JP3187926B2

JP3187926B2 - 赤外線加熱装置

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Publication number: JP3187926B2
Application number: JP09865692A
Authority: JP
Inventors: 節男楯
Original assignee: 節男楯
Priority date: 1992-03-25
Filing date: 1992-03-25
Publication date: 2001-07-16
Anticipated expiration: 2016-07-16
Also published as: JPH05275159A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、赤外線加熱装置に
係る。詳細には、赤外線を照射することで、被照射物を
加熱する加熱装置、更には加熱の結果被照射物に塗布さ
れた塗膜の乾燥に使用が可能な赤外線加熱装置に係る。

【０００２】

【従来の技術】従来、赤外線を使用して被照射物表面
に塗布された塗膜を乾燥させる赤外線加熱装置として
は、遠赤外線を使用した装置が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】乾燥炉に使用した同
装置では、遠赤外線ランプは炉面に固定されるため、炉
内を搬送される被照射物の大きさが変わると遠赤外線ラ
ンプと被照射物との距離は変化する。しかし、遠赤外線
はエネルギー密度が低いため、距離に対する減衰が大き
いので、被照射物と遠赤外線ランプとの距離が大きくな
ると、乾燥効率が低下する課題を有した。また、被照射
物表面に凹凸がある場合は、面による加熱度合いが異な
り、乾燥程度も異なる課題を有した。

【０００４】更に、複数個の遠赤外線ランプ設置された
バンクを移動可能とし、を被照射物方向に移動させる赤
外線加熱装置も提案されたが、被照射物に凹凸がある場
合移動量は制限されたものとなり、遠赤外線は距離に対
する減衰率が大きいため、被照射物に近付く距離に限界
があると、乾燥時間が係る課題を有した。

【０００５】他方、「近赤外線の液体、パウダ、コーテ
ィング、ストーブ」（実開平1ー151873）、「塗料焼付
炉専用の光板」（実開平2ー43217）、USP4,863,375「BA
KINGMETHOD FOR USE WITH LIQUID OR POWDER VARNISHIN
G FURNACE」（ベーキングメソッドフォーユース
ウィズリキッドオアパウダーヴァーニシング
ファーニス）等が知られている。これら従来例には、
「一種近赤外線の液体、パウダ、コーティング、ストー
ブのベーキング方法」についての記載があり、「近赤外
線の快速高温と貫通力が強い特性を利用し、ストーブの
ベーキング物品の方法を改良して、ペイントを快速に乾
燥するとともにその付着力を増強する発明」、すなわち
「いわゆる液体、粉末液体の塗装どおりに、粉末液体状
態のパウダ、液体塗料、気体あるいは流体を運送媒介体
としてその物体表面に付着させて、しかるのち加熱熔融
をへて均等にコートの塗装法」についての記載がある。

【０００６】あるいは、「近赤外線を使用した乾燥炉、
あるいは乾燥炉内に高温部と低温部とを順次形成して乾
燥する乾燥方法、あるいは近赤外線ランプの背後には陶
磁製反射板を設け、および陶磁製反射板の中にはヒータ
ーを設ける」旨の記載がある。

【０００７】又塗装技術増刊10月号には「中波長赤外線
ラジエーター」ついての記載がある（1990年10月20日株
式会社理工出版社刊211〜213頁）。すなわち、「塗膜に
到達した放射エネルギーは、その一部は吸収され、一部
は反射し、一部は透過する。このうち吸収されたエネル
ギーが熱に変り塗膜を加熱、乾燥させる。塗装の場合は
母材、ボディがあるため塗膜を透過した放射エネルギー
が母材を加熱し、熱伝導で塗膜を内側から加熱する。

【０００８】近赤外線：温度2000〜2200℃ 最大エネ
ルギー波長約1.2μm，エネルギー密度大、反射，透過エ
ネルギーが大きい，立上り速度が早い（1〜2秒），寿命
が約5000時間と短い。

【０００９】中赤外線：温度850〜900℃ 最大エネル
ギー波長約2.5μm，エネルギー密度中，吸収．透過エネ
ルギーがバランスしてエネルギーが塗膜内に浸透，寿命
が長い。

【００１０】遠赤外線：温度500〜600℃，最大エネル
ギー波長約3.5μm，エネルギー密度小，良く吸収される
が塗膜表面で吸収，加熱となりがち，立上り時間が長い
（5〜15分），対流損失が大きい。」とされる。

【００１１】さらに、「2．最大効率の中波長赤外線
「より早く乾燥し，より良い塗膜品質を得る」には，つ
まり最大効率で加熱，乾燥させるには，次の二つの条件
を同時に満足している必要がある。

【００１２】赤外線ラジェターの温度が高い放射エネ
ルギーはラジェターの絶対温度(T)の４乗に比例する。

【００１３】Eb∝T⁴

【００１４】温度が高いほど放射エネルギーは大きくな
る。

【００１５】最大エネルギー波長が塗料のピーク吸収
率よりいくぶん短波長よりにあること

【００１６】塗料の工業用赤外線加熱で利用できる最大
ピーク波長は例外なく3μm前後にある。よって2.5μm前
後に最大エネルギー波長を持つ赤外線ラジェターが吸収
も良く，透過し，母材も加熱し内部からも加熱できる。

【００１７】上記の関連，赤外線ラジェターの温度
（Ｔ）と最大エネルギー波長（λm）の関係を表す，ウ
ィーンの変位則，

【００１８】λm＝2897/Tより

【００１９】T＝(t+273)＝2897/2.5

【００２０】t＝880℃

【００２１】中波長赤外線がこの条件を満足し有効エネ
ルギーが大きく最大効率となる。」とされる。

【００２２】しかしながら、実開平1ー151873、実開平2
ー43217、USP4,863,375等には、近赤外線を使用して塗
膜乾燥をおこなう旨の記載はあるが、使用される近赤外
線の性質については一般的に記載されるに止どまり金属
表面に塗布される塗膜と近赤外線との関係による照射さ
れる赤外線の最適な範囲、選択ついては記載がない。

【００２３】先の「塗装技術増刊10月号」の記載には、
赤外線と母材の吸収率との関係に基づく赤外線の選択、
あるいはピンホール発生原因に基づく赤外線の選択につ
いての記載はなく、そして塗装乾燥においては「2.5μm
前後に最大エネルギー波長を持つ赤外線ラジェターが吸
収も良く，透過し，母材も加熱し内部からも加熱でき
る。」と結論している。

【００２４】

【課題を解決するための手段】この発明は、

【００２５】金属板あるいはプラスチック板からなる母
材と、母材表面に塗膜として塗料を塗布した被照射物を
加熱する赤外線加熱装置において、近赤外線ランプおよ
び／又は中赤外線ランプと、ランプの少なくとも両側に
設置された反射板とからなるとともに、赤外線ランプか
らは母材表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線透
過率が高くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発生
する赤外線およびその反射光の照射により、塗膜を母材
表面に近い塗膜裏面から加熱して固化させることを特徴
とする赤外線加熱装置、及び、金属板あるいはプラスチ
ック板からなる母材と、母材表面に塗膜として塗料を塗
布した被照射物を加熱する赤外線加熱装置において、近
赤外線ランプおよび／又は中赤外線ランプと、ランプの
少なくとも両側に設置された反射板とからなるととも
に、赤外線ランプからは母材表面に塗布された塗料の塗
膜に対する赤外線透過率が高くかつ母材の吸収率の高い
領域の赤外線を発生する赤外線およびその反射光の照射
により、塗膜を母材表面に近い塗膜裏面から加熱して固
化させるとともに、反射板を移動可能に設け被照射物に
対する距離を近接離隔自在に移動することを特徴とする
赤外線加熱装置、及び、金属板あるいはプラスチック板
からなる母材と、母材表面に塗膜として塗料を塗布した
被照射物を加熱する赤外線加熱装置において、近赤外線
ランプおよび／又は中赤外線ランプと、ランプの少なく
とも両側に設置された反射板と、内面が反射面からなる
複数の筒状フードとからなり、赤外線ランプからは母材
表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線透過率が高
くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発生する赤外
線およびその反射光の照射により、塗膜を母材表面に近
い塗膜裏面から加熱して固化させるとともに、筒状フー
ドは被照射物の形状に対応させて複数の筒状フードから
選択して赤外線ランプと被照射物の間に設置することを
特徴とする赤外線加熱装置、

【００２６】を提供する。

【００２７】

【作用】近赤外線ランプおよび／または中赤外線ラン
プの照射光は反射板は反射されて、被照射物に照射され
る。赤外線ランプからは母材表面に塗布された塗料の塗
膜に対する赤外線透過率が高くかつ母材の吸収率の高い
領域の赤外線を発生する赤外線およびその反射光の照射
により、塗膜を母材表面に近い塗膜裏面から加熱して固
化させる。

【００２８】

【実施例】被乾燥物Ｗの塗膜を形成される母材として
金属板を使用する場合金属板としては、鉄、アルミニウ
ム、銅、真ちゅう、金、ベリリウム、モリブデン、ニッ
ケル、鉛、ロジウム、銀、タンケル、アンチモン、カド
ミウム、クロム、イリジウム、コバルト、マグネシウ
ム、タングステンそのほかの金属からなるが、とりわけ
銅、アルミニウム、鉄が望ましい。母材としては、プラ
スチックスも使用可能である。金属等表面に塗布される
塗膜を形成する塗料としては、アクリル系樹脂塗料、ウ
レタン樹脂系塗料、エポキシ樹脂系塗料、メラミン樹脂
系塗料、その他の塗料が可能である。塗膜は、いわゆる
粉体塗膜（ポリエステル系、エポキシ系、アクリル系
等）を溶融させて得られた塗膜でもよい。

【００２９】図２５〜図２８に、各金属の各波長におけ
る反射率を示す（AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS HAND
BOOK、アメリカンインスティテュートオブフィジ
ックスハンドブック6ー120）。反射率の高いほど吸収
率は低く、反射率の低いほど吸収率は高くなる。

【００３０】図１は、ブチル化尿素ーブチル化メラミン
樹脂の赤外吸収曲線である。図２は、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂の赤外吸収曲線である。図３は、ＭＭＡ
ホモポリマー（アクリル系）の赤外吸収曲線である。図
４はＥＭＡホモポリマー（アクリル系）赤外吸収曲線で
ある。図５は、不飽和ポリエステル樹脂の赤外吸収曲線
である。図６は、この実施例に使用される近赤外線ラン
プの特性曲線および遠赤外線ランプの特性曲線を表す。
近赤外線ランプのピーク波長は1.4μｍ、遠赤外線ラン
プのピーク波長は3.5μｍである。

【００３１】被乾燥物Ｗの母材の金属板として、鉄、ア
ルミニウム、銅、真ちゅう、金、ベリリウム、モリブデ
ン、ニッケル、鉛、ロジウム、銀、タンケル、アンチモ
ン、カドミウム、クロム、イリジウム、コバルト、マグ
ネシウム、タングステンからなる金属板を使用し、塗料
としてアクリル系樹脂塗料、ウレタン樹脂系塗料、エポ
キシ樹脂系塗料、メラミン樹脂系塗料を使用する場合
は、母材表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線透
過率が高くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発生
する赤外線としては、波長のピークが３．０μｍ以下の
赤外線ランプ、望ましくは１．２μｍ〜１．５μｍのい
わゆる近赤外線ランプを使用するのが望ましい。

【００３２】図１０に平面断面図を、図１１に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が１．４μｍの近赤外線
ランプ１１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置された実施例ｂである。この実施例では近赤
外線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を反射
板１３として、被照射物Ｗ側が広がるように４５度に広
げて設置する。

【００３３】図１２に平面断面図を、図１３に正面断面
図をあらわすのは、同近赤外線ランプ１１（５．０ｋ
ｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に壁面に設置され近赤外
線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を被照射
物Ｗ側が広がるように４５度に広げ、かつ天井面および
床面にも同ステンレス板からなる反射板１３を設置され
た実施例ｄである。

【００３４】図１４に平面断面図を、図１５に正面断面
図をあらわすのは、同近赤外線ランプ１１（５．０ｋ
ｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に壁面に設置され近赤外
線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板からなる
反射板１３を平行に設置する実施例ｄである。

【００３５】図１６に平面断面図を、図１７に正面断面
図をあらわすのは、同近赤外線ランプ（５．０ｋｗ）を
上下に５本乾燥炉１２内に壁面に設置され近赤外線ラン
プ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を平行にかつ、
上下面も近赤外線ランプ１１周囲を囲むように同ステン
レス板からなる反射板１３を設置する実施例ｅである。

【００３６】図２０に平面断面図を、図２１に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が２．５μｍの中赤外線
ランプ２１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置され中赤外線ランプの左右ＳＵＳ３０４ステ
ンレス板を平行にかつ、上下面も近赤外線ランプ周囲を
囲むように同ステンレス板からなる反射板を設置する実
施例である。

【００３７】ランプは近赤外線ランプ１１、中赤外線ラ
ンプ２１を混在させてもよい。

【００３８】実施例ｅおよび実施例ｇでは、ステンレス
板からなる反射板１３は１０００ｍｍの場合、被照射物
Ｗまで延長される。反射板１３の移動は、中央断面図を
あらわす図２２に図示するように、近赤外線ランプ１１
あるいは中赤外線ランプ２１の周囲に設置された反射板
１３は内側反射板１４と、外側反射板１５とからなり、
外側反射板１５はレール２２等にガイドされモータによ
り移動する。あるいは、図２３に図示するように、反射
板１３は両面開口した直方体からなり、固定された赤外
線ランプ１１の周囲を、レール２２に従って移動する。

【００３９】反射板１３からなるフード１６の移動は、
表面に凹凸形状を有する非照射物Ｗを照射する場合は、
表面の凹凸形状をセンサーで検知してマイクロモータで
非照射物Ｗに近接離隔移動させてもよい。あるいは、長
さに応じた直方体のフード状の反射板１３を用意し、長
さに応じて交換しても良い。更に、じゃばら状のフード
１６を使用して伸縮自在としてもよい。フード１６の被
照射物Ｗ側先端を狭めることにより、赤外線を集中させ
ることが可能となる。

【００４０】そして、図３２に図示されるようにフード
１６は各赤外線ランプごとに囲むように設置してもよ
い。この場合は、被照射物Ｗを乾燥炉内に収納して乾燥
させる必要はないので、ブルドーザー等大型建設機械の
塗装の乾燥に適する。その場合、被照射物Ｗの表面に凹
凸がある場合でも、反射板１３先端から被照射物Ｗ表面
間での距離がどの地点でも等距離となるように設定可能
である。そのため、各表面を区別なく一定化し、平均し
て加熱し、乾燥することが可能となる。

【００４１】更に、各フード１６先端から被照射物Ｗま
での距離を調整することで各乾燥箇所を任意の温度で加
熱することが可能となり、部分的に塗膜厚が異なる場合
に適する。

【００４２】実施例ｂ、ｄの場合は、天井面は開口して
いるので熱風炉と併用すると有効である。

【００４３】図２４は、ガンタイプの赤外線加熱装置の
実施例の説明図である。ガンタイプの赤外線加熱装置で
は、長さ、あるいは先端が開口する形状の異なり、内面
が反射面からなる円筒状のフード１６を必要に応じてア
タッチメントとして用意し、被照射物Ｗによりフード１
６を選択して赤外線ランプ１１の前に取り付ける。この
場合は、奥の方を加熱し乾燥させるのに有効である。

【００４４】図３３に図示されるのは、部分的に肉厚部
分Ｗ１を有する被照射物Ｗを乾燥するのに適する赤外線
加熱装置の実施例の要部拡大図である。この実施例では
肉厚部分Ｗ１位置の近赤外線ランプ１１正面から被照射
物Ｗに向けて内面が反射板１３からなる筒状のフード１
６を突設させる。従来は、図３３に図示されるような部
分的に設けられた肉厚部分Ｗ１を有する被照射物を加熱
させて塗膜を乾燥させる場合は、肉厚部分Ｗ１にあわせ
て加熱させると非肉厚部分ではオーバーベークとなり、
非肉厚部分にあわせて加熱させると肉厚部分Ｗ１では加
熱不足となる課題を有した。しかし、この実施例では各
近赤外線ランプ１１を非肉厚部分にあわせて加熱して
も、肉厚部分Ｗ１には非肉厚部分よりも強いエネルギー
が与えられるため、肉厚部分Ｗ１が加熱不足となること
はない。

【００４５】図３４、図３５は赤外線照射が不足しがち
な底部を集中的に加熱させる赤外線加熱装置の実施例の
説明図である。この実施例では、フード１６の先端が折
り曲げられ被照射物Ｗの底部に開口される。

【００４６】図３６、図３６の拡大図である図３７に図
示される実施例では、乾燥炉１２の壁面に複数の近赤外
線ランプ１１、あるいは中赤外線ランプ２１が設置され
たランプハウジング３１の間に平行にレール等のガイド
３２が設置される。３３は、ランプホルダーであり、２
本の近赤外線ランプ１１、あるいは中赤外線ランプが取
り付けられ、ガイド３２に沿って上下に移動可能、かつ
ストッパー（図示せず）により位置決め可能である。ラ
ンプ先端には被照射物Ｗ方向に向けた筒状のフード１６
が取り付けられる。そのため、ランプハウジング３１の
位置を移動させ、被照射物Ｗの形状に合わせてフード１
６を取り替えることで被照射物Ｗの一部を集中的に加熱
させることが可能である。

【００４７】図３８に図示されるのは、例えば塗装前の
化成処理として水洗をおこなった場合の水切乾燥用の赤
外線加熱装置の一部拡大図である。被照射物Ｗに付着し
た水分は、次の塗装工程にまで残ると塗膜不良を生ずる
ので、水分は除く必要がある。しかし、図３８の被照射
物Ｗの下端の折り曲げ部の内側や、凹部などには水のた
まりが生じやすく、これを乾燥させようと加熱装置をあ
まり高温にすると、被照射物Ｗに密着性や防錆力を向上
させるために付けた化成皮膜がダメージを受けてしま
う。この実施例では、フード１６先端を被照射物Ｗ下端
がダメージを受けてしまう。この実施例では、フード１
６先端を被照射物Ｗ下端先端方向に向けることにより、
部分的に高いエネルギーを与え、折り曲げ部に溜まった
水分を乾燥させ、しかも他の部の化成皮膜にダメージを
与えることはない。

【００４８】図３３、図３４、図３５、図３６、図３
７、図３８に図示される実施例ともに、近赤外線ランプ
１１のかわりに中赤外線ランプ２１を使用してもよい。

【００４９】塗膜の形成された被乾燥物Ｗの母材表面
に、当該塗膜に対する赤外線透過率が高くかつ母材の吸
収率の高い領域の赤外線を発生する赤外線およびその反
射光を照射する場合は、照射された赤外線は、塗膜を透
過し、表面に塗膜を形成された母材に吸収され母材表面
が加熱される。そのため、塗膜は母材表面に近い塗膜裏
面から加熱され固化される。そのため、塗膜中の溶剤が
蒸発しても固化した塗膜表面を破りピンホールを形成す
ることはない。

【００５０】（実施例および比較例）

【００５１】図８に平面断面図を図９に正面断面図をあ
らわすのは、ピーク波長が１．４μｍの近赤外線ランプ
１１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に壁面に
設置された比較例ａをあらわす。この比較例では近赤外
線ランプ１１の周囲に反射板１３は設けていない。近赤
外線ランプ１１から６００ｍｍおよび、１０００ｍｍの
位置に２．３ｍｍ厚鉄板を順次設置し、鉄板にはそれぞ
れ接触温度計（ＴＡＫＡＲＡタイプＡ−６００）を接
触させて固定する。６００ｍｍのときの温度上昇変化を
図３０にあらわす。１０００ｍｍのときの温度上昇変化
を図３１にあらわす。更に両者を図２９中にあらわす。

【００５２】図１０に平面断面図を、図１１に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が１．４μｍの近赤外線
ランプ１１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置された実施例ｂをあらわす。この実施例では
近赤外線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を
被照射物Ｗ側が広がるように４５度に広げて設置する。
ランプ面から６００ｍｍおよび１０００ｍｍに設置され
た比較例ａと同様の鉄板の温度変化を図３０、図３１に
あらわす。更に、両者を図２９中にあらわす。

【００５３】図１２に平面断面図を、図１３に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が１．４μｍの近赤外線
ランプ１１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置された実施例ｃをあらわす。この実施例では
近赤外線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を
被照射物Ｗ側が広がるように４５度に広げ、かつ天井面
および床面にも同ステンレス板を設置する。ランプ面か
ら６００ｍｍおよび１０００ｍｍに設置された比較例ａ
と同様の鉄板の温度変化を図３０、図３１にあらわす。
更に両者を図２９中にあらわす。

【００５４】図１４に平面断面図を、図１５に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が１．４μｍの近赤外線
ランプ１１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置された実施例ｄをあらわす。この実施例では
近赤外線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を
平行に設置する。ランプ面から６００ｍｍおよび１００
０ｍｍに設置された比較例ａと同様の鉄板の温度変化を
図３０、図３１にあらわす。更に、両者を図２９中にあ
らわす。

【００５５】図１６に平面断面図を、図１７に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が１．４μｍの近赤外線
ランプ１１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置された実施例ｅをあらわす。この実施例では
近赤外線ランプ１１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を
平行にかつ、上下面も近赤外線ランプ１１周囲を囲むよ
うに同ステンレス板を設置する。ランプ面から６００ｍ
ｍおよび１０００ｍｍに設置された比較例ａと同様の鉄
板の温度変化を図３０、図３１にあらわす。１０００ｍ
ｍの場合は、ステンレス板は被照射物Ｗまで延長され
る。更に、両者を図２９中にあらわす。１０００の場
合、反射板１３を延長しなかった場合は、以下の通りで
ある。０分、１４度Ｃ、１．０分、２２度Ｃ、２．０
分、３２度Ｃ、３．０分、３９度Ｃ、４．０分、４７度
Ｃ、５．０分、５５度Ｃ、６．０分、６１度Ｃ、７．０
分、６６度Ｃ、８．０分、７０度Ｃ、９．０分、７４度
Ｃ、１０．０分、７６度Ｃ。

【００５６】図１８に平面断面図を図１９に正面断面図
をあらわすのは、ピーク波長が２．５μｍの中赤外線ラ
ンプ２１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に壁
面に設置された比較例ｆをあらわす。この比較例では中
赤外線ランプ２１の周囲に反射板１３は設けていない。
ランプ面から６００ｍｍおよび１０００ｍｍに設置され
た比較例ａと同様の鉄板の温度変化を図３０、図３１に
あらわす。更に両者を図２９中にあらわす。

【００５７】図２０に平面断面図を、図２１に正面断面
図をあらわすのは、ピーク波長が２．５μｍの中赤外線
ランプ２１（５．０ｋｗ）を上下に５本乾燥炉１２内に
壁面に設置された実施例ｇをあらわす。この実施例では
中赤外線ランプ２１の左右ＳＵＳ３０４ステンレス板を
平行にかつ、上下面も近赤外線ランプ１１周囲を囲むよ
うに同ステンレス板を設置する。ランプ面から６００ｍ
ｍおよび１０００ｍｍに設置された比較例ａと同様の鉄
板の温度変化を図３０、図３１にあらわす。１０００ｍ
ｍの場合は、ステンレス板は被照射物Ｗまで延長され
る。更に、両者を図２９中にあらわす。

【００５８】図２９、図３０、図３１に図示されるよう
に近赤外線ランプ１１を使用し、ランプ周囲をステンレ
ス板製反射板１３でかこみかつ被照射物Ｗまで反射板１
３を延長させたんだ実施例ｅの温度上昇が最も有効であ
る。

【００５９】

【発明の効果】したがって、この発明では、被照射物
の大きさ表面の凹凸に拘らず、被照射物に有効に赤外線
を照射させる。

【図面の簡単な説明】

【図１】各樹脂の赤外線吸収曲線図

【図２】各樹脂の赤外線吸収曲線図

【図３】各樹脂の赤外線吸収曲線図

【図４】各樹脂の赤外線吸収曲線図

【図５】各樹脂の赤外線吸収曲線図

【図６】赤外線ランプの特性曲線図

【図７】この発明の実施例の乾燥炉の平面中央断面図

【図８】比較例の平面断面図

【図９】比較例の正面断面図

【図１０】この発明の実施例の平面断面図

【図１１】この発明の実施例の正面断面図

【図１２】この発明の実施例の平面断面図

【図１３】この発明の実施例の正面断面図

【図１４】この発明の実施例の平面断面図

【図１５】この発明の実施例の正面断面図

【図１６】この発明の実施例の平面断面図

【図１７】この発明の実施例の正面断面図

【図１８】比較例の平面断面図

【図１９】比較例の正面断面図

【図２０】この発明の実施例の平面断面図

【図２１】この発明の実施例の正面断面図

【図２２】この発明の実施例のフードの平面断面図

【図２３】この発明の実施例のフードの平面断面図

【図２４】この発明の実施例の正面図

【図２５】金属の各波長における反射率図

【図２６】金属の各波長における反射率図

【図２７】金属の各波長における反射率図

【図２８】金属の各波長における反射率図

【図２９】昇温図

【図３０】昇温図

【図３１】昇温図

【図３２】この発明の実施例の正面図

【図３３】この発明の実施例の要部拡大図

【図３４】この発明の実施例の要部拡大図

【図３５】この発明の実施例の要部拡大図

【図３６】この発明の実施例の斜視図

【図３７】図３６に図示されるこの発明の実施例の拡大
図

【図３８】この発明の実施例の要部拡大図

【符号の説明】

１１赤外線ランプ１３反射板

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H05B 3/10 B05C 9/14 F26B 23/04 F27D 11/02 H05B 3/44

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】金属板あるいはプラスチック板からなる
母材と、母材表面に塗膜として塗料を塗布した被照射物
を加熱する赤外線加熱装置において、近赤外線ランプお
よび／又は中赤外線ランプと、ランプの少なくとも両側
に設置された反射板とからなるとともに、赤外線ランプ
からは母材表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線
透過率が高くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発
生する赤外線およびその反射光の照射により、塗膜を母
材表面に近い塗膜裏面から加熱して固化させることを特
徴とする赤外線加熱装置。
【請求項２】金属板あるいはプラスチック板からなる
母材と、母材表面に塗膜として塗料を塗布した被照射物
を加熱する赤外線加熱装置において、近赤外線ランプお
よび／又は中赤外線ランプと、ランプの少なくとも両側
に設置された反射板とからなるとともに、赤外線ランプ
からは母材表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線
透過率が高くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発
生する赤外線およびその反射光の照射により、塗膜を母
材表面に近い塗膜裏面から加熱して固化させるととも
に、反射板を移動可能に設け被照射物に対する距離を近
接離隔自在に移動することを特徴とする赤外線加熱装
置。
【請求項３】金属板あるいはプラスチック板からなる
母材と、母材表面に塗膜として塗料を塗布した被照射物
を加熱する赤外線加熱装置において、近赤外線ランプお
よび／又は中赤外線ランプと、ランプの少なくとも両側
に設置された反射板と、内面が反射面からなる複数の筒
状フードとからなり、赤外線ランプからは母材表面に塗
布された塗料の塗膜に対する赤外線透過率が高くかつ母
材の吸収率の高い領域の赤外線を発生する赤外線および
その反射光の照射により、塗膜を母材表面に近い塗膜裏
面から加熱して固化させるとともに、筒状フードは被照
射物の形状に対応させて複数の筒状フードから選択して
赤外線ランプと被照射物の間に設置することを特徴とす
る赤外線加熱装置。