に暴露された支持体
上への酸化珪素の沈着物の形成は次のごとく説明し得
る：誘電バリアーを使用する放電により、放電に暴露さ
れる支持体の表面上で、電子の衝撃、励起された又は帯
電した種（species）及び／又はラジカルの衝撃が生
じ、この衝撃によって重合体の表面上にフリーラジカル
を生じる部位が形成され、ついで空気、酸素又は、場合
により、酸素を含有する他のガスに暴露される際に、上
記の部位とシランとが反応して最終的に酸化珪素が形成
される。本発明の範囲内において、用語シランは、使用
される圧力及び温度条件下でガス状でありかつ少なくと
も１個の珪素を含有する化合物を意味する。従って、本
発明によるシランは水素化珪素自体、SiCl4、SiH2Cl2、
SiH3Cl,SiHCl3のごときハロゲン化水素化珪素、テトラ
エトキシシランのごときアルコキシシラン又はオルガノ
シロキサンからなり得る。
いが、誘電バリアーを使用する放電に暴露された支持体
上への酸化珪素の沈着物の形成は次のごとく説明し得
る：誘電バリアーを使用する放電により、放電に暴露さ
れる支持体の表面上で、電子の衝撃、励起された又は帯
電した種（species）及び／又はラジカルの衝撃が生
じ、この衝撃によって重合体の表面上にフリーラジカル
を生じる部位が形成され、ついで空気、酸素又は、場合
により、酸素を含有する他のガスに暴露される際に、上
記の部位とシランとが反応して最終的に酸化珪素が形成
される。本発明の範囲内において、用語シランは、使用
される圧力及び温度条件下でガス状でありかつ少なくと
も１個の珪素を含有する化合物を意味する。従って、本
発明によるシランは水素化珪素自体、SiCl4、SiH2Cl2、
SiH3Cl,SiHCl3のごときハロゲン化水素化珪素、テトラ
エトキシシランのごときアルコキシシラン又はオルガノ
シロキサンからなり得る。
“酸化珪素の沈着物”（deposit of silicon oxide）
という用語は、準化学量論的な（sub−steochiometri
c）量の酸素を含有する酸化珪素も含有し得る、珪素の
二酸化物の沈着物を意味する。
という用語は、準化学量論的な（sub−steochiometri
c）量の酸素を含有する酸化珪素も含有し得る、珪素の
二酸化物の沈着物を意味する。
現時点では、SiH4又はSi2H6のごとき水素化珪素が好
ましい。SiH4が特に好ましい。
ましい。SiH4が特に好ましい。
誘電バリアーを使用する放電によって処理された支持
体の、シランを含有する雰囲気への暴露は、誘電バリア
ーを使用する放電による処理と同時的に行い得る；この
場合には、誘電バリアーを使用する放電による処理が行
われる帯域に、シランを含有する雰囲気を供給しそして
誘電バリアーを使用する放電により処理された支持体表
面とシランを含有する雰囲気とを、誘電バリアーを使用
する放電による処理が行われる帯域のつぎの帯域で接触
させる。
体の、シランを含有する雰囲気への暴露は、誘電バリア
ーを使用する放電による処理と同時的に行い得る；この
場合には、誘電バリアーを使用する放電による処理が行
われる帯域に、シランを含有する雰囲気を供給しそして
誘電バリアーを使用する放電により処理された支持体表
面とシランを含有する雰囲気とを、誘電バリアーを使用
する放電による処理が行われる帯域のつぎの帯域で接触
させる。
誘電バリアーを使用する放電による処理は、少なくと
も一方の電極がガラス、アルミナ又はシリカのごとく誘
電体で被覆されている２個の電極の間で放電を行わせる
ことからなる。かかる処理自体は慣用的なものであり、
公知のものである。この放電は例えば発光放電又は“サ
イレント（silent）グローブ放電”又は好ましくはコロ
ナ放電であり得る。
も一方の電極がガラス、アルミナ又はシリカのごとく誘
電体で被覆されている２個の電極の間で放電を行わせる
ことからなる。かかる処理自体は慣用的なものであり、
公知のものである。この放電は例えば発光放電又は“サ
イレント（silent）グローブ放電”又は好ましくはコロ
ナ放電であり得る。
コロナ放電による処理も、それ自体周知の、慣用的な
処理である；例えば、1983年６月発行、“Plastics Sou
thern Africa"、第50頁以下に掲載のE.Prinzの報文“Th
e flexible adaptation of the effective contact sur
face"及び1977年５月発行、“Plastiques Moderns et E
lastomers"、第54−56頁に掲載のG.Tuffinの報文“Trea
tment by corona effect,technical consderations of
the equipment"、参照；これらには使用するべき材料と
操作条件についての指針が与えられている。誘電バリア
ーを使用する放電による処理、特に、コロナ放電による
処理は、これをシランに対する暴露と同時的に行わない
場合には、空気、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム又は
これらの混合物中で行い得る。酸化珪素の沈着を生じる
シランによる処理を同時的に行う場合には、処理はシラ
ンを含有する実質的に中性の雰囲気中で、誘電バリアー
を使用する放電により行い得る。シランを含有する中性
雰囲気においては、安全性のために、シランを窒素、ア
ルゴン又はその混合物で稀釈し得る。例えば、好ましく
は0.01−５容量％のシランを含有する窒素、アルゴン及
びシランの混合物を使用し得る。シランに対する暴露を
誘電バリアーを使用する放電による処理の後に行う場合
には、処理された支持体をシランを含有する雰囲気と接
触させる；この場合、シランはアルゴンのごとき不活性
ガスで稀釈することができそしてシランの濃度は前記と
同様、0.01〜５容量％であることが好ましい。ある条件
下、例えば、シラン濃度が約２％以下の場合には、シラ
ンに対する暴露が誘電バリアーを使用する放電による処
理と同時的に行われるか否かに拘りなしに、シランを含
有する雰囲気中に若干の空気が存在することが許容さ
れ、不利益を生じることはない。
処理である；例えば、1983年６月発行、“Plastics Sou
thern Africa"、第50頁以下に掲載のE.Prinzの報文“Th
e flexible adaptation of the effective contact sur
face"及び1977年５月発行、“Plastiques Moderns et E
lastomers"、第54−56頁に掲載のG.Tuffinの報文“Trea
tment by corona effect,technical consderations of
the equipment"、参照；これらには使用するべき材料と
操作条件についての指針が与えられている。誘電バリア
ーを使用する放電による処理、特に、コロナ放電による
処理は、これをシランに対する暴露と同時的に行わない
場合には、空気、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム又は
これらの混合物中で行い得る。酸化珪素の沈着を生じる
シランによる処理を同時的に行う場合には、処理はシラ
ンを含有する実質的に中性の雰囲気中で、誘電バリアー
を使用する放電により行い得る。シランを含有する中性
雰囲気においては、安全性のために、シランを窒素、ア
ルゴン又はその混合物で稀釈し得る。例えば、好ましく
は0.01−５容量％のシランを含有する窒素、アルゴン及
びシランの混合物を使用し得る。シランに対する暴露を
誘電バリアーを使用する放電による処理の後に行う場合
には、処理された支持体をシランを含有する雰囲気と接
触させる；この場合、シランはアルゴンのごとき不活性
ガスで稀釈することができそしてシランの濃度は前記と
同様、0.01〜５容量％であることが好ましい。ある条件
下、例えば、シラン濃度が約２％以下の場合には、シラ
ンに対する暴露が誘電バリアーを使用する放電による処
理と同時的に行われるか否かに拘りなしに、シランを含
有する雰囲気中に若干の空気が存在することが許容さ
れ、不利益を生じることはない。
誘電バリアーを使用する放電は50,000〜120,000Paの
圧力下、好ましくは、大気圧下で行い得る；温度は、通
常、室温〜処理される支持体の融点の間である。支持体
の、シランを含有する雰囲気への暴露が誘電バリアーを
使用する放電の後に行われる場合には、この雰囲気の圧
力も50,000〜120,000Paであり、大気圧に実質的に等し
いことが好ましい；この雰囲気の温度も室温〜処理され
る支持体の融点の間であり得る。
圧力下、好ましくは、大気圧下で行い得る；温度は、通
常、室温〜処理される支持体の融点の間である。支持体
の、シランを含有する雰囲気への暴露が誘電バリアーを
使用する放電の後に行われる場合には、この雰囲気の圧
力も50,000〜120,000Paであり、大気圧に実質的に等し
いことが好ましい；この雰囲気の温度も室温〜処理され
る支持体の融点の間であり得る。
コロナ放電により処理された支持体とシランを含有す
る雰囲気との接触時間は臨界的ではなく、例えば、酸化
珪素の沈着物の所望の厚さに応じて選択し得る。例え
ば、接触時間は10-3秒〜１分又はそれ以上であり得る。
る雰囲気との接触時間は臨界的ではなく、例えば、酸化
珪素の沈着物の所望の厚さに応じて選択し得る。例え
ば、接触時間は10-3秒〜１分又はそれ以上であり得る。
本発明の方法は重合体状材料からなる支持体を製造す
るための装置（例えば、押出又は押出−吹込装置）にお
いて行うか、又は、処理前に製造され、貯蔵されていた
支持体について行い得る。支持体は例えばシート、フィ
ルム又は成形品であり得る。支持体の厚さは通常、臨界
的でなく、例えば、５μｍ〜2cm、特に、10〜200μｍで
あり得る。
るための装置（例えば、押出又は押出−吹込装置）にお
いて行うか、又は、処理前に製造され、貯蔵されていた
支持体について行い得る。支持体は例えばシート、フィ
ルム又は成形品であり得る。支持体の厚さは通常、臨界
的でなく、例えば、５μｍ〜2cm、特に、10〜200μｍで
あり得る。
本発明の方法は合成又は天然重合体状材料からなる支
持体を処理するのに有用である。天然重合体状材料の例
としてはセルロースが挙げられる。この場合、処理され
る支持体は紙又は厚紙であり得る。しかしながら、本発
明においては、合成重合体状材料からなる支持体、特
に、可塑性材料（プラスチック材料）からなる支持体が
好ましい。可塑性材料からなる支持体の中でより有利な
ものは、熱可塑性材料、例えば、ポリエチレン又はポリ
プロピレンのごときポリオレフィン、又は、ポリスチレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩
化ビニル又はポリカーボネートからなるものである。ポ
リオレフィンからなる支持体は本発明において特に好ま
しい。
持体を処理するのに有用である。天然重合体状材料の例
としてはセルロースが挙げられる。この場合、処理され
る支持体は紙又は厚紙であり得る。しかしながら、本発
明においては、合成重合体状材料からなる支持体、特
に、可塑性材料（プラスチック材料）からなる支持体が
好ましい。可塑性材料からなる支持体の中でより有利な
ものは、熱可塑性材料、例えば、ポリエチレン又はポリ
プロピレンのごときポリオレフィン、又は、ポリスチレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩
化ビニル又はポリカーボネートからなるものである。ポ
リオレフィンからなる支持体は本発明において特に好ま
しい。
本発明の方法によって処理されたフィルムの電子分光
分析法（electronic spectroscopy）による分析によ
り、フィルム上に薄い、酸化珪素を主体とする被膜が存
在することが示された。
分析法（electronic spectroscopy）による分析によ
り、フィルム上に薄い、酸化珪素を主体とする被膜が存
在することが示された。
本発明の方法によって処理されたフィルムの表面に存
在する変化は水滴試験法（water drop method）によっ
ても示される。この周知の試験法は、試験されるべきフ
ィルムの表面に水滴（又は他の液滴）を置きついで水滴
がフィルム表面に対して形成する角度を測定することか
らなる。この試験法は本発明によって処理されたフィル
ムでは、処理していないフィルムについて測定された角
度又はコロナ放電による処理だけを行ったフィルムにつ
いて測定された角度より小さい角度の測定値が得られ、
従って、本発明の方法によって処理されたフィルムは改
善された湿潤性を有することを示した。
在する変化は水滴試験法（water drop method）によっ
ても示される。この周知の試験法は、試験されるべきフ
ィルムの表面に水滴（又は他の液滴）を置きついで水滴
がフィルム表面に対して形成する角度を測定することか
らなる。この試験法は本発明によって処理されたフィル
ムでは、処理していないフィルムについて測定された角
度又はコロナ放電による処理だけを行ったフィルムにつ
いて測定された角度より小さい角度の測定値が得られ、
従って、本発明の方法によって処理されたフィルムは改
善された湿潤性を有することを示した。
接着性及びガスに対する透過性についての予備試験
も、本発明の方法によって処理されたフィルムは非処理
対照フィルムと比較して、接着性及びガスに対する透過
性が改善されていることを示した。
も、本発明の方法によって処理されたフィルムは非処理
対照フィルムと比較して、接着性及びガスに対する透過
性が改善されていることを示した。
本発明を例示するために、実施例を以下に示す。
実施例 幅30mm、厚さ1mmのポリプロピレンテープをコロナ放
電処理用装置により処理した；この処理は上記のテープ
を20kHzの最小周波数の下で20kVの最大電圧を印加する
ことのできる上記装置の電極の間を70cm/分の速度で連
続的に通過させることにより行った。電極はナイフ（か
みそり）の形の上部電極とシリンダーの形の下部電極と
からなり、上記テープを電極の間を通過する際に下部電
極上を移動させた；電極の間隙は約2mmであった。本発
明の方法を使用するために、テープの上方にこのテープ
に可能な限り接近させて２個の囲い（enclosure）を設
けた；第１の囲いはナイフ形電極を包囲し、第２の囲い
は第１の囲いの直ぐ後に設けた。第１の囲いは空気を充
満させておくか又は窒素流でフラッシュする（この場合
には、第１の囲いの内側の雰囲気は窒素と少量の残留空
気とからなる）か、又は、窒素とSiH4との混合物（SiH4
はアルゴンにより１容量％の濃度に稀釈されている）で
フラッシュすることができ（この場合には、第１の囲い
の内側の雰囲気は窒素、アルゴン、SiH4及び残留空気か
らなり、１容量％以下のSiH4を含有している）、これら
の雰囲気の任意の一つ中でコロナ放電による処理を行い
得る；一方、第２の囲いは、第１の囲いの雰囲気が窒
素、アルゴン、SiH4及び残留空気からなる場合には、空
気を充満させておくことができる；また、第２の囲い
は、第１の囲いが空気又は窒素で充満されている場合に
は、１容量％のSiH4を含有するアルゴンとSiH4の混合物
でフラッシュすることができる（この場合には、第２の
囲いの内側の雰囲気はアルゴン、SiH4及び残留空気から
なり、１容量％以下のSiH4を含有している）。第１の囲
いの長さは電極を覆いかつ電極と雰囲気中に入るテープ
の出口との間の距離と約2cmとするのに十分な長さであ
った。第２の囲いの長さは、コロナ放電によって予備処
理されたテープと、アルゴン、SiH4及び空気からなる雰
囲気との接触時間が20秒程度になるような長さであっ
た。
電処理用装置により処理した；この処理は上記のテープ
を20kHzの最小周波数の下で20kVの最大電圧を印加する
ことのできる上記装置の電極の間を70cm/分の速度で連
続的に通過させることにより行った。電極はナイフ（か
みそり）の形の上部電極とシリンダーの形の下部電極と
からなり、上記テープを電極の間を通過する際に下部電
極上を移動させた；電極の間隙は約2mmであった。本発
明の方法を使用するために、テープの上方にこのテープ
に可能な限り接近させて２個の囲い（enclosure）を設
けた；第１の囲いはナイフ形電極を包囲し、第２の囲い
は第１の囲いの直ぐ後に設けた。第１の囲いは空気を充
満させておくか又は窒素流でフラッシュする（この場合
には、第１の囲いの内側の雰囲気は窒素と少量の残留空
気とからなる）か、又は、窒素とSiH4との混合物（SiH4
はアルゴンにより１容量％の濃度に稀釈されている）で
フラッシュすることができ（この場合には、第１の囲い
の内側の雰囲気は窒素、アルゴン、SiH4及び残留空気か
らなり、１容量％以下のSiH4を含有している）、これら
の雰囲気の任意の一つ中でコロナ放電による処理を行い
得る；一方、第２の囲いは、第１の囲いの雰囲気が窒
素、アルゴン、SiH4及び残留空気からなる場合には、空
気を充満させておくことができる；また、第２の囲い
は、第１の囲いが空気又は窒素で充満されている場合に
は、１容量％のSiH4を含有するアルゴンとSiH4の混合物
でフラッシュすることができる（この場合には、第２の
囲いの内側の雰囲気はアルゴン、SiH4及び残留空気から
なり、１容量％以下のSiH4を含有している）。第１の囲
いの長さは電極を覆いかつ電極と雰囲気中に入るテープ
の出口との間の距離と約2cmとするのに十分な長さであ
った。第２の囲いの長さは、コロナ放電によって予備処
理されたテープと、アルゴン、SiH4及び空気からなる雰
囲気との接触時間が20秒程度になるような長さであっ
た。
本発明に従って処理したテープと、処理を行わなかっ
たテープ又はコロナ放電による処理だけを行ったテープ
とについて、水滴試験法に従って行った試験の試験条件
と試験結果を次の表に示す。種々のテープについて行っ
た後洗浄（post−washing）の効果も示した。
たテープ又はコロナ放電による処理だけを行ったテープ
とについて、水滴試験法に従って行った試験の試験条件
と試験結果を次の表に示す。種々のテープについて行っ
た後洗浄（post−washing）の効果も示した。
表に示す結果から、湿潤性の改善については、コロナ
放電による処理とシランへの暴露とを同時的に行った場
合に最良の結果が得られること及びこの湿潤性について
の結果は電極に印加される電圧が高いほど、改善される
ことが判る。しかしながら、電圧の増大は、破壊現象が
生起し得ることにより制限されることに注意すべきであ
る。
放電による処理とシランへの暴露とを同時的に行った場
合に最良の結果が得られること及びこの湿潤性について
の結果は電極に印加される電圧が高いほど、改善される
ことが判る。しかしながら、電圧の増大は、破壊現象が
生起し得ることにより制限されることに注意すべきであ
る。
更に、コロナ放電による処理だけを行ったテープ又は
本発明に従って処理を行ったテープにおいては、後洗浄
を行うことにより、水滴と処理された材料の表面との間
に形成される角度が増大するのに対し、処理を行わなか
った材料においては、この角度は減少することも判る。
現在においては、この挙動の差異を説明することはでき
ない。コロナ放電による処理だけを行った材料は、本発
明に従って処理された材料と同一の挙動を示すので、後
洗浄によって生ずる角度の増大現象の原因は、沈着した
酸化珪素の部分的な除去だけによって説明することはで
きず、処理の経時変化による影響によるものであり得る
ことも注目すべきである。
本発明に従って処理を行ったテープにおいては、後洗浄
を行うことにより、水滴と処理された材料の表面との間
に形成される角度が増大するのに対し、処理を行わなか
った材料においては、この角度は減少することも判る。
現在においては、この挙動の差異を説明することはでき
ない。コロナ放電による処理だけを行った材料は、本発
明に従って処理された材料と同一の挙動を示すので、後
洗浄によって生ずる角度の増大現象の原因は、沈着した
酸化珪素の部分的な除去だけによって説明することはで
きず、処理の経時変化による影響によるものであり得る
ことも注目すべきである。
本発明の方法によって得られる支持体は種々の分野に
おいてその用途を見出だし得る；例えば、金属化する
（metallize）か、塗装するか、印刷するか又は予備処
理し得る支持体として、遮断性が要求される食品の包装
において、アルミニウム化された（aluminized）フィル
ム又は多層フィルムの代替物として使用し得る。
おいてその用途を見出だし得る；例えば、金属化する
（metallize）か、塗装するか、印刷するか又は予備処
理し得る支持体として、遮断性が要求される食品の包装
において、アルミニウム化された（aluminized）フィル
ム又は多層フィルムの代替物として使用し得る。
上記した具体例は実施例に過ぎず、これらは、例え
ば、技術的に均等に置換を行うことにより本発明は逸脱
することなしに変更し得ることは勿論である。
ば、技術的に均等に置換を行うことにより本発明は逸脱
することなしに変更し得ることは勿論である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ボアール，パスカル フランス国．エフ―91210・ドラヴエイ ル，アレー・デ・パストーロー．７ (72)発明者 ウイルモー，アントワーヌ フランス国．エフ―92300・ソー．アブ ニユ・デユ・プレジダン・ルーズベル ト．４ (56)参考文献 特開 平４−230951（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−138242（ＪＰ，Ａ) 特表 平２−501490（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08J 7/00 - 7/18
Claims (15)
- 【請求項１】（１）重合体材料からなる支持体の表面を
10,000Paより高い圧力下で誘電バリアーを使用する放電
により処理すること及び（２）上記支持体表面を10,000
Paより高い圧力下でかつ酸素又は酸素含有ガスの存在下
でシランを含有する雰囲気に暴露することを同時的に又
は連続的に行い、かくして、前記支持体表面に接着した
酸化珪素の薄膜の沈着物を形成させることを特徴とす
る、重合体材料からなる支持体に接着させる酸化珪素の
薄膜の沈着方法。 - 【請求項２】誘電バリアーを使用する放電処理は50,000
〜120,000Paの圧力下、好ましくは、大気圧下で行われ
る、請求の範囲１に記載の方法。 - 【請求項３】放電はコロナ放電である、請求の範囲１又
は２に記載の方法。 - 【請求項４】操作（１）と（２）を同時的に行う、請求
の範囲１〜３のいずれかに記載の方法。 - 【請求項５】操作（１）と（２）は、誘電バリアーを使
用する放電処理が行われる帯域にシランを含有する雰囲
気を供給することによって行われる、請求の範囲４に記
載の方法。 - 【請求項６】操作（１）と（２）を連続的に行う、請求
の範囲１〜３のいずれかに記載の方法。 - 【請求項７】操作（１）を空気中又は不活性ガス中で行
い、操作（２）を、操作（１）の処理にかけた支持体を
シランを含有するかつ誘電バリアーを使用する放電処理
が行われる帯域の後の帯域に存在する雰囲気に暴露する
ことによって行う、請求の範囲６に記載の方法。 - 【請求項８】シランを含有する雰囲気は0.01〜５容量％
のシランを含有する、請求の範囲１〜７のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項９】シランは水素化珪素、ハロゲン化シラン、
テトラエトキシシランのごときアルコキシシラン又はオ
ルガノシロキサンである、請求の範囲１〜８のいずれか
に記載の方法。 - 【請求項１０】シランはSiH4である、請求の範囲９に記
載の方法。 - 【請求項１１】シランを含有する雰囲気は、窒素、アル
ゴン、ヘリウム又はこれらの混合物から選ばれた不活性
ガスを更に含有する、請求の範囲１〜10のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項１２】重合体材料はセルロースのごとき天然材
料であるか又はプラスチック材料のごとき合成材料であ
る、請求の範囲１〜11のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１３】支持体はプラスチック材料からなる支持
体、即ち、ポリオレフィン、ポリエチレエンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル又はポリカーボネー
トからなる支持体である、請求の範囲12に記載の方法。 - 【請求項１４】支持体はポリオレフィンからなる、請求
の範囲13に記載の方法。 - 【請求項１５】支持体はシート又はフィルムである、請
求の範囲１〜14のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR90/15757 | 1990-12-17 | ||
| FR9015757A FR2670506B1 (fr) | 1990-12-17 | 1990-12-17 | Procede de depot d'une couche d'oxyde de silicium liee a un substrat en polyolefine. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05504991A JPH05504991A (ja) | 1993-07-29 |
| JP3260140B2 true JP3260140B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=9403303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50252392A Expired - Lifetime JP3260140B2 (ja) | 1990-12-17 | 1991-12-17 | 重合体状材料からなる支持体に接着させる酸化珪素の薄層を沈着させる方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0516804B1 (ja) |
| JP (1) | JP3260140B2 (ja) |
| AT (1) | ATE133437T1 (ja) |
| CA (1) | CA2076029C (ja) |
| DE (1) | DE69116683T2 (ja) |
| DK (1) | DK0516804T3 (ja) |
| ES (1) | ES2083154T3 (ja) |
| FR (1) | FR2670506B1 (ja) |
| WO (1) | WO1992011312A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP3471356B2 (ja) * | 1992-11-13 | 2003-12-02 | エナージー・コンバーション・デバイセス・インコーポレーテッド | 薄膜蒸着用マイクロ波装置 |
| JPH06330326A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-11-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリカ薄膜の製造方法 |
| FR2704558B1 (fr) * | 1993-04-29 | 1995-06-23 | Air Liquide | Procede et dispositif pour creer un depot d'oxyde de silicium sur un substrat solide en defilement. |
| US5364666A (en) * | 1993-09-23 | 1994-11-15 | Becton, Dickinson And Company | Process for barrier coating of plastic objects |
| DE4438992C2 (de) * | 1994-10-31 | 1997-04-10 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbringung von antistatischen transparenten Oberflächenbeschichtungen auf elektrisch isolierende Gegenstände |
| FR2751664B1 (fr) * | 1996-07-23 | 1998-09-04 | Air Liquide | Procede et dispositif de commande du fonctionnement d'un systeme de traitement de surface d'un substrat solide en defilement |
| FR2751665B1 (fr) * | 1996-07-23 | 1998-09-04 | Air Liquide | Procede et dispositif de commande du fonctionnement d'un systeme de traitement de surface |
| US5900317A (en) * | 1996-09-13 | 1999-05-04 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Flame-treating process |
| EP1125972A1 (fr) | 2000-02-11 | 2001-08-22 | L'air Liquide Société Anonyme pour l'étude et l'exploitation des procédés Georges Claude | Procédé de traitement de surface de subtrats polymères |
| WO2006133730A1 (en) | 2005-06-16 | 2006-12-21 | Innovative Systems & Technologies | Method for producing coated polymer |
| US20080115444A1 (en) | 2006-09-01 | 2008-05-22 | Kalkanoglu Husnu M | Roofing shingles with enhanced granule adhesion and method for producing same |
| FR2908137A1 (fr) | 2006-11-02 | 2008-05-09 | Lapeyre Sa | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
| US8349435B2 (en) | 2007-04-04 | 2013-01-08 | Certainteed Corporation | Mineral surfaced asphalt-based roofing products with encapsulated healing agents and methods of producing the same |
| US20090115060A1 (en) | 2007-11-01 | 2009-05-07 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit device and method |
| US10730799B2 (en) | 2016-12-31 | 2020-08-04 | Certainteed Corporation | Solar reflective composite granules and method of making solar reflective composite granules |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1188642A (en) * | 1966-02-09 | 1970-04-22 | Courtaulds Ltd | Modified Polyolefin Articles |
| US3440959A (en) * | 1966-02-18 | 1969-04-29 | Hercules Inc | Coated polymer |
| US4328646A (en) * | 1978-11-27 | 1982-05-11 | Rca Corporation | Method for preparing an abrasive coating |
| KR890002565B1 (ko) * | 1982-10-08 | 1989-07-18 | 도오요오 보오세끼 가부시끼가이샤 | 고접착성 폴리올레핀 성형물의 제조방법 |
| US4927704A (en) * | 1987-08-24 | 1990-05-22 | General Electric Company | Abrasion-resistant plastic articles and method for making them |
| US5100720A (en) * | 1987-10-07 | 1992-03-31 | Mitsubishi Monsanto Chemical Company Limited | Laminated film having gas barrier properties |
-
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- 1990-12-17 FR FR9015757A patent/FR2670506B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-12-17 DE DE69116683T patent/DE69116683T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-17 JP JP50252392A patent/JP3260140B2/ja not_active Expired - Lifetime
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- 1991-12-17 DK DK92902267.1T patent/DK0516804T3/da active
- 1991-12-17 WO PCT/FR1991/001017 patent/WO1992011312A1/fr active IP Right Grant
- 1991-12-17 AT AT92902267T patent/ATE133437T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-12-17 EP EP92902267A patent/EP0516804B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-17 CA CA002076029A patent/CA2076029C/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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