JP3233195B2 - 半導体素子検査用ソケット - Google Patents

半導体素子検査用ソケット

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JP3233195B2
JP3233195B2 JP18995596A JP18995596A JP3233195B2 JP 3233195 B2 JP3233195 B2 JP 3233195B2 JP 18995596 A JP18995596 A JP 18995596A JP 18995596 A JP18995596 A JP 18995596A JP 3233195 B2 JP3233195 B2 JP 3233195B2
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浩一 山崎
博登 小松
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Shin Etsu Polymer Co Ltd
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    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0433Sockets for IC's or transistors
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体素子検査用ソ
ケット、特に、側部に複数のリードを備えるQFP(Qu
ad Flat Package ),SOP(Small Outline Package
),PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier ),L
CC(Leadless Chip Carrier )等の表面実装型半導体
パッケージの検査に適した半導体素子検査用ソケットに
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体パッケージのバーンイン試験等に
際しては、半導体パッケージの電極とIC検査用基板の
電極端子との接続にICソケットが用いられている。こ
のようなICソケットとしては、従来、ソケット本体に
半導体パッケージが装填可能な装填部を形成し、この装
填部に電極端子を、本体の側部や底部に電極端子と導線
によって接続されたリードやピンを固設するとともに、
装填部の表面側開口を開閉する蓋部材をヒンジ等によっ
て取り付けたものが知られる。
【0003】このようなICソケットは、蓋部材により
装填部の開口を閉止した場合、装填部内に装填された半
導体パッケージを蓋部材により表側から押さえて半導体
パッケージの電極を装填部内のリードやピンに圧接する
ように、あるいは、蓋部材の裏面側にゴムやスプリング
の弾性部材を設け、弾性部材により半導体パッケージを
弾性的に装填部内のリードやピンに押圧するように構成
される。そして、このようなICソケットは、ソケット
本体の側部にリードを設けたものはリードを回路基板に
半田により接続することで、また、ソケット本体の底部
にピンを設けたものはピンを回路基板のスルーホールに
挿通して接続することで回路基板に取り付けられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のICソケットにあっては、本体の装填部に電極
端子を、本体の外側にリードやピンを設けなければなら
ず、部品点数が多く、組立も煩雑であるという問題があ
る。また、この従来のICソケットにあっては、回路基
板への半田付けが不可欠で工程が増加するという問題が
あり、特に、ピンを設けた場合は回路基板にスルーホー
ルを形成しなければならず、回路基板の設計が煩雑にな
るという問題もあった。この発明は、上記問題に鑑みな
されたもので、部品点数が少なく構造が簡単で、回路基
板の設計等に大きな自由度が得られ、また、高周波特性
にも優れた半導体素子検査用ソケットを提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、素子本体の外側にリードまたは電極を
有する半導体素子の検査に用いられ、前記リードまたは
電極を回路基板の電極端子に導通する半導体素子検査用
ソケットであって、前記回路基板に位置決めして取り付
けられ、前記半導体素子の素子本体を位置決めして着脱
自在に装着可能な装填部を有するソケット本体と、該ソ
ケット本体と前記回路基板との間に介設され、該回路基
板側の面に前記ソケット本体の装填部内に前記半導体素
子のリードまたはリードと接触可能に延出する接続導片
を有するリードフレームと、絶縁性のゴム製弾性材料か
らなるエラストマシートに複数の導電性線状体を厚み方
向に垂直または斜めに貫通させて構成され、前記リード
フレームと前記回路基板との間に介設されて両面がそれ
ぞれ前記回路基板の電極および前記リードフレームの接
続導片の接続部と接触するエラストマコネクタと、を備
える。
【0006】そして、この発明にかかる半導体素子検査
用ソケットは、前記リードフレームを絶縁性樹脂からな
るベースフィルムの一面にパターン形成されたフレキシ
ブル配線基板から構成する態様(請求項2)に、また、
前記リードフレームの接続導片をばね性を有するリン青
銅やベリリウム銅から構成して前記装填部内に略弓状に
湾曲させて延出させた態様(請求項3)に構成すること
ができる。
【0007】さらに、この発明にかかる半導体素子検査
用ソケットは、前記リードフレームの接続導片が前記半
導体素子のリードまたは電極と接触する部分に粗化ある
いは鋭利な皮膜破壊部を有する態様(請求項4)に、ま
たさらに、半導体素子のリードまたは電極をリードフレ
ームの接続導片に向けて押圧し、該接続導片とリードま
たは電極とを所定の接触荷重で接触させる押さえ部材を
設ける態様(請求項6)に構成することができる。
【0008】また、この発明にかかる半導体素子検査用
ソケットは、前記エラストマシートが前記エラストマシ
ートを硬度20°H〜60°Hの絶縁性エラストマシー
ト、前記導電性線状体を10-1Ω・cm以下の体積抵抗
率を有する直径20μm〜90μmの金属細線で構成
し、該金属細線を前記エラストマシート中に10μm〜
125μmの間隔、かつ、両端が前記エラストマシート
の平面方向にその厚みの0〜1/2のオフセット量を生
ずる傾斜で貫通配置してなる態様(請求項5)に構成す
ることができる。
【0009】この発明にかかる半導体素子検査用ソケッ
トは、前述したQFP,SOP,PLCCLCC等の半
導体パッケージ、すなわち、特に、側部にリードまたは
電極を有する半導体素子の検査に適する。ソケット本体
は、半導体素子の位置決め機能を有し、着脱を繰り返し
て使用するため、−60°C〜150°C環境下での使
用に耐え、かつ、滑性に優れた樹脂、例えば、エポキシ
樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリフェニレ
ンスルフィド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂あるい
はポリエーテルイミド樹脂等を用い、射出成形または樹
脂ブロックの切削加工等により成形される。このソケッ
ト本体は、位置決めピン等により回路基板に位置決めし
て取り付け、望ましくは着脱自在に取り付けられる。こ
のソケット本体の装填部は、半導体パッケージの本体
(モールド部や装着基板)と対応した形状・寸法の穴や
凹部から、あるいは、半導体パッケージの本体と当接す
る位置決め部を有する穴や凹部等からなる。
【0010】また、ソケット本体には、装填部内の半導
体素子自体および/または半導体素子のリードまたは電
極(以下、リードで総称する)のみを回路基板の電極端
子とリードフレームの接続導片とがエラストマコネクタ
を介して電気的に接続されるようにエラストマコネクタ
を圧縮・押圧する構造とし、押圧する押さえ部材や蓋体
が必要に応じて適宜設けられる。押さえ部材は、自重あ
るいは別個に設けられたスプリングやゴムにより半導体
素子(リード)をそのリードがリードフレームの接続導
片と接触する方向に押圧、付勢するように構成される。
蓋体は、ヒンジ等で一側部をソケット本体に回動自在に
取り付けることで、あるいは、ソケット本体と完全に分
離した別個に成形して爪等でソケット本体に係止可能に
構成される。この蓋体は、ソケット本体と同様の樹脂に
より成形される。そして、この蓋体は、ソケット本体に
スプリング等を介して取り付けて直接に半導体素子(お
よび/またはリード)を押圧するように、また、内面に
固着されたゴム等を介して半導体パッケージを押圧する
ように、さらに、半導体パッケージを上述した押さえ部
材を介して押圧するように組み付け、半導体パッケージ
のリードとリードフレームの接続導片とを適正な接触圧
で当接させる。
【0011】リードフレームは、樹脂からなるシート
(ベースフィルム)または板の一面に複数の接続導片を
露呈させて形成し、これら複数の接続導片が装填部に延
出、望ましくは、弓状に湾曲して延出する。具体的な一
例を述べれば、このリードフレームは、樹脂のベースフ
ィルムに銅等の導電性金属で接続導片を一体にパターン
形成したフレキシブル基板等が用いられる。このリード
フレームに用いられる樹脂としては、−60°C〜15
0°Cの環境下での使用に耐え、かつ、滑性に優れた樹
脂、例えば、液晶ポリマポリイミド系樹脂、ポリアミド
系樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルサルフ
ァイド樹脂等が挙げられる。接続導片は、ベリリウム銅
合金やリン青銅等の導電性ばね材を用いて、厚みが15
0μm、幅が0.2mm程度に形成される。
【0012】望ましい態様としては、このリードフレー
ムには、ベースフィルムの他面(接続導片と反対の面)
に導電層を設け、この導電層を接地することで電磁波の
シールド性を改善でき、また、この導電層と電源ライン
と間にチップコンデンサを介在させることで電源電圧の
安定化が図れ、さらに、インピーダンスの設定も容易で
ある。具体的な一例を述べれば、このリードフレームの
インピーダンスは、検査用の信号(高周波電流)に対し
て50Ω程度に設定する。さらに、接続導片には、金や
銀等のめっきを施すこと、また、半導体素子のリードと
接触した時にリード表面の酸化膜等を除去する皮膜破壊
部を設けることが望ましい。めっきの具体的な一例を述
べれば、この接続導片には、0.5〜3μm程度の厚み
のニッケル下地めっきを施した後、このニッケル下地め
っき上に0.05〜5μm程度の金めっきを施す。皮膜
破壊部は、接続導片の表面をサンドブラスト等によって
やすりのように粗面化することで、あるいは、鋭利な突
起を突設すること等により構成される。
【0013】エラストマコネクタは、エラストマシート
がシリコーン樹脂、エポキシ樹脂に代表されるエラスト
マ性の熱硬化性樹脂、合成ゴム若しくはポリエチレン樹
脂、ポリウレタン樹脂、ABS樹脂、軟質塩化ビニル樹
脂等の熱可塑性樹脂からなり、金属細線が純金線、金合
金線、金めっき線、半田線、半田めっき線あるいは銅合
金線等からなる。エラストマシートは、0.3〜2.0
mm程度の厚みで、体積抵抗率が1012Ω・cm以上、
かつ、硬度(JIS J6301A型)が20〜60°
H、望ましくは、30〜60°Hのものが用いられる。
【0014】金属細線は、線径が20〜90μm(望ま
しくは、20〜70μm)で、体積抵抗率が10-1Ω・
cm以下のものが用いられる。この金属細線は、70〜
1000本/mm2 程度の配線密度、望ましくは、10
0〜1000本/mm2 程度の配線密度、かつ、10〜
125μm程度の間隔でエラストマシート中に平行に傾
斜して貫通配設される。この金属細線は、エラストマシ
ートの両面に露呈、好ましくは、5〜50μm、より好
ましくは5〜30μm程度が突出し、また、両端部がエ
ラストマシートの平面方向にエラストマシートの厚みの
0〜1/2程度のずれ(オフセット量x)を生じる傾斜
角度でエラストマシートを貫通する。
【0015】
【作用】この発明にかかる半導体素子接続用ソケット
は、ソケット本体やリードフレームを位置決めピン等に
より位置決めして回路基板に取り付け、リードフレーム
の接続導片と回路基板の電極端子との間にエラストマコ
ネクタを介装して構成される。このため、少ない部品点
数、かつ、簡単な構造で達成でき、また、回路基板への
取り付けに際しての半田付け等が不要で回路基板への取
付も容易に行え、さらに、回路基板にスルーホール等を
形成する必要もなく、回路基板の設計等が大きな自由度
をもって行える。
【0016】そして、ソケット本体の装填部内に半導体
パッケージ(半導体素子)が位置決めされて所定の位置
に装填され、この半導体パッケージのリードがリードフ
レームの接続導片と接触して導通し、エラストマコネク
タを介し回路基板の電極端子と導通する。すなわち、半
導体パッケージはリードがリードフレームの接続導片を
弾性的に撓ませて個別的に当接し、半導体パッケージの
リードとリードフレームの接続導片とが電気的に導通
し、リードフレームは接続導片の接続部を介してエラス
トマコネクタの導電性線状体と導通する。このため、半
導体パッケージはリードがリードフレームとエラストマ
コネクタの導電性線状体とを介してエラストマコネクタ
の設定されたオフセット量x分だけオフセットされた回
路基板の電極端子と導通する。
【0017】特に、請求項2に記載の発明は、リードフ
レームがフレキシブル回路基板により構成されるため、
フレキシブル回路基板に実施されている設計ルールを採
用することで優れた高周波特性が得られる。また、請求
項3に記載の発明は、リードフレームの接続導片を銅系
合金の導電性ばね材から構成するため、接続導片の撓み
に適度な弾性が得られて半導体パッケージのリードとの
電気的な導通がより確実に得られ、また、優れた耐久性
が得られる。
【0018】さらに、請求項4に記載の発明は、リード
フレームの接続導片が皮膜破壊部を有するため、半導体
パッケージのリードに半田酸化膜等が形成されていた場
合でも、この半田酸化膜を皮膜破壊部で破壊、除去で
き、電気的な導通がより確実に得られる。またさらに、
請求項5に記載の発明は、エラストマコネクタに適正な
弾性と優れた耐久性が得られ、回路基板の電極端子とリ
ードフレームの回路とを確実に導通させることができ
る。さらに、リードフレームの接続導片の接続部に対し
て複数の電極端子を回路基板に並設することにより、複
数の種類の信号を用いた検査が可能で、検査を効率的に
行える。
【0019】
【実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図面を参
照して説明する。図1から図8はこの発明の一の実施の
形態にかかる半導体素子接続用ソケットを示し、図1が
分解斜視図、図2が分解断面図、図3が図2のA−A矢
視図、図4が一部を拡大した断面図、図5が同一部の模
式裏面図、図6a〜eが同一部の他の態様を示す模式平
面図、図7がエラストマコネクタの模式断面図、図8
a,b,cが同エラストマコネクタの他の態様を示す一
部拡大模式断面図である。
【0020】図中、10は平面四角型の半導体パッケー
ジ(QFP)、20は回路基板、30はソケット本体、
40はリードフレーム、50はエラストマコネクタ、6
0は押さえ部材、70は蓋体を表す。半導体パッケージ
10は、周知のように、四角板状のモールド部11の4
辺側部にそれぞれ複数のリード12が設けられる。これ
らリード12は、モールド部11の側部に一定の間隔を
隔て配置され、略鉤形状に屈曲して側方へ延出する。
【0021】回路基板20は、ソケット本体30の後述
する装填穴と対応した矩形領域の4辺部分にそれぞれ複
数の電極端子21が一定間隔を隔て形成され、また、矩
形領域の角部にそれぞれ取付穴22が、対向する一対の
辺に中央位置でそれぞれ位置決め孔23が貫通形成され
る。電極端子21は、半導体パッケージ10のリード1
2と対応し、このリード12に対してエラストマコネク
タ50の後述するオフセット量xに対応した寸法だけ偏
位した位置に形成される。なお、後述するように、取付
穴22にはソケット本体30の取付用のボルト等が挿通
されて裏面側でナット等と螺合し、また、位置決め孔2
3には後述する位置決めピン33(図1参照)が嵌挿す
る。
【0022】ソケット本体30は、略矩形板状の部材か
らなり、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルサル
フォン樹脂あるいはポリエーテルイミド樹脂等を用いて
射出成形または樹脂ブロックの切削加工等により成形さ
れる。ソケット本体30には、中央に表側(回路基板2
0と反対側)に開口する装填凹部(装填部)31が、ま
た、裏面に装填凹部31の4辺周縁で取付凹部39が切
欠形成され、これら取付凹部39にそれぞれリードフレ
ーム40とエラストマコネクタ50が位置合わせされて
ビス等により一体的に設けられる(図4参照)。装填凹
部31は、断面形状が半導体パッケージ10のモールド
部11と対応した矩形状であって、半導体パッケージ1
0が着脱自在に装填される。この装填凹部31には、4
隅にそれぞれ位置決め部35が形成され、底部に位置決
め部35間でそれぞれ矩形の接続穴36が貫通形成され
ている。
【0023】位置決め部35は、互いに対向する側にそ
れぞれテーパ面35aと平行位置決め面35bを、ま
た、対角線方向に平面視直角な位置決め切欠部35cを
有する。テーパ面35aは、互いの間隔が装填凹部31
の開口側で拡がるように傾斜し、装填凹部31内に装填
される半導体パッケージ10のリード12を接続穴36
上に案内する。平行位置決め面35bは、互いの間隔が
半導体パッケージ10の1辺のリード12の配列長さと
略等しく、接続穴36上のリード12の位置を規定す
る。位置決め切欠部35cは、角間の間隔が半導体パッ
ケージ10のモールド部11の対角線の長さと略等し
く、モールド部11を位置決めする。
【0024】また、このソケット本体30には、対向す
る一対の辺部の裏面(回路基板20側の面)にそれぞれ
位置決めピン33が植設され、他の対向する一対の辺部
の外側に係止切欠部37が、装填凹部31の外側の4隅
にそれぞれ取付孔32が形成される。位置決めピン33
は回路基板20の位置決め孔23に嵌合し、取付孔32
にそれぞれ取付用のボルトが挿通し、係止切欠部37に
蓋体70の爪片が係止する。このソケット本体30は、
位置決めピン33により位置決めされ、取付孔32およ
び回路基板20の取付孔22を貫通するボルトにより回
路基板20に取り付けられる。
【0025】図4に示すように、リードフレーム40
は、ポリイミドやポリエステル等のベースフィルム41
の一面(回路基板20側の面)に複数の接続導片42が
所定の間隔を隔て平行に設けられ、他面が導電層43に
より被覆される。図中明示しないが、導電層43は、周
知の銅箔等からなり、電気的に接地され、また、電源ラ
インとの間にチップコンデンサが介装される。なお、こ
のリードフレーム40はフレキシブル配線基板の製造に
周知の方法、例えば、パターニング等で製造される。
【0026】接続導片42は、幅が0.2mm程度、厚
みが150μm程度の帯(線)状であって、ベリリウム
銅やリン青銅等の導電性ばね材からなる。これら接続導
片42は、基板部分にベースフィルム41と固着した接
続部42aを有し、先端部分が接続穴36上に弾性撓み
可能に延出する。図5に詳示するように、接続部42a
は径が先端部分より大きな円形であって、各接続導片4
2の接続部42aが千鳥状に配列される。図6aに示す
ように、接続導片42には先端部分に先端が鋭利な突起
(皮膜破壊部)42bが半導体パッケージ10のリード
12と接触する部分に形成される。この突起42bは、
半導体パッケージ10のリード12と接触した際にリー
ド12の表面に形成された酸化膜等を破壊し(突き破
り)、リード12と接続導片42を確実に導通させる。
これら接続導片42は、先端部分に30gf程度の荷重
を負荷した時に0.3〜0.5mm程度の弾性撓みを生
じる特性に形成される。
【0027】なお、接続導片42に形成する皮膜破壊部
は上述した突起42bに限られるものではなく、図6b
〜eに示すようなものを形成することも可能である。す
なわち、図6bに示すようにリード12と接触する部分
にパーティクル42fを設けること、図6cに示すよう
にバリ42gを立ち上げること、図6dや図6eに示す
ように接続導片42の先端の端面やエッジでリード12
と接触させること、また、図示しないがリード12と接
触する部分の面をサンドブラスト等で粗面化することも
可能である。
【0028】また、図示しないが、接続導片42にはニ
ッケル下地めっきと金めっきが施される。ニッケル下地
めっきは2〜6μm程度の厚みに形成され、金めっきは
ニッケル下地めっき上に0.03〜1.0μm程度の厚
み、より具体的には、ニッケル下地めっきは3.0μm
程度の厚み、金めっきは0.5μm程度の厚みに形成さ
れる。なお、述べるまでもないと解するが、めっきを施
すか否か、皮膜破壊部を形成するか否かは任意であり、
また、接続部42aは円形に限らず種々の形状を選択で
き、また、その大きさや配列も任意に選択できる。
【0029】エラストマコネクタ50は、例えば、図7
に示すように、エラストマシート51に多数の金属細線
(導電性線状体)52を斜めに平行に埋入貫通させて構
成され、前述した取付凹部39内に接着剤等により取り
付けられて回路基板20の電極端子21と接触する。エ
ラストマシート51は、厚みが0.3mm〜2.0mm
のシートであり、体積抵抗率が1012Ω・cm以上で、
硬度(JIS J6301A型)が20°H〜60°H
(好ましくは、30°H〜60°H)のエラストマから
構成される。このエラストマシートを構成するエラスト
マとしては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等のエラス
トマ性の熱硬化性樹脂、合成ゴムまたはポリエチレン樹
脂、ポリウレタン樹脂、ABS樹脂、軟質塩化ビニル樹
脂等の熱可塑性樹脂等が挙げられるが、耐環境特性と耐
熱性等に優れた絶縁性のシリコーンゴムが望ましい。
【0030】金属細線52は、線径が20μm〜90μ
m(望ましくは、20〜70μm)で、体積抵抗率が1
-1Ω・cm以下の材質の線材、具体的には、純金線、
金合金線、金めっき線、半田線、半田めっき線、銅合金
線等からなる。この金属細線52は、70〜1000本
/mm2 、望ましくは、100〜1000本/mm2
配線密度で、相互に10〜125μm程度の間隔、望ま
しくは、50〜100μmの間隔を隔てエラストマシー
ト51中に垂直または斜めに平行に埋入され、エラスト
マシート51の表裏に露呈する端部がシート51の平面
方向にズレ(オフセット量x)を生じる。この金属細線
52の傾斜角度は、オフセット量xがエラストマシート
51の厚みの0〜1/2程度となるように設定される。
なお、このエラストマコネクタ50の一例として詳細を
本出願人が先に提出した特願平7−321387号に記
載されているため、一部の説明は割愛している。
【0031】ただし、上述したエラストマコネクタ50
は、図8a,b,cに示すような態様に構成することも
可能である。図8aに示す態様は、エラストマシート5
1から突出する金属細線52の先端を折り曲げてエッジ
部52aを構成する。この態様は、エッジ部52aがリ
ードフレーム40の接続部42aの酸化膜等を突き破る
ことができるため、接続部42aと金属細線52とを確
実に導通させることができる。
【0032】また、図8bに示す態様のエラストマコネ
クタ50は、エラストマシート51から突出した金属細
線52の端部にレーザ加工等を施して球状の端子部52
bを形成する。この端子部52bは、金属細線52より
も大径に成形することが好ましい。さらに、図8cに示
す態様のエラストマコネクタ50は、エラストマシート
51の表面に露呈する金属細線52の端面に半田等を肉
盛り、あるいは、端面に金めっきを施して略半球状の端
子部52cを成形する。これら図8a,b,cの態様の
エラストマコネクタ50は、エラストマシート51から
エッジ部52a(端子部52b,52c)が突出するた
め、リードフレーム40の接続部42aとの接触圧が小
さくても確実に導通させることができる。
【0033】押さえ部材60は、板材61の一面に4つ
の押さえ板62を略四角形状に半導体パッケージ10の
4辺のリード12と対応した位置で固着して構成され、
これら板材61および押さえ板62が前述したソケット
本体30と同様の樹脂から成形される。この押さえ部材
60は、装填凹部31内の半導体パッケージ10上に載
せられ、押さえ板62の先端が半導体パッケージ10の
リード12と当接して接続導片42側に押圧する。な
お、63は押さえ部材60に貫通形成されたガイド孔で
あり、これらガイド孔63には蓋体70の後述するガイ
ドピンが摺動自在に挿通する。
【0034】蓋体70は、略矩形平板状をなし、対向す
る一対の側辺部にそれぞれ略矩形平板状の係止爪71が
取り付けられる。係止爪71は、中間部が図示しない支
持ピンにより回動自在に蓋体70に支持され、裏面側縁
部に上述したソケット本体30の係止切欠部37に係止
可能な爪部71aが、反対側の縁部に滑り止め用の突条
71bが形成される。これら係止爪71は、支持ピンの
周りに設けられたトーションスプリングにより爪部71
aが接近する方向に付勢される。
【0035】また、蓋体70には、4つのスプリングピ
ン72が表裏を貫通して裏面側への突出長さを調節可能
に螺合し、裏面の対向する辺部にそれぞれガイドピン7
3が植設される。図示および詳細な説明は割愛するが、
スプリングピン72は、蓋体70に螺合した六角穴付き
の殻体内にスプリングにより付勢されたプランジャを収
容して構成され、プランジャが蓋体70に押さえ部材6
0に均一に当接するように配置される。これらスプリン
グピン72は、プランジャが蓋体70の裏面から押さえ
部材60を押圧可能に突出し、殻体の螺合長さをレンチ
等を用いて調節することでプランジャの突出長さが調節
される。
【0036】ガイドピン73は、金属ピン等からなり、
蓋体70の裏面に対称的に配列される。これらガイドピ
ン73は、上述した押さえ部材60のガイド孔63に摺
動自在に挿通し、押さえ部材60の移動を案内する。な
お、この実施の形態にあっては、蓋体70を設けて押さ
え部材60を押圧するが、蓋体70は不可欠ではない。
すなわち、半導体パッケージ10のリード12とリード
フレーム40の接続導片42との接触荷重は1本のリー
ド12に付いて(1組のリード12,42当たり)30
gf程度で足りるため、この接触荷重が押さえ部材60
の自重により確保されれば、蓋体70は不要である。
【0037】この実施の形態にかかる半導体素子検査用
ソケットは、回路基板20への取付に際しては、先ず、
ソケット本体30にリードフレーム40を位置決めし
て、また、エラストマコネクタ50を取り付ける。すな
わち、リードフレーム40の接続導片42をソケット本
体30の接続穴36に延出させ、また、リードフレーム
40の接続部42aをエラストマコネクタ50の一面に
接触させる。次いで、ソケット本体30の位置決めピン
33を回路基板20の位置決め孔23に挿通するととも
に、ソケット本体30の取付孔32と回路基板20の取
付穴22にボルトを挿通し、このボルトによりソケット
本体30を回路基板20に取り付ける。このため、半田
付けを行うこと無く回路基板20に実装でき、また、リ
ードフレーム40やエラストマコネクタ50が劣化ある
いは損傷した場合には、回路基板20から取り外すこと
ができ、回路基板20を繰り返し使用することができ
る。
【0038】そして、半導体パッケージ10のバーンイ
ン等の試験に際しては、ソケット本体30の装填凹部3
1内に半導体パッケージ10を装填し、この装填凹部3
1内の半導体パッケージ10上に押さえ部材60を載せ
て蓋体70をソケット本体30の上部に取り付ける。こ
こで、半導体パッケージ10は、位置決め部35等によ
り位置合わせされ、リード12がそれぞれ蓋体70のス
プリングピン72等により付勢されて適正な荷重(30
gf程度)でリードフレーム40の接続導片42と接触
する。このため、半導体パッケージ10は、リード12
がリードフレーム40およびエラストマコネクタ50を
経て回路基板20の電極端子21と接続する。
【0039】ここで、リードフレーム40の接続導片4
2には半導体パッケージ10のリード12と接触する面
に突起42b形成され、半導体パッケージ10は装填さ
れる際にリード12が2〜20μmの範囲を接続導片4
2と摺接する(マイクロワイピング)。このため、半導
体パッケージ10のリード12に酸化膜等の電気的な導
通を阻害する膜が形成されていても、接続導片42は突
起42bが酸化膜を突起42bが突き破り破壊してリー
ド12と導通するため、電気的な導通を確実に得られ
る。
【0040】また、リードフレーム40には回路基板2
0と反対側の面に導電層43が設けられ、この導電層4
3が接地され、また、導電層43と電源ラインとの間に
チップコンデンサが介装されている。このため、電磁波
の遮蔽特性が改善され、また、電源電圧の安定化が図
れ、高周波信号を用いた検査も高い信頼性をもって行え
る。さらに、リードフレーム40はフレキシブル配線基
板の製造に周知の方法で形成されるため接続導片42の
インピーダンス等の設定の自由度が大きく、また、接続
部42aの配置や大きさの選択の自由度も大きくなるた
め回路基板20の設計も容易となり、回路基板20の共
通化も図れる。
【0041】図9はこの発明の他の実施の形態にかかる
半導体素子検査用ソケットを示し、その一部拡大断面図
である。なお、上述した実施の形態と同一の部分には同
一の番号を付して図示と説明を省略する。
【0042】この実施の形態は、リードフレーム40の
1つの接続部42aに対して複数(2つ)の電極端子2
1a,21bを回路基板20に設け、これら電極端子2
1a,21bをエラストマコネクタ50を介して接続部
42aに並列に接続する。この実施の形態では、回路基
板20の電極端子21a,21bを切り換えること等に
よって2種類の信号を用いた検査(評価)が可能であ
り、半導体パッケージ10の検査を効率的に行える。
【0043】なお、上述した各実施の形態では、半導体
パッケージ10としてQFPを例示するが、SOPやP
LCCの半導体パッケージにも適用できることは述べる
までもない。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように、この発明にかかる
半導体素子接続用ソケットによれば、半導体パッケージ
を着脱自在に位置決めして収容可能な装填部が形成され
たソケット本体を回路基板に位置決めして取り付けると
ともに、導電回路および該導電回路と導通して装填部内
に延出する接続導片を備えるリードフレームをソケット
本体に位置決めして取り付け、このリードフレームの導
電回路と回路基板の電極端子との間にエラストマコネク
タを介装して電気的に導通させ、装填部内に装填された
半導体パッケージのリードをリードフレームの接続導片
と接触させて回路基板の電極端子と接続するため、少な
い部品点数、かつ、半田付けを必要としない簡単な構造
で構成でき、また、安定した接続が長期にわたって得ら
れ、さらに、半導体パッケージの傷付き等も防止でき
る。
【0045】そして、請求項4に記載の発明にかかる半
導体素子検査用ソケットは、リードフレームの接続導片
に皮膜破壊部を形成し、接続導片が半導体パッケージの
リードと接触した時にリード表面の酸化膜等を破壊する
ため、より安定的に接続でき、高い信頼性が得られる。
【0046】また、この発明にかかる半導体素子検査用
ソケットは、リードフレームのベースフィルム他面側に
導電層を形成し、この導電層を接地することで電磁波の
シールド性が改善でき、また、導電層と電源ラインとの
間にチップコンデンサを介装することにより優れた高周
波特性と電源電圧の安定化が図れる。
【0047】さらに、請求項5に記載の発明にかかる半
導体素子検査用ソケットは、エラストマコネクタによる
リードフレームと回路基板との接続が高い信頼性をもっ
て、また、優れた耐久性をもって行えるという効果が得
られる。またさらに、リードフレームの1つの接続部に
対して複数の電極端子を回路基板に設け、これら電極端
子をリードフレームの1つの接続部に並列に接続するた
め、複数の種類の信号を用いた検査が効率的に行え、検
査時間の短縮が図れるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一の実施の形態にかかる半導体素子
検査用ソケットの分解斜視図である。
【図2】同半導体素子検査用ソケットの分解した状態の
断面図である。
【図3】図2のA−A矢視図である。
【図4】同半導体素子検査用ソケットの一部を拡大した
模式断面図である。
【図5】同半導体素子検査用ソケットのリードフレーム
の底面図である。
【図6】a,b,c,d,eがそれぞれ同リードフレー
ムの他の態様を示す一部拡大断面図である。
【図7】同半導体素子検査用ソケットのエラストマコネ
クタの模式断面図である。
【図8】a,b,cがそれぞれ同エラストマコネクタの
他の態様を示す一部拡大断面図である。
【図9】この発明の他の実施の形態にかかる半導体素子
検査用ソケットの一部を拡大した模式断面図である。
【符号の説明】
10 半導体パッケージ(半導体素子) 11 モールド部(本体) 12 リード 20 回路基板 21 電極端子 21a 電極端子 21b 電極端子 30 ソケット本体 31 装填凹部(装填部) 32 取付孔 33 位置決めピン 35 位置決め部 36 接続穴 40 リードフレーム 41 ベースフィルム 42 接続導片 42a 接続部 42b 突起(皮膜破壊部) 43 導電層 50 エラストマコネクタ 51 シート体 52 金属細線 60 押さえ部材 70 蓋体 72 スプリングピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−161870(JP,A) 特開 平9−17535(JP,A) 特開 平8−335486(JP,A) 特開 平8−55648(JP,A) 特開 平6−300815(JP,A) 特開 平6−180344(JP,A) 特開 平6−177286(JP,A) 特開 平6−119960(JP,A) 特開 平4−95883(JP,A) 特開 平1−248650(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01R 11/01 H01R 33/76 G01R 31/26 H01L 23/32

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 素子本体の外側にリードまたは電極を有
    する半導体素子の検査に用いられ、前記リードまたは電
    極を回路基板の電極端子に導通する半導体素子検査用ソ
    ケットであって、 前記回路基板に位置決めして取り付けられ、前記半導体
    素子の素子本体を位置決めして着脱自在に装着可能な装
    填部を有するソケット本体と、 該ソケット本体と前記回路基板との間に介設され、該回
    路基板側の面に前記ソケット本体の装填部内に前記半導
    体素子のリードまたは電極と接触可能に延出する接続導
    片を有するリードフレームと、 絶縁性のゴム製弾性材料からなるエラストマシートに複
    数の導電性線状体を厚み方向に垂直または斜めに貫通さ
    せて構成され、前記リードフレームと前記回路基板との
    間に介設されて両面がそれぞれ前記回路基板の電極およ
    び前記リードフレームの接続導片と接触するエラストマ
    コネクタと、を備えることを特徴とする半導体素子検査
    用ソケット。
  2. 【請求項2】 前記リードフレームが、絶縁性樹脂から
    なるベースフィルムの一面にパターン形成したフレキシ
    ブル配線基板である請求項1に記載の半導体素子検査用
    ソケット。
  3. 【請求項3】 前記リードフレームの接続導片が、ばね
    性を有するリン青銅またはベリリウム銅からなり、前記
    装填部内で略弓状に湾曲するものである請求項1または
    請求項2に記載の半導体素子検査用ソケット。
  4. 【請求項4】 前記リードフレームの接続導片が、前記
    半導体素子のリードまたは電極と接触する部分に粗化あ
    るいは鋭利な皮膜破壊部を有する請求項1、請求項2ま
    たは請求項3に記載の半導体素子検査用ソケット。
  5. 【請求項5】 前記エラストマシートは、前記エラスト
    マシートが硬度20°H〜60°Hの絶縁性エラストマ
    シート、前記導電性線状体が10-1Ω・cm以下の体積
    抵抗率を有する直径20μm〜90μmの金属細線であ
    って、該金属細線を前記エラストマシート中に10μm
    〜125μmの間隔、かつ、両端が前記エラストマシー
    トの平面方向にその厚みの0〜1/2のオフセット量を
    生ずる傾斜で貫通配置してなる請求項1から請求項4の
    いずれか1項に記載の半導体素子検査用ソケット。
  6. 【請求項6】 前記半導体素子のリードを前記リードフ
    レームの接続導片に向けて押圧して所定の接触荷重を付
    与する押さえ部材を設けた請求項1から請求項7のいず
    れか1項に記載の半導体素子検査用ソケット。
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