JP3198209B2 - 感熱記録材料 - Google Patents
感熱記録材料Info
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- JP3198209B2 JP3198209B2 JP31571193A JP31571193A JP3198209B2 JP 3198209 B2 JP3198209 B2 JP 3198209B2 JP 31571193 A JP31571193 A JP 31571193A JP 31571193 A JP31571193 A JP 31571193A JP 3198209 B2 JP3198209 B2 JP 3198209B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感熱記録材料に関し、特
に発色画像の保存安定性を向上させた感熱記録材料に関
する。
に発色画像の保存安定性を向上させた感熱記録材料に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来より、無色ないし淡色の電子供与性
発色性化合物と有機もしくは無機電子受容性化合物との
呈色反応を利用し、熱により両化合物を接触させて発色
画像を得るようにした感熱記録材料は良く知られている
(例えば、特公昭43−4160号公報、特公昭45−
14039号公報)。
発色性化合物と有機もしくは無機電子受容性化合物との
呈色反応を利用し、熱により両化合物を接触させて発色
画像を得るようにした感熱記録材料は良く知られている
(例えば、特公昭43−4160号公報、特公昭45−
14039号公報)。
【0003】この記録方式は比較的安価に製造できるこ
と、メンテナンスが不要なこと等の利点により、ファク
シミリ、感熱プリンター、各種記録計等に広く利用され
ている。
と、メンテナンスが不要なこと等の利点により、ファク
シミリ、感熱プリンター、各種記録計等に広く利用され
ている。
【0004】従来、電子受容性化合物としては、フェノ
ール性化合物が広く使用されており、中でも2,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン(慣用名ビス
フェノールА)は廉価で入手が容易という点で広く用い
られているものの、ビスフェノールАを電子受容性化合
物として用いた感熱記録材料は発色画像の保存安定性が
悪いという問題点がある。ビスフェノールА以外のフェ
ノール化合物としては、例えば、4−ヒドロキシ安息香
酸エステル類(特開昭56−144193号公報、特公
平1−30640号公報)、アラルキルオキシフェノー
ル類(特公平2−31678号公報、特開昭60−22
5789号公報)、ヒドロキシベンゾフェノン類(特開
昭57−193388号公報)等を電子受容性化合物と
して使用する感熱記録材料が提案されている。
ール性化合物が広く使用されており、中でも2,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン(慣用名ビス
フェノールА)は廉価で入手が容易という点で広く用い
られているものの、ビスフェノールАを電子受容性化合
物として用いた感熱記録材料は発色画像の保存安定性が
悪いという問題点がある。ビスフェノールА以外のフェ
ノール化合物としては、例えば、4−ヒドロキシ安息香
酸エステル類(特開昭56−144193号公報、特公
平1−30640号公報)、アラルキルオキシフェノー
ル類(特公平2−31678号公報、特開昭60−22
5789号公報)、ヒドロキシベンゾフェノン類(特開
昭57−193388号公報)等を電子受容性化合物と
して使用する感熱記録材料が提案されている。
【0005】しかしながら、4−ヒドロキシ安息香酸ベ
ンジルエステルを電子受容性化合物として使用すると、
発色画像濃度が経時とともに低下し、かつ発色画像上に
4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエステルの白色結晶が
析出し、粉を吹いた状態(いわゆる白化現象)を呈する
という問題点がある。アラルキルオキシフェノール類、
例えば、4−ベンジルオキシフェノールを電子受容性化
合物として使用した場合も発色画像濃度が経時とともに
低下する。また、ヒドロキシベンゾフェノン類、例え
ば、4−ヒドロキシベンゾフェノンを電子受容性化合物
として使用した場合には、発色画像の保存安定性(例え
ば、耐湿熱性、耐水性)は悪く、実用上十分な性能を有
しているとはいえない。
ンジルエステルを電子受容性化合物として使用すると、
発色画像濃度が経時とともに低下し、かつ発色画像上に
4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエステルの白色結晶が
析出し、粉を吹いた状態(いわゆる白化現象)を呈する
という問題点がある。アラルキルオキシフェノール類、
例えば、4−ベンジルオキシフェノールを電子受容性化
合物として使用した場合も発色画像濃度が経時とともに
低下する。また、ヒドロキシベンゾフェノン類、例え
ば、4−ヒドロキシベンゾフェノンを電子受容性化合物
として使用した場合には、発色画像の保存安定性(例え
ば、耐湿熱性、耐水性)は悪く、実用上十分な性能を有
しているとはいえない。
【0006】現在では上記の問題点を克服した、発色画
像の保存安定性に優れた感熱記録材料が強く望まれてい
る。
像の保存安定性に優れた感熱記録材料が強く望まれてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、特に
発色画像の保存安定性を著しく改善した感熱記録材料を
提供することである。
発色画像の保存安定性を著しく改善した感熱記録材料を
提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の要
望にこたえるべく、感熱記録材料に関し鋭意検討した結
果、本発明に到達した。
望にこたえるべく、感熱記録材料に関し鋭意検討した結
果、本発明に到達した。
【0009】すなわち、本発明は、電子供与性発色性化
合物と電子受容性化合物とを含有する感熱記録材料にお
いて、該電子受容性化合物として一般式(1)
合物と電子受容性化合物とを含有する感熱記録材料にお
いて、該電子受容性化合物として一般式(1)
【0010】
【化2】 〔式中、Xは単結合、アルキリデン基、酸素原子、硫黄
原子またはアミド基を表し、R1、R2およびR3は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハ
ロゲン原子を表し、l、mおよびnは独立に0〜4の整
数を表し、pは0または1を表す。〕で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩を少なくとも1種含有
する感熱記録材料に関する。
原子またはアミド基を表し、R1、R2およびR3は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハ
ロゲン原子を表し、l、mおよびnは独立に0〜4の整
数を表し、pは0または1を表す。〕で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩を少なくとも1種含有
する感熱記録材料に関する。
【0011】本発明に係る一般式(1)で表される安息
香酸誘導体および該誘導体の金属塩において、Xは単結
合、アルキリデン基、酸素原子、硫黄原子またはアミド
基を表す。
香酸誘導体および該誘導体の金属塩において、Xは単結
合、アルキリデン基、酸素原子、硫黄原子またはアミド
基を表す。
【0012】アルキリデン基の具体例としては、例え
ば、メチレン基、1,1−エチレン基、2,2−プロピ
リデン基、2,2−ブチリデン基、3,3−ペンチリデ
ン基、3,3−ヘキシリデン基、4−メチル−2,2−
ペンチリデン基、4,4−ヘプチリデン基、5−メチル
−3,3−ヘキシリデン基、4,4−オクチリデン基、
2,4−ジメチル−3,3−ペンチリデン基、5,5−
ノニリデン基、
ば、メチレン基、1,1−エチレン基、2,2−プロピ
リデン基、2,2−ブチリデン基、3,3−ペンチリデ
ン基、3,3−ヘキシリデン基、4−メチル−2,2−
ペンチリデン基、4,4−ヘプチリデン基、5−メチル
−3,3−ヘキシリデン基、4,4−オクチリデン基、
2,4−ジメチル−3,3−ペンチリデン基、5,5−
ノニリデン基、
【0013】1,1,1,3,3,3,−テトラフルオ
ロ−2,2−プロピリデン基、1,2−エチレン基、
1,3−プロピリデン基、1,2−プロピリデン基、
1,4−ブチリデン基、1,3−ブチリデン基、2,3
−ブチリデン基、1,5−ペンチリデン基、1,2−ペ
ンチリデン基、2,4−ペンチリデン基、1,6−ヘキ
シリデン基、1,2−ヘキシリデン基、1,3−ヘキシ
リデン基、1,5−ヘキシリデン基、2,5−ヘキシリ
デン基、1,7−ヘプチリデン基、2,6−ヘプチリデ
ン基、1,8−オクチリデン基、1,9−ノニリデン
基、1,1−シクロペンチリデン基、1,1−シクロヘ
キシリデン基、4−メチル−1,1−シクロヘキシリデ
ン基、2,6−ジメチル−1,1−シクロヘキシリデン
基、3,5−ジメチル−1,1−シクロヘキシリデン
基、1,1−シクロヘプチリデン基、1,1−シクロオ
クチリデン基、1,2−シクロペンチリデン基、1,3
−シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシリデン
基、1,3−シクロヘキシリデン基、1,4−シクロヘ
キシリデン基、3−メチル−1,4−シクロヘキシリデ
ン基、1,2−シクロヘプチリデン基、1,3−シクロ
オクチリデン基を例示することができる。
ロ−2,2−プロピリデン基、1,2−エチレン基、
1,3−プロピリデン基、1,2−プロピリデン基、
1,4−ブチリデン基、1,3−ブチリデン基、2,3
−ブチリデン基、1,5−ペンチリデン基、1,2−ペ
ンチリデン基、2,4−ペンチリデン基、1,6−ヘキ
シリデン基、1,2−ヘキシリデン基、1,3−ヘキシ
リデン基、1,5−ヘキシリデン基、2,5−ヘキシリ
デン基、1,7−ヘプチリデン基、2,6−ヘプチリデ
ン基、1,8−オクチリデン基、1,9−ノニリデン
基、1,1−シクロペンチリデン基、1,1−シクロヘ
キシリデン基、4−メチル−1,1−シクロヘキシリデ
ン基、2,6−ジメチル−1,1−シクロヘキシリデン
基、3,5−ジメチル−1,1−シクロヘキシリデン
基、1,1−シクロヘプチリデン基、1,1−シクロオ
クチリデン基、1,2−シクロペンチリデン基、1,3
−シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシリデン
基、1,3−シクロヘキシリデン基、1,4−シクロヘ
キシリデン基、3−メチル−1,4−シクロヘキシリデ
ン基、1,2−シクロヘプチリデン基、1,3−シクロ
オクチリデン基を例示することができる。
【0014】アミド基は、−CONH−基または−NH
CO−基を表し、好ましくは、−CONH−基である。
CO−基を表し、好ましくは、−CONH−基である。
【0015】好ましくは、Xは単結合、炭素数1〜10
のアルキリデン基、酸素原子、硫黄原子または−CON
H−基であり、より好ましくは、Xは単結合、炭素数1
〜4のアルキリデン基、シクロアルキリデン基、酸素原
子または−CONH−基であり、特に好ましくは、Xは
単結合、2,2−プロピリデン基、酸素原子または−C
ONH−基である。
のアルキリデン基、酸素原子、硫黄原子または−CON
H−基であり、より好ましくは、Xは単結合、炭素数1
〜4のアルキリデン基、シクロアルキリデン基、酸素原
子または−CONH−基であり、特に好ましくは、Xは
単結合、2,2−プロピリデン基、酸素原子または−C
ONH−基である。
【0016】また、一般式(1)で表される安息香酸誘
導体および該誘導体の金属塩において、R1、R2およ
びR3は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基またはハロゲン原子を表し、好ましくは、水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコ
キシ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子または臭素原
子である。より好ましくは、水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基または塩素原
子であり、特に好ましくは、水素原子である。
導体および該誘導体の金属塩において、R1、R2およ
びR3は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基またはハロゲン原子を表し、好ましくは、水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコ
キシ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子または臭素原
子である。より好ましくは、水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基または塩素原
子であり、特に好ましくは、水素原子である。
【0017】R1、R2およびR3の具体例としては、
例えば、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s
ec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペン
チル基、4−メチル−2−ペンチル基、2−エチルブチ
ル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、n−オ
クチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル
基、n−ノニル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル
基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル
基、1−エチルオクチル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、3−メチル
シクロヘキシル基、2−メチルシクロヘキシル基、2,
6−ジメチルシクロヘキシル基、2,5−ジメチルシク
ロヘキシル基、3,4−ジメチルシクロヘキシル基、
3,5−ジメチルシクロヘキシル基、メトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、te
rt−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチルペンチ
ルオキシ基、4−メチル−2−ペンチルオキシ基、2−
エチルブチルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、1−メ
チルヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、1−メ
チルヘプチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、
n−ノニルオキシ基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル
オキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、
n−デシルオキシ基、1−エチルオクチルオキシ基、シ
クロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−
メチルシクロヘキシルオキシ基、3−メチルシクロヘキ
シルオキシ基、2−メチルシクロヘキシルオキシ基、
2,5−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、2,6−ジ
メチルシクロヘキシルオキシ基、3,4−ジメチルシク
ロヘキシルオキシ基、1,3−ジメチルシクロヘキシル
オキシ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
を例示することができる。
例えば、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s
ec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペン
チル基、4−メチル−2−ペンチル基、2−エチルブチ
ル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、n−オ
クチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル
基、n−ノニル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル
基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル
基、1−エチルオクチル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、3−メチル
シクロヘキシル基、2−メチルシクロヘキシル基、2,
6−ジメチルシクロヘキシル基、2,5−ジメチルシク
ロヘキシル基、3,4−ジメチルシクロヘキシル基、
3,5−ジメチルシクロヘキシル基、メトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、te
rt−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチルペンチ
ルオキシ基、4−メチル−2−ペンチルオキシ基、2−
エチルブチルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、1−メ
チルヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、1−メ
チルヘプチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、
n−ノニルオキシ基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル
オキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、
n−デシルオキシ基、1−エチルオクチルオキシ基、シ
クロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−
メチルシクロヘキシルオキシ基、3−メチルシクロヘキ
シルオキシ基、2−メチルシクロヘキシルオキシ基、
2,5−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、2,6−ジ
メチルシクロヘキシルオキシ基、3,4−ジメチルシク
ロヘキシルオキシ基、1,3−ジメチルシクロヘキシル
オキシ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
を例示することができる。
【0018】また、一般式(1)で表される安息香酸誘
導体および該誘導体の金属塩において、l、mおよびn
は独立に0〜4の整数を表す。
導体および該誘導体の金属塩において、l、mおよびn
は独立に0〜4の整数を表す。
【0019】さらに一般式(1)で表される安息香酸誘
導体および該誘導体の金属塩において、pは0または1
を表す。
導体および該誘導体の金属塩において、pは0または1
を表す。
【0020】一般式(1)で表される化合物は、同一分
子内にカルボキシル基および水酸基を有することを特徴
とするものである。
子内にカルボキシル基および水酸基を有することを特徴
とするものである。
【0021】カルボキシル基の置換位置は、pが0の場
合、Xに対してオルト位、メタ位またはパラ位である。
また、pが1の場合、アミド基に対してオルト位、メタ
位またはパラ位である。さらに、pが1の場合、アミド
基の置換位置は、Xに対してオルト位、メタ位またはパ
ラ位である。
合、Xに対してオルト位、メタ位またはパラ位である。
また、pが1の場合、アミド基に対してオルト位、メタ
位またはパラ位である。さらに、pが1の場合、アミド
基の置換位置は、Xに対してオルト位、メタ位またはパ
ラ位である。
【0022】また、水酸基の置換位置は、Xに対してオ
ルト位、メタ位またはパラ位であり、好ましくは、Xに
対してメタ位またはパラ位である。
ルト位、メタ位またはパラ位であり、好ましくは、Xに
対してメタ位またはパラ位である。
【0023】一般式(1)で表される安息香酸誘導体お
よび該誘導体の金属塩を感熱記録材料用の電子受容性化
合物として使用する際に、一般式(1−1)〜一般式
(1−18)で表される安息香酸誘導体および該誘導体
の金属塩は、より好ましい化合物である。
よび該誘導体の金属塩を感熱記録材料用の電子受容性化
合物として使用する際に、一般式(1−1)〜一般式
(1−18)で表される安息香酸誘導体および該誘導体
の金属塩は、より好ましい化合物である。
【0024】
【化3】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0025】
【化4】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0026】
【化5】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0027】
【化6】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0028】
【化7】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0029】
【化8】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0030】
【化9】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0031】
【化10】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0032】
【化11】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0033】
【化12】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0034】
【化13】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0035】
【化14】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0036】
【化15】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0037】
【化16】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0038】
【化17】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0039】
【化18】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0040】
【化19】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0041】
【化20】 [式中、X、R1、R2、R3、l、m、nおよびpは
前記に同じ]
前記に同じ]
【0042】これらの安息香酸誘導体または該誘導体の
金属塩のうち、一般式(1−1)〜一般式(1−12)
で表される安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩が特
に好ましい。
金属塩のうち、一般式(1−1)〜一般式(1−12)
で表される安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩が特
に好ましい。
【0043】本発明に係る一般式(1)で表される安息
香酸誘導体または該誘導体の金属塩の具体例としては、
以下にあげる安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩を
例示することができるが、勿論本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
香酸誘導体または該誘導体の金属塩の具体例としては、
以下にあげる安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩を
例示することができるが、勿論本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
【0044】例示化合物 番号 1. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 2. 4−メチル−2−(2’−ヒドロキシフェニル)
安息香酸 3. 3−(2’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 4. 3−(4’−クロロ−2’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸 5. 4−(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 6. 6−メトキシ−4−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸 7. 2−(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 8. 2−(5’−エチル−3’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸 9. 3−(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 10. 3−(2’−ブロモ−3’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸
安息香酸 3. 3−(2’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 4. 3−(4’−クロロ−2’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸 5. 4−(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 6. 6−メトキシ−4−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸 7. 2−(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 8. 2−(5’−エチル−3’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸 9. 3−(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 10. 3−(2’−ブロモ−3’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸
【0045】11. 4−tert−ブチル−3−
(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 12. 4−(2’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 13. 4−(5’−n−プロピル−3’−ヒドロキシ
フェニル)安息香酸 14. 2−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 15. 2−(2’−エトキシ−4’−ヒドロキシフェ
ニル)安息香酸 16. 3−クロロ−2−(2’,6’−ジクロロ−
4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 17. 3−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 18. 3−(2’,6’−ジメトキシ−4’−ヒドロ
キシフェニル)安息香酸 19. 4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 20. 2,6−ジメチル−4−(2’,6’−ジメチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸
(3’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 12. 4−(2’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 13. 4−(5’−n−プロピル−3’−ヒドロキシ
フェニル)安息香酸 14. 2−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 15. 2−(2’−エトキシ−4’−ヒドロキシフェ
ニル)安息香酸 16. 3−クロロ−2−(2’,6’−ジクロロ−
4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 17. 3−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 18. 3−(2’,6’−ジメトキシ−4’−ヒドロ
キシフェニル)安息香酸 19. 4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸 20. 2,6−ジメチル−4−(2’,6’−ジメチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸
【0046】21. 2,6−ジクロロ−4−(4’−
ヒドロキシフェニル)安息香酸 22. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 23. 3−メチル−2−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 24. 2−(6’−クロロ−2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 25. 3−(2’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 26. 4−メトキシ−3−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 27. 3−(4’−エチル−2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 28. 4−(2’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 29. 2−ブロモ−4−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 30. 2−(3’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸
ヒドロキシフェニル)安息香酸 22. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 23. 3−メチル−2−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 24. 2−(6’−クロロ−2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 25. 3−(2’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 26. 4−メトキシ−3−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 27. 3−(4’−エチル−2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 28. 4−(2’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 29. 2−ブロモ−4−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 30. 2−(3’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸
【0047】31. 3−n−プロピル−2−(3’−
ヒドロキシフェニル)オキシ安息香酸 32. 2−(4’−フルオロ−3’−ヒドロキシフェ
ニル)オキシ安息香酸 33. 3−(3’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 34. 2,5−ジメチル−3−(3’−ヒドロキシフ
ェニル)オキシ安息香酸 35. 4−(3’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 36. 2,6−ジメトキシ−4−(3’−ヒドロキシ
フェニル)オキシ安息香酸 37. 2−メチル−4−(4’−メチル−3’−ヒド
ロキシフェニル)オキシ安息香酸 38. 2−(4’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 39. 2−(2’,6’−ジクロロ−4’−ヒドロキ
シフェニル)オキシ安息香酸 40. 3−(4’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸
ヒドロキシフェニル)オキシ安息香酸 32. 2−(4’−フルオロ−3’−ヒドロキシフェ
ニル)オキシ安息香酸 33. 3−(3’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 34. 2,5−ジメチル−3−(3’−ヒドロキシフ
ェニル)オキシ安息香酸 35. 4−(3’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 36. 2,6−ジメトキシ−4−(3’−ヒドロキシ
フェニル)オキシ安息香酸 37. 2−メチル−4−(4’−メチル−3’−ヒド
ロキシフェニル)オキシ安息香酸 38. 2−(4’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸 39. 2−(2’,6’−ジクロロ−4’−ヒドロキ
シフェニル)オキシ安息香酸 40. 3−(4’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息
香酸
【0048】41. 4−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)オキシ安息香酸 42. 2,6−ジメチル−4−(2’,6’−ジメチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息香酸 43. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 44. 4−メチル−2−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 45. 2−(4’−クロロ−2’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 46. 3−(2’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 47. 5−メトキシ−3−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 48. 4−(2’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 49. 2−(3’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 50. 5−n−プロピル−2−(3’−ヒドロキシフ
ェニル)チオ安息香酸
ル)オキシ安息香酸 42. 2,6−ジメチル−4−(2’,6’−ジメチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)オキシ安息香酸 43. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 44. 4−メチル−2−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 45. 2−(4’−クロロ−2’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 46. 3−(2’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 47. 5−メトキシ−3−(2’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 48. 4−(2’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 49. 2−(3’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 50. 5−n−プロピル−2−(3’−ヒドロキシフ
ェニル)チオ安息香酸
【0049】51. 3−(3’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ安息香酸 52. 2,6−ジメチル−3−(3’−ヒドロキシフ
ェニル)チオ安息香酸 53. 3−(2’−イソプロピル−3’−ヒドロキシ
フェニル)チオ安息香酸 54. 4−(3’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 55. 3,5−ジメトキシ−4−(3’−ヒドロキシ
フェニル)チオ安息香酸 56. 2−(4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 57. 3−(4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 58. 4−(4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 59. 2,6−ジメチル−4−(2’,6’−ジメチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香酸 60. 2−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸
ル)チオ安息香酸 52. 2,6−ジメチル−3−(3’−ヒドロキシフ
ェニル)チオ安息香酸 53. 3−(2’−イソプロピル−3’−ヒドロキシ
フェニル)チオ安息香酸 54. 4−(3’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 55. 3,5−ジメトキシ−4−(3’−ヒドロキシ
フェニル)チオ安息香酸 56. 2−(4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 57. 3−(4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 58. 4−(4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香
酸 59. 2,6−ジメチル−4−(2’,6’−ジメチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)チオ安息香酸 60. 2−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸
【0050】61. 2−(2’−ヒドロキシ−3’−
メチルフェニルアミノカルボニル)安息香酸 62. 2−(2’−ヒドロキシ−5’−ニトロフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 63. 2−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−4−メトキシ安息香酸 64. 2−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 65. 2−(3’−ヒドロキシ−3’−エチルフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 66. 2−(3’−ヒドロキシ−5’−ブロモフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 67. 2−(3’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニ
ルアミノカルボニル)−4−メチル安息香酸 68. 2−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3,4,5,6−テトラクロロ安息香酸 69. 2−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 70. 2−(4’−ヒドロキシ−2’−メトキシフェ
ニルアミノカルボニル)安息香酸
メチルフェニルアミノカルボニル)安息香酸 62. 2−(2’−ヒドロキシ−5’−ニトロフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 63. 2−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−4−メトキシ安息香酸 64. 2−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 65. 2−(3’−ヒドロキシ−3’−エチルフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 66. 2−(3’−ヒドロキシ−5’−ブロモフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 67. 2−(3’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニ
ルアミノカルボニル)−4−メチル安息香酸 68. 2−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3,4,5,6−テトラクロロ安息香酸 69. 2−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 70. 2−(4’−ヒドロキシ−2’−メトキシフェ
ニルアミノカルボニル)安息香酸
【0051】71. 2−(4’−ヒドロキシ−2’,
6’−ジメチルフェニルアミノカルボニル)安息香酸 72. 2−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3,5−ジクロロ安息香酸 73. 3−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 74. 3−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3−ブロモ安息香酸 75. 3−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 76. 3−(3’−ヒドロキシ−4’−クロロフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 77. 3−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3−n−プロピル安息香酸 78. 3−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 79. 3−(4’−ヒドロキシ−2’−t−ブチルフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸 80. 3−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−2,4,5,6−テトラクロロ安息香酸
6’−ジメチルフェニルアミノカルボニル)安息香酸 72. 2−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3,5−ジクロロ安息香酸 73. 3−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 74. 3−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3−ブロモ安息香酸 75. 3−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 76. 3−(3’−ヒドロキシ−4’−クロロフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸 77. 3−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3−n−プロピル安息香酸 78. 3−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 79. 3−(4’−ヒドロキシ−2’−t−ブチルフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸 80. 3−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−2,4,5,6−テトラクロロ安息香酸
【0052】81. 3−(4’−ヒドロキシフェニル
アミノカルボニル)−4−クロロ安息香酸 82. 4−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 83. 4−(2’−ヒドロキシ−6’−メトキシフェ
ニルアミノカルボニル)安息香酸 84. 4−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3−メトキシ安息香酸 85. 4−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−2,6−ジメチル安息香酸 86. 4−(2’−ヒドロキシ−4’,6’−ジクロ
ロフェニルアミノカルボニル)−2,3,5,6−テト
ラクロロ安息香酸 87. 4−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 88. 4−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−2,6−ジメチル安息香酸 89. 4−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 90. 4−(4’−ヒドロキシ−2’−エチルフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸
アミノカルボニル)−4−クロロ安息香酸 82. 4−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 83. 4−(2’−ヒドロキシ−6’−メトキシフェ
ニルアミノカルボニル)安息香酸 84. 4−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−3−メトキシ安息香酸 85. 4−(2’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−2,6−ジメチル安息香酸 86. 4−(2’−ヒドロキシ−4’,6’−ジクロ
ロフェニルアミノカルボニル)−2,3,5,6−テト
ラクロロ安息香酸 87. 4−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 88. 4−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)−2,6−ジメチル安息香酸 89. 4−(4’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸 90. 4−(4’−ヒドロキシ−2’−エチルフェニ
ルアミノカルボニル)安息香酸
【0053】91. 4−(4’−ヒドロキシ−3’−
イソプロピルフェニルアミノカルボニル)−3,5−ジ
メチル安息香酸 92. 2−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)メ
チルフェニルアミノカルボニル]安息香酸 93. 3−{3’−[2”−(3−ヒドロキシフェニ
ル)エチル]フェニルアミノカルボニル}安息香酸 94. 3−{4’−[3”−(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピル]フェニルアミノカルボニル}安息香酸 95. 2−{4’−[1”−メチル−1”−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカルボニ
ル}安息香酸 96. 4−{4’−[1”−エチル−1”−(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピル]フェニルアミノカルボニ
ル}安息香酸 97. 4−{4’−[4”−(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキシル]フェニルアミノカルボニル}安息
香酸 98. 2−{4’−[1”−(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘプチル]フェニルアミノカルボニル}安息
香酸 99. 2−[2’−(4”−ヒドロキシフェニル)オ
キシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 100. 2−[3’−(2”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]−4−エチル安息香
酸
イソプロピルフェニルアミノカルボニル)−3,5−ジ
メチル安息香酸 92. 2−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)メ
チルフェニルアミノカルボニル]安息香酸 93. 3−{3’−[2”−(3−ヒドロキシフェニ
ル)エチル]フェニルアミノカルボニル}安息香酸 94. 3−{4’−[3”−(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピル]フェニルアミノカルボニル}安息香酸 95. 2−{4’−[1”−メチル−1”−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカルボニ
ル}安息香酸 96. 4−{4’−[1”−エチル−1”−(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピル]フェニルアミノカルボニ
ル}安息香酸 97. 4−{4’−[4”−(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキシル]フェニルアミノカルボニル}安息
香酸 98. 2−{4’−[1”−(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘプチル]フェニルアミノカルボニル}安息
香酸 99. 2−[2’−(4”−ヒドロキシフェニル)オ
キシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 100. 2−[3’−(2”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]−4−エチル安息香
酸
【0054】101. 2−[4’−(4”−ヒドロキ
シフェニル)オキシフェニルアミノカルボニル]安息香
酸 102. 3−[2’−(3”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 103. 3−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 104. 4−[2’−(2”−ヒドロキシフェニル)
オキシ−4’−エトキシフェニルアミノカルボニル]安
息香酸 105. 4−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 106. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 107. 2−[2’−(1”−n−ブチル−3”−ヒ
ドロキシフェニル)チオフェニルアミノカルボニル]安
息香酸 108. 2−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 109. 2−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 110. 3−[4’−(3”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸
シフェニル)オキシフェニルアミノカルボニル]安息香
酸 102. 3−[2’−(3”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 103. 3−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 104. 4−[2’−(2”−ヒドロキシフェニル)
オキシ−4’−エトキシフェニルアミノカルボニル]安
息香酸 105. 4−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 106. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]安息香酸 107. 2−[2’−(1”−n−ブチル−3”−ヒ
ドロキシフェニル)チオフェニルアミノカルボニル]安
息香酸 108. 2−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 109. 2−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 110. 3−[4’−(3”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸
【0055】111. 3−[3’−(4”−ヒドロキ
シフェニル)チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 112. 4−[2’−(3”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 113. 4−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 114. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 115. 2−{4’−[1”−(4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキシル]フェニルアミノカルボニル}−
3,4−ジメチル安息香酸 116. 2−{4’−[1”−メチル−1”−(3−
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロピル]フェニル
アミノカルボニル}安息香酸 117. 2−{4’−[5”−(2,6−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)ペンチル]フェニルアミノカ
ルボニル}安息香酸 118. 2−[2’−メトキシ−4’−(4”−ヒド
ロキシフェニル)オキシフェニルアミノカルボニル]安
息香酸 119. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]−2,4−ジクロロ
安息香酸 120. 2−[4’−(2”,6”−ジメチル−4”
−ヒドロキシフェニル)チオフェニルアミノカルボニ
ル]安息香酸
シフェニル)チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 112. 4−[2’−(3”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 113. 4−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 114. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
チオフェニルアミノカルボニル]安息香酸 115. 2−{4’−[1”−(4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキシル]フェニルアミノカルボニル}−
3,4−ジメチル安息香酸 116. 2−{4’−[1”−メチル−1”−(3−
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロピル]フェニル
アミノカルボニル}安息香酸 117. 2−{4’−[5”−(2,6−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)ペンチル]フェニルアミノカ
ルボニル}安息香酸 118. 2−[2’−メトキシ−4’−(4”−ヒド
ロキシフェニル)オキシフェニルアミノカルボニル]安
息香酸 119. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
オキシフェニルアミノカルボニル]−2,4−ジクロロ
安息香酸 120. 2−[4’−(2”,6”−ジメチル−4”
−ヒドロキシフェニル)チオフェニルアミノカルボニ
ル]安息香酸
【0056】121. 4−[4’−(4”−ヒドロキ
シフェニル)チオフェニルアミノカルボニル]−2,6
−ジブロモ安息香酸 122. 4−{4’−[1”−メチル−1”−(4−
ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカルボニ
ル}安息香酸 123. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
フェニルアミノカルボニル]安息香酸 124. 2−[4’−(3”−ヒドロキシフェニル)
フェニルアミノカルボニル]安息香酸 125. 2−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
フェニルアミノカルボニル]−3,4,5,6−テトラ
クロロ安息香酸 126. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 127. 4−[4’−(3”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 128. 2−[2’−(4”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 129. 2−[2’−(3”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 130. 2−[4’−(2”−メチル−3”−ヒドロ
キシフェニルアミノカルボニル)フェニルアミノカルボ
ニル]安息香酸
シフェニル)チオフェニルアミノカルボニル]−2,6
−ジブロモ安息香酸 122. 4−{4’−[1”−メチル−1”−(4−
ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカルボニ
ル}安息香酸 123. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニル)
フェニルアミノカルボニル]安息香酸 124. 2−[4’−(3”−ヒドロキシフェニル)
フェニルアミノカルボニル]安息香酸 125. 2−[3’−(4”−ヒドロキシフェニル)
フェニルアミノカルボニル]−3,4,5,6−テトラ
クロロ安息香酸 126. 4−[4’−(4”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 127. 4−[4’−(3”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 128. 2−[2’−(4”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 129. 2−[2’−(3”−ヒドロキシフェニルア
ミノカルボニル)フェニルアミノカルボニル]安息香酸 130. 2−[4’−(2”−メチル−3”−ヒドロ
キシフェニルアミノカルボニル)フェニルアミノカルボ
ニル]安息香酸
【0057】一般式(1)で表される安息香酸誘導体
は、公知の方法に従って製造することができる。
は、公知の方法に従って製造することができる。
【0058】例えば、一般式(1)で表される安息香酸
誘導体のうち、Xが単結合または酸素原子であり、pが
0である安息香酸誘導体は、特開昭63−99036号
公報に記載の方法に従い、一般式(2)
誘導体のうち、Xが単結合または酸素原子であり、pが
0である安息香酸誘導体は、特開昭63−99036号
公報に記載の方法に従い、一般式(2)
【0059】
【化21】 [式中、R2、R3、mおよびnは前記に同じであり、
Xは単結合または酸素原子を表し、Yは臭素またはヨウ
素を表す]で表される安息香酸誘導体を、塩基物質の存
在下に加水分解することにより製造することができる。
Xは単結合または酸素原子を表し、Yは臭素またはヨウ
素を表す]で表される安息香酸誘導体を、塩基物質の存
在下に加水分解することにより製造することができる。
【0060】また、一般式(1)で表される安息香酸誘
導体のうち、Xが酸素原子または硫黄原子であり、pが
0である安息香酸誘導体は、特開平2−729号公報に
記載の方法に従い、一般式(3)
導体のうち、Xが酸素原子または硫黄原子であり、pが
0である安息香酸誘導体は、特開平2−729号公報に
記載の方法に従い、一般式(3)
【0061】
【化22】 [式中、R2、R3、mおよびnは前記に同じであり、
Xは酸素原子または硫黄原子を表し、R4は炭素数1〜
4のアルキル基を表す]で表される安息香酸誘導体を脱
アシル化することにより製造することができる。さら
に、一般式(1)で表される安息香酸誘導体のうち、X
が−CONH−基であり、pが0である安息香酸誘導体
は、DE2040578に記載の方法に従い、一般式
(4)
Xは酸素原子または硫黄原子を表し、R4は炭素数1〜
4のアルキル基を表す]で表される安息香酸誘導体を脱
アシル化することにより製造することができる。さら
に、一般式(1)で表される安息香酸誘導体のうち、X
が−CONH−基であり、pが0である安息香酸誘導体
は、DE2040578に記載の方法に従い、一般式
(4)
【0062】
【化23】 [式中、R1およびlは前記に同じ]で表されるベンゼ
ンジカルボン酸誘導体の酸無水物または酸クロライド
(例えば、無水フタル酸誘導体またはテレフタル酸モノ
クロライド誘導体)とアミノフェノール誘導体より製造
することができる。
ンジカルボン酸誘導体の酸無水物または酸クロライド
(例えば、無水フタル酸誘導体またはテレフタル酸モノ
クロライド誘導体)とアミノフェノール誘導体より製造
することができる。
【0063】また、一般式(1)で表される安息香酸誘
導体のうち、pが1であり、Xが−CHNO−基である
安息香酸誘導体は、前記の一般式(4)で表されるベン
ゼンジカルボン酸誘導体の酸無水物または酸クロライド
と一般式(5)
導体のうち、pが1であり、Xが−CHNO−基である
安息香酸誘導体は、前記の一般式(4)で表されるベン
ゼンジカルボン酸誘導体の酸無水物または酸クロライド
と一般式(5)
【0064】
【化24】 [式中、X、R2、R3、mおよびnは前記に同じ]で
表されるアニリン誘導体より製造することができる。
表されるアニリン誘導体より製造することができる。
【0065】本発明に係る一般式(1)で表される安息
香酸誘導体の金属塩を感熱記録材料用の電子受容性化合
物として使用する際に、金属塩としては、ナトリウム、
カリウム、リチウムなどの1価の金属塩を包含するもの
ではあるが、該金属塩を単独で電子受容性化合物として
使用する場合、好ましくは、水難溶性あるいは水不溶性
の2価、3価あるいは4価の多価金属塩であり、より好
ましくは、2価あるいは3価の多価金属塩である。
香酸誘導体の金属塩を感熱記録材料用の電子受容性化合
物として使用する際に、金属塩としては、ナトリウム、
カリウム、リチウムなどの1価の金属塩を包含するもの
ではあるが、該金属塩を単独で電子受容性化合物として
使用する場合、好ましくは、水難溶性あるいは水不溶性
の2価、3価あるいは4価の多価金属塩であり、より好
ましくは、2価あるいは3価の多価金属塩である。
【0066】多価金属塩の具体例としては、例えば、亜
鉛塩、カドミウム塩、水銀塩、マグネシウム塩、カルシ
ウム塩、バリウム塩、ニッケル塩、スズ塩、鉛塩、ガリ
ウム塩、クロム塩、銅塩、モリブデン塩、タングステン
塩、ジルコニウム塩、ストロンチウム塩、マンガン塩、
コバルト塩、チタン塩、アルミニウム塩、鉄塩を例示す
ることができる。
鉛塩、カドミウム塩、水銀塩、マグネシウム塩、カルシ
ウム塩、バリウム塩、ニッケル塩、スズ塩、鉛塩、ガリ
ウム塩、クロム塩、銅塩、モリブデン塩、タングステン
塩、ジルコニウム塩、ストロンチウム塩、マンガン塩、
コバルト塩、チタン塩、アルミニウム塩、鉄塩を例示す
ることができる。
【0067】好ましくは、多価金属塩は、亜鉛塩、マグ
ネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩、ニッケル塩、
マンガン塩、コバルト塩またはアルミニウム塩であり、
より好ましくは、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩またはマンガン塩であり、特に、亜鉛塩またはカルシ
ウム塩は好ましい多価金属塩である。
ネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩、ニッケル塩、
マンガン塩、コバルト塩またはアルミニウム塩であり、
より好ましくは、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩またはマンガン塩であり、特に、亜鉛塩またはカルシ
ウム塩は好ましい多価金属塩である。
【0068】本発明に係る一般式(1)で表される安息
香酸誘導体の金属塩、例えば、1価のナトリウム塩、カ
リウム塩、リチウム塩などのアルカリ金属塩は、通常、
一般式(1)で表される安息香酸誘導体に、水酸化アル
カリ金属化合物、炭酸アルカリ金属化合物、炭酸水素ア
ルカリ金属化合物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム)を水溶液中で作用させ製造
することができる。
香酸誘導体の金属塩、例えば、1価のナトリウム塩、カ
リウム塩、リチウム塩などのアルカリ金属塩は、通常、
一般式(1)で表される安息香酸誘導体に、水酸化アル
カリ金属化合物、炭酸アルカリ金属化合物、炭酸水素ア
ルカリ金属化合物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム)を水溶液中で作用させ製造
することができる。
【0069】また一般式(1)で表される安息香酸誘導
体の金属塩のうち、2価、3価および4価の多価金属塩
は上記の一般式(1)で表される安息香酸誘導体のアル
カリ金属塩の水溶液と水可溶性の対応する2価、3価あ
るいは4価の多価金属化合物の水溶液とから複分解法に
より、水難溶性あるいは水不溶性の安息香酸誘導体の多
価金属塩として製造される。この際、所望に応じて加熱
を行ったり、あるいは有機溶媒を共存させても良い。
体の金属塩のうち、2価、3価および4価の多価金属塩
は上記の一般式(1)で表される安息香酸誘導体のアル
カリ金属塩の水溶液と水可溶性の対応する2価、3価あ
るいは4価の多価金属化合物の水溶液とから複分解法に
より、水難溶性あるいは水不溶性の安息香酸誘導体の多
価金属塩として製造される。この際、所望に応じて加熱
を行ったり、あるいは有機溶媒を共存させても良い。
【0070】なお、一般式(1)で表される安息香酸誘
導体のアルカリ金属塩の水溶液としては、複数の異なる
一般式(1)で表される安息香酸誘導体のアルカリ金属
塩の水溶液を用いても良く、例えば、4−(4’−ヒド
ロキシフェニル)安息香酸と2−{4’−[1”−メチ
ル−1”−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニ
ルアミノカルボニル}安息香酸のそれぞれのアルカリ金
属塩水溶液の混合水溶液を用いて調製された2価、3価
あるいは4価の多価金属塩も本発明に包含され、感熱記
録材料用の電子受容性化合物として好適に使用できる。
導体のアルカリ金属塩の水溶液としては、複数の異なる
一般式(1)で表される安息香酸誘導体のアルカリ金属
塩の水溶液を用いても良く、例えば、4−(4’−ヒド
ロキシフェニル)安息香酸と2−{4’−[1”−メチ
ル−1”−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニ
ルアミノカルボニル}安息香酸のそれぞれのアルカリ金
属塩水溶液の混合水溶液を用いて調製された2価、3価
あるいは4価の多価金属塩も本発明に包含され、感熱記
録材料用の電子受容性化合物として好適に使用できる。
【0071】上記の水溶性の多価金属化合物としては、
例えば、硫酸亜鉛、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸アルミニウム等の硫酸塩、塩化亜鉛、塩化マグ
ネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ニッケ
ル、塩化コバルト、塩化アルミニウム等の塩化物、酢酸
亜鉛、酢酸マンガン等の酢酸塩が挙げられる。
例えば、硫酸亜鉛、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸アルミニウム等の硫酸塩、塩化亜鉛、塩化マグ
ネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ニッケ
ル、塩化コバルト、塩化アルミニウム等の塩化物、酢酸
亜鉛、酢酸マンガン等の酢酸塩が挙げられる。
【0072】上記のように製造される一般式(1)で表
される安息香酸誘導体の金属塩は、製造条件により時と
して水和物等の溶媒和物を形成することがあるが、該溶
媒和物も本発明の感熱記録材料用の電子受容性化合物と
して好適である。勿論、公知の方法(例えば、乾燥)に
より、該溶媒和物より水などの溶媒を除いた安息香酸誘
導体の金属塩も本発明の感熱記録材料用の電子受容性化
合物として好適に使用できる。
される安息香酸誘導体の金属塩は、製造条件により時と
して水和物等の溶媒和物を形成することがあるが、該溶
媒和物も本発明の感熱記録材料用の電子受容性化合物と
して好適である。勿論、公知の方法(例えば、乾燥)に
より、該溶媒和物より水などの溶媒を除いた安息香酸誘
導体の金属塩も本発明の感熱記録材料用の電子受容性化
合物として好適に使用できる。
【0073】本発明の感熱記録材料においては、後述す
るように公知の感熱記録材料を製造するための各種公知
の処方(例えば、熱可融性化合物の添加)がさらに付与
しえる。
るように公知の感熱記録材料を製造するための各種公知
の処方(例えば、熱可融性化合物の添加)がさらに付与
しえる。
【0074】本発明に使用する無色ないし淡色の電子供
与性発色性化合物としては、トリアリールメタン系化合
物、ジアリールメタン系化合物、ローダミン−ラクタム
系化合物、フルオラン系化合物、インドリルフタリド系
化合物、ジビニルフタリド系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、フルオレン系化合物、チアジン系
化合物などが挙げられる。
与性発色性化合物としては、トリアリールメタン系化合
物、ジアリールメタン系化合物、ローダミン−ラクタム
系化合物、フルオラン系化合物、インドリルフタリド系
化合物、ジビニルフタリド系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、フルオレン系化合物、チアジン系
化合物などが挙げられる。
【0075】これらの化合物のいくつかの具体例を挙げ
ると、トリアリールメタン系化合物としては、3,3−
ビス(4’−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチル
アミノフタリド〔別名、クリスタルバイオレットラクト
ン〕、3,3−ビス(4’−ジメチルアミノフェニル)
フタリド、3−(4’−ジメチルアミノフェニル)−3
−(4’−ジエチルアミノフェニル)−6−ジメチルア
ミノフタリド、3−(4’−ジメチルアミノフェニル)
−3−(1’−メチルピロール−3’−イル)−6−ジ
メチルアミノフタリドなどがある。
ると、トリアリールメタン系化合物としては、3,3−
ビス(4’−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチル
アミノフタリド〔別名、クリスタルバイオレットラクト
ン〕、3,3−ビス(4’−ジメチルアミノフェニル)
フタリド、3−(4’−ジメチルアミノフェニル)−3
−(4’−ジエチルアミノフェニル)−6−ジメチルア
ミノフタリド、3−(4’−ジメチルアミノフェニル)
−3−(1’−メチルピロール−3’−イル)−6−ジ
メチルアミノフタリドなどがある。
【0076】ジアリールメタン系化合物としては、4,
4−ビス−ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエー
テル、N−ハロフェニルロイコオーラミン、N−2,
4,5−トリクロロフェニルロイコオーラミンなどがあ
る。
4−ビス−ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエー
テル、N−ハロフェニルロイコオーラミン、N−2,
4,5−トリクロロフェニルロイコオーラミンなどがあ
る。
【0077】ローダミン−ラクタム系化合物としては、
ローダミン−B−アニリノラクタム、ローダミン−(4
−ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン−B−(4−
クロロアニリノ)ラクタムなどがある。
ローダミン−B−アニリノラクタム、ローダミン−(4
−ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン−B−(4−
クロロアニリノ)ラクタムなどがある。
【0078】フルオラン系化合物としては、3,6−ジ
メトキシフルオラン、3−ジメチルアミノ−7−メトキ
シフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メトキシフル
オラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオラン、
3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−7−
メチルフルオラン、3−N−エチル−N−イソペンチル
アミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−
7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチ
ル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6,
7−ジメチルフルオラン、3,6−ビス(ジフェニルア
ミノ)フルオラン、
メトキシフルオラン、3−ジメチルアミノ−7−メトキ
シフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メトキシフル
オラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオラン、
3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−7−
メチルフルオラン、3−N−エチル−N−イソペンチル
アミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−
7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチ
ル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6,
7−ジメチルフルオラン、3,6−ビス(ジフェニルア
ミノ)フルオラン、
【0079】3−ジエチルアミノ−7−ジベンジルアミ
ノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−ジベン
ジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−n−
オクチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−
アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−イソペンチ
ルアミノ−7−アニリノフルオラン、
ノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−ジベン
ジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−n−
オクチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−
アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−イソペンチ
ルアミノ−7−アニリノフルオラン、
【0080】3−ジエチルアミノ−7−(2’−クロロ
フェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7
−(3’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ
エチルアミノ−7−(2’,3’−ジクロロフェニルア
ミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3’−
トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−
ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルア
ミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−
7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−
6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルア
ミノ−6−メトキシ−7−アニリノフルオラン、3−ジ
−n−ブチルアミノ−6−エトキシ−7−アニリノフル
オラン、
フェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7
−(3’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ
エチルアミノ−7−(2’,3’−ジクロロフェニルア
ミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3’−
トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−
ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルア
ミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−
7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−
6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルア
ミノ−6−メトキシ−7−アニリノフルオラン、3−ジ
−n−ブチルアミノ−6−エトキシ−7−アニリノフル
オラン、
【0081】3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリ
ノフルオラン、3−モルホリノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7
−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチ
ル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n
−ペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−ジ−n−オクチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−n−プロピル−N−メチル
アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N
−n−ブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−n−ブチル−N−エチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−
イソブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、3−N−イソブチル−N−エチルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n
−ペンチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、3−N−イソペンチル−N−エチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−
n−ヘキシル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−n−オクチル−N−エチル
アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
ノフルオラン、3−モルホリノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7
−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチ
ル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n
−ペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−ジ−n−オクチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−n−プロピル−N−メチル
アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N
−n−ブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−n−ブチル−N−エチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−
イソブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、3−N−イソブチル−N−エチルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n
−ペンチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、3−N−イソペンチル−N−エチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−
n−ヘキシル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−n−オクチル−N−エチル
アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
【0082】3−N−シクロペンチル−N−エチルアミ
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シ
クロヘキシル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−
プロピルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−
6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロ
ヘキシル−N−n−ヘキシルアミノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n
−オクチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、
ノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シ
クロヘキシル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−
プロピルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−
6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロ
ヘキシル−N−n−ヘキシルアミノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n
−オクチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、
【0083】3−N−(2’−メトキシエチル)−N−
イソブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−N−(2’−エトキシエチル)−N−エチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−
(3’−メトキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−
メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エ
トキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7
−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エトキシプロ
ピル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、3−N−(2’−テトラヒドロフルフリ
ル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−N−(4’−メチルフェニル)−N−エ
チルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
イソブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−N−(2’−エトキシエチル)−N−エチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−
(3’−メトキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−
メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エ
トキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7
−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エトキシプロ
ピル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、3−N−(2’−テトラヒドロフルフリ
ル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−N−(4’−メチルフェニル)−N−エ
チルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、
【0084】3−ジエチルアミノ−6−エチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−
7−(3’−メチルフェニルアミノ)フルオラン、3−
ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメ
チルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチル
アミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメチルフェ
ニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−
7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラ
ン、2,2−ビス〔4’−(3−N−シクロヘキシル−
N−メチルアミノ−6−メチルフルオラン)−7−イル
アミノフェニル〕プロパン、3−〔4’−(4”−フェ
ニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ−6−メ
チル−7−クロロフルオランなどがある。
ニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−
7−(3’−メチルフェニルアミノ)フルオラン、3−
ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメ
チルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチル
アミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメチルフェ
ニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−
7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラ
ン、2,2−ビス〔4’−(3−N−シクロヘキシル−
N−メチルアミノ−6−メチルフルオラン)−7−イル
アミノフェニル〕プロパン、3−〔4’−(4”−フェ
ニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ−6−メ
チル−7−クロロフルオランなどがある。
【0085】インドリルフタリド系化合物としては、
3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イ
ル)−5−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス
(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−6−ジメ
チルアミノフタリド、3,3−ビス(2−フェニルイン
ドール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、
3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3
−イル)フタリド、3,3−ビス(1−オクチル−2−
メチルインドール−3−イル)フタリド、3−(4−ジ
メチルアミノフェニル)−3−(1,2−ジメチルイン
ドール−3−イル)フタリド、3−(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−(2−メチルインドール−3−イ
ル)フタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミ
ノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドー
ル−3−イル)フタリド、3−(2−エトキシ−4−ジ
ブチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチ
ルインドール−3−イル)フタリド、3−(2−エトキ
シ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−オクチ
ル−2−メチルインドール−3−イル)フタリドなどが
ある。
3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イ
ル)−5−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス
(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−6−ジメ
チルアミノフタリド、3,3−ビス(2−フェニルイン
ドール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、
3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3
−イル)フタリド、3,3−ビス(1−オクチル−2−
メチルインドール−3−イル)フタリド、3−(4−ジ
メチルアミノフェニル)−3−(1,2−ジメチルイン
ドール−3−イル)フタリド、3−(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−(2−メチルインドール−3−イ
ル)フタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミ
ノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドー
ル−3−イル)フタリド、3−(2−エトキシ−4−ジ
ブチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチ
ルインドール−3−イル)フタリド、3−(2−エトキ
シ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−オクチ
ル−2−メチルインドール−3−イル)フタリドなどが
ある。
【0086】ジビニルフタリド系化合物としては、3,
3−ビス〔2,2−ビス(4−ジメチルアミノフェニ
ル)エテニル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリ
ド、3,3−ビス〔2,2−ビス(4−ピロリジノフェ
ニル)エテニル〕−4,5,6,7−テトラブロモフタ
リド、3,3−ビス〔2−(4−メトキシフェニル)−
2−(4−ジメチルアミノフェニル)エテニル〕−4,
5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス〔2
−(4−メトキシフェニル)−2−(4−ピロリジノフ
ェニル)エテニル〕−4,5,6,7−テトラクロロフ
タリドなどがある。
3−ビス〔2,2−ビス(4−ジメチルアミノフェニ
ル)エテニル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリ
ド、3,3−ビス〔2,2−ビス(4−ピロリジノフェ
ニル)エテニル〕−4,5,6,7−テトラブロモフタ
リド、3,3−ビス〔2−(4−メトキシフェニル)−
2−(4−ジメチルアミノフェニル)エテニル〕−4,
5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス〔2
−(4−メトキシフェニル)−2−(4−ピロリジノフ
ェニル)エテニル〕−4,5,6,7−テトラクロロフ
タリドなどがある。
【0087】ピリジン系化合物としては、3−(2’−
エトキシ−4’−ジエチルアミノフェニル)−3−
(1’−エチル−2’−メチルインドール−3’−イ
ル)−4または7−アザフタリド、3−(2’−エトキ
シ−4’−ジエチルアミノフェニル)−3−(1’−エ
チル−2’−フェニルインドール−3’−イル)−4ま
たは7−アザフタリド、3−(2’−エトキシ−4’−
ジエチルアミノフェニル)−3−(1’−オクチル−
2’−メチルインドール−3’−イル)−4または7−
アザフタリド、3−(2’−ヘキシルオキシ−4’−ジ
エチルアミノフェニル)−3−(1’−エチル−2’−
メチルインドール−3’−イル)−4または7−アザフ
タリド、3−(2’−n−ブトキシ−4’−ジエチルア
ミノフェニル)−3−(1’−エチル−2’−フェニル
インドール−3’−イル)−4または7−アザフタリ
ド、3−(2’−メチル−4’−ジエチルアミノフェニ
ル)−3−(1’−エチル−2’−メチルインドール−
3’−イル)−4または7−アザフタリド、3−(2’
−メチル−4’−ジエチルアミノフェニル)−3−
(1’−n−オクチル−2’−メチルインドール−3’
−イル)−4または7−アザフタリド、3,3−ビス
(2’−メトキシ−4’−ジエチルアミノフェニル)−
4または7−アザフタリド、3,3−ビス(2’−エト
キシ−4’−ジエチルアミノフェニル)−4または7−
アザフタリドなどがある。
エトキシ−4’−ジエチルアミノフェニル)−3−
(1’−エチル−2’−メチルインドール−3’−イ
ル)−4または7−アザフタリド、3−(2’−エトキ
シ−4’−ジエチルアミノフェニル)−3−(1’−エ
チル−2’−フェニルインドール−3’−イル)−4ま
たは7−アザフタリド、3−(2’−エトキシ−4’−
ジエチルアミノフェニル)−3−(1’−オクチル−
2’−メチルインドール−3’−イル)−4または7−
アザフタリド、3−(2’−ヘキシルオキシ−4’−ジ
エチルアミノフェニル)−3−(1’−エチル−2’−
メチルインドール−3’−イル)−4または7−アザフ
タリド、3−(2’−n−ブトキシ−4’−ジエチルア
ミノフェニル)−3−(1’−エチル−2’−フェニル
インドール−3’−イル)−4または7−アザフタリ
ド、3−(2’−メチル−4’−ジエチルアミノフェニ
ル)−3−(1’−エチル−2’−メチルインドール−
3’−イル)−4または7−アザフタリド、3−(2’
−メチル−4’−ジエチルアミノフェニル)−3−
(1’−n−オクチル−2’−メチルインドール−3’
−イル)−4または7−アザフタリド、3,3−ビス
(2’−メトキシ−4’−ジエチルアミノフェニル)−
4または7−アザフタリド、3,3−ビス(2’−エト
キシ−4’−ジエチルアミノフェニル)−4または7−
アザフタリドなどがある。
【0088】スピロ系化合物としては、3−メチルスピ
ロジナフトピラン、3−エチルスピロジナフトピラン、
3−フェニルスピロジナフトピラン、3−ベンジルスピ
ロジナフトピラン、3−メチルナフト−(3’−メトキ
シベンゾ)スピロピラン、3−プロピルスピロジベンゾ
ピランなどがある。
ロジナフトピラン、3−エチルスピロジナフトピラン、
3−フェニルスピロジナフトピラン、3−ベンジルスピ
ロジナフトピラン、3−メチルナフト−(3’−メトキ
シベンゾ)スピロピラン、3−プロピルスピロジベンゾ
ピランなどがある。
【0089】フルオレン系化合物としては、3,6−ビ
ス(ジエチルアミノ)フルオレン−9−スピロ−3’−
(6’−ジメチルアミノ)フタリド、3−ジエチルアミ
ノ−6−(N−アリル−N−メチルアミノ)フルオレン
−9−スピロ−3’−(6’−ジメチルアミノ)フタリ
ド、3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9−スピロ〔フ
ルオレン−9,6’−6’H−クロメノ(4,3−b)
インドール〕、3,6−ビス(ジメチルアミノ)−3’
−メチル−スピロ〔フルオレン−9,6’−6’H−ク
ロメノ(4,3−b)インドール〕、3,6−ビス(ジ
エチルアミノ)−3’−メチル−スピロ〔フルオレン−
9,6’−6’H−クロメノ(4,3−b)インドー
ル〕などがある。
ス(ジエチルアミノ)フルオレン−9−スピロ−3’−
(6’−ジメチルアミノ)フタリド、3−ジエチルアミ
ノ−6−(N−アリル−N−メチルアミノ)フルオレン
−9−スピロ−3’−(6’−ジメチルアミノ)フタリ
ド、3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9−スピロ〔フ
ルオレン−9,6’−6’H−クロメノ(4,3−b)
インドール〕、3,6−ビス(ジメチルアミノ)−3’
−メチル−スピロ〔フルオレン−9,6’−6’H−ク
ロメノ(4,3−b)インドール〕、3,6−ビス(ジ
エチルアミノ)−3’−メチル−スピロ〔フルオレン−
9,6’−6’H−クロメノ(4,3−b)インドー
ル〕などがある。
【0090】チアジン系化合物としては、ベンゾイルロ
イコメチレンブルー、4−ニトロベンゾイルロイコメチ
レンブルーなどがある。
イコメチレンブルー、4−ニトロベンゾイルロイコメチ
レンブルーなどがある。
【0091】これらの電子供与性発色性化合物は単独、
あるいは発色画像の色調の調製や多色感熱記録材料を得
るなどの目的で2種以上混合して用いても良い。
あるいは発色画像の色調の調製や多色感熱記録材料を得
るなどの目的で2種以上混合して用いても良い。
【0092】本発明の感熱記録材料においては、通常、
電子供与性発色性化合物100重量部に対し、電子受容
性化合物50〜700重量部、好ましくは、100〜5
00重量部使用するのが望ましい。
電子供与性発色性化合物100重量部に対し、電子受容
性化合物50〜700重量部、好ましくは、100〜5
00重量部使用するのが望ましい。
【0093】さらに、本発明の感熱記録材料は、電子受
容性化合物として一般式(1)で表される安息香酸誘導
体または該誘導体の金属塩以外に、他の電子受容性化合
物を併用することも包含するものであり、本発明の所望
の効果を損なわない範囲で他の電子受容性化合物を併用
することも可能である。
容性化合物として一般式(1)で表される安息香酸誘導
体または該誘導体の金属塩以外に、他の電子受容性化合
物を併用することも包含するものであり、本発明の所望
の効果を損なわない範囲で他の電子受容性化合物を併用
することも可能である。
【0094】この場合、全電子受容性化合物中に占める
一般式(1)で表される安息香酸誘導体または該誘導体
の金属塩の割合は、通常10重量%以上、好ましくは、
30重量%以上、より好ましくは、50重量%以上に調
整するのが望ましい。
一般式(1)で表される安息香酸誘導体または該誘導体
の金属塩の割合は、通常10重量%以上、好ましくは、
30重量%以上、より好ましくは、50重量%以上に調
整するのが望ましい。
【0095】一般式(1)で表される安息香酸誘導体ま
たは該誘導体の金属塩以外の電子受容性化合物として
は、フェノール誘導体、有機酸あるいはその金属塩、錯
体、尿素誘導体などの有機電子受容性化合物、あるいは
酸性白土などの無機電子受容性化合物が挙げられる。
たは該誘導体の金属塩以外の電子受容性化合物として
は、フェノール誘導体、有機酸あるいはその金属塩、錯
体、尿素誘導体などの有機電子受容性化合物、あるいは
酸性白土などの無機電子受容性化合物が挙げられる。
【0096】これらの化合物のいくつかの具体例を挙げ
ると、4−tert−ブチルフェノール、4−tert
−オクチルフェノール、4−フェニルフェノール、1−
ナフトール、2−ナフトール、ハイドロキノン、レゾル
シノール、4−tert−オクチルカテコール、2,
2’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキ
シジフェニルエーテル、2,2−ビス(4’−ヒドロキ
シフェニル)プロパン〔別名、ビスフェノールA〕、
1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−メチル
フェニル)プロパン、1,3−ビス(4’−ヒドロキシ
クミル)ベンゼン、1,4−ビス(4’−ヒドロキシク
ミル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4’−ヒドロキ
シクミル)ベンゼン、4,4−(m−フェニレンジイソ
プロピリデン)ビスフェノール、4,4−(p−フェニ
レンジイソプロピリデン)ビスフェノール、2,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)酢酸エチルエステル、
4,4−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸
−n−ブチルエステル、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジ
ルエステル、4−ヒドロキシ安息香酸フェネチルエステ
ル、2,4−ジヒドロキシ安息香酸フェノキシエチルエ
ステル、4−ヒドロキシフタル酸ジメチルエステル、没
食子酸−n−プロピルエステル、没食子酸−n−オクチ
ルエステル、没食子酸−n−オクタデシルエステル、ハ
イドロキノンモノベンジルエーテル、ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(2−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3
−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビ
ス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシ
ド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフォン、ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スルフォン、
4−ヒドロキシ−4’−メチルジフェニルスルフォン、
4−ヒドロキシ−4’−tert−ブチルジフェニルス
ルフォン、4−ヒドロキシ−4’−クロロジフェニルス
ルフォン、4−ヒドロキシ−4’−メトキシジフェニル
スルフォン、4−ヒドロキシ−4’−n−プロポキシジ
フェニルスルフォン、4−ヒドロキシ−4’−イソプロ
ポキシジフェニルスルフォン、4−ヒドロキシ−4’−
n−ブトキシジフェニルスルフォン、4−ヒドロキシ−
4’−ベンジルオキシジフェニルスルフォン、3,4−
ジヒドロキシ−4’−メチルジフェニルスルフォン、
2,4−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、2−メト
キシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルフォン、2−エ
トキシ−2’−ヒドロキシジフェニルスルフォン、4−
ヒドロキシ−3−メチル−4’−n−プロポキシジフェ
ニルスルフォン、ビス(2−ヒドロキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)スルフォン、ビス(2−ヒドロキシ−5
−クロロフェニル)スルフォン、ビス〔4−(3’−ヒ
ドロキシフェニル)オキシフェニル〕スルフォン、4−
ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、1,7−ビス(4’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ−3,5−ジオキサヘプタン、1,5−ビス
(4’−ヒドロキシフェニル)チオ−3−オキサペンタ
ンなどのフェノ−ル誘導体、
ると、4−tert−ブチルフェノール、4−tert
−オクチルフェノール、4−フェニルフェノール、1−
ナフトール、2−ナフトール、ハイドロキノン、レゾル
シノール、4−tert−オクチルカテコール、2,
2’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキ
シジフェニルエーテル、2,2−ビス(4’−ヒドロキ
シフェニル)プロパン〔別名、ビスフェノールA〕、
1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−メチル
フェニル)プロパン、1,3−ビス(4’−ヒドロキシ
クミル)ベンゼン、1,4−ビス(4’−ヒドロキシク
ミル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4’−ヒドロキ
シクミル)ベンゼン、4,4−(m−フェニレンジイソ
プロピリデン)ビスフェノール、4,4−(p−フェニ
レンジイソプロピリデン)ビスフェノール、2,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)酢酸エチルエステル、
4,4−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸
−n−ブチルエステル、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジ
ルエステル、4−ヒドロキシ安息香酸フェネチルエステ
ル、2,4−ジヒドロキシ安息香酸フェノキシエチルエ
ステル、4−ヒドロキシフタル酸ジメチルエステル、没
食子酸−n−プロピルエステル、没食子酸−n−オクチ
ルエステル、没食子酸−n−オクタデシルエステル、ハ
イドロキノンモノベンジルエーテル、ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(2−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3
−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビ
ス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシ
ド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフォン、ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スルフォン、
4−ヒドロキシ−4’−メチルジフェニルスルフォン、
4−ヒドロキシ−4’−tert−ブチルジフェニルス
ルフォン、4−ヒドロキシ−4’−クロロジフェニルス
ルフォン、4−ヒドロキシ−4’−メトキシジフェニル
スルフォン、4−ヒドロキシ−4’−n−プロポキシジ
フェニルスルフォン、4−ヒドロキシ−4’−イソプロ
ポキシジフェニルスルフォン、4−ヒドロキシ−4’−
n−ブトキシジフェニルスルフォン、4−ヒドロキシ−
4’−ベンジルオキシジフェニルスルフォン、3,4−
ジヒドロキシ−4’−メチルジフェニルスルフォン、
2,4−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、2−メト
キシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルフォン、2−エ
トキシ−2’−ヒドロキシジフェニルスルフォン、4−
ヒドロキシ−3−メチル−4’−n−プロポキシジフェ
ニルスルフォン、ビス(2−ヒドロキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)スルフォン、ビス(2−ヒドロキシ−5
−クロロフェニル)スルフォン、ビス〔4−(3’−ヒ
ドロキシフェニル)オキシフェニル〕スルフォン、4−
ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、1,7−ビス(4’−ヒドロキシフェニ
ル)チオ−3,5−ジオキサヘプタン、1,5−ビス
(4’−ヒドロキシフェニル)チオ−3−オキサペンタ
ンなどのフェノ−ル誘導体、
【0097】3−イソプロピルサリチル酸、3−シクロ
ヘキシルサリチル酸、3,5−ジ−tert−ブチルサ
リチル酸、3,5−ジ−α−メチルベンジルサリチル
酸、3−メチル−5−α−メチルベンジルサリチル酸、
4−[2’−(4”−メトキシフェニル)オキシエチ
ル]オキシサリチル酸、4−(3’−p−メトキシフェ
ニルスルフォニルプロピル)オキシサリチル酸、5−
[p−(2−p−メトキシフェノキシエチル)オキシク
ミル]サリチル酸、1−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−
3−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、6
−アセトキシ−2−ナフトエ酸、フタル酸モノベンジル
エステル、フタル酸モノフェニルエステル、4−ニトロ
安息香酸、4−ホルミル安息香酸、4−クロロ安息香酸
などの有機酸、あるいはこれらの金属塩(たとえば、ニ
ッケル、亜鉛、アルミニウム、カルシウム等の金属
塩)、チオシアン酸亜鉛アンチピリン錯体、モリブデン
酸アセチルアセトン錯体などの錯体、ジフェニルチオ尿
素、ビス(3−トリフルオロメチルフェニル)チオ尿
素、1,4−ビス(3’−クロロフェニル)−3−チオ
セミカルバジドなどの尿素誘導体などの有機電子受容性
化合物、酸性白土、アタパルガイト、活性白土、塩化ア
ルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛などの無機電子受容性
化合物を挙げることができる。これらの電子受容性化合
物は、単独あるいは2種以上混合して用いても良い。
ヘキシルサリチル酸、3,5−ジ−tert−ブチルサ
リチル酸、3,5−ジ−α−メチルベンジルサリチル
酸、3−メチル−5−α−メチルベンジルサリチル酸、
4−[2’−(4”−メトキシフェニル)オキシエチ
ル]オキシサリチル酸、4−(3’−p−メトキシフェ
ニルスルフォニルプロピル)オキシサリチル酸、5−
[p−(2−p−メトキシフェノキシエチル)オキシク
ミル]サリチル酸、1−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−
3−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、6
−アセトキシ−2−ナフトエ酸、フタル酸モノベンジル
エステル、フタル酸モノフェニルエステル、4−ニトロ
安息香酸、4−ホルミル安息香酸、4−クロロ安息香酸
などの有機酸、あるいはこれらの金属塩(たとえば、ニ
ッケル、亜鉛、アルミニウム、カルシウム等の金属
塩)、チオシアン酸亜鉛アンチピリン錯体、モリブデン
酸アセチルアセトン錯体などの錯体、ジフェニルチオ尿
素、ビス(3−トリフルオロメチルフェニル)チオ尿
素、1,4−ビス(3’−クロロフェニル)−3−チオ
セミカルバジドなどの尿素誘導体などの有機電子受容性
化合物、酸性白土、アタパルガイト、活性白土、塩化ア
ルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛などの無機電子受容性
化合物を挙げることができる。これらの電子受容性化合
物は、単独あるいは2種以上混合して用いても良い。
【0098】さらに、発色感度を向上させる目的で、増
感剤として熱可融性化合物(融点約70〜150°C、
好ましくは、融点約80〜130°Cの化合物)を本発
明の感熱記録材料に添加することは、高速記録に対応し
た感熱記録材料を得るためには好ましいことである。
感剤として熱可融性化合物(融点約70〜150°C、
好ましくは、融点約80〜130°Cの化合物)を本発
明の感熱記録材料に添加することは、高速記録に対応し
た感熱記録材料を得るためには好ましいことである。
【0099】この場合、通常、電子供与性発色性化合物
100重量部に対し、熱可融性化合物は10〜700重
量部、好ましくは、20〜500重量部使用するのが望
ましい。
100重量部に対し、熱可融性化合物は10〜700重
量部、好ましくは、20〜500重量部使用するのが望
ましい。
【0100】かかる熱可融性化合物の具体例としては、
例えば、カプロン酸アミド、カプリン酸アミド、ステア
リン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミ
ド、エルシン酸アミド、リノール酸アミド、リノレン酸
アミド、ステアリン酸メチレンビスアミド、ステアリル
尿素、ステアリン酸アニリド、N−エチルカルバゾー
ル、4−メトキシジフェニルアミン等の含窒素化合物、
例えば、カプロン酸アミド、カプリン酸アミド、ステア
リン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミ
ド、エルシン酸アミド、リノール酸アミド、リノレン酸
アミド、ステアリン酸メチレンビスアミド、ステアリル
尿素、ステアリン酸アニリド、N−エチルカルバゾー
ル、4−メトキシジフェニルアミン等の含窒素化合物、
【0101】4−ベンジルオキシ安息香酸ベンジルエス
テル、2−ナフトエ酸フェニルエステル、1−ヒドロキ
シ−2−ナフトエ酸フェニルエステル、シュウ酸ジベン
ジルエステル、シュウ酸ジ(4−メチルベンジル)エス
テル、シュウ酸ジ(4−クロロベンジル)エステル、グ
ルタル酸ジフェナシルエステル、ジ(4−メチルフェニ
ル)カーボネート、テレフタル酸ジメチルエステル、テ
レフタル酸ジ−n−ブチルエステル、テレフタル酸ジベ
ンジルエステル、イソフタル酸−n−ブチルエステル、
イソフタル酸ビス(4−ベンジルオキシカルボニルフェ
ニル)エステル等のエステル化合物、
テル、2−ナフトエ酸フェニルエステル、1−ヒドロキ
シ−2−ナフトエ酸フェニルエステル、シュウ酸ジベン
ジルエステル、シュウ酸ジ(4−メチルベンジル)エス
テル、シュウ酸ジ(4−クロロベンジル)エステル、グ
ルタル酸ジフェナシルエステル、ジ(4−メチルフェニ
ル)カーボネート、テレフタル酸ジメチルエステル、テ
レフタル酸ジ−n−ブチルエステル、テレフタル酸ジベ
ンジルエステル、イソフタル酸−n−ブチルエステル、
イソフタル酸ビス(4−ベンジルオキシカルボニルフェ
ニル)エステル等のエステル化合物、
【0102】4−ベンジルビフェニル、m−ターフェニ
ル、フルオレン、フルオランテン、2,6−ジイソプロ
ピルナフタレン、3−ベンジルアセナフテン等の炭化水
素化合物、
ル、フルオレン、フルオランテン、2,6−ジイソプロ
ピルナフタレン、3−ベンジルアセナフテン等の炭化水
素化合物、
【0103】2−ベンジルオキシナフタレン、2−
(4’−メチルベンジル)オキシナフタレン、1,4−
ジエトキシナフタレン、1,2−ジフェノキシエタン、
1,2−ビス(3’−メチルフェノキシ)エタン、1,
2−ビス(4’−メチルフェノキシ)エタン、1−フェ
ノキシ−2−(4’−エチルフェノキシ)エタン、1−
(4’−メトキシフェノキシ)−2−フェノキシエタ
ン、1−(4’−メトキシフェノキシ)−2−(3’−
メチルフェノキシ)エタン、1−(4’−メトキシフェ
ノキシ)−2−(2’−メチルフェノキシ)エタン、1
−(4’−メトキシフェノキシ)−2−フェノキシプロ
パン、1,2−ビス(4’−メトキシフェノキシ)プロ
パン、1,3−ビス(4’−メトキシフェノキシ)プロ
パン、1−(4’−メトキシフェノキシ)−2−(2’
−クロロフェノキシ)エタン、1,4−ジフェノキシブ
タン、ビス〔2−(4’−メトキシフェノキシ)エチ
ル〕エーテル、4−(4’−メチルフェノキシ)ビフェ
ニル、1,2−ジフェノキシベンゼン、1,4−ジフェ
ノキシベンゼン、1,4−ビス(2’−クロロベンジル
オキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2’−クロロフェノ
キシ)ベンゼン、1,4−ビス(4’−メチルフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(3’−メチルフェノキ
シ)ベンゼン、4,4’−ジ−n−ブトキシジフェニル
スルフォン、1,2−ジフェノキシベンゼン、1,4−
ビス(2’−クロロフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(4’−メチルフェニルオキシ)ベンゼン、1,4−
ビス(3’−メチルフェニルオキシメチル)ベンゼン、
4−クロロベンジルオキシ−4’−エトキシベンゼン、
4,4’−ビスフェノキシジフェニルエーテル、1,4
−ビス(4’−ベンジルフェノキシ)ベンゼン、1,4
−ビス[(4’−メチルフェニル)オキシメチルオキシ
メチル]ベンゼン
(4’−メチルベンジル)オキシナフタレン、1,4−
ジエトキシナフタレン、1,2−ジフェノキシエタン、
1,2−ビス(3’−メチルフェノキシ)エタン、1,
2−ビス(4’−メチルフェノキシ)エタン、1−フェ
ノキシ−2−(4’−エチルフェノキシ)エタン、1−
(4’−メトキシフェノキシ)−2−フェノキシエタ
ン、1−(4’−メトキシフェノキシ)−2−(3’−
メチルフェノキシ)エタン、1−(4’−メトキシフェ
ノキシ)−2−(2’−メチルフェノキシ)エタン、1
−(4’−メトキシフェノキシ)−2−フェノキシプロ
パン、1,2−ビス(4’−メトキシフェノキシ)プロ
パン、1,3−ビス(4’−メトキシフェノキシ)プロ
パン、1−(4’−メトキシフェノキシ)−2−(2’
−クロロフェノキシ)エタン、1,4−ジフェノキシブ
タン、ビス〔2−(4’−メトキシフェノキシ)エチ
ル〕エーテル、4−(4’−メチルフェノキシ)ビフェ
ニル、1,2−ジフェノキシベンゼン、1,4−ジフェ
ノキシベンゼン、1,4−ビス(2’−クロロベンジル
オキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2’−クロロフェノ
キシ)ベンゼン、1,4−ビス(4’−メチルフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(3’−メチルフェノキ
シ)ベンゼン、4,4’−ジ−n−ブトキシジフェニル
スルフォン、1,2−ジフェノキシベンゼン、1,4−
ビス(2’−クロロフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(4’−メチルフェニルオキシ)ベンゼン、1,4−
ビス(3’−メチルフェニルオキシメチル)ベンゼン、
4−クロロベンジルオキシ−4’−エトキシベンゼン、
4,4’−ビスフェノキシジフェニルエーテル、1,4
−ビス(4’−ベンジルフェノキシ)ベンゼン、1,4
−ビス[(4’−メチルフェニル)オキシメチルオキシ
メチル]ベンゼン
【0104】4−(4’−メトキシベンジル)チオアニ
ソール、1−フェノキシ−2−(4’−メトキシフェニ
ル)チオエタン、1,2−ビス(4’−メトキシフェノ
キシ)エタン、1−(4’−メチルフェノキシ)−2−
(4’−メトキシフェニル)チオエタン、ベンジル−4
−メチルチオフェニルエーテル、4,4’−ジフェノキ
シジフェニルチオエーテル、4,4’−ジ−n−ブトキ
シジフェニルスルフォン等のエーテル化合物、含硫黄化
合物、
ソール、1−フェノキシ−2−(4’−メトキシフェニ
ル)チオエタン、1,2−ビス(4’−メトキシフェノ
キシ)エタン、1−(4’−メチルフェノキシ)−2−
(4’−メトキシフェニル)チオエタン、ベンジル−4
−メチルチオフェニルエーテル、4,4’−ジフェノキ
シジフェニルチオエーテル、4,4’−ジ−n−ブトキ
シジフェニルスルフォン等のエーテル化合物、含硫黄化
合物、
【0105】1,4−ジグリシジルオキシベンゼン、
1,4−ジグリシジルテレフタレート、1,4−ジグリ
シジルオキシ−4’−イソプロピルオキシジフェニルス
ルフォン、4−〔(2,3−エポキシ−2−メチル)プ
ロピルオキシ〕フェニル−4’−(ベンジルオキシ)フ
ェニルスルフォン、4−〔(2,3−エポキシ)プロピ
ルオキシ〕フェニル−4’−(4−メチルベンジルオキ
シ)ジフェニルスルフォン等のエポキシ基を有する化合
物を挙げることができる。
1,4−ジグリシジルテレフタレート、1,4−ジグリ
シジルオキシ−4’−イソプロピルオキシジフェニルス
ルフォン、4−〔(2,3−エポキシ−2−メチル)プ
ロピルオキシ〕フェニル−4’−(ベンジルオキシ)フ
ェニルスルフォン、4−〔(2,3−エポキシ)プロピ
ルオキシ〕フェニル−4’−(4−メチルベンジルオキ
シ)ジフェニルスルフォン等のエポキシ基を有する化合
物を挙げることができる。
【0106】特に、エステル化合物、炭化水素化合物あ
るいはエーテル化合物は好ましい熱可融性化合物であ
り、なかでも、シュウ酸ジ(4−メチルベンジル)エス
テル、4−ベンジルビフェニル、m−ターフェニル、2
−ベンジルオキシナフタレン、1,2−ビス(3’−メ
チルフェノキシ)エタン、4−(4’−メチルフェノキ
シ)ビフェニルは好ましい熱可融性化合物である。これ
らの熱可融性化合物は、単独あるいは2種以上併用して
も良い。
るいはエーテル化合物は好ましい熱可融性化合物であ
り、なかでも、シュウ酸ジ(4−メチルベンジル)エス
テル、4−ベンジルビフェニル、m−ターフェニル、2
−ベンジルオキシナフタレン、1,2−ビス(3’−メ
チルフェノキシ)エタン、4−(4’−メチルフェノキ
シ)ビフェニルは好ましい熱可融性化合物である。これ
らの熱可融性化合物は、単独あるいは2種以上併用して
も良い。
【0107】本発明の感熱記録材料を製造するには、特
殊な方法によらなくとも公知の方法により製造すること
ができる。
殊な方法によらなくとも公知の方法により製造すること
ができる。
【0108】一般的には、電子供与性発色性化合物、電
子受容性化合物ならびに一般式(1)で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩などは、各々水溶性バ
インダー中で、ボールミル、サンドミル、横型サンドミ
ル、アトライタ、コロイダルミルなどの手段により通
常、3μm以下、好ましくは、1.5μm以下の粒径に
まで粉砕分散し、混合し、記録層用の塗液を調製するこ
とができる。
子受容性化合物ならびに一般式(1)で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩などは、各々水溶性バ
インダー中で、ボールミル、サンドミル、横型サンドミ
ル、アトライタ、コロイダルミルなどの手段により通
常、3μm以下、好ましくは、1.5μm以下の粒径に
まで粉砕分散し、混合し、記録層用の塗液を調製するこ
とができる。
【0109】この際、後述する顔料の内で金属化合物、
例えば、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタ
ン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどを顔
料として使用する場合、一般式(1)で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩と、金属化合物の顔料
とを、一緒に分散させることにより、場合により、より
一層高い発色画像の保存安定性を有した感熱記録材料を
得ることができ好ましい場合がある。
例えば、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタ
ン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどを顔
料として使用する場合、一般式(1)で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩と、金属化合物の顔料
とを、一緒に分散させることにより、場合により、より
一層高い発色画像の保存安定性を有した感熱記録材料を
得ることができ好ましい場合がある。
【0110】かかる水溶性バインダーとしては、具体的
には、たとえば、ポリビニールアルコール、スルフォン
化ポリビニールアルコール、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、エピクロルヒドリ
ン変性ポリアミド、エチレン−無水マレイン酸共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン
−無水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、メチロール変性ポリアクリルアミド、デン
プン誘導体、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、カルボキ
シル基変性ポリビニルアルコールなどを例示することが
できる。
には、たとえば、ポリビニールアルコール、スルフォン
化ポリビニールアルコール、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、エピクロルヒドリ
ン変性ポリアミド、エチレン−無水マレイン酸共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン
−無水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、メチロール変性ポリアクリルアミド、デン
プン誘導体、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、カルボキ
シル基変性ポリビニルアルコールなどを例示することが
できる。
【0111】さらに必要に応じて、本発明の感熱記録材
料の記録層中には、顔料、水不溶性バインダー、金属石
鹸、ワックス、界面活性剤、紫外線吸収剤、ヒンダード
フェノール、消泡剤などを添加する。
料の記録層中には、顔料、水不溶性バインダー、金属石
鹸、ワックス、界面活性剤、紫外線吸収剤、ヒンダード
フェノール、消泡剤などを添加する。
【0112】顔料としては、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸バ
リウム、酸化チタン、タルク、ロウ石、カオリン、ケイ
ソウ土、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ア
ルミナ、シリカ、非晶質シリカ、尿素−ホルマリン充填
剤、ポリエチレン粒子、セルロース充填剤などが用いら
れる。
カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸バ
リウム、酸化チタン、タルク、ロウ石、カオリン、ケイ
ソウ土、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ア
ルミナ、シリカ、非晶質シリカ、尿素−ホルマリン充填
剤、ポリエチレン粒子、セルロース充填剤などが用いら
れる。
【0113】水不溶性バインダーとしては、合成ゴムラ
テックスあるいは合成樹脂エマルジョンが一般的であ
り、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロニ
トリル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル
−ブタジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョン
などが知られており、必要に応じて使用される。
テックスあるいは合成樹脂エマルジョンが一般的であ
り、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロニ
トリル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル
−ブタジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョン
などが知られており、必要に応じて使用される。
【0114】金属石鹸としては、高級脂肪酸金属塩が用
いられ、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、
ステアリン酸アルミニウム、オレイン酸亜鉛などが用い
られる。
いられ、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、
ステアリン酸アルミニウム、オレイン酸亜鉛などが用い
られる。
【0115】ワックスとしては、パラフィンワックス、
マイクロクリスタリンワックス、カルボキシ変性パラフ
ィンワックス、カルナウバワックス、ポリエチレンワッ
クス、ポリスチレンワックス、キャンデリラワックス、
モンタンワックス、高級脂肪酸エステルなどが挙げられ
る。
マイクロクリスタリンワックス、カルボキシ変性パラフ
ィンワックス、カルナウバワックス、ポリエチレンワッ
クス、ポリスチレンワックス、キャンデリラワックス、
モンタンワックス、高級脂肪酸エステルなどが挙げられ
る。
【0116】界面活性剤としては、スルホコハク酸系の
アルカリ金属塩〔例えば、ジ(n−ヘキシル)スルホコ
ハク酸、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸等の
ナトリウム塩〕、フッソ含有の界面活性剤などが挙げら
れる。
アルカリ金属塩〔例えば、ジ(n−ヘキシル)スルホコ
ハク酸、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸等の
ナトリウム塩〕、フッソ含有の界面活性剤などが挙げら
れる。
【0117】紫外線吸収剤としては、桂皮酸誘導体、ベ
ンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘
導体などが挙げられる。
ンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘
導体などが挙げられる。
【0118】ヒンダードフェノールとしては、フェノー
ル性水酸基のオルト位の少なくとも1つが分岐アルキル
基で置換されたフェノール誘導体が好ましく、1,1,
3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−ter
t−ブチルフェニル)ブタン、1,1,3−トリス(2
−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニ
ル)ブタン、1,1,3−トリス(2−エチル−4−ヒ
ドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、
1,1,3−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1,3−トリス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチル
フェニル)プロパン、2,2’−メチレンビス(6−t
ert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−
メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェ
ノール)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリ
ス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−tert
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)イソシアヌル酸、1,3,5−トリス(4−ter
t−ブチル−3−ヒドロキシ−2−メチル−6−エチル
ベンジル)イソシアヌル酸、ビス(2−メチル−4−ヒ
ドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)スルフィド
などが挙げられる。
ル性水酸基のオルト位の少なくとも1つが分岐アルキル
基で置換されたフェノール誘導体が好ましく、1,1,
3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−ter
t−ブチルフェニル)ブタン、1,1,3−トリス(2
−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニ
ル)ブタン、1,1,3−トリス(2−エチル−4−ヒ
ドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、
1,1,3−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1,3−トリス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチル
フェニル)プロパン、2,2’−メチレンビス(6−t
ert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−
メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェ
ノール)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリ
ス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−tert
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)イソシアヌル酸、1,3,5−トリス(4−ter
t−ブチル−3−ヒドロキシ−2−メチル−6−エチル
ベンジル)イソシアヌル酸、ビス(2−メチル−4−ヒ
ドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)スルフィド
などが挙げられる。
【0119】本発明の感熱記録材料において、記録層の
形成方法に関しては特に限定されるものではなく、従来
より公知の技術に従って形成することができる。
形成方法に関しては特に限定されるものではなく、従来
より公知の技術に従って形成することができる。
【0120】例えば、感熱記録層用の塗液を、支持体上
にエアーナイフコーター、ブレードコーター、バーコー
ター、グラビアコーター、カーテンコーター、ワイヤー
バーなどの適当な塗布装置で塗布、乾燥して記録層を形
成することができる。
にエアーナイフコーター、ブレードコーター、バーコー
ター、グラビアコーター、カーテンコーター、ワイヤー
バーなどの適当な塗布装置で塗布、乾燥して記録層を形
成することができる。
【0121】また塗液の塗布量に関しても特に限定され
るものではなく、一般に乾燥重量で1.5〜12g/m
2、好ましくは、2.5〜10g/m2の範囲で調整され
る。
るものではなく、一般に乾燥重量で1.5〜12g/m
2、好ましくは、2.5〜10g/m2の範囲で調整され
る。
【0122】支持体としては紙、プラスチックシート、
合成紙あるいはこれらをこれらを組み合わせた複合シー
トが用いられる。
合成紙あるいはこれらをこれらを組み合わせた複合シー
トが用いられる。
【0123】なお、必要に応じて感熱記録層の表面およ
び/または裏面に保護層(オーバーコート層)を設けた
り、支持体と感熱記録層の間に単層または複数層の顔料
(例えば、カオリン)あるいは合成樹脂(例えば、プラ
スチック球状粒子、プラスチック球状中空粒子)などか
らなる下塗り層(アンダーコート層)を設けること、感
熱記録層と下塗り層との間、または感熱記録層と保護層
との間に顔料、バインダーなどからなる中間層を設ける
ことも勿論可能であり、さらには支持体の裏面に粘着加
工を施すなど感熱記録材料の製造方法における各種の公
知技術を付与しえる。
び/または裏面に保護層(オーバーコート層)を設けた
り、支持体と感熱記録層の間に単層または複数層の顔料
(例えば、カオリン)あるいは合成樹脂(例えば、プラ
スチック球状粒子、プラスチック球状中空粒子)などか
らなる下塗り層(アンダーコート層)を設けること、感
熱記録層と下塗り層との間、または感熱記録層と保護層
との間に顔料、バインダーなどからなる中間層を設ける
ことも勿論可能であり、さらには支持体の裏面に粘着加
工を施すなど感熱記録材料の製造方法における各種の公
知技術を付与しえる。
【0124】
【実施例】以下、製造例および実施例により本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はこれらの製造例および
実施例に限定されるものではない。
に具体的に説明するが、本発明はこれらの製造例および
実施例に限定されるものではない。
【0125】〔一般式(1)で表される安息香酸誘導体
の金属塩の製造例〕 製造例1 (例示化合物番号19の亜鉛塩の製造) 水600g、メタノール200g、4−(4’−ヒドロ
キシフェニル)安息香酸20gおよび50%水酸化ナト
リウム水溶液7gを反応容器に装入し、40℃で加熱溶
解した。これに硫酸亜鉛7水和物14gを150gの水
に溶解させた水溶液を1時間かけて滴下した。3時間攪
はんした後、析出した結晶を濾別し、水洗、乾燥の後、
4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸亜鉛22g
を白色結晶として得た。 収率 99% 融点 >300℃ この亜鉛塩のCu−Kα線の粉末X線回折図を図1に示
した。この亜鉛塩は、回折角(2θ)4.2°に強いピ
ークを、18.4°、19.9°および23.2°に比
較的強いピークを有するX線回折図を示した。
の金属塩の製造例〕 製造例1 (例示化合物番号19の亜鉛塩の製造) 水600g、メタノール200g、4−(4’−ヒドロ
キシフェニル)安息香酸20gおよび50%水酸化ナト
リウム水溶液7gを反応容器に装入し、40℃で加熱溶
解した。これに硫酸亜鉛7水和物14gを150gの水
に溶解させた水溶液を1時間かけて滴下した。3時間攪
はんした後、析出した結晶を濾別し、水洗、乾燥の後、
4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸亜鉛22g
を白色結晶として得た。 収率 99% 融点 >300℃ この亜鉛塩のCu−Kα線の粉末X線回折図を図1に示
した。この亜鉛塩は、回折角(2θ)4.2°に強いピ
ークを、18.4°、19.9°および23.2°に比
較的強いピークを有するX線回折図を示した。
【0126】製造例2 (例示化合物番号19のカル
シウム塩の製造) 水600g、メタノール200g、4−(4’−ヒドロ
キシフェニル)安息香酸20gおよび50%水酸化ナト
リウム水溶液7gを反応容器に装入し、40℃で加熱溶
解した。これに塩化カルシウム5.2gを100gの水
に溶解させた水溶液を1時間かけて滴下した。3時間攪
はんした後、析出した結晶を濾別し、水洗、乾燥の後、
4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸カルシウム
19gを白色結晶として得た。 収率 88% 融点 >300℃
シウム塩の製造) 水600g、メタノール200g、4−(4’−ヒドロ
キシフェニル)安息香酸20gおよび50%水酸化ナト
リウム水溶液7gを反応容器に装入し、40℃で加熱溶
解した。これに塩化カルシウム5.2gを100gの水
に溶解させた水溶液を1時間かけて滴下した。3時間攪
はんした後、析出した結晶を濾別し、水洗、乾燥の後、
4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸カルシウム
19gを白色結晶として得た。 収率 88% 融点 >300℃
【0127】製造例3 (例示化合物番号64の化合
物の亜鉛塩の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに2−(3’−ヒドロキシフェニルアミ
ノカルボニル)安息香酸を用いた以外は、製造例1に記
載の方法と同様な方法により2−(3’−ヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸亜鉛を白色結晶とし
て得た。 収率 87% 融点 224〜228℃ この亜鉛塩のCu−Kα線の粉末X線回折図を図2に示
した。この亜鉛塩は、回折角(2θ)14.7°、1
8.7°および27.5°に比較的強いピークを有する
X線回折図を示した。
物の亜鉛塩の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに2−(3’−ヒドロキシフェニルアミ
ノカルボニル)安息香酸を用いた以外は、製造例1に記
載の方法と同様な方法により2−(3’−ヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸亜鉛を白色結晶とし
て得た。 収率 87% 融点 224〜228℃ この亜鉛塩のCu−Kα線の粉末X線回折図を図2に示
した。この亜鉛塩は、回折角(2θ)14.7°、1
8.7°および27.5°に比較的強いピークを有する
X線回折図を示した。
【0128】製造例4 (例示化合物番号64の化合
物のカルシウム塩の製造) 製造例2において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに2−(3’−ヒドロキシフェニルアミ
ノカルボニル)安息香酸を用いた以外は、製造例2に記
載の方法と同様な方法により2−(3’−ヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸カルシウムを白色結
晶として得た。 収率 78% 融点 156〜162℃
物のカルシウム塩の製造) 製造例2において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに2−(3’−ヒドロキシフェニルアミ
ノカルボニル)安息香酸を用いた以外は、製造例2に記
載の方法と同様な方法により2−(3’−ヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸カルシウムを白色結
晶として得た。 収率 78% 融点 156〜162℃
【0129】製造例5 (例示化合物番号87の化合
物の亜鉛塩の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに4−(3’−ヒドロキシフェニルアミ
ノカルボニル)安息香酸を用いた以外は、製造例1に記
載の方法と同様な方法により4−(3’−ヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸亜鉛を白色結晶とし
て得た。 収率 89% 融点 >300℃ この亜鉛塩のCu−Kα線の粉末X線回折図を図3に示
した。この亜鉛塩は、回折角(2θ)3.2°、6.5
°および9.8°に比較的強いピークを有するX線回折
図を示した。
物の亜鉛塩の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに4−(3’−ヒドロキシフェニルアミ
ノカルボニル)安息香酸を用いた以外は、製造例1に記
載の方法と同様な方法により4−(3’−ヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル)安息香酸亜鉛を白色結晶とし
て得た。 収率 89% 融点 >300℃ この亜鉛塩のCu−Kα線の粉末X線回折図を図3に示
した。この亜鉛塩は、回折角(2θ)3.2°、6.5
°および9.8°に比較的強いピークを有するX線回折
図を示した。
【0130】製造例6 (例示化合物番号95の化合物
の製造) N,N−ジメチルホルムアミド200gおよび無水フタ
ル酸40gを反応容器に装入した後、これに4−(p−
ヒドロキシクミル)アニリン66gを100gのN,N
−ジメチルホルムアミドに溶解させた溶液を1時間かけ
て滴下した。3時間攪はんした後、反応混合物を水30
0gに注ぎ、析出した結晶を濾別した。得られた粗結晶
をイソプロピルアルコールより再結晶し、濾別、乾燥の
後、2−{4’−[1”−メチル−1”−(4−ヒドロ
キシフェニル)エチル]フェニルアミノカルボニル}安
息香酸108gを白色結晶として得た。 収率 99% 融点 104〜106℃
の製造) N,N−ジメチルホルムアミド200gおよび無水フタ
ル酸40gを反応容器に装入した後、これに4−(p−
ヒドロキシクミル)アニリン66gを100gのN,N
−ジメチルホルムアミドに溶解させた溶液を1時間かけ
て滴下した。3時間攪はんした後、反応混合物を水30
0gに注ぎ、析出した結晶を濾別した。得られた粗結晶
をイソプロピルアルコールより再結晶し、濾別、乾燥の
後、2−{4’−[1”−メチル−1”−(4−ヒドロ
キシフェニル)エチル]フェニルアミノカルボニル}安
息香酸108gを白色結晶として得た。 収率 99% 融点 104〜106℃
【0131】製造例7 (例示化合物番号95の亜鉛塩
の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに2−{4’−[1”−メチル−1”−
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカ
ルボニル}安息香酸を用いた以外は、製造例1に記載の
方法と同様な方法により2−{4’−[1”−メチル−
1”−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルア
ミノカルボニル}安息香酸亜鉛を白色結晶として得た。 収率 96% 融点 211〜219℃
の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに2−{4’−[1”−メチル−1”−
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカ
ルボニル}安息香酸を用いた以外は、製造例1に記載の
方法と同様な方法により2−{4’−[1”−メチル−
1”−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルア
ミノカルボニル}安息香酸亜鉛を白色結晶として得た。 収率 96% 融点 211〜219℃
【0132】製造例8 (例示化合物番号122の亜鉛
塩の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに4−{4’−[1”−メチル−1”−
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカ
ルボニル}安息香酸を用いた以外は、製造例1に記載の
方法と同様な方法により4−{4’−[1”−メチル−
1”−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルア
ミノカルボニル}安息香酸亜鉛を白色結晶として得た。 収率 92% 融点 210〜218℃
塩の製造) 製造例1において4−(4’−ヒドロキシフェニル)安
息香酸の代わりに4−{4’−[1”−メチル−1”−
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアミノカ
ルボニル}安息香酸を用いた以外は、製造例1に記載の
方法と同様な方法により4−{4’−[1”−メチル−
1”−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルア
ミノカルボニル}安息香酸亜鉛を白色結晶として得た。 収率 92% 融点 210〜218℃
【0133】〔感熱記録紙の評価法〕以下の実施例で示
す方法で作製した各感熱記録紙の塗布直後の未発色部
(地肌)の白色度を色差計(Σ−80、日本電色製)を
用いて測定した。さらに該感熱記録紙を感熱発色装置
(大倉電気製TH−PMD)を用い、マクベス濃度計
(TR−524型)を用いて測定した発色濃度が、0.
9である発色画像を形成した後、下記の発色画像の保存
安定性試験を行った。
す方法で作製した各感熱記録紙の塗布直後の未発色部
(地肌)の白色度を色差計(Σ−80、日本電色製)を
用いて測定した。さらに該感熱記録紙を感熱発色装置
(大倉電気製TH−PMD)を用い、マクベス濃度計
(TR−524型)を用いて測定した発色濃度が、0.
9である発色画像を形成した後、下記の発色画像の保存
安定性試験を行った。
【0134】1.耐熱性試験 感熱記録紙を、60℃で24時間保存した後の発色画像
濃度を、マクベス濃度計を用いて測定し、発色画像の残
存率を求めた。
濃度を、マクベス濃度計を用いて測定し、発色画像の残
存率を求めた。
【0135】2.耐可塑剤性試験 感熱記録紙に、ジオクチルフタレートを含有したカプセ
ル塗工紙を重ね、加圧ロールを通過させた後、25℃で
1週間保存した後の発色画像濃度を、マクベス濃度計を
用いて測定し、発色画像の残存率を求めた。
ル塗工紙を重ね、加圧ロールを通過させた後、25℃で
1週間保存した後の発色画像濃度を、マクベス濃度計を
用いて測定し、発色画像の残存率を求めた。
【0136】各試験の発色画像の残存率は、次の式より
求めた。
求めた。
【0137】
【数1】 数値が大きいほど、発色画像の保存安定性が優れている
ことを示している。
ことを示している。
【0138】実施例 1〜4 〔感熱記録紙の作製法〕
【0139】
【表1】
【0140】
【表2】
【0141】
【表3】
【0142】上記A液、B液、C液をそれぞれサンドグ
ラインディングミルで平均粒子径が1.5μm以下にな
るように分散し分散液を調製した。
ラインディングミルで平均粒子径が1.5μm以下にな
るように分散し分散液を調製した。
【0143】A液100g、B液250gおよびC液2
50g各分散液と30%パラフィンワックス23gを混
合して、これを上質紙に乾燥塗布量が5.0±0.5g
/m 2となるように塗布、乾燥し、感熱記録紙を作製し
た。
50g各分散液と30%パラフィンワックス23gを混
合して、これを上質紙に乾燥塗布量が5.0±0.5g
/m 2となるように塗布、乾燥し、感熱記録紙を作製し
た。
【0144】第1表に示した電子供与性発色性化合物お
よび電子受容性化合物〔一般式(1)で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩〕を使用し、熱可融性
化合物としては、2−ベンジルオキシナフタレンを用い
て、上記の方法により感熱記録紙を作製した。
よび電子受容性化合物〔一般式(1)で表される安息香
酸誘導体または該誘導体の金属塩〕を使用し、熱可融性
化合物としては、2−ベンジルオキシナフタレンを用い
て、上記の方法により感熱記録紙を作製した。
【0145】
【表4】
【0146】比較例1〜2 第2表に示した電子供与性発色性化合物および電子受容
性化合物を使用し、上記の方法により感熱記録紙を作製
した。
性化合物を使用し、上記の方法により感熱記録紙を作製
した。
【0147】
【表5】
【0148】第3表には、実施例1〜4および比較例1
〜2で得られた各感熱記録紙の塗布直後の白色度および
発色画像の耐熱性試験および耐可塑剤性試験の結果を示
した。
〜2で得られた各感熱記録紙の塗布直後の白色度および
発色画像の耐熱性試験および耐可塑剤性試験の結果を示
した。
【0149】
【表6】
【0150】第3表より明らかなように、一般式(1)
で表される安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩を電
子受容性化合物として用いた本発明の感熱記録材料は、
従来の電子受容性化合物を用いて作製した感熱記録材料
に比較して、発色画像の保存安定性(耐熱性および耐可
塑剤性)が非常に優れており、地肌の白色度も実用上問
題ない。
で表される安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩を電
子受容性化合物として用いた本発明の感熱記録材料は、
従来の電子受容性化合物を用いて作製した感熱記録材料
に比較して、発色画像の保存安定性(耐熱性および耐可
塑剤性)が非常に優れており、地肌の白色度も実用上問
題ない。
【0151】実施例 5〜20 〔感熱記録紙の作製法〕
【0152】
【表7】
【0153】
【表8】
【0154】
【表9】
【0155】上記A’液、B’液、C’液をそれぞれサ
ンドグラインディングミルで平均粒子径が1.5μm以
下になるように分散し分散液を調製した。A’液100
g、B’液250g、C’液250gの分散液と30%
パラフィンワックス23gを混合して、これを上質紙に
乾燥塗布量が5.0±0.5g/m 2となるように塗
布、乾燥し、感熱記録紙を作製した。
ンドグラインディングミルで平均粒子径が1.5μm以
下になるように分散し分散液を調製した。A’液100
g、B’液250g、C’液250gの分散液と30%
パラフィンワックス23gを混合して、これを上質紙に
乾燥塗布量が5.0±0.5g/m 2となるように塗
布、乾燥し、感熱記録紙を作製した。
【0156】以下、第4表に示した電子供与性発色性化
合物、電子受容性化合物および一般式(1)で表される
安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩を使用し、上記
の方法により感熱記録紙を作製した。なお、電子受容性
化合物において、AはビスフェノールAを、また、Bは
4−ヒドロキシ−4’−イソプロポキシジフェニルスル
フォンを表す。
合物、電子受容性化合物および一般式(1)で表される
安息香酸誘導体または該誘導体の金属塩を使用し、上記
の方法により感熱記録紙を作製した。なお、電子受容性
化合物において、AはビスフェノールAを、また、Bは
4−ヒドロキシ−4’−イソプロポキシジフェニルスル
フォンを表す。
【0157】
【表10】
【0158】比較例 3 〔感熱記録紙の作製法〕電子供与性発色性化合物として
3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオランを用いて調製したA’液100gと、電子受
容性化合物としてビスフェノールAを用いて調製した
B’液250gと、下記の組成で調製したD’液250
gおよび30%パラフィンワックス23gを用いて上記
の方法で感熱記録紙を作製した。
3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオランを用いて調製したA’液100gと、電子受
容性化合物としてビスフェノールAを用いて調製した
B’液250gと、下記の組成で調製したD’液250
gおよび30%パラフィンワックス23gを用いて上記
の方法で感熱記録紙を作製した。
【0159】
【表11】
【0160】比較例 4 〔感熱記録紙の作製法〕電子供与性発色性化合物として
3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオランを用いて調製したA’液100gと、電子受
容性化合物としてビスフェノールAを用いて調製した
B’液250gと、下記の組成で調製したE’液250
gおよび30%パラフィンワックス23gを用いて上記
の方法で感熱記録紙を作製した。
3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオランを用いて調製したA’液100gと、電子受
容性化合物としてビスフェノールAを用いて調製した
B’液250gと、下記の組成で調製したE’液250
gおよび30%パラフィンワックス23gを用いて上記
の方法で感熱記録紙を作製した。
【0161】
【表12】
【0162】第5表には、実施例5〜20および比較例
3および4で得られた各感熱記録紙の塗布直後の白色度
および発色画像の耐熱性試験および耐可塑剤性試験の結
果を示した。
3および4で得られた各感熱記録紙の塗布直後の白色度
および発色画像の耐熱性試験および耐可塑剤性試験の結
果を示した。
【0163】
【表13】
【0164】第5表より明らかなように、本発明の感熱
記録材料は、発色画像の保存安定性(耐熱性および耐可
塑剤性)が非常に優れており、地肌の白色度も実用上問
題ない。
記録材料は、発色画像の保存安定性(耐熱性および耐可
塑剤性)が非常に優れており、地肌の白色度も実用上問
題ない。
【0165】
【発明の効果】本発明により、発色画像の保存安定性
(耐熱性、耐可塑剤性)の非常に優れた感熱記録材料を
提供することができる。
(耐熱性、耐可塑剤性)の非常に優れた感熱記録材料を
提供することができる。
【図1】4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸亜
鉛のX線回折図(粉末)を示す。
鉛のX線回折図(粉末)を示す。
【図2】2−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸亜鉛のX線回折図(粉末)を示す。
ニル)安息香酸亜鉛のX線回折図(粉末)を示す。
【図3】4−(3’−ヒドロキシフェニルアミノカルボ
ニル)安息香酸亜鉛のX線回折図(粉末)を示す。
ニル)安息香酸亜鉛のX線回折図(粉末)を示す。
フロントページの続き (72)発明者 ▲来▼田 丈太郎 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (72)発明者 長谷川 清春 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (72)発明者 吉川 和良 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (72)発明者 中塚 正勝 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−190386(JP,A) 特開 昭64−79135(JP,A) 特開 平1−188390(JP,A) 特開 平2−292086(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/28 - 5/34 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN)
Claims (4)
- 【請求項1】 電子供与性発色性化合物と電子受容性化
合物とを含有する感熱記録材料において、該電子受容性
化合物として一般式(1)で表される安息香酸誘導体ま
たは該誘導体の金属塩を少なくとも1種含有する感熱記
録材料。 【化1】 〔式中、Xは単結合、アルキリデン基、酸素原子、硫黄
原子またはアミド基を表し、R1、R2およびR3は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハ
ロゲン原子を表し、l、mおよびnは独立に0〜4の整
数を表し、pは0または1を表す〕 - 【請求項2】 一般式(1)において、pが0である請
求項1記載の感熱記録材料。 - 【請求項3】 一般式(1)において、pが1である請
求項1記載の感熱記録材料。 - 【請求項4】 電子受容性化合物が一般式(1)で表さ
れる安息香酸誘導体の亜鉛塩またはカルシウム塩である
請求項1、2または3記載の感熱記録材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31571193A JP3198209B2 (ja) | 1992-12-21 | 1993-12-16 | 感熱記録材料 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34058892 | 1992-12-21 | ||
JP2930093 | 1993-02-18 | ||
JP5-143703 | 1993-06-15 | ||
JP14370393 | 1993-06-15 | ||
JP5-29300 | 1993-06-15 | ||
JP4-340588 | 1993-06-15 | ||
JP31571193A JP3198209B2 (ja) | 1992-12-21 | 1993-12-16 | 感熱記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0796674A JPH0796674A (ja) | 1995-04-11 |
JP3198209B2 true JP3198209B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=27459030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31571193A Expired - Fee Related JP3198209B2 (ja) | 1992-12-21 | 1993-12-16 | 感熱記録材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3198209B2 (ja) |
-
1993
- 1993-12-16 JP JP31571193A patent/JP3198209B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0796674A (ja) | 1995-04-11 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |