JP3223357B2 - スルーホール充填用ペースト及びそれを用いた多層プリント配線板 - Google Patents
スルーホール充填用ペースト及びそれを用いた多層プリント配線板Info
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- 238000011049 filling Methods 0.000 title claims description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 44
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 16
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 16
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 15
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylimidazole Chemical compound C1=NC=CN1C1=CC=CC=C1 SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
ースト及びそれを用いた多層プリント配線板に関する。
更に詳しくは、スルーホールにペーストを充填し、硬化
させた後に更に樹脂絶縁層或いは基板を積層した多層プ
リント配線板に関する。
い、表面実装部品の高実装密度化が要求されている。そ
のため、プリント配線板の多層化技術が必要である。多
層化の例としては、スルーホールを設けた基板をいわゆ
るコア基板とし、基板のスルーホールを穴埋めした後、
ビルドアップ法にて多層化する技術が用いられている。
基板や銅張積層板等にスルーホールとなる貫通孔を開け
た後、その内壁をメッキして導体層を形成し、多層化し
た際の平坦性を確保するために、このスルーホールを充
填用ペーストにて穴埋めする工程が必須となる。スルー
ホールの穴埋めに関する技術としては、以下のようなも
のが知られている。エポキシ系樹脂に無機粒子を添加し
て、硬化収縮時の体積収縮を抑える方法(特開昭62−
224996号公報)や熱衝撃性を向上する方法(特開
平8−83971号公報)が開示されている。また、特
定種類のエポキシ樹脂と硬化剤を組み合わせて、イオン
マイグレーションを抑制する方法(特開平6−3382
18号公報)やスルーホール表面の平坦化を図る方法
(特開平6−260756号公報)が開示されている。
また、揮発成分である溶剤分を極力添加しないことで、
基材の膨れ等の問題を回避する方法(特許第26030
53号公報)やスルーホール表面の平坦化を図る方法
(特開平7−188391号公報)が開示されている。
また、誘電体基板と充填樹脂との物性を規定して、熱衝
撃性を向上する方法(特開平3−222393号公報)
が開示されている。
従来のスルーホール充填用ペーストを用いると、信頼性
評価試験(特には、−55℃への冷却と125℃への加
熱を繰返し与える熱衝撃試験)において、充填樹脂では
なく、スルーホール上に積層形成した絶縁層やソルダー
レジスト層にクラックが発生するという問題があった
(図1を参照)。
多層プリント配線板を構成する材料(樹脂層、銅配線層
等)の熱膨張差によるものと考えられている。通常、い
わゆるコア基板は、銅配線の剥離を防止するために、銅
の熱膨張係数(約16ppm)に合わせるよう設計され
ており、従来のスルーホール充填用ペーストもそれにな
らい、銅の熱膨張係数に合わせるように設計されてい
た。しかし、上記クラックは、いくらスルーホール充填
用ペーストの硬化体の熱膨張係数を銅の熱膨張係数と合
わせても解消することはできなかった。
スルーホール充填用ペーストの硬化体の熱膨張係数と、
上記多層プリント配線板を構成する基板の厚み方向(Z
方向)の熱膨張係数との差の絶対値が20ppm/℃以
下であるスルーホール充填用ペーストを要旨とする。ス
ルーホール充填用ペーストの硬化体と基板(いわゆるコ
ア基板等)の厚み方向(Z方向)の熱膨張差を係る範囲
に規定することにより、熱衝撃試験等の信頼性評価試験
においてスルーホール上に積層形成した絶縁層やソルダ
ーレジスト層に発生するクラックの問題を解決すること
ができる。
配線板を構成する材料の−55〜125℃の間のTMA
(熱機械分析装置)にて測定した値をいう。スルーホー
ル充填用ペーストの硬化体の熱膨張係数は、実際に穴埋
めされ硬化した状態のものを測定するのが好ましいが、
以下のような簡便な方法によって測定した結果でも代用
できる。
ルム状にキャストし、通常用いる工程と同条件で熱硬化
させ、厚さ100μmのフィルム状硬化体とする。ここ
から長さ20mm×幅5mmの試験片を切り出し、これ
を用いてTMA法により測定する。ここにいう「TM
A」とは、熱機械的分析をいい、例えばJPCA−BU
01に規定されるものをいう。測定条件は、スパン15
mmにて試験片の長手方向に5gの引張加重を加えた状
態で−55℃まで冷却し、10℃/分の昇温速度で12
5℃以上まで加熱し伸び率ε(以下の数式1を参照)測
定し、熱膨張係数αを計算する(以下の数式2を参
照)。
膨張係数αは以下の条件で測定する。まず、銅配線やス
ルーホールを形成する前の基板を用意する。次いで基板
のZ方向に5gの圧縮加重を加えた状態で−55℃まで
冷却し、10℃/分の昇温速度で125℃以上まで加熱
して伸び率εを測定し、上記の数式1及び数式2を用い
て同様に計算する。
膨張係数は、基板のZ方向の熱膨張係数と一致している
ことが理論的には望ましいが、実際面では±20ppm
/℃の範囲であれば良く、特にはマイナス方向(基板の
Z方向の熱膨張係数より若干小さい)であることが好ま
しい。この理由の詳細は不明であるが、以下のように推
察される。スルーホール用充填ペーストの硬化体が熱衝
撃試験等にさらされる時、その熱膨張率によって膨張・
収縮を繰り返すわけであるが、該硬化体はスルーホール
内に充填硬化されているために、同時にスルーホール内
壁からも引張・圧縮応力、せん断応力等の複雑な応力を
うけ、複雑な歪を生じると思われる。これらの応力・歪
を考慮したときに、本発明の熱膨張係数の範囲であれば
安定に存在し得るものと推察される。
からはずれると、上記のクラック問題が発生しやすくな
り好ましくない。基板のZ方向の熱膨張係数とスルーホ
ール充填用ペーストの硬化体の熱膨張係数との差の絶対
値としては好ましくは20ppm/℃以下、更に好まし
くは15ppm/℃以下、最も好ましくは10ppm/
℃以下以下である。熱膨張係数との差は、上記のように
マイナス方向(基板のZ方向の熱膨張係数より若干小さ
い)であることが好ましい。特には、スルーホール充填
用ペーストの硬化体の熱膨張係数から基板のZ方向の熱
膨張係数を引いた値が、−1〜−10ppm/℃の範囲
で著しい効果が得られる。
T(ビスマレイミド/トリアジン樹脂)複合基板、高T
gガラス−エポキシ複合基板(FR−4、FR−5等)
等の高耐熱性積層板が望ましい。上記高耐熱性積層板の
熱膨張係数は、一般にXY方向が12〜17ppm、Z
方向が47〜52ppmであり、この場合においては、
スルーホール充填用ペーストの硬化体の熱膨張係数は3
3〜50ppm、望ましくは37〜45ppm、さらに
望ましくは40〜45ppmが良い。これらの値からは
ずれると、スルーホール上に形成した絶縁樹脂層やソル
ダーレジスト層にクラックが発生することがあり好まし
くない。基板の両面或いは片面上には絶縁樹脂層や配線
層が交互に積層され、必要に応じて最表面にソルダーレ
ジスト層が形成される。
る銅配線層には、樹脂層との密着性を高めるための表面
処理を施すのが好ましい。この表面処理には、黒化処
理、銅エッチング処理等の他、その後のカップリング剤
処理、防錆処理等も含まれる。スルーホールの形状には
特に制約は無いが、応力集中しやすい比較的小径でアス
ペクト比の大きいスルーホール(たとえば直径300μ
m、長さ800μm)においても、スルーホール上に形
成した絶縁樹脂層やソルダーレジスト層のクラックを抑
制することができる。
脂成分としては、エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹
脂は一般に硬化収縮が少なく硬化時の凹みが押さえられ
るためである、特に耐熱性、耐湿性、耐薬品性の点で芳
香族エポキシ樹脂(例えば、BPA型エポキシ樹脂、B
PF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等)を用いることが望ましい。エポキシ樹脂の硬化
剤には、耐熱性、耐薬品性の点でイミダゾール系硬化剤
が好ましい。特にはフェニルイミダゾール系の粉末状の
硬化剤が粘度調整の面で好ましい。
膨張率係数は、無機フィラー及び/又は金属フィラーの
含有量を調整することで制御できる。一般に、熱膨張係
数はフィラー含有量を高くすると小さくなり、含有量を
低くすると大きくなる。熱硬化性樹脂として液状芳香族
エポキシ樹脂を、その硬化剤にイミダゾール系硬化剤
を、フィラーにシリカ粒子を用いた場合、シリカ添加量
は樹脂成分(熱硬化性樹脂と硬化剤との和)100重量
部に対し、60〜150重量部、望ましくは90〜13
0重量部が熱膨張係数、硬化収縮率、粘性を適切にする
上で良い。
囲で、上記以外の他の成分を混合してもよい。例えば、
絶縁性及び耐湿性等に実質的に影響を及ぼさない範囲
で、消泡剤、揺変剤、着色剤、レベリング剤、カップリ
ング剤等を添加することもできる。
ーストの硬化体の25℃における弾性率が3.0〜6.
5GPaの範囲であることを要旨とし、請求項1に記載
のスルーホール充填用ペーストのより好ましい構成を例
示したものである。
その硬化体の熱膨張係数を基板のZ方向の熱膨張係数に
合わせているため、XY方向での熱膨張差が大きく、ス
ルーホール内壁より応力を受けやすい。この応力を緩和
するため、スルーホール充填用ペーストを熱硬化した硬
化体の25℃における弾性率を3.0〜6.5GPa、
特には3.0〜5.0GPaの範囲に規定することが望
ましい。弾性率が6.5GPa以上に大きいと、熱膨張
差で発生する応力も大きくなり、スルーホール充填用ペ
ーストの硬化体自体にクラックが発生するからである。
逆に弾性率が3.0GPaよりも小さいと、穴埋め材の
熱膨張が大きくなりすぎたり、耐熱性等の物性が低下し
てしまうからである。
性率は、実際に穴埋めされ硬化した状態のものを測定す
るのが理想的であるが、以下の簡便な方法によって測定
した結果でも代用できる。すなわち、スルーホール充填
用ペーストをフィルム状にキャストし、通常の工程と同
条件で熱硬化させ、厚さ100μmのフィルム状硬化体
とする。これから幅4mmの試験片を切り出し、これを
DMA法により測定する。ここにいう「DMA」とは、
動的粘弾性分析をいい、例えばJIS C 6481に
規定されるものをいう。測定条件は、スパン40mmに
て試験片の長手方向に10gの引張加重を加えた状態か
ら,振幅16μm、周波数11Hzで長手方向に正弦波
をかけ、25℃における貯蔵弾性率を求め、その値を弾
性率とする。
構成する基板に設けられたスルーホールの内部は、請求
項1又は請求項2に記載のスルーホール充填用ペースト
の硬化体で構成されている多層プリント配線板を要旨と
する。
評価試験(特には、−55℃への冷却と125℃への加
熱を繰返し与える熱衝撃試験)において、スルーホール
上に積層形成した絶縁層やソルダーレジスト層へのクラ
ック発生を防止できる。係る多層プリント配線板の製造
方法としては、フォトビアやレーザービアを用いたピル
ドアップ法やラミネート法或いはこれらの組み合わせが
適用可能である。
系硬化剤、シリカフィラーを混合し、3本ロールミルを
用いて混練して、スルーホール充填用ペーストを調製す
る。ここで用いた原材料の詳細は以下のようである。 E−828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シ
ェル製) E−819:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シ
ェル製) E−807:ビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化シ
ェル製) E−152:フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油
化シェル製) 2E4MZ−CN:イミダゾール系硬化剤(四国化成
製) SOC2:シリカフィラー(龍森製) PLV6:シリカフィラー(龍森製)
メッキ層を施したもの)を1000個有する、ガラス−
BT複合基板(三菱瓦斯化学製、品名;BTCCL H
L830)を用意し、この銅配線上に黒化処理(75℃
のNaClO 2水溶液に5分間浸漬)を施す。該基板に
表1のそれぞれのスルーホール充填用ペーストを公知の
スクリーン印刷法を用いて充填し、150℃×5時間の
条件下で熱硬化する。熱硬化後、ベルトサンダー研磨に
より基板表面を平坦化した後、ビルドアップ法を用いて
絶縁層1層と銅メッキによる銅配線層1層を形成し、最
上層にソルダーレジスト層を形成(図1の構成と同様)
して多層プリント配線板を完成する。
熱衝撃試験を行う。条件は、−55℃×1分〜125℃
×1分を1サイクルとして、500サイクルと1000
サイクル行ったところで、スルーホール上の絶縁層及び
ソルダーレジスト層に発生したクラックの数を拡大鏡
(倍率20倍)で調べる。1000サイクル後のクラッ
ク数が10個以下のものを合格とする。
体の熱膨張係数の測定 表1のそれぞれのスルーホール充填用ペーストをフィル
ム状にキャストし、150℃×5時間の条件下で熱硬化
させ、厚さ100μmのフィルム状硬化体とする。これ
から幅5mmの試験片を切り出し、これをTMA測定す
る。測定条件は、スパン15mmにて、試験片の長手方
向に5gの引張加重を加えた状態で−55℃まで冷却
し、10℃/分の昇温速度で125℃以上まで加熱し伸
び率ε(数式1を参照)を測定し、数式2を用いて熱膨
張係数αを計算する。結果を「硬化体の熱膨張係数」と
して表1に示す。また、硬化体の熱膨張係数から基板の
Z方向の熱膨張係数を引いた値を「熱膨張係数の差」と
して表1に示す。
成する前の基板を用いて上記(4)と同様の試験片にし
た状態にて測定する。但し試験片厚さは基板厚さと同じ
800μmとする。また、基板のZ方向の熱膨張係数
は、銅配線やスルーホールを形成する前の基板を用いて
基板のZ方向に5gの圧縮加重を加えた状態で−55℃
まで冷却し、10℃/分の昇温速度で125℃以上まで
加熱し伸び率ε(数式1を参照)を測定し、数式2を用
いて熱膨張係数αを計算する。該基板の熱膨張係数は、
XY方向で13.5ppm/℃、Z方向で48.3pp
m/℃である。
体の弾性率の測定 表1のそれぞれのスルーホール充填用ペーストをフィル
ム状にキャストし、通常の工程と同条件で熱硬化させ、
厚さ100μmのフィルム状硬化体とする。これから幅
4mmの試験片を切り出し、これをDMA測定する。測
定条件は、スパン40mmにて試験片の長手方向に10
gの引張加重を加えた状態から,振幅16μm、周波数
11Hzで長手方向に正弦波をかけ、25℃における貯
蔵弾性率を求め、その値を弾性率とする。
番号8では、熱衝撃試験1000サイクル後に発生した
クラック数が10個以下と良好な結果を示す。特には、
スルーホール充填用ペーストの硬化体の熱膨張係数から
基板のZ方向の熱膨張係数を引いた値である表1の「熱
膨張係数の差」が−1〜−10ppm/℃の範囲、すな
わち、マイナス方向にあり、かつ、弾性率が4.13〜
4.98GPaの範囲にある試料番号4乃至試料番号7
では、熱衝撃試験1000サイクル後に発生したクラッ
ク数が2個以下と極めて良好な結果を示す。
膨張係数から基板のZ方向の熱膨張係数を引いた値であ
る表1の「熱膨張係数の差」が3.8ppm/℃、すな
わち、プラス方向にあり、かつ、弾性率が3.09GP
aである試料番号8では、熱衝撃試験1000サイクル
後に発生したクラック数が7個と良好な結果であるが、
上記の試料番号4乃至試料番号7の結果と比較すると若
干劣る。この結果から、スルーホール充填用ペーストの
硬化体の熱膨張係数から基板のZ方向の熱膨張係数を引
いた値である「熱膨張係数の差」が負の値、すなわち、
マイナス方向にありる方が信頼性の面でより好ましいこ
とが分かる。
m/℃以上の比較例であり、かつ、弾性率が6.5GP
aを越える試料番号1及び試料番号2では、熱衝撃試験
1000サイクル後のクラック発生数がそれぞれ38及
び11と劣る結果である。しかも、熱衝撃試験500サ
イクル後の時点においてもクラックが発生(クラック発
生数は、それぞれ21及び5)することがわかる。
信頼性評価試験(特には、−55℃への冷却と125℃
への加熱を繰返し与える熱衝撃試験)において、スルー
ホール上に積層形成した絶縁層やソルダーレジスト層に
発生するクラックの問題を防止した多層プリント配線板
が提供できる。
クラックの説明図
Claims (3)
- 【請求項1】 多層プリント配線板に用いられるスルー
ホール充填用ペーストであって、 上記スルーホール充填用ペーストの硬化体の熱膨張係数
と、上記多層プリント配線板を構成する基板の厚み方向
(Z方向)の熱膨張係数との差の絶対値が20ppm/
℃以下であることを特徴とするスルーホール充填用ペー
スト。 - 【請求項2】 請求項1に記載のスルーホール充填用ペ
ーストであって、 上記スルーホール充填用ペーストの硬化体の25℃にお
ける弾性率が3.0〜6.5GPaの範囲であることを
特徴とするスルーホール充填用ペースト。 - 【請求項3】 多層プリント配線板を構成する基板に設
けられたスルーホールの内部は、請求項1又は請求項2
に記載のスルーホール充填用ペーストの硬化体で構成さ
れていることを特徴とする多層プリント配線板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29465399A JP3223357B2 (ja) | 1999-03-09 | 1999-10-18 | スルーホール充填用ペースト及びそれを用いた多層プリント配線板 |
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JP6093799 | 1999-03-09 | ||
JP11-60937 | 1999-03-09 | ||
JP29465399A JP3223357B2 (ja) | 1999-03-09 | 1999-10-18 | スルーホール充填用ペースト及びそれを用いた多層プリント配線板 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3223357B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4203435B2 (ja) | 2003-05-16 | 2009-01-07 | 日本特殊陶業株式会社 | 多層樹脂配線基板 |
TWI335195B (en) | 2003-12-16 | 2010-12-21 | Ngk Spark Plug Co | Multilayer wiring board |
JP4891235B2 (ja) * | 2005-06-01 | 2012-03-07 | パナソニック株式会社 | 回路基板とその製造方法及びこれを用いた電子部品 |
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- 1999-10-18 JP JP29465399A patent/JP3223357B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2000323843A (ja) | 2000-11-24 |
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