JP3239516U - 多段移動速度の直立湿式プロセス装置 - Google Patents

Abstract

【課題】中間過程の所要時間を短縮し、基板に残留する薬液が加工効果に影響を与えない多段移動速度の直立湿式プロセス装置を提供する。【解決手段】多段移動速度の直立湿式プロセス装置は、基板４を運搬するために用いられ、且つ移送メカニズム１及びキャリア２を備えている。移送メカニズム１は移動方向に沿って成形されている中空キャビネット１０、及び中空キャビネット１０に内設されていると共に移動方向に従って配置されている搬送ユニット１１を有し、且つ中空キャビネット１０は移動方向に沿って前部１００、緩衝部１０１、及び後部１０２が順に設けられている。キャリア２は搬送ユニット１１を利用して移動方向に沿って前進し、基板４を運搬する。搬送ユニット１１は、緩衝部１０１内におけるキャリア２の移動速度を、前部１００及び後部１０２内における移動速度よりも大きいようにキャリア２を連動する。【選択図】図３

Description

本考案は、基板設備に関し、より詳しくは、基板を運搬して加工するための多段移動速度の直立湿式プロセス装置に関する。

回路基板等の基材に対し湿式プロセスを行う従来の設備は、面積が大きい基材に対し上述のプロセスを実行するために、基材を直立または吊り掛けて運搬して薬液を噴霧するエッチングプロセスに進み、必要な加工を施す目的を達成している。

また、上述の湿式プロセスにおいて、薬液を噴霧した後、基材に残留する薬液を除去する必要があり、通常は純水による洗浄及び乾燥等のプロセスを実行する。また、ライン生産を実現するため、上述の洗浄及び乾燥プロセスは薬液の噴霧後に続けて間隔を空けて行う。なお、両者のプロセスの間隔が不足することで影響が出ないようにするため、上述のプロセスの間に通常は十分な距離の緩衝区間を設け、薬液によるエッチングプロセスが確実に完了した後の基材を、緩衝区間を通過させてから洗浄及び乾燥等の後続のプロセスに進ませている。

しかしながら、前述した従来の技術では、基材のエッチングプロセスを実行した後、基材に少なくない薬液が残留するため、上述の緩衝区間を通過するのに所要する時間が長くなり、薬液が基材に対し持続的に化学反応を発生させ、エッチングの加工効果に影響を及ぼした。

そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に至った。

本考案は、上記問題点に鑑みて本考案者の鋭意研究により成されたものであり、その目的は、多段移動速度の直立湿式プロセス装置を提供することにある。つまり、運搬する基板に対し薬液噴霧、洗浄、乾燥のプロセスを行う間に、加速方式で前述の中間過程の所要時間を短縮することで、基板に残留する薬液が加工効果に影響を与えるのを回避する。

上記課題を解決するために、本考案のある態様の多段移動速度の直立湿式プロセス装置は、基板の運搬に用いられ、且つ移送メカニズム及びキャリアを備えている。移送メカニズムは移動方向に沿って成形されている中空キャビネット、及び中空キャビネットに内設されていると共に移動方向に沿って配置されている搬送ユニットを有し、且つ中空キャビネットは移動方向に従って前部、緩衝部、及び後部が順に設けられている。キャリアは搬送ユニットを利用して移動方向に従って前進し、基板を運搬する。搬送ユニットは、緩衝部内におけるキャリアの移動速度を、前部及び後部内における移動速度よりも大きいようにキャリアを連動する。

本考案によれば、運搬する基板に対する薬液噴霧、洗浄、乾燥のプロセスを行う間に、加速方式で前述の中間過程の所要時間を短縮することで、基板に残留する薬液が加工効果に影響を与えるのを回避する。

本考案の他の目的、構成及び効果については、以下の考案の実施の形態の項から明らかになるであろう。

本考案の一実施例に係る多段移動速度の直立湿式プロセス装置の作動前を示す平面概略構成図である。 本考案のキャリアが基板を運送して前段に移動する平面概略図である。 本考案のキャリアが基板を運送して緩衝部に進入する平面概略図である。 本考案のキャリアが基板を運送して緩衝部に加速する平面概略図である。 本考案のキャリアが基板を運送して後段に進入する平面概略図である。

以下、本考案の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、本考案は以下の例に限定されるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更可能であることは言うまでもない。

図１は本考案の作動前の平面概略図である。本考案は多段移動速度の直立湿式プロセス装置を提供し、薬液噴霧（例えば、エッチング）等の湿式プロセス加工を行うために基板４を運搬する。前記基板４は回路基板でもよく、前記直立式湿式プロセス装置は移送メカニズム１、及び前記移送メカニズム１内で前記基板４を運搬するように移動するキャリア２を備えている。以下、それぞれについて説明する。

前記移送メカニズム１は移動方向に沿って成形されている中空キャビネット１０、及び前記中空キャビネット１０に内設されていると共に前記移動方向に沿って配置されている搬送ユニット１１を有している。前記中空キャビネット１０内は主に前記湿式プロセスを実行するために用いられ、且つ前記移動方向に従って前部１００、緩衝部１０１、及び後部１０２が順に設けられている。前部１００には基板４に対し薬液を噴霧するためのノズル３が内設され、後部１０２は基板４に対し洗浄及び乾燥等の作業を行うために用いられ、緩衝部１０１は前記前部１００と後部１０２との間を分画している。

上述に続き、前記搬送ユニット１１は複数のローラーが前記移動方向に沿って配列するように設置され、且つ上述のキャリア２を前記移動方向に従って前進するように輸送する。前記キャリア２は吊りフレーム２０、及び前記吊りフレーム２０に設置されていると共に前記基板４を狭着するための回転台２１を備えている。前記吊りフレーム２０には搬送ユニット１１に跨設されている吊り金具２２が更に設置され、基板４を狭着しているキャリア２をローラーが連動することで、中空キャビネット１０内で前記移動方向に従って移動させ、湿式プロセスを行う。

図２によく見られるように、搬送ユニット１１により上述のキャリア２を連動することで、回転台２１に狭着されている基板４を前部１００内で移動させ、且つ移動過程において上述のノズル３により基板４に対しエッチング等に用いる薬液を噴霧し、前記湿式プロセスを実行する。また、基板４の表面に均一に薬液を噴霧するため、キャリア２が移動すると同時に、前記回転台２１も共に吊りフレーム２０上で基板２を連動するように自転し、こうして基板４の表面の各部位に満遍なく薬液を噴霧する。

図３によく見られるように、本考案は主に、緩衝部１０１により前部１００と後部１０２との間に必要な相対的距離を保持し、前記キャリア２が緩衝部１０１を通過するのにかかる所要時間を更に短縮し、緩衝部１０１を通過する時間が長すぎて基板４に残留する薬液が加工効果に影響を与えることが無いようにしている。よって、上述のキャリア２が前部１００を通過した後、緩衝部１０１内の搬送ユニット１１によりキャリア２の移動を加速し、キャリア２が前記緩衝部１０１を高速に通過して後部に進入する（図４参照）。

更に詳しくは、図３と図４に示す如く、本考案は主に上述の前部１００の搬送ユニット１１に加速モーター１２を設置することで、キャリア２を加速して運搬するように搬送ユニット１１を駆動する。これにより、前記緩衝部１０１に進入したキャリア２が加速モーター１２により駆動され、前記緩衝部１０１を加速して通過する。

最後に、図５によく見られるように、上述のキャリア２が緩衝部１０１を通過して後部１０２に進入した後、正常な速度に回復して前記移動方向に従って継続的に移動する。所謂正常な速度は、前部１００の速度と一致するか、或いは緩衝部１０１の速度よりも遅い速度を指す。即ち、上述の搬送ユニット１１が、前記緩衝部内における前記キャリア２の移動速度を、前記前部１００及び後部１０２内における移動速度よりも大きいように前記キャリア２を連動する。

このように、上述の構造の構成により、本考案の多段移動速度の直立湿式プロセス装置を獲得する。

よって、本考案の多段移動速度の直立湿式プロセス装置は、搬送ユニット１１が緩衝部１０１でキャリア２を加速移動するように連動した後、キャリア２が運搬する基板４に対し薬液噴霧、洗浄、乾燥のプロセスが行われる間に、前述の加速方式により緩衝部を移動するのにかかる所要時間を短縮し、基板に残留する薬液が加工効果に影響を与えるのを回避している。また、緩衝部１０１が前部１００と後部１０２との間に必要な距離を維持させている。

本考案は、その精神又は主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形態で実施することができる。そのため、上述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本考案の範囲は実用新案登録請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。更に、実用新案登録請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、すべて本考案の範囲内のものである。

１ 移送メカニズム
１０ 中空キャビネット
１００ 前部
１０１ 緩衝部
１０２ 後部
１１ 搬送ユニット
１２ 加速モーター
２ キャリア
２０ 吊りフレーム
２１ 回転台
２２ 吊り金具
３ ノズル
４ 基板

Claims (9)

1. 基板を運搬するために用いられる多段移動速度の直立湿式プロセス装置であって、
   移動方向に沿って成形されている中空キャビネットと、前記中空キャビネットに内設されていると共に前記移動方向に沿って配置されている搬送ユニットと、を有し、前記中空キャビネットは前記移動方向に従って前部、緩衝部、及び後部が順に設けられている移送メカニズムと、
   前記搬送ユニットを利用して前記移動方向に従って前進し、前記基板を運搬するキャリアと、を備え、
   前記搬送ユニットは、前記緩衝部内における前記キャリアの移動速度を、前記前部及び前記後部内における移動速度よりも大きいように前記キャリアを連動することを特徴とする多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
2. 前記前部には前記基板に対し薬液を噴霧するためのノズルが内設されていることを特徴とする請求項１に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
3. 前記後部は前記基板に対し洗浄及び乾燥を行うために用いられていることを特徴とする請求項１または２に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
4. 前記搬送ユニットは、複数のローラーが前記移動方向に従って配列するように設置されていることを特徴とする請求項１に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
5. 前記キャリアは吊りフレーム、及び前記吊りフレームに設置されていると共に前記基板を狭着するための回転台を備えていることを特徴とする請求項１に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
6. 前記回転台は、前記吊りフレーム上で前記基板を連動するように自転可能であることを特徴とする請求項５に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
7. 前記吊りフレームには前記搬送ユニットに跨設されている吊り金具が更に設置されていることを特徴とする請求項５に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
8. 前記搬送ユニットは前記前部に加速モーターが設置され、これにより前記緩衝部内における前記キャリアの移動速度を、前記前部及び前記後部内における移動速度よりも大きいように前記キャリアを連動するように搬送ユニットを駆動することを特徴とする請求項１に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。
9. 前記搬送ユニットは、前記前部及び前記後部内における前記キャリアの移動速度を一致するように前記キャリアを連動することを特徴とする請求項１に記載の多段移動速度の直立湿式プロセス装置。

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