JP3192772B2 - 電子ビーム描画装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置Info
- Publication number
- JP3192772B2 JP3192772B2 JP25343692A JP25343692A JP3192772B2 JP 3192772 B2 JP3192772 B2 JP 3192772B2 JP 25343692 A JP25343692 A JP 25343692A JP 25343692 A JP25343692 A JP 25343692A JP 3192772 B2 JP3192772 B2 JP 3192772B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- valve
- chamber
- sub
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置などの製造
時に使われる電子ビーム露光による電子ビーム描画装置
に関する。
時に使われる電子ビーム露光による電子ビーム描画装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム露光は、電子ビームを０．１
ミクロン以下に容易に絞ることができるため将来の２５
６Ｍビット以降のリソグラフィ装置として不可欠と考え
られている。しかし現在の光ステッパーに変わって将来
リソグラフィ装置となるためにはそのスループットを極
めて向上させなければならない。スループット向上策の
一つとしては試料の大気から真空領域への搬入時間の短
縮が上げられる。しかしながら従来からの電子ビーム露
光装置では試料の搬入時には真空排気ポンプの起動停止
が行われるため試料搬入に多大な無駄時間が生じスルー
プット向上を妨げる一因となっていた。
ミクロン以下に容易に絞ることができるため将来の２５
６Ｍビット以降のリソグラフィ装置として不可欠と考え
られている。しかし現在の光ステッパーに変わって将来
リソグラフィ装置となるためにはそのスループットを極
めて向上させなければならない。スループット向上策の
一つとしては試料の大気から真空領域への搬入時間の短
縮が上げられる。しかしながら従来からの電子ビーム露
光装置では試料の搬入時には真空排気ポンプの起動停止
が行われるため試料搬入に多大な無駄時間が生じスルー
プット向上を妨げる一因となっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、電子
ビーム露光による描画装置が２５６Ｍビット以降のＶＬ
ＳＩ製造のためのリソグラフィ装置として使われるため
に、そのスループットを向上することにある。特に、電
子ビームの露光に供される試料を、大気から真空領域
へ、真空領域から大気へ搬出入する時間を短くすること
にある。
ビーム露光による描画装置が２５６Ｍビット以降のＶＬ
ＳＩ製造のためのリソグラフィ装置として使われるため
に、そのスループットを向上することにある。特に、電
子ビームの露光に供される試料を、大気から真空領域
へ、真空領域から大気へ搬出入する時間を短くすること
にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、試料を
大気から真空内に入れる際にロードロック室の真空引き
に使用している真空排気ポンプ、特にターボ分子ポンプ
を停止すること無しにバルブの切り替え動作だけで大気
と真空域内との間で試料を搬出入できるようにしたこと
にある。ターボ分子ポンプを停止すること無しに試料の
搬出入することができるので、これにかかる時間を極め
て短縮することができる。
大気から真空内に入れる際にロードロック室の真空引き
に使用している真空排気ポンプ、特にターボ分子ポンプ
を停止すること無しにバルブの切り替え動作だけで大気
と真空域内との間で試料を搬出入できるようにしたこと
にある。ターボ分子ポンプを停止すること無しに試料の
搬出入することができるので、これにかかる時間を極め
て短縮することができる。
【０００５】即ち本発明は、ターボ分子ポンプとロード
ロック室との間にバルブを挿入し、ターボ分子ポンプ背
圧口とロータリーポンプとの間にバルブを挿入し、前記
ターボ分子ポンプ背圧口直後に取り付けられたバルブと
ロータリーポンプとの間に分岐管を挿入し、前記分岐管
の一方をバルブを介してロードロック室と接続したこと
にある。
ロック室との間にバルブを挿入し、ターボ分子ポンプ背
圧口とロータリーポンプとの間にバルブを挿入し、前記
ターボ分子ポンプ背圧口直後に取り付けられたバルブと
ロータリーポンプとの間に分岐管を挿入し、前記分岐管
の一方をバルブを介してロードロック室と接続したこと
にある。
【０００６】さらに本発明は、ロードロック室内の試料
が載置される台あるいは搬送手段の一部に温度制御手段
を具備させ、断熱膨張効果による試料の温度低下を防止
する機能を持たせたことを特徴とする。
が載置される台あるいは搬送手段の一部に温度制御手段
を具備させ、断熱膨張効果による試料の温度低下を防止
する機能を持たせたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明によれば、試料の搬出入に伴うターボ分
子ポンプの起動停止が無くなるので、試料の搬出入にか
かる時間が極めて短縮される。さらにロードロック室内
の試料が載置される台あるいは搬送手段の一部に温度制
御手段を具備させ、断熱膨張効果による試料の温度低下
を防止する機能を持たせたため、試料台上で試料の温度
回復を待つこと無しに精度の高い描画を行うことができ
る。
子ポンプの起動停止が無くなるので、試料の搬出入にか
かる時間が極めて短縮される。さらにロードロック室内
の試料が載置される台あるいは搬送手段の一部に温度制
御手段を具備させ、断熱膨張効果による試料の温度低下
を防止する機能を持たせたため、試料台上で試料の温度
回復を待つこと無しに精度の高い描画を行うことができ
る。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の詳細を図示の実施例によって
説明する。
説明する。
【０００９】図１は本発明の第１の実施例に関わる電子
ビーム描画装置の概略構成を示すブロック図である。図
中１１は試料１２を載置する試料台であり、この試料台
１１は計算機（図示せず）から指令を受けた試料台駆動
制御部（図示せず）によりＸ方向（紙面左右方向）及び
Ｙ方向（紙面表裏方向）に移動されるものとなってい
る。そして、試料台１１の移動位置は、例えばレーザー
干渉計からなる試料台位置測定部（図示せず）により測
定されるものとなっている。
ビーム描画装置の概略構成を示すブロック図である。図
中１１は試料１２を載置する試料台であり、この試料台
１１は計算機（図示せず）から指令を受けた試料台駆動
制御部（図示せず）によりＸ方向（紙面左右方向）及び
Ｙ方向（紙面表裏方向）に移動されるものとなってい
る。そして、試料台１１の移動位置は、例えばレーザー
干渉計からなる試料台位置測定部（図示せず）により測
定されるものとなっている。
【００１０】試料台１１は真空容器１３に設置され、そ
の上方には、電子光学鏡筒１４が設置されている。真空
容器１３の側方にはゲートバルブ１５を介してロードロ
ック室１６が取り付けられている。ロードロック室１６
の下面にはバルブ１７、１８を介してターボ分子ポンプ
（ＴＭＰ）１９と真空配管２０が取り付けられている。
ロードロック室１６の側面には試料搬送手段２７が取り
付けられている。ＴＭＰ１９の背圧口にはバルブ２１が
取り付けられ、その後ろに分岐管２２が設けられ、一方
の口は配管２０と他方の口はロータリーポンプ２３に接
続された配管２４とそれぞれ繋っている。そして上記構
造体は防震台２５の上に設置されている。さらにロード
ロック室１６内の試料１２が載置される台あるいは搬送
手段の一部に温度制御手段２６を具備させ、ロードロッ
ク室１６の真空排気の際の断熱膨張効果による試料１２
の温度低下を防止する機能を持たせている。
の上方には、電子光学鏡筒１４が設置されている。真空
容器１３の側方にはゲートバルブ１５を介してロードロ
ック室１６が取り付けられている。ロードロック室１６
の下面にはバルブ１７、１８を介してターボ分子ポンプ
（ＴＭＰ）１９と真空配管２０が取り付けられている。
ロードロック室１６の側面には試料搬送手段２７が取り
付けられている。ＴＭＰ１９の背圧口にはバルブ２１が
取り付けられ、その後ろに分岐管２２が設けられ、一方
の口は配管２０と他方の口はロータリーポンプ２３に接
続された配管２４とそれぞれ繋っている。そして上記構
造体は防震台２５の上に設置されている。さらにロード
ロック室１６内の試料１２が載置される台あるいは搬送
手段の一部に温度制御手段２６を具備させ、ロードロッ
ク室１６の真空排気の際の断熱膨張効果による試料１２
の温度低下を防止する機能を持たせている。
【００１１】次にこのように構成された装置の操作につ
いて説明する。まず試料を搬出する操作について説明す
る。この際のＴＭＰ１９とバルブ１７、１８、２１の状
態はＴＭＰ１９がｏｎ、バルブ１７がｏｐｅｎ、バルブ
１８がｃｌｏｓｅ、バルブ２１がｏｐｅｎである。まず
バルブ１５を開けて、描画された試料１２を搬送手段２
７を使って真空容器１３内の試料台１１上からロードロ
ック室１６内に取り出す。バルブ１５を閉めた後バルブ
１７を閉めてロードロック室１６内を大気に落とし扉２
７を開けて試料１２を取り出す。次に試料１２を搬入す
る操作について説明する。扉２７を開け試料１２を入れ
る。バルブ２１を閉め、バルブ１８を開けてロータリー
ポンプ２３でロードロック室１６内の真空引きを行う。
ロードロック室１６内の真空がｍＴｏｒｒ台になった時
点でバルブ１８を閉めバルブ２１を開けてバルブ１７を
開ける。このようにするとバルブ１７を開けてもＴＭＰ
１９のブレードが破壊するような負荷がかかること無し
にロードロック室１６内の真空を引くことができる。こ
のようにするとロードロック室１６の真空排気の際に断
熱膨張効果により試料１２の温度低下が生じる。これを
防止するためにロードロック室１６内の試料１２が載置
される台あるいは搬送手段の一部に設けられた温度制御
手段によって試料を加熱できるようにして試料の温度変
動に伴う描画開始までの待ち時間の短縮と描画精度の低
下を防ぐようにしている。さらにＴＭＰ１９は試料片が
描画されている最中でも作動しているためＴＭＰ１９は
機械的振動を減衰させる防震ダンパーを介してバルブと
接続される方が良い。
いて説明する。まず試料を搬出する操作について説明す
る。この際のＴＭＰ１９とバルブ１７、１８、２１の状
態はＴＭＰ１９がｏｎ、バルブ１７がｏｐｅｎ、バルブ
１８がｃｌｏｓｅ、バルブ２１がｏｐｅｎである。まず
バルブ１５を開けて、描画された試料１２を搬送手段２
７を使って真空容器１３内の試料台１１上からロードロ
ック室１６内に取り出す。バルブ１５を閉めた後バルブ
１７を閉めてロードロック室１６内を大気に落とし扉２
７を開けて試料１２を取り出す。次に試料１２を搬入す
る操作について説明する。扉２７を開け試料１２を入れ
る。バルブ２１を閉め、バルブ１８を開けてロータリー
ポンプ２３でロードロック室１６内の真空引きを行う。
ロードロック室１６内の真空がｍＴｏｒｒ台になった時
点でバルブ１８を閉めバルブ２１を開けてバルブ１７を
開ける。このようにするとバルブ１７を開けてもＴＭＰ
１９のブレードが破壊するような負荷がかかること無し
にロードロック室１６内の真空を引くことができる。こ
のようにするとロードロック室１６の真空排気の際に断
熱膨張効果により試料１２の温度低下が生じる。これを
防止するためにロードロック室１６内の試料１２が載置
される台あるいは搬送手段の一部に設けられた温度制御
手段によって試料を加熱できるようにして試料の温度変
動に伴う描画開始までの待ち時間の短縮と描画精度の低
下を防ぐようにしている。さらにＴＭＰ１９は試料片が
描画されている最中でも作動しているためＴＭＰ１９は
機械的振動を減衰させる防震ダンパーを介してバルブと
接続される方が良い。
【００１２】以上説明したように本発明によれば、ＴＭ
Ｐの起動停止を行うこと無しに大気と真空領域との間で
試料の搬出入ができるようになるため従来に比べて試料
の搬出入にかかる時間が極めて短縮できる。さらにロー
ドロック室内の試料が載置される台あるいは搬送手段の
一部に温度制御手段を具備させ、断熱膨張効果による試
料の温度低下を防止する機能を持たせたため、試料台上
で試料の温度回復を待つこと無しに精度の高い描画を行
うことができる。
Ｐの起動停止を行うこと無しに大気と真空領域との間で
試料の搬出入ができるようになるため従来に比べて試料
の搬出入にかかる時間が極めて短縮できる。さらにロー
ドロック室内の試料が載置される台あるいは搬送手段の
一部に温度制御手段を具備させ、断熱膨張効果による試
料の温度低下を防止する機能を持たせたため、試料台上
で試料の温度回復を待つこと無しに精度の高い描画を行
うことができる。
【００１３】なお本発明は上述した実施例に限定される
ものではない。図１ではＴＭＰの背圧ポンプとしてロー
タリーポンプを使用しているが、油の逆流がない種々の
ドライポンプを用いても良いことは勿論である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。
ものではない。図１ではＴＭＰの背圧ポンプとしてロー
タリーポンプを使用しているが、油の逆流がない種々の
ドライポンプを用いても良いことは勿論である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。
【００１４】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、Ｔ
ＭＰの起動停止を行うこと無しに大気と真空領域との間
で試料の搬出入ができるようになるため従来に比べて試
料の搬出入にかかる時間が極めて短縮できる。さらにロ
ードロック室内の試料が載置される台あるいは搬送手段
の一部に温度制御手段を具備させ、断熱膨張効果による
試料の温度低下を防止する機能を持たせたため、試料台
上で試料の温度回復を待つこと無しに精度の高い描画を
行うことができる。の一次給電系の一実施例を示す概念
構成図
ＭＰの起動停止を行うこと無しに大気と真空領域との間
で試料の搬出入ができるようになるため従来に比べて試
料の搬出入にかかる時間が極めて短縮できる。さらにロ
ードロック室内の試料が載置される台あるいは搬送手段
の一部に温度制御手段を具備させ、断熱膨張効果による
試料の温度低下を防止する機能を持たせたため、試料台
上で試料の温度回復を待つこと無しに精度の高い描画を
行うことができる。の一次給電系の一実施例を示す概念
構成図
【図１】 本発明の第１の実施例に関わる電子ビーム描
画装置の概略構成を示すブロック図。
画装置の概略構成を示すブロック図。
１１…試料台 １２…試料 １３…真空容器 １４…電子光学鏡筒 １５…ゲートバルブ １６…ロードロック室 １７，１８，２１…バルブ １９…ターボ分子ポンプ ２０，２４…真空配管 ２２…分岐管 ２３…ロータリーポンプ ２５…防震台 ２６…温度制御手段 ２７…試料搬送手段 ２８…扉
Claims (3)
- 【請求項１】 内部にビーム描画領域を有する電子ビー
ム真空室と、上記ビーム描画領域の側方にある上記真空
室へのアクセス用開閉口と、上記開閉口と接続されて電
子ビームによって描画される試料片を出し入れして外気
に対して気密可能な副室と、前記電子ビーム真空室と副
室との間で前記試料片を移動させるための搬送手段とを
有する、試料片上に電子ビーム描画するための電子ビー
ム描画装置において、上記副室に第１のバルブを介して
ターボ分子ポンプを接続し、前記ターボ分子ポンプと背
圧ポンプとを第２のバルブを介して接続し、前記第２の
バルブと背圧ポンプとの間に分岐管を設け、前記分岐管
の一端と前記副室とを第３のバルブを介してバイパス接
続したことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 【請求項２】 上記副室あるいは上記搬送手段には試料
片の温度制御手段を具備させたことを特徴とする請求項
１記載の電子ビーム描画装置。 - 【請求項３】 上記ターボ分子ポンプは防震ダンパーを
介して上記第１のバルブと接続されたことを特徴とする
請求項１および請求項２のいずれかに記載の電子ビーム
描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25343692A JP3192772B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 電子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25343692A JP3192772B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 電子ビーム描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0684770A JPH0684770A (ja) | 1994-03-25 |
| JP3192772B2 true JP3192772B2 (ja) | 2001-07-30 |
Family
ID=17251379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25343692A Expired - Fee Related JP3192772B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 電子ビーム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3192772B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003031470A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-31 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2007294673A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Nikon Corp | 露光装置 |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP25343692A patent/JP3192772B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0684770A (ja) | 1994-03-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2731950B2 (ja) | 露光方法 | |
| JPH0874737A (ja) | 処理装置の真空排気システム | |
| JPH054666A (ja) | 通気孔を設けた半導体ウエーハ用真空カセツト | |
| KR950034660A (ko) | 반도체 제조장치 및 이 장치에 있어서, 웨이퍼 이송방법 | |
| KR20110095242A (ko) | 인터페이스 장치 | |
| JP4781192B2 (ja) | ロードロック装置、それを備えた基板処理装置および基板処理システム | |
| JP3192772B2 (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
| TW301018B (ja) | ||
| JP4277517B2 (ja) | 露光装置及び基板搬送装置 | |
| JPH0786370A (ja) | ガスパージ装置 | |
| JP2826479B2 (ja) | ガス供給装置及びその操作方法 | |
| JP3517076B2 (ja) | 半導体製造装置及びその内部圧調節方法並びに半導体装置の製造方法 | |
| JP2006147638A (ja) | 露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
| JP3390858B2 (ja) | Ｉｃ試験用恒温槽 | |
| JPH0529263A (ja) | 半導体製造装置 | |
| TW440905B (en) | Wafer buffer system | |
| JPH04304617A (ja) | 荷電粒子線装置等の試料供給装置 | |
| JPH0631154A (ja) | 真空装置 | |
| JP3005802B2 (ja) | イオンビーム装置及びそのガス導入装置 | |
| JPH0741158U (ja) | 排気装置と弁装置 | |
| JP2946733B2 (ja) | 真空排気装置 | |
| JP2007227250A (ja) | 検査装置及び検査装置の予備排気室を真空排気する方法 | |
| JP2000058620A (ja) | ウェハローダ | |
| TW202413704A (zh) | 排氣構造、排氣系統、處理裝置及半導體裝置的製造方法 | |
| JPS6342459Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |