JP3249293B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3249293B2 JP11723994A JP11723994A JP3249293B2 JP 3249293 B2 JP3249293 B2 JP 3249293B2 JP 11723994 A JP11723994 A JP 11723994A JP 11723994 A JP11723994 A JP 11723994A JP 3249293 B2 JP3249293 B2 JP 3249293B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、分周回路等のように低
速動作部と高速動作部とを有し、かつ、両部で負荷FE
Tを用いた半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図5は、従来の、負荷FETを用いた論
理ゲート10を示す。この論理ゲート10は、nチャン
ネルMESFETで構成されており、E(エンハンスメ
ント型)−FET11のソースが低電位側の電源配線V
ssに接続され、ドレインがD(デプレッション型)−F
ET12を介して高電位側の電源配線Vddに接続されて
いる。D−FET12は、ゲートとソースとが短絡され
て負荷FETを構成しており、抵抗素子を用いるよりも
占有面積を狭くすることができる。
【0003】論理ゲート10は、入力端INが高レベル
のとき、E−FET11がオンになって出力端OUTが
低レベルとなり、入力端INが低レベルのとき、E−F
ET11がオフになって出力端OUTが高レベルとなっ
て、インバータとして動作する。分周器等のような高速
動作部と低速動作部とを有する半導体集積回路に論理ゲ
ート10を使用する場合、高速動作部では、高速動作の
ためにD−FET12のドレイン電流Idsを大きくする
必要があるが、低速動作部では、D−FET12のドレ
イン電流Idsを小さくして消費電流を低減させた方が好
ましい。
【0004】ドレイン電流Idsは、0≦Vgs−Vth≦V
dsなる飽和領域において、次式、Ids=α(W/L)(Vth−Vgs) 2 で表される。ここに、Vgsはゲート・ソース間電圧、V
thは閾値電圧、Vdsはドレイン・ソース間電圧、αはチ
ャンネル中のキャリア移動度等による定数である。
【0005】この式から、低速動作部においてドレイン
電流Idsを小さくするには、D−FET12について以
下のようにすればよい。 (1)ゲート電圧Vgsを0Vに近づける。 (2)チャンネル幅Wを小さくする。 (3)チャンネル長Lを大きくする。
【0006】(4)ソースとドレインの間隔を大きくす
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、(1)の場
合、閾値電圧Vthにプロセス上のばらつきがあるため、
Vth>0となってD−FET12に電流が流れなくなり
負荷素子として機能しなくなるものがでるので、歩留り
が低下する。(2)の場合、チャンネル幅Wを小さくし
過ぎると、プロセス時のマスク位置合わせ精度等に起因
する不確定な電流成分のドレイン電流Idsに対する割合
が増加し、電圧・電流特性を設計で定めることが困難と
なるので、歩留りが低下する。現在のところ、チャンネ
ル幅Wは3μm程度が下限である。
【0008】(3)及び(4)の場合、高速動作部で
は、チャンネル幅Wを大きくする必要があるが、他の場
合に比し、同一消費電流に対する論理ゲート10のスイ
ッチング速度が低下する。また、高速動作部と低速動作
部とで(1)、(3)又は(4)の値を変えると、プロ
セスで制御しなければならない項目が増大し、制御可能
なパラメータのマージンが小さくなるので、歩留りが低
下する。
【0009】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、歩留りを低下させることなく、低消費電力化を行う
ことができる半導体集積回路を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明に係
る半導体集積回路を、実施例図中の対応する構成要素の
符号を引用して説明する。第1発明の半導体集積回路で
は、例えば図2に示す如く、複数個のデプレッション型
FET121、122が直列結合され、各デプレッショ
ン型FETのゲートが該直列結合の一端かつソースに結
合され、該直列結合の他端が第1電源供給線Vddに結合
されている負荷FET回路12Aと、該直列結合の一端
と該第1電源供給線より電位が低い第2電源供給線Vss
との間に結合されて論理部を構成する1つのFET11
を含む低速動作部22と、1個のデプレッション型F
ET12のゲートとソースとが結合された負荷を含み、
該低速動作部より動作速度が大きい高速動作部21と、
を有する。
【0011】第2発明の半導体集積回路では、例えば図
3において、第1ゲートとソースとが結合されたデプレ
ッション型FET121、122が複数個直列結合され
ている負荷FET回路12Cを含む低速動作部と、1個
のデプレッション型FETのゲートとソースとが結合さ
れた負荷を含み、該低速動作部より動作速度が大きい高
速動作部と、を有する。
【0012】これら第1及び第2の発明のいずれによっ
ても、低速動作部の負荷FET回路の端子間電圧が複数
のデプレッション型FETで分圧されるため、低速動作
部の消費電流を高速動作部のそれよりも小さくすること
ができ、また、半導体集積回路の製造プロセスにおい
て、高速動作部及び低速動作部のデプレッション型FE
Tを、互いに同一条件で製造可能となるので、歩留りの
低下が防止される。
【0013】第1発明に用いられる負荷FET回路12
Aは、ソース側一端の電位が各デプレッション型FET
のゲートへ直接伝達するので、第1発明に用いられる負
荷FET回路12Aの方が第2発明に用いられる負荷F
ET回路12Cよりも動作速度が速いという効果を奏す
る。第1発明又は第2発明の第1態様では、例えば図2
に示す如く、低速動作部は、ドレイン側一端が第1電源
供給線Vddに結合された上記負荷FET回路12Aと、
1個又は結合された複数個のFETであり、一端が負荷
FET回路12Aのソース側他端に結合され、他端が、
第1電源供給線Vddより電位が低い第2電源供給線Vss
に結合された論理部11と、を有する論理ゲートを含
む。
【0014】第1発明又は第2発明の第2態様では、例
えば図4において、上記低速動作部は、スイッチング用
FET32と、被駆動回路40、41とスイッチング用
FET32との間に結合された上記負荷FET回路12
Xと、を有する。この第2態様によれば、スイッチング
用FET32がオフのときに、スイッチング用FET3
2に流れるリーク電流を低減又は阻止することができ、
かつ、スイッチング用FET32の端子間電圧がその耐
圧以上になるのを防止することができる。
【0015】第1発明又は第2発明の第3態様では、例
えば図2において、低速動作部22の負荷FET回路1
2Aのデプレッション型FET121、122のチャン
ネル長及びソースとドレインの間隔はそれぞれ、高速動
作部21のデプレッション型FET11のチャンネル長
及びソースとドレインの間隔に略等しい。この第3態様
によれば、第1又は第2の発明の効果が確実となる。
【0016】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。 [第1実施例]図1は、第1実施例の、負荷FET回路
を用いた論理ゲートを示す。この論理ゲートは、nチャ
ンネルMESFET、例えばGaAsFETで構成され
ている。
【0017】図1(A)に示す論理ゲート10Aは、E
−FET11のソースが低電位側の電源配線Vssに接続
され、ドレインが負荷FET回路12Aを介して高電位
側の電源配線Vddに接続されている。負荷FET回路1
2Aは、D−FET121とD−FET122とが直列
接続され、D−FET121及びD−FET122の各
ゲートがD−FET122のソースに短絡されている。
【0018】論理ゲート10Aの入力端IN及び出力端
OUTはそれぞれ、E−FET11のゲート及びドレイ
ンとなっている。出力端OUTは、次段の論理ゲートの
E−FET13のゲートに接続されている。電源配線V
ddとVssとの間の電圧は、高速動作のため通常、1〜
1.5Vの範囲内の値にされる。
【0019】入力端INが高レベル、例えばVss+0.
6Vのとき、E−FET11がオンになって負荷FET
回路12AからE−FET11へ電流が流れ、出力端O
UTが電源配線Vss付近の低レベルとなり、E−FET
13がオフとなる。入力端INが低レベル、例えば電位
Vssのとき、E−FET11がオフになって出力端OU
Tが高レベルとなる。このとき、E−FET13がオン
になってそのゲートとソース間が順方向ショットキーダ
イオードとして機能するので、出力端OUTがVss+
0.6Vとなり、負荷FET回路12Aに電流が流れ
る。
【0020】負荷FET回路12Aは、端子間電圧の変
化に対する電流の変化が小さく、定電流源としても機能
する。このため、入力端INが高レベルのときと低レベ
ルのときとで、負荷FET回路12Aに流れる電流は略
一定となり、入力端INが高レベルから低レベルに遷移
するときに負荷FET回路12Aに流れる電流が小さく
なってE−FET13をオンにする動作が遅くなり過ぎ
るのを防止することができる。
【0021】負荷FET回路12Aは、その端子間電圧
がD−FET121及びD−FET122で分圧される
ため、図5の場合よりも電流を小さくすることができ
る。負荷FET回路12Aに流す所望の電流値は、D−
FET121及びD−FET122の各チャンネル幅W
を、上述の問題が無視できる下限値以上、例えば3μm
以上の値のパラメータとして、シミュレーションにより
決定することができる。負荷FET回路12Aの電流下
限値は、論理ゲート10Aの必要な動作速度で定められ
る。
【0022】図1(B)は、負荷FET回路12Bを用
いた論理ゲート10Bを示す。この負荷FET回路12
Bは、n個のD−FET121〜12nが直列接続さ
れ、D−FET121〜12nの各ゲートがD−FET
12nのソースに短絡されている。nが3以上の場合の
動作は、n=2の上述の場合と同様である。nの値を2
以上とすることにより、設計上の自由度が増す。
【0023】図2に示す半導体集積回路20は、例えば
分周回路のように、高速動作部21と、低速動作部22
とを有している。高速動作部21の論理ゲート10に
は、1個のD−FET12を用いた負荷が用いられてお
り、低速動作部22には、図1(A)に示す論理ゲート
10Aが用いられている。高速動作部21のD−FET
12のチャンネル幅、チャンネル長及びソースとドレイ
ンの間隔は、高速動作部21の要求仕様に基づいて定め
られる。低速動作部22のD−FET121及びD−F
ET122のチャンネル長及びソースとドレインの間隔
は、高速動作部21のD−FET12のそれらに等しく
される。低速動作部22のD−FET121及びD−F
ET122のチャンネル幅は、高速動作部21のD−F
ET12のチャンネル幅と独立に、低速動作部22の要
求仕様に基づいて定められる。
【0024】このような構成によれば、半導体集積回路
20の製造プロセスにおいて、高速動作部21のD−F
ET12、低速動作部22のD−FET121及びD−
FET122を、互いに同一条件で製造することができ
る。したがって、製造プロセスで制御しなければならな
い項目の増大を避けることができ、歩留りの低下が防止
される。また、低速動作部22で負荷FET回路12A
を用いているので、半導体集積回路20の低消費電流化
を図ることができる。
【0025】なお、図1及び図2においては、簡単化の
ために、論理ゲートがインバータの場合のみ示している
が、E−FET11を複数個並列接続すればノアゲート
となり、E−FET11を複数個直列接続すればナンド
ゲートとなる(DCFL:ダイレクト・カップルド・F
ETロジック)。この点は、後述する図3についても同
様である。
【0026】[第2実施例]図3は、第2実施例の、負
荷FET回路を用いた論理ゲート10C及び10Dを示
す。論理ゲート10C又は10Dは、図2に示す半導体
集積回路の低速動作部22に用いられる。論理ゲート1
0Cは、図1(A)の負荷FET回路12Aの代わり
に、負荷FET回路12Cを用いている。負荷FET回
路12Cは、D−FET121とD−FET122とが
直列接続され、D−FET121及びD−FET122
の各々について、ゲートとソースとが短絡されている。
【0027】D−FET121のオン抵抗は、そのゲー
ト電位が図1のD−FET121の場合よりも高いの
で、図1のD−FET121の場合よりも大きい。した
がって、負荷FET回路12Aと負荷FET回路12C
とで同一サイズのD−FET121及びD−FET12
2を用いた場合には、負荷FET回路12Cの方が消費
電流が小さくなる。しかし、負荷FET回路12Aは出
力端OUTの電位がD−FET121のゲートへ直接伝
達するので、負荷FET回路12Aの方が12Cよりも
動作速度が速いという利点を有する。
【0028】図3(B)は、負荷FET回路12Dを用
いた論理ゲート10Dを示す。負荷FET回路12D
は、n個のD−FET121〜12nが直列接続され、
D−FET121〜12nの各々について、ゲートとソ
ースとが短絡されている。nが3以上の場合の動作は、
n=2の上述の場合と同様である。nの値を2以上とす
ることにより、設計上のパラメータが増えるので、より
消費電流を低減することが可能となる。
【0029】他の点は、上記第1実施例と同様である。 [第3実施例]図4は、第1又は第2実施例の負荷FE
T回路を用いた第3実施例の駆動回路30を示す。この
駆動回路30は、例えば、レーザダイオード40に抵抗
41が並列接続された被駆動回路を駆動するためのもの
である。駆動回路30は半導体集積回路の出力段かつ低
速動作部であり、この半導体集積回路には不図示の、図
2と同様の高速動作部を有する。レーザダイオード40
及び抵抗41は、この半導体集積回路に対する外付け回
路である。
【0030】駆動回路30は、高速動作が可能な差動増
幅回路であり、一対のD−FET31とD−FET32
の各ソースが共に、定電流源としてのD−FET33を
介して電源配線Vssに接続されている。D−FET33
のゲートには定電圧Vccが印加される。この回路の電源
配線VddとVssとの間の電圧は、例えば5.2Vであ
り、D−FET31の端子間電圧が耐圧以上になるのを
防止するために、D−FET31のドレインが、順方向
に直列接続されたレベルシフトダイオード34及び35
を介して電源配線Vddに接続されている。
【0031】一方、D−FET32のドレインは、上記
第1又は第2実施例の論理ゲート10A〜10Dのいず
れか1つである負荷FET回路12Xを介して、レーザ
ダイオード40のカソードに接続されている。レーザダ
イオード40のアノードは、電源配線Vddに接続されて
いる。駆動回路30の一対の相補的な入力端IN及び−
INはそれぞれ、D−FET32及び31のゲートであ
る。
【0032】入力端INが高レベルで入力端−INが低
レベルの場合には、D−FET32がオン、D−FET
31がオフとなってレーザダイオード40が発光し、逆
の場合には、D−FET32がオフ、D−FET31が
オンとなってレーザダイオード40が消灯する。本第
実施例では、レーザダイオード40とD−FET32と
の間に負荷FET回路12Xを接続しているので、D−
FET32がオフのときにD−FET32に流れるリー
ク電流を低減又は阻止することができ、かつ、D−FE
T32の端子間電圧がD−FET32の耐圧以上になる
のを防止することができる。
【0033】負荷FET回路12Xは、レーザダイオー
ド40の出力が低くなり過ぎないように、かつ、上記効
果が得られるように、D−FETの接続個数及びチャン
ネル幅が選定される。なお、本発明には外にも種々の変
形例が含まれる。例えば、上記実施例ではFETがME
S型の場合を説明したが、MIS型であってもよい。
【0034】
【発明の効果】以上説明した如く、本第1及び第2の発
明のいずれの半導体集積回路によっても、低速動作部の
負荷FET回路の端子間電圧が複数のデプレッション型
FETで分圧されるため、低速動作部の消費電流を高速
動作部のそれよりも小さくすることができ、また、半導
体集積回路の製造プロセスにおいて、高速動作部及び低
速動作部のデプレッション型FETを、互いに同一条件
で製造可能となるので、歩留りの低下が防止されるとい
う効果を奏し、半導体集積回路の低消費電流化及び製造
コスト低減に寄与するところが大きい。
【0035】また、第1発明に用いられる負荷FET回
路は、ソース側一端の電位が各デプレッション型FET
のゲートへ直接伝達するので、第1発明に用いられる負
荷FET回路の方が第2発明に用いられる負荷FET回
路よりも動作速度が速いという効果を奏する。本第1又
は第2の発明の第2態様によれば、スイッチング用FE
Tがオフのときに、スイッチング用FETに流れるリー
ク電流を低減又は阻止することができ、かつ、スイッチ
ング用FETの端子間電圧がその耐圧以上になるのを防
止することができるという効果を奏する。
【0036】本第1又は第2の発明の第3態様によれ
ば、第1又は第2の発明の効果が確実となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の、負荷FET回路を用い
た論理ゲートを示す回路図である。
【図2】高速動作部と低速動作部とを有する半導体集積
回路の概略図である。
【図3】本発明の第2実施例の、負荷FET回路を用い
た論理ゲートを示す回路図である。
【図4】第1又は第2実施例の負荷FET回路を用いた
駆動回路図である。
【図5】従来の、負荷FET回路を用いた論理ゲートの
回路図である。
【符号の説明】
10、10A〜10D 論理ゲート 12、121〜12n、31〜33 D−FET 11 E−FET 12A〜12D、12X 負荷FET回路 20 半導体集積回路 21 高速動作部 22 低速動作部 30 駆動回路 34、35 レベルシフトダイオード 40 レーザダイオード

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個のデプレッション型FETが直列
    結合され、各デプレッション型FETのゲートが該直列
    結合の一端かつソースに結合され、該直列結合の他端が
    第1電源供給線に結合されている負荷FET回路と、該
    直列結合の一端と該第1電源供給線より電位が低い第2
    電源供給線との間に結合されて論理部を構成する1つの
    FETとを含む低速動作部と、 1個のデプレッション型FETのゲートとソースとが結
    合された負荷を含み、該低速動作部より動作速度が大き
    い高速動作部と、 を有することを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 ゲートとソースとが結合されたデプレッ
    ション型FETが複数個直列結合されている負荷FET
    回路を含む低速動作部と、 1個のデプレッション型FETのゲートとソースとが結
    合された負荷を含み、該低速動作部より動作速度が大き
    い高速動作部と、 を有することを特徴とする半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 前記低速動作部は、 ドレイン側一端が第1電源供給線に結合された前記負荷
    FET回路と、 1個又は結合された複数個のFETであり、一端が該負
    荷FET回路のソース側他端に結合され、他端が、該第
    1電源供給線より電位が低い第2電源供給線に結合され
    た論理部と、 を有する論理ゲートを含むことを特徴とする請求項
    載の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記低速動作部は、 スイッチング用FETと、 被駆動回路と該スイッチング用FETとの間に結合され
    た前記負荷FET回路と、 を有することを特徴とする請求項1又は2記載の半導体
    集積回路。
  5. 【請求項5】 前記低速動作部の負荷FET回路のデプ
    レッション型FETのチャンネル長及びソースとドレイ
    ンの間隔はそれぞれ、前記高速動作部のデプレッション
    型FETのチャンネル長及びソースとドレインの間隔に
    略等しいことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1
    つに記載の半導体集積回路。
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