JP3237903B2 - 有機化合物の、又は有機化合物に関する改良 - Google Patents

有機化合物の、又は有機化合物に関する改良

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は高分子材料用の新規な添加剤組成
物に係り、風化による重合体の分解を驚くほど改良す
る。
【0002】本発明は良好な耐候特性を有する組成物を
提供する。それは a) 式I:
【0003】
【化4】
【0004】[式中mが0又は1であり、nが0又は1
であり、pが0又は1であり、Rがそれぞれ独立に、1
個又は2個のOH基を含む脂肪族、脂環式又は芳香族の
アルコールから誘導される基であって、その2個の−O
H基はP含有環を形成できる位置に置かれていない(以
下Rの1価の意味と定義する)か、又は両方のR基が、
唯1個の燐原子を有する環状基を形成できるような位置
に2個のOH基を含む脂肪族、脂環式又は芳香族のアル
コールから誘導される基を形成し(以下Rの2価の意味
と定義する)、Yが−O−,−S−,−CH(R5 )−
又は−C6 4 −であり、R1 がそれぞれ独立に、1個
又は2個のOH基を含む脂肪族、脂環式又は芳香族のア
ルコールから誘導される基であって、その2個の−OH
基はP含有環を形成できる位置に置かれていない(以下
1 の1価の意味と定義する)か、又は両方のR1
が、唯1個の燐原子を有する環状基を形成できるような
位置に2個のOH基を含む脂肪族、脂環式又は芳香族の
アルコールから誘導される基を形成し(以下R1 の2価
の意味と定義する)、ここにR5 が水素又はC1-8 アル
キル若しくはCOOR6 であって、R6 がC1-8 アルキ
ルである]で表される1つ以上の化合物(以下成分aと
定義する)、及び b) 高分子材料(以下成分bと定義する)から成る。
【0005】本発明の組成物中には、成分aと成分bの
合計重量に対して、存在する成分aの量は 0.001〜2%
であって、存在する成分bの量は99.999〜98%であるの
が好ましい。
【0006】本発明の組成物は、次の成分を1種以上更
に含有し得る。
【0007】c) 式II:
【0008】
【化5】
【0009】[式中、nは0又は1であり、naは0又
は1であり、R3 はRの1価の意味を有する]で表わさ
れる化合物(以下成分cと定義する)及び d) 式IV又はV: R7 (OH) (IV) R8 (OH)2 (V) [式中、式IVではR7 はRの1価の意味であって、R8
はRの2価の意味である]で表わされる化合物(以下成
分dと定義する)、並びに e) 式X:
【0010】
【化6】
【0011】[式中、R,R1 ,Y,m及びnは前記定
義と同じ]で表されるホスホナイト。
【0012】成分a,c,d及びeの合計量は100 部の
成分bに対して、0.001 〜2部であるのが好ましい。
【0013】成分a,c,d及びeの量の比は次のよう
な比が好ましい。
【0014】a) 10〜98部の成分a、 b) 2〜50部の成分e、 c) 好ましくは大体5:1〜1:5の比にして、0〜
40部の式IIの亜燐酸エステル及び式IIの燐酸エステル
(共に成分cとして)、及び d) 0.1 〜5部の成分d。
【0015】本発明のもっとも好ましい組成物は、100
部の成分a,c,d及びeに対して a) 45〜95部の前記定義の成分a、 b) 4.5 〜35部の前記定義の成分e、 c) 0〜20部の前記定義の成分c、及び d) 0.5 〜2部の前記定義の成分d から成る。
【0016】好ましくはRはR′であって、ここにR′
はアルキル、アラルキル、アリール、アルキルアリー
ル、アミノアルキル又はアミノアリール基(以下R′の
1価の意味と称する)であるか、又はR′は式α
【0017】
【化7】
【0018】[式中、フェニル基A及びBは更に置換基
があってもよく、Yは−O−、−S−又は−CH
(R5 )−(ここにR5 は水素又はC1-8 アルキル若し
くはCOOR6 であり、R6 はC1-8 アルキルである)
である](以下式R′の2価の意味と定義する)であ
る。
【0019】更に好ましくはRはR″であって、ここに
R″はC1-22アルキル、場合によりC1-22アルキル、C
1-20アルコキシ、−CH2 −C6 5 から選択される1
〜3個の基により置換されるフェニル、−C6 5
2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル−4−、−
C(CH3 2 −C6 5 、−OH、−(C1-6 アルキ
ル)フェニル、−CO2 −C1-22アルキル、−CH2
2 −COOR15、CN若しくしは−CH2 −S−C
1-22アルキルから選択されるか、又はR″は式i〜vi
【0020】
【化8】
【0021】のいずれか1つの基であるか、さもなけれ
ば2つのR″基が一緒にviii
【0022】
【化9】
【0023】の基を形成する。ここに、R15は水素又は
1-22アルキルであり、Yは−0−、−S−又は−CH
(R5 )−であり、R16は水素、C1-8 アルキル又は−
COC1-8 アルキルであり、R17は水素又はC1-22アル
キルであり、R18は水素、C1-22アルキル、C1-22アル
コキシ、−CH2 −C6 5 、−C(CH3 2 −C6
5 、−C6 5 、−OH、−CH2 CH2 COO
15、−(C1-6 アルキル)フェニル、−CO2 −C
1-22アルキル、−CN、−CH2 CH2 −COOR15
−CH2 −S−C1-22アルキル又は2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニル−4−であって、R24は水素、
1-22アルキル、OH又はC1-22アルコキシである。も
っとも好ましくはRはR′′′であって、ここに
R′′′は式a)〜g)
【0024】
【化10】
【0025】のいずれか1つの基から選択され、式中、
10は水素、C1-8 アルキル、C1-8 アルコキシ又は
(C1-8 アルキル)フェニルであり、R11及びR12は独
立に水素、C1-22アルキル、(C1-8 アルキル)フェニ
ル及びフェニルであり、R13は水素及びC1-8 アルキル
から選択され、R14は−CN又は−CO2 13であっ
て、R15は水素又はC1-8 アルキルである。
【0026】(a)の好ましい基は2−tert−ブチ
ルフェニル;2−フェニルフェニル;2−(1,1−ジ
メチルプロピル)フェニル;2−シクロヘキシルフェニ
ル;2−tert−ブチル−4−メチルフェニル;2,
4−ジ−tert−アミルフェニル;2,4−ジ−te
rt−ブチルフェニル;2,4−ジフェニルフェニル;
2,4−ジ−tert−オクチルフェニル;2−ter
t−ブチル−4−フェニルフェニル;2,4−ビス
(1,1−ジメチルプロピル)フェニル;2−(1−フ
ェニル−1−メチルエチル)フェニル;2,4−ビス
(1−フェニル−1−メチルエチル)フェニル;及び
2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニルか
ら選択される。
【0027】好ましくはR1 はR1 ′であってR1 ′は
R′とは独立にR′の意味を有する。更に好ましくはR
1 はR1 ″であって、R1 ″はR″とは独立にR″の意
味を有する。もっとも好ましくはR1 はR1 ′′′であ
って、R1 ′′′はR′′′とは独立にR′′′の意味
を有する。
【0028】式I及びXでは、mは1であるのが好まし
い。
【0029】好ましくは成分aは次の物を含む。
【0030】a) 前記定義の式Iのジホスホネート
(以下成分Iと定義する)、 b) 前記定義の式Iのモノホスホネート(以下成分II
と定義する)、及び c) m=1及びp=0である式Iのホスホネート−ホ
スホナイト(以下成分III と定義する)。
【0031】成分aは 10〜70部の成分I 2〜30部の成分II及び 5〜40部の成分III を含むのが好ましい。
【0032】式Iの化合物はジホスホネートであるのが
好ましく、それがテトラキス(2,4−ジ−tert−
ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホネートであるの
が更に好ましい。
【0033】成分eが本発明組成物に存在することが好
ましく、式Xの化合物(1つ以上存在する場合には複
数)が式Iのホスホネート(1つ以上存在する場合には
複数)に対応するのが好ましい。成分aとeは19:1〜
9:7の比で存在するのが好ましい。
【0034】式Iの化合物は、 a) 2mol の式IXの化合物 R30−OH (IX) [式中、R30はRの1価の意味を有する]及び2mol の
式XIの化合物 R31−OH (XI) [式中、R31はR1 の1価の意味を有する]を1mol の
式XIV の化合物
【0035】
【化11】
【0036】[式中、Y,m及びnは前記定義と同じ]
と反応することにより製造することができる。
【0037】更に、本発明では、式XV
【0038】
【化12】
【0039】[式中、nは0又は1であり(好ましくは
n=0)、dは1又は2であり、pは0又は1であり、
21はそれぞれ独立に水素、C1-4 アルキル(好まし
くはt−ブチル若しくはメチル)又は−C(CH3 2
−C6 5 であって、R22はそれぞれ独立に、R21とは
独立にR21の意味を有し、Yは前記定義と同じである]
の化合物を提供する。
【0040】更に、本発明では、式XVI
【0041】
【化13】
【0042】[式中、dは1又は2であって、pは0又
は1である。好ましくはdは2である]の化合物を提供
する。
【0043】高分子組成物中の成分a(及び存在する場
合成分c、d及びeのいずれか1つ)の量は、成分bの
量に対して0.001 〜1重量%が好ましく、0.05〜
0.3 重量%が更に好ましい。
【0044】本発明の組成物には成分a〜eがすべて存
在するのが好ましい。
【0045】本発明の組成物中、aとc及び場合により
eの組合せは、それを使用する高分子組成物の安定性に
共働効果を生じることが判明している。
【0046】光、酸素、加水分解、高温度、湿度、オゾ
ン及びスモッグに対する安定性等の性質が改良されるこ
とが見出された。
【0047】成分bは後記定義の第1〜第5(I〜V)
世代の触媒を使用して製造されるα−ポリオレフィンで
あることが好ましい。
【0048】本発明による組成物により安定化される高
分子材料は、次のホモポリマー、コポリマーおよびポリ
マーのブレンドを包含する:酢酸セルロース、;酢酸酪
酸セルロース;アセトプロピオン酸セルロース;クレゾ
ール−ホルムアルデヒド樹脂;カルボキシメチルセルロ
ース;硝酸セルロース;プロピオン酸セルロース;カゼ
インプラスチック;カゼイン−ホルムアルデヒド;セル
ローストリアセテート;エチルセルロース;エポキシ樹
脂;メチルセルロース;メラミン−ホルムアルデヒド樹
脂;ポリアミド;ポリアミドイミド;ポリアクリロニト
リル;ポリブテン−1;ポリブチルアクリレート;ポリ
(ブチレンテレフタレート);ポリカーボネート;ポリ
(クロロトリフルオロエチレン);ポリ(ジアリルフタ
レート);ポリエチレン;塩化ポリエチレン;ポリ(エ
ーテルケトン);ポリエーテルイミド;ポリエチレンオ
キシド;ポリエーテルスルホン;ポリエチレンテレフタ
レート;ポリテトラフルオロエチレン;フェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂;ポリイミド;ポリイソブチレン;
ポリイソシアヌレート;ポリメタクリルイミド;ポリメ
チルメタクリレート;ポリ(4−メチルペンテン−
1);ポリ(α−メチルスチレン);ポリオキシメチレ
ン;ポリホルムアルデヒド;ポリアセタール;ポリプロ
ピレン;ポリフェニレンエーテル;ポリフェニレンサル
ファイド;ポリフェニレンスルホン;ポリスチレン;ポ
リスルホン;ポリウレタン;ポリ酢酸ビニル;ポリビニ
ルアルコール;ポリビニルブチラール;塩化ポリ塩化ビ
ニル;ポリ塩化ビニリデン;ポリフッ化ビニリデン;ポ
リフッ化ビニル;ポリビニルホルムアルデヒド;ポリビ
ニルカルバゾール;ポリビニルピロリドン;珪素ポリマ
ー;飽和ポリエステル;尿素−ホルムアルデヒド樹脂;
不飽和ポリエステル;ポリアクリレート;ポリメタクリ
レート;ポリアクリルアミド;マレイネート樹脂;フェ
ノール系樹脂;アニンリン樹脂;フラン樹脂;カルバミ
ド樹脂;エポキシド樹脂及び珪素樹脂。
【0049】適当なコポリマーの例は、次のとおりであ
る:アクリロニトリル/ブタジエン/アクリレート;ア
クリロニトリル/ブタジエン/スチレン;アクリロニト
リル/メチルメタクリレート;アクリロニトリル/スチ
レン/アクリルエステル;アクリロニトリル/エチレン
−プロピレン−ジエン/スチレン;アクリロニトリル/
塩化ポリエチレン/スチレン;エチレン/エチルアクリ
レート;エチレン/メタクリル酸エステル;エチレン/
プロピレン;エチレン/プロピレン−ジエン;エチレン
/酢酸ビニル;エチレン/ビニルアルコール;エチレン
/テトラフルオロエチレン;テトラフルオロエチレン/
ヘキサフルオロプロピレン;メタクリレート/ブタジエ
ン/スチレン;メラミン/フェノール−ホルムアルデヒ
ド;ポリエステルブロックアミド;ペルフルオローアル
コキシ−アルカン;スチレン/アクリロニトリル;スチ
レン/ブタジエン;スチレン/無水マレイン酸;スチレ
ン/α−メチルスチレン;塩化ビニル/エチレン;塩化
ビニル/エチレン/メタクリレート;塩化ビニル/エチ
レン/酢酸ビニル;塩化ビニル/メチルメタクリレー
ト;塩化ビニル/オクチルアクリレート;塩化ビニル/
酢酸ビニル;および塩化ビニル/塩化ビニリデン。
【0050】安定化すべき好ましいポリマー材料は、ポ
リオレフィン、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン
(例えば、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、
線状低密度ポリエチレンまたは中密度ポリエチレン)、
ポリブチレン、ポリ−4−メチルペンテンおよびそれら
のコポリマーである。
【0051】本発明による安定化組成物またはポリマー
組成物に添加することができる他の添加剤は、次のもの
を包含する:酸化防止剤、例えば、立体障害されたフェ
ノール、第二級芳香族アミンまたはチオエーテル、例え
ば、次の文献に記載されているもの:“Kuststogff-Add
itive ”,Gachter/Muller,第3版(1990)ページ42-50
、(その開示をここに引用によって加える);紫外線
安定剤、例えば立体障害されたアミン(例えば、N−非
置換、N−アルキルまたはN−アシル置換2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン化合物)[また、立体障害
されたアミン光安定剤(HALS)として知られてい
る]および紫外線吸収剤(例えば、2−(2′−ヒドロ
キシフェニル)−ベンゾトリアゾール類、2−ヒドロキ
シベンゾフェノン類,1,3−ビス(2′−ヒドロキシ
ベンゾイル)ベンゼンサリチレート類、シンナメート類
およびシュウ酸ジアミド類)、紫外線クエンチャー(q
uencher)、例えば、ベンゾエート類および置換
ベンゾエート類、静電防止剤、防炎剤、軟化剤、核化
剤、金属不活性化剤、殺微生物剤、衝撃性改良剤、充填
剤、顔料および殺菌剤。
【0052】本発明による安定化組成物は、重合工程の
前、間または後に高分子材料に添加することができ、そ
の際固体または溶融状態で、また溶液状で、好ましくは
10〜80重量%の組成物および90〜20重量%の溶媒を含
有する液状濃厚物として、または10〜80重量%(より好
ましくは40〜70重量%)の組成物および90〜20重量%
(より好ましくは60〜30重量%)の固体高分子材料(こ
れは安定化すべき材料と同一であるか、あるいはそれと
相溶性である)を含有する固体のマスターバッチ組成物
として添加することができる。
【0053】本発明による組成物は、既知の方法によ
り、安定化すべき高分子材料中に混入することができ
る。化合物と溶融状態の熱可逆性ポリマーとを、例え
ば、溶融ブレンダーにおいて、あるいは成型物品、例え
ば、はく、チューブ、繊維及びフォームを、押出、射出
成型、吹込成型、紡糸または針金被覆によって形成する
間にブレンドすることはとくに重要である。本発明の組
成物は、射出成形により製造される、ポリプロピレン物
品に特に有用である。
【0054】更に本発明ではmが1であってpが0であ
る式Iの化合物を提供する。
【0055】好ましいポリオレフィンは、重合工程で第
3〜第5(III〜V)世代の触媒を使用することにより製
造されるα−ポリオレフィンであって、その工程で触媒
除去ステップは必要でなく、正に触媒を除去しないこと
こそ好ましい。
【0056】本発明者がI世代触媒として意味するの
は、古典的なチーグラー−ナッタ系であって、ハロゲン
化チタン触媒と有機アルミニウム化合物又は有機アルミ
ニウムハロゲン化物をベースとする。
【0057】本発明者がII世代触媒として意味するの
は、有機マグネシウム化合物に担持するI世代触媒又は
SiO2 に担持する有機クロム化合物をベースとする触
媒である。
【0058】本発明者がIII 世代触媒として意味するの
は、ハロゲン含有マグネシウム化合物に担持するチーグ
ラー型錯体触媒である。
【0059】本発明者がIV世代触媒として意味するの
は、追加の電子供与体、たとえばトリスアルコキシシラ
ンを含むIII 世代触媒である。
【0060】本発明者がV世代触媒として意味するの
は、アルモキサンに担持するビスインデニル有機チタン
化合物若しくはアルミニウムアルキル化合物により活性
化されたビスシクロペンタジエニルチタンハロゲン化物
又は同様な系であって、高度の触媒活性を有し、かつ形
成される重合物の高い立体規則性をもたらす。
【0061】これらの世代の触媒については、1990年5
月21〜23日ルツェルンで催された高分子の安定化と分解
の調節の進歩に関する第12回国際年会における、「ポリ
オレフィン触媒の新しい動向と高分子安定性に対する影
響」と題するRolf Mulhauptによる 181ページから 196
ページにわたる論文に記載されている。この論文の内容
及び特に触媒の世代を説明する 184ページの表Iを引用
して本明細書に含める。
【0062】
【表1】
【0063】表中、Rは有機基であり、HDPEは高密
度ポリエチレンであり、LLDPEは線状低密度ポリエ
チレンであり、Cpはシクロペンタジエニルであり、E
tはエチルであり、PPはポリプロピレンであり、MW
Dは分子量分布であって、Kは2以上の整数である。
【0064】更に本発明では、 a) テトラキス(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニル)
ビフェニレンジホスホナイト及び/又は式IIの亜燐酸エ
ステル、並びに b) 前記定義のV世代触媒、好ましくはアルモキサン
に担持したビスインデニル有機チタン化合物又はアルミ
ニウムアルキル化合物により活性化したビスシクロペン
タンジエニルチタニウムハロゲン化物の存在下に製造さ
れたポリオレフィン樹脂から成り、耐候特性が改良され
かつ安定性の良好な組成物提供する。
【0065】このような組成物はまた c) テトラキス(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニル)
ビフェニレンホスホナイト−ホスホネート及びテトラキ
ス(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニル)ビフェニレンジ
ホスホネートを含むことが好ましい。
【0066】更に本発明では、 a) テトラキス(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニル)
ビフェニレンジホスホナイト及び/又は式IIの亜燐酸エ
ステル,並びに b)IV世代触媒、好ましくは1つ以上の電子供与体、好
ましくはトリスアルコキシシランを追加した、ハロゲン
含有マグネシウム化合部に担持したチーグラー型錯体触
媒から成り、耐候特性を改良しかつ安定性の良好な組成
物を提供している。
【0067】このような組成物はまた c) テトラキス(2,4 −tert−ブチルフェニル)ビフ
ェニレンホスホナイト−ホスホネート及びテトラキス
(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニル)ビフェニレンジホ
スホネートを含むのが好ましい。
【0068】ホスホナイト(特にテトラキス(2,4 −ジ
−tert−ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホナイ
ト)は、更に活性を高めた触媒により製造されるα−ポ
リオレフィンの加工安定剤として、また、耐候性を改良
するために、及び/又は重合工程中、公知の性質に基づ
いて立体規則性の重合体を生じさせるために有用であ
る。
【0069】α−ポリオレフィンに使用されるホスホネ
ート(特にテトラキス(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニ
ル)ビフェニレンジホスホネート)及び/又はホスホネ
ート−ホスホナイト(たとえばテトラキス(2,4 −tert
−ブチルフェニル)ビフェニレン−4−ホスホナイト−
4′−ホスホネート)及び/又はそれらの混合物は、重
合工程触媒の未来世代を使用して製造されるα−ポリオ
レフィンの耐候性を改良するために有用である。
【0070】ジホスホナイト及び/又はジホスホネート
及び/又はホスホナイト/ホスホネートと対応するモノ
ホスホナイト及び/又はモノホスホネートとの混合物
も、加工触媒の未来世代を使用して製造されるα−ポリ
オレフィンを安定にするために、及び/又は得られる高
分子の耐候性を改良するために適している。
【0071】
【実施例】本発明についてここに次の実施例により説明
するが、特に断らない限り、すべての部と百分率は重量
により、温度はすべて℃である。
【0072】下記のポリプロピレン組成物を製造した。
【0073】 実施例 重量部 成分 A B C D E F ポリプロピレン 100 100 100 100 100 100 酸化防止剤 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 加工安定剤 - - 0.1 0.1 - 0.1 式Iaの化合物 - 0.1 - 0.1 - - 式Ibの化合物 - - - - 0.1 0.1 使用したポリプロピレンはHostalen PPN
0160−Fである。
【0074】使用した酸化防止剤はテトラキス[メチレ
ン−3−(3′5′−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート]メタンであって、Ir
ganox 1010として市販で入手し得る。
【0075】式Iaの化合物はテトラキス(2,4 −ジ−
tert−ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホネートで
ある。
【0076】式Ibの化合物はビス(2,4 −ジ−tert−
ブチルフェニル)ビフェニレンホスホネートである。
【0077】加工安定剤はトリス(2,4 −ジ−tert−ブ
チルフェニル)亜燐酸エステル(Irgafos 168
として市販で入手し得る)である。
【0078】ポリプロピレンを20mmスクリューを有する
ゲットフェルト押出機により(圧縮1:3,直径対長さ
[d:l]1:20) 250℃で加工した。これを次のよう
にプラックに加工した。
【0079】得られたポリマーを下記条件下に高圧成形
により厚さ 0.5mmのシートに形成した。
【0080】予備加熱: 230℃、低圧、3分 加熱: 230℃、80〜100Kg/cm2 、2分 冷却:30℃、150Kg/cm2 、2分 得られたシートから、3個の試験片をそれぞれの試験を
行うため切出した。これらの試験片をアトラス耐候試験
機(WOM Ci65)に入れ、キセノン高圧バーナーを
使用して2時間毎に18分の降雨条件下に処理して、試験
片に亀裂が現われるのに必要な時間を測定する。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−67345(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08L 1/00 - 101/16 C08K 5/00 - 13/08

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 良好な耐候特性を有し、 a) 式I: 【化1】 [式中、mが0又は1であり、 nが0又は1であり、 pが0又は1であり、但し、pとmがともに0である場合はなく、 Rがそれぞれ独立に、1個のOH基を含む脂肪族、脂環
    式又は芳香族のアルコールから誘導される基であ(以
    下Rの1価の意味として定義する)か、又は両方のR基
    が、唯1個の燐原子を有する環状基を形成できるような
    位置に2個のOH基を含む脂肪族、脂環式又は芳香族の
    アルコールから誘導される基を形成し(以下Rの2価の
    意味として定義する)、 Rがそれぞれ独立に、1個のOH基を含む脂肪族、脂
    環式又は芳香族のアルコールから誘導される基であ
    (以下Rの1価の意味として定義する)か、又は両方
    のR基が、唯1個の燐原子を有する環状基を形成でき
    るような位置に2個のOH基を含む脂肪族、脂環式又は
    芳香族のアルコールから誘導される基を形成し(以下R
    の2価の意味として定義する)、 Yが−O−,−S−,−CH(R)−又は−C
    −であり、ここにRが水素又はC1−8アルキル若し
    くはCOORであって、RはC1−8アルキルであ
    る]で表される1つ以上の化合物(以下成分aと定義す
    る)、及び b) 高分子材料(以下成分bと定義する) から成る組成物。
  2. 【請求項2】 成分bが、重合工程で第3〜第5(III
    〜V)世代の触媒を使用して製造され、その触媒は除去
    されないα−ポリオレフィンであって、 III 世代触媒がハロゲン含有マグネシウム化合物に担持
    したチーグラー型錯体触媒であり、 IV世代触媒が電子供与体を追加して有するIII 世代触媒
    であって、 V世代触媒がアルモキサンに担持したビスインデニル有
    機チタン化合物若しくはアルミニウムアルキル化合物に
    より活性化したビスシクロペンタジエニルチタンハロゲ
    ン化物であって、高度の触媒活性を有し、形成される重
    合物の高い立体規則性を生じることを特徴とする、 請求項1に記載の組成物。
  3. 【請求項3】 改良された耐候特性と良好な安定性を有
    し、 a) テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)
    ビフェニレンジホスホナイト、及び/又は式II 【化2】 [式中、nは0又は1であり、naは0又は1であり、
    はRの1価の意味を有する]の亜燐酸エステル、並
    びに b) 請求項2に定義した、V世代触媒の存在下に製造
    したポリオレフィン樹脂から成る、請求項1に記載の組
    成物。
  4. 【請求項4】 改良された耐候特性と良好な安定性を有
    し、 a) テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)
    ビフェニレンジホスホナイト、及び/又は式II 【化3】 [式中、nは0又は1であり、naは0又は1であり、
    はRの1価の意味を有する]の亜燐酸エステル、並
    びに b) 1つ以上の電子供与体を追加して有するハロゲン
    含有マグネシウム化合物に担持したチーグラー型錯体触
    媒である、IV世代触媒の存在下に製造したポリオレフィ
    ン樹脂から成る、請求項1に記載の組成物。
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