JP3186886B2 - ２−クロロ−５−メチル−ピリジンの製造方法 - Google Patents
２−クロロ−５−メチル−ピリジンの製造方法Info
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- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
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Description
【０００１】本発明は２−クロロ−５−メチル−ピリジ
ンの製造用の新規な方法および新規な中間生成物に関す
るものである。
ンの製造用の新規な方法および新規な中間生成物に関す
るものである。
【０００２】３−メチル−ピリジン１−オキシドをトリ
エチルアミンの存在下でホスゲンと反応させる時に２−
クロロ−５−メチル−ピリジンが得られることは知られ
ている（ヨーロッパ特許出願４３９ ７４５、実施例
３）。しかしながら、この方法により得られる２−クロ
ロ−５−メチル−ピリジンの収率はほとんど満足のいか
ないものであり、そして生成物は常に相当量の２−クロ
ロ−３−メチル−ピリジンとの混合物状で得られる。
エチルアミンの存在下でホスゲンと反応させる時に２−
クロロ−５−メチル−ピリジンが得られることは知られ
ている（ヨーロッパ特許出願４３９ ７４５、実施例
３）。しかしながら、この方法により得られる２−クロ
ロ−５−メチル−ピリジンの収率はほとんど満足のいか
ないものであり、そして生成物は常に相当量の２−クロ
ロ−３−メチル−ピリジンとの混合物状で得られる。
【０００３】第一段階で式（II）
【０００４】
【化５】
【０００５】の３−メチル−ピリジン１−オキシドを、
任意に希釈剤の存在下で、有機窒素系塩基Ａおよび求電
子性化合物と反応させて、一般式（III）
任意に希釈剤の存在下で、有機窒素系塩基Ａおよび求電
子性化合物と反応させて、一般式（III）
【０００６】
【化６】
【０００７】［式中、Ａは有機窒素系塩基を表し、そし
てＺ-は求電子性化合物から製造されたアニオンを表
す］の化合物を与え、そしてこの化合物IIIを任意に粗
製中間生成物として単離するかまたは任意にさらに精製
し、そして第二段階で化合物IIIを１０℃−１５０℃の
間の温度において塩素化剤と反応させることを特徴とす
る、式（Ｉ）
てＺ-は求電子性化合物から製造されたアニオンを表
す］の化合物を与え、そしてこの化合物IIIを任意に粗
製中間生成物として単離するかまたは任意にさらに精製
し、そして第二段階で化合物IIIを１０℃−１５０℃の
間の温度において塩素化剤と反応させることを特徴とす
る、式（Ｉ）
【０００８】
【化７】
【０００９】の２−クロロ−５−メチル−ピリジンの製
造用の新規な方法が今見いだされた。
造用の新規な方法が今見いだされた。
【００１０】驚くべきことに、本発明に従う方法により
２−クロロ−５−メチル−ピリジンが高収率で且つ既知
の工程と比べて相当改良された異性体純度で得られる。
未反応の式（III）の中間生成物は該方法で再使用する
ことができる。本発明に従う方法は従って当技術の現状
に価値ある利益を与えるものである。
２−クロロ−５−メチル−ピリジンが高収率で且つ既知
の工程と比べて相当改良された異性体純度で得られる。
未反応の式（III）の中間生成物は該方法で再使用する
ことができる。本発明に従う方法は従って当技術の現状
に価値ある利益を与えるものである。
【００１１】トリメチルアミンを有機窒素系塩基Ａとし
て使用しそしてホスゲンを第一段階における求電子性化
合物としておよび第二段階における塩素化剤として使用
する場合には、本発明に従う方法用の反応工程は例えば
下記の反応式により略記すことができる：
て使用しそしてホスゲンを第一段階における求電子性化
合物としておよび第二段階における塩素化剤として使用
する場合には、本発明に従う方法用の反応工程は例えば
下記の反応式により略記すことができる：
【００１２】
【化８】
【００１３】式（II）の出発化合物はすでに知られてい
る（ザ・ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサイエテイ(J. Am. Chem. Soc.)、７６（１９５
４）、１２８６−１２９１）。
る（ザ・ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサイエテイ(J. Am. Chem. Soc.)、７６（１９５
４）、１２８６−１２９１）。
【００１４】式（III）は本発明に従う方法の第一段階
で生じた付加物の一般的定義を与えるものである。
で生じた付加物の一般的定義を与えるものである。
【００１５】式（III）において、Ａはトリ−(Ｃ1−Ｃ4
-アルキル)−アミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)
−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−
シクロヘキシルアミンまたは任意にＣ1−Ｃ4-アルキル
によりモノ−、ジ−もしくはトリ置換されていてもよい
ピリジンからなる系からの有機窒素系化合物であり、そ
してＺ-は好適にはクロライドまたはＣ1−Ｃ4-アルキル
カルボキシレートイオンを表す。
-アルキル)−アミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)
−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−
シクロヘキシルアミンまたは任意にＣ1−Ｃ4-アルキル
によりモノ−、ジ−もしくはトリ置換されていてもよい
ピリジンからなる系からの有機窒素系化合物であり、そ
してＺ-は好適にはクロライドまたはＣ1−Ｃ4-アルキル
カルボキシレートイオンを表す。
【００１６】式（III）において、Ａは好適にはトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−ベンジルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジエチルベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル
−シクロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−シクロヘ
キシルアミンまたは任意にメチルもしくはエチルにより
モノ−もしくはジ−置換されていてもよいピリジンを表
し、そしてＺ-はクロライドまたはアセテートイオンを
表す。
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−ベンジルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジエチルベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル
−シクロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−シクロヘ
キシルアミンまたは任意にメチルもしくはエチルにより
モノ−もしくはジ−置換されていてもよいピリジンを表
し、そしてＺ-はクロライドまたはアセテートイオンを
表す。
【００１７】式（III）の付加物はこれまでに文献中に
開示されておらず、そして本特許出願の主題を構成する
新規な化学化合物である。
開示されておらず、そして本特許出願の主題を構成する
新規な化学化合物である。
【００１８】本発明の第一段階は有機窒素系塩基Ａを用
いて実施される。Ａの好適なまたはより好適な意味は式
（III）の化合物の定義から採用することができる。ト
リメチルアミンが本発明に従う方法用の特に最も好適な
有機窒素系塩基である。
いて実施される。Ａの好適なまたはより好適な意味は式
（III）の化合物の定義から採用することができる。ト
リメチルアミンが本発明に従う方法用の特に最も好適な
有機窒素系塩基である。
【００１９】本発明に従う方法の第一段階では求電子性
化合物も使用される。本発明に従う方法用に好適な求電
子性化合物は、酸クロライド類および無水物類、例えば
塩化アセチル、塩化プロピオニル、無水酢酸、無水プロ
ピオン酸、塩化ベンゾイル、ベンゾトリクロライド、ホ
スゲン、塩化オキサリル、ベンゼンスルホクロライド、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化燐（III）、塩化ホ
スホリル（オキシ塩化燐）、塩化燐（Ｖ）、塩化チオニ
ル、塩化スルフリル、塩化ジクロロメチレンジメチルア
ンモニウム、塩化シアヌルおよびクロロトリメチルシラ
ンである。
化合物も使用される。本発明に従う方法用に好適な求電
子性化合物は、酸クロライド類および無水物類、例えば
塩化アセチル、塩化プロピオニル、無水酢酸、無水プロ
ピオン酸、塩化ベンゾイル、ベンゾトリクロライド、ホ
スゲン、塩化オキサリル、ベンゼンスルホクロライド、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化燐（III）、塩化ホ
スホリル（オキシ塩化燐）、塩化燐（Ｖ）、塩化チオニ
ル、塩化スルフリル、塩化ジクロロメチレンジメチルア
ンモニウム、塩化シアヌルおよびクロロトリメチルシラ
ンである。
【００２０】ホスゲン、塩化チオニル、塩化スルフリ
ル、塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化ｐ−トルエンス
ルホニルが本発明に従う方法用の特に好適な求電子性化
合物である。
ル、塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化ｐ−トルエンス
ルホニルが本発明に従う方法用の特に好適な求電子性化
合物である。
【００２１】本発明に従う方法の第二段階は塩素化剤を
用いて実施される。本発明に従う方法用の好適な塩素化
剤は他の反応物にクロライドイオンを供与できる化合
物、例えば塩化アセチル、塩化ベンゾイル、ホスゲン、
塩化オキサリル、ベンゾスルホクロライド、塩化燐（II
I）、塩化ホスホリル、塩化燐（Ｖ）、塩化チオニル、
塩化スルフリル、塩化水素、塩化テトラエチルアンモニ
ウム、塩化テトラブチルアンモニウムおよび塩化ベンジ
ルトリエチルアンモニウムである。
用いて実施される。本発明に従う方法用の好適な塩素化
剤は他の反応物にクロライドイオンを供与できる化合
物、例えば塩化アセチル、塩化ベンゾイル、ホスゲン、
塩化オキサリル、ベンゾスルホクロライド、塩化燐（II
I）、塩化ホスホリル、塩化燐（Ｖ）、塩化チオニル、
塩化スルフリル、塩化水素、塩化テトラエチルアンモニ
ウム、塩化テトラブチルアンモニウムおよび塩化ベンジ
ルトリエチルアンモニウムである。
【００２２】ホスゲンおよび塩化水素が本発明に従う方
法の第二段階用の特に好適な塩素化剤である。
法の第二段階用の特に好適な塩素化剤である。
【００２３】本発明に従う方法の第二段階は任意にアル
キルクロライドの存在下で実施される。好適なアルキル
クロライド類は塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル
および塩化ブチルであり、そして好適には塩化メチルで
ある。
キルクロライドの存在下で実施される。好適なアルキル
クロライド類は塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル
および塩化ブチルであり、そして好適には塩化メチルで
ある。
【００２４】本発明に従う方法の第一段階は好適には希
釈剤を用いて実施される。適当な希釈剤は事実上全ての
不活性有機溶媒である。これらには好適には、脂肪族お
よび芳香族の任意にハロゲン化されていてもよい炭化水
素類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、石油エーテル、ベンジン、リグロイン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンおよび
ｏ−ジクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチルお
よびジブチルエーテル、グリコールジメチルエーテルお
よびジグリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンおよびジオキサン、ケトン類、例えばアセトン、メチ
ル−エチル、メチル−イソプロピルおよびメチル−イソ
ブチルケトン、エステル類、例えば酢酸メチルおよびエ
チル、ニトリル類、例えばアセトニトリルおよびプロピ
オニトリル、アミド類、例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−ピロリドン、
並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン
およびヘキサメチル燐酸トリアミドが包含される。
釈剤を用いて実施される。適当な希釈剤は事実上全ての
不活性有機溶媒である。これらには好適には、脂肪族お
よび芳香族の任意にハロゲン化されていてもよい炭化水
素類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、石油エーテル、ベンジン、リグロイン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンおよび
ｏ−ジクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチルお
よびジブチルエーテル、グリコールジメチルエーテルお
よびジグリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンおよびジオキサン、ケトン類、例えばアセトン、メチ
ル−エチル、メチル−イソプロピルおよびメチル−イソ
ブチルケトン、エステル類、例えば酢酸メチルおよびエ
チル、ニトリル類、例えばアセトニトリルおよびプロピ
オニトリル、アミド類、例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−ピロリドン、
並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン
およびヘキサメチル燐酸トリアミドが包含される。
【００２５】本発明に従う方法の第二段階は任意に希釈
剤の存在下で実施される。水の他に、適している希釈剤
は事実上不活性な有機溶媒である。これらには好適に
は、アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ
−およびｉ−プロパノール、カルボン酸類、例えば蟻
酸、酢酸およびプロピオン酸、並びに本発明に従う方法
の第一段階用に以上で挙げられている溶媒である。
剤の存在下で実施される。水の他に、適している希釈剤
は事実上不活性な有機溶媒である。これらには好適に
は、アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ
−およびｉ−プロパノール、カルボン酸類、例えば蟻
酸、酢酸およびプロピオン酸、並びに本発明に従う方法
の第一段階用に以上で挙げられている溶媒である。
【００２６】トリメチルアミンを有機窒素系塩基Ａとし
て使用する場合には、本発明に従う方法の第一反応段階
は一般的に−５０℃〜＋１２０℃の間の、好適には−３
０℃〜＋８０℃の間の、温度範囲で実施される。トリメ
チルアミン以外の有機窒素系塩基を使用する場合には、
使用される温度範囲は一般的に−３０℃〜＋１００℃の
間、好適には−１５℃〜＋１０℃の間、である。
て使用する場合には、本発明に従う方法の第一反応段階
は一般的に−５０℃〜＋１２０℃の間の、好適には−３
０℃〜＋８０℃の間の、温度範囲で実施される。トリメ
チルアミン以外の有機窒素系塩基を使用する場合には、
使用される温度範囲は一般的に−３０℃〜＋１００℃の
間、好適には−１５℃〜＋１０℃の間、である。
【００２７】本発明に従う方法の第一段階は一般的に大
気圧で実施される。しかしながら、一般的には０.１−
１００バールの間の加圧または減圧下で実施することも
できる。
気圧で実施される。しかしながら、一般的には０.１−
１００バールの間の加圧または減圧下で実施することも
できる。
【００２８】本発明に従う方法の第一段階を実施するた
めには、１モルの式（II）の３−メチル−ピリジン１−
オキシド当たり一般的に１−１０モルの間の、好適には
２−５モルの間の、有機窒素系塩基Ａおよび１−１０モ
ルの間の、好適には１−５モルの間の、求電子性化合物
が使用される。
めには、１モルの式（II）の３−メチル−ピリジン１−
オキシド当たり一般的に１−１０モルの間の、好適には
２−５モルの間の、有機窒素系塩基Ａおよび１−１０モ
ルの間の、好適には１−５モルの間の、求電子性化合物
が使用される。
【００２９】本発明に従う方法の第一段階の好適態様で
は、式（II）の３−メチル−ピリジン１−オキシドを最
初に希釈剤中に加えそして冷却後に最初に有機窒素系塩
基をそして次に求電子性化合物をゆっくりと順番に撹拌
しながら計量添加する。
は、式（II）の３−メチル−ピリジン１−オキシドを最
初に希釈剤中に加えそして冷却後に最初に有機窒素系塩
基をそして次に求電子性化合物をゆっくりと順番に撹拌
しながら計量添加する。
【００３０】反応の終了後に、比較的易揮発性の成分類
を任意に減圧下で蒸留除去する。主として式（III）の
付加物からなる粗製中間生成物を普通の方法で、例えば
カラムクロマトグラフィーを用いて、精製することもで
き、または粗製形で第二段階で使用することもできる。
を任意に減圧下で蒸留除去する。主として式（III）の
付加物からなる粗製中間生成物を普通の方法で、例えば
カラムクロマトグラフィーを用いて、精製することもで
き、または粗製形で第二段階で使用することもできる。
【００３１】好適には、粗製中間生成物はそのままで−
任意に希釈剤も除去せずに−第二段階で使用される。
任意に希釈剤も除去せずに−第二段階で使用される。
【００３２】本発明に従う方法の第二段階は一般的には
１０℃−１５０℃の間の、好適には２０℃−１２０℃の
間の、特に３０℃−１１０℃の間の、温度範囲で実施さ
れる。
１０℃−１５０℃の間の、好適には２０℃−１２０℃の
間の、特に３０℃−１１０℃の間の、温度範囲で実施さ
れる。
【００３３】本発明に従う方法の第二段階は一般的には
大気圧で実施される。しかしながら、一般的には０.０
１−２００バールの間の加圧または減圧下で実施するこ
ともできる。
大気圧で実施される。しかしながら、一般的には０.０
１−２００バールの間の加圧または減圧下で実施するこ
ともできる。
【００３４】処理は普通の方法で実施できる。例えば、
粗製物質を水と事実上非混和性である有機溶媒で温浸さ
せ、水で洗浄し、そして乾燥する。減圧下での蒸留によ
る有機溶媒の注意深い除去の後に、本質的に式（Ｉ）の
生成物を含有している残渣が残る。
粗製物質を水と事実上非混和性である有機溶媒で温浸さ
せ、水で洗浄し、そして乾燥する。減圧下での蒸留によ
る有機溶媒の注意深い除去の後に、本質的に式（Ｉ）の
生成物を含有している残渣が残る。
【００３５】本発明に従う方法により得られる２−クロ
ロ−５−メチル−ピリジンは薬品用の中間生成物として
知られているが（ドイツ公告明細書２８１２５８５参
照）、殺昆虫剤用の中間生成物としても使用することが
できる（ドイツ公告明細書２６３００４６参照）。
ロ−５−メチル−ピリジンは薬品用の中間生成物として
知られているが（ドイツ公告明細書２８１２５８５参
照）、殺昆虫剤用の中間生成物としても使用することが
できる（ドイツ公告明細書２６３００４６参照）。
【００３６】
【実施例】製造実施例： 実施例１ 第一段階：
【００３７】
【化９】
【００３８】９０ｇ（０.８２５モル）の３−メチル−
ピリジン１−オキシドを最初に５４０ｍｌの塩化メチレ
ン中に加え、そして混合物を０℃に冷却した。１９５ｇ
（３.３モル）のトリメチルアミンをこの温度において
縮合させた。２４５ｇ（２.６３モル）のホスゲンを次
に混合物中に通し、強く冷却することにより温度を０℃
に保った。反応の終了後に、過剰のホスゲンを水流ジェ
ット真空下で２０℃において除去した。残った残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤：塩化メ
チレン／メタノール、容量１０：１.５）により精製し
た。
ピリジン１−オキシドを最初に５４０ｍｌの塩化メチレ
ン中に加え、そして混合物を０℃に冷却した。１９５ｇ
（３.３モル）のトリメチルアミンをこの温度において
縮合させた。２４５ｇ（２.６３モル）のホスゲンを次
に混合物中に通し、強く冷却することにより温度を０℃
に保った。反応の終了後に、過剰のホスゲンを水流ジェ
ット真空下で２０℃において除去した。残った残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤：塩化メ
チレン／メタノール、容量１０：１.５）により精製し
た。
【００３９】１８８ｇの生成物が得られ、それは1Ｈ Ｎ
ＭＲスペクトルに従うと１０２ｇ（理論値の６６％）の
塩化トリメチル−(５−メチル−ピリジニ−２−ル)−ア
ンモニウムを含有していた。
ＭＲスペクトルに従うと１０２ｇ（理論値の６６％）の
塩化トリメチル−(５−メチル−ピリジニ−２−ル)−ア
ンモニウムを含有していた。
【００４０】ＮＭＲデータ：1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨ
ｚ、Ｄ6−ＤＭＳＯ）δ／ｐｐｍ＝２.４１（３Ｈ、一重
線）、３.６４（９Ｈ、一重線）、８.０６（２Ｈ、ＡＢ
−系、ＪAB＝８.４Ｈｚ）、８.５（１Ｈ、一重線）。
ｚ、Ｄ6−ＤＭＳＯ）δ／ｐｐｍ＝２.４１（３Ｈ、一重
線）、３.６４（９Ｈ、一重線）、８.０６（２Ｈ、ＡＢ
−系、ＪAB＝８.４Ｈｚ）、８.５（１Ｈ、一重線）。
【００４１】第二段階：
【００４２】
【化１０】
【００４３】１５ｇの第一段階からの生成物混合物を１
００℃に加熱した。生じた融解物中にホスゲン流をこの
温度において６時間通すと、融解物は徐々に粘着性とな
った。最後に窒素流を用いて過剰のホスゲンを除去し
た。次に残渣を１００ｍｌの塩化メチレンで温浸させ、
水で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濾
過した。溶媒を濾液から水流ジェット真空下で蒸留除去
した。
００℃に加熱した。生じた融解物中にホスゲン流をこの
温度において６時間通すと、融解物は徐々に粘着性とな
った。最後に窒素流を用いて過剰のホスゲンを除去し
た。次に残渣を１００ｍｌの塩化メチレンで温浸させ、
水で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濾
過した。溶媒を濾液から水流ジェット真空下で蒸留除去
した。
【００４４】２.４３ｇの２−クロロ−５−メチル−ピ
リジンおよび２−クロロ−３−メチル−ピリジンの４
４：１比の混合物が得られた（ガスクロマトグラフィー
による分析に従う）。これは第一段階で使用された３−
メチル−ピリジン１−オキシドに関して理論値の２８.
３％の収率に相当していた。一緒にした水相を蒸発させ
ることにより、未反応の式（III）の中間生成物を回収
できた。反応した中間生成物に関して理論値の９０％の
２−クロロ−５−メチル−ピリジンの収率が計算され
た。
リジンおよび２−クロロ−３−メチル−ピリジンの４
４：１比の混合物が得られた（ガスクロマトグラフィー
による分析に従う）。これは第一段階で使用された３−
メチル−ピリジン１−オキシドに関して理論値の２８.
３％の収率に相当していた。一緒にした水相を蒸発させ
ることにより、未反応の式（III）の中間生成物を回収
できた。反応した中間生成物に関して理論値の９０％の
２−クロロ−５−メチル−ピリジンの収率が計算され
た。
【００４５】実施例２
【００４６】
【化１１】
【００４７】９０ｇ（０.８２５モル）の３−メチル−
ピリジン１−オキシドを最初に５４０ｍｌの塩化メチレ
ン中に加え、そして混合物を０℃に冷却した。この温度
において、１９５ｇ（３.３モル）のトリメチルアミン
を縮合させた。２４５ｇ（２.６３モル）のホスゲンを
次に混合物中に通し、強く冷却することにより温度を０
℃に保った。反応の終了後に、混合物を真空下で蒸発乾
固した。得られた粗製生成物を１００℃に加熱し、そし
て少量のアセトニトリルの添加により撹拌可能にした。
この温度において、ホスゲン流を混合物中に１０時間に
わたり通すと、混合物は徐々に粘着性となった。ｐＨが
７−８となるまで希水酸化ナトリウム溶液を冷却しなが
ら加えた。混合物を塩化メチレンで合計４回抽出した。
一緒にした有機相を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そ
して濾過後に水流ジェット真空下で蒸発させた。
ピリジン１−オキシドを最初に５４０ｍｌの塩化メチレ
ン中に加え、そして混合物を０℃に冷却した。この温度
において、１９５ｇ（３.３モル）のトリメチルアミン
を縮合させた。２４５ｇ（２.６３モル）のホスゲンを
次に混合物中に通し、強く冷却することにより温度を０
℃に保った。反応の終了後に、混合物を真空下で蒸発乾
固した。得られた粗製生成物を１００℃に加熱し、そし
て少量のアセトニトリルの添加により撹拌可能にした。
この温度において、ホスゲン流を混合物中に１０時間に
わたり通すと、混合物は徐々に粘着性となった。ｐＨが
７−８となるまで希水酸化ナトリウム溶液を冷却しなが
ら加えた。混合物を塩化メチレンで合計４回抽出した。
一緒にした有機相を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そ
して濾過後に水流ジェット真空下で蒸発させた。
【００４８】２８.８ｇ（理論値の２７.４％）の２−ク
ロロ−５−メチルピリジンおよび２−クロロ−３−メチ
ルピリジンの４７：１比の混合物が得られた（ガスクロ
マトグラフィーによる分析に従う）。水相を蒸発させる
ことにより、未反応の式（III）の中間生成物を回収で
きた。
ロロ−５−メチルピリジンおよび２−クロロ−３−メチ
ルピリジンの４７：１比の混合物が得られた（ガスクロ
マトグラフィーによる分析に従う）。水相を蒸発させる
ことにより、未反応の式（III）の中間生成物を回収で
きた。
【００４９】実施例３
【００５０】
【化１２】
【００５１】９０ｇ（０.８２５モル）の３−メチル−
ピリジン１−オキシドを最初に５４０ｍｌの塩化メチレ
ン中に加え、そして混合物を０℃に冷却した。３３４ｇ
（３.３モル）のトリエチルアミンをこの温度において
縮合させた。２４５ｇ（２.６３モル）のホスゲンを次
に混合物中に通し、強く冷却することにより温度を０℃
に保った。反応の終了後に、過剰のホスゲンを２０℃に
おいて水流ジェット真空下で除去した。残った残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤：塩化メ
チレン／メタノール、容量１０：１.５）を用いて精製
した。
ピリジン１−オキシドを最初に５４０ｍｌの塩化メチレ
ン中に加え、そして混合物を０℃に冷却した。３３４ｇ
（３.３モル）のトリエチルアミンをこの温度において
縮合させた。２４５ｇ（２.６３モル）のホスゲンを次
に混合物中に通し、強く冷却することにより温度を０℃
に保った。反応の終了後に、過剰のホスゲンを２０℃に
おいて水流ジェット真空下で除去した。残った残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤：塩化メ
チレン／メタノール、容量１０：１.５）を用いて精製
した。
【００５２】１７３ｇの生成物が得られ、それは1Ｎ−
ＮＭＲスペクトルに従うと１０４ｇ（理論値の５５％）
の塩化トリエチル−(５−メチル−ピリジニ−２−ル)−
アンモニウムを含有していた。
ＮＭＲスペクトルに従うと１０４ｇ（理論値の５５％）
の塩化トリエチル−(５−メチル−ピリジニ−２−ル)−
アンモニウムを含有していた。
【００５３】1Ｎ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ／ｐｐｍ＝１.２０（９Ｈ、三重線、Ｊ＝７.２Ｈ
ｚ）、２.４４（３Ｈ、一重線）、４.１４（６Ｈ、四重
線、Ｊ＝７.２Ｈｚ）、７.９８（１Ｈ、多重線、ＪAB＝
８.４Ｈｚ）、８.３４（１Ｈ、四重線、Ｊ＝０.９Ｈ
ｚ）、８.６３（１Ｈ、二重線、ＪAB＝８.７Ｈｚ）。
ｚ）、２.４４（３Ｈ、一重線）、４.１４（６Ｈ、四重
線、Ｊ＝７.２Ｈｚ）、７.９８（１Ｈ、多重線、ＪAB＝
８.４Ｈｚ）、８.３４（１Ｈ、四重線、Ｊ＝０.９Ｈ
ｚ）、８.６３（１Ｈ、二重線、ＪAB＝８.７Ｈｚ）。
【００５４】実施例４
【００５５】
【化１３】
【００５６】１９.５ｇ（０.３３１モル）のトリメチル
アミンを−１０℃において縮合させ、そして−５℃にお
いて８.８ｇ（０.０８０７モル）の３−メチル−ピリジ
ン１−オキシドの１００ｍｌの塩化メチレン中溶液に加
えた。次に１０ｍｌの塩化メチレン中の６.９ｍｌ（０.
０９７モル）の塩化チオニルを同じ温度において３０分
間にわたり滴々添加した。この添加中に温度を０℃以下
に保った。生じた黄色溶液をそのまま解凍させ、そして
次に室温で一夜撹拌した。
アミンを−１０℃において縮合させ、そして−５℃にお
いて８.８ｇ（０.０８０７モル）の３−メチル−ピリジ
ン１−オキシドの１００ｍｌの塩化メチレン中溶液に加
えた。次に１０ｍｌの塩化メチレン中の６.９ｍｌ（０.
０９７モル）の塩化チオニルを同じ温度において３０分
間にわたり滴々添加した。この添加中に温度を０℃以下
に保った。生じた黄色溶液をそのまま解凍させ、そして
次に室温で一夜撹拌した。
【００５７】金黄色の溶液が得られ、それを回転蒸発器
中で２０−２５℃において蒸発させた。２４.５ｇのグ
リース状固体が得られ、それは1Ｎ−ＮＭＲスペクトル
に従うと約１４.５ｇ（理論値の９６％）の塩化トリメ
チル−(５−メチル−ピリジニ−２−ル)−アンモニウム
を含有していた。
中で２０−２５℃において蒸発させた。２４.５ｇのグ
リース状固体が得られ、それは1Ｎ−ＮＭＲスペクトル
に従うと約１４.５ｇ（理論値の９６％）の塩化トリメ
チル−(５−メチル−ピリジニ−２−ル)−アンモニウム
を含有していた。
【００５８】1Ｎ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、Ｄ6−ＤＭＳ
Ｏ） δ／ｐｐｍ＝２.４１（３Ｈ、一重線）、３.６４（９
Ｈ、一重線）、８.０６（２Ｈ、ＡＢ−系、ＪAB＝８.４
Ｈｚ）、８.５（１Ｈ、一重線）。
Ｏ） δ／ｐｐｍ＝２.４１（３Ｈ、一重線）、３.６４（９
Ｈ、一重線）、８.０６（２Ｈ、ＡＢ−系、ＪAB＝８.４
Ｈｚ）、８.５（１Ｈ、一重線）。
【００５９】実施例５
【００６０】
【化１４】
【００６１】２０.５ｇ（０.３４８モル）のトリメチル
アミンを−１０℃において縮合させ、そして次に−５℃
において８.８ｇ（０.０８０７モル）の３−メチル−ピ
リジン１−オキシドの１１０ｍｌの塩化メチレン中溶液
に加えた。次に２１.３ｍｌ（０.２４２１モル）の塩化
スルフリルの２０ｍｌの塩化メチレン中溶液を同じ温度
において滴々添加した。微細な白色沈澱が生成し、それ
を室温において１時間にわたり解凍させ、そして次にこ
の温度においてさらに２時間撹拌した。この時間中に沈
澱が完全に溶解した。生じた金黄色溶液を一夜放置し、
そして次に回転蒸発器中で蒸発させた。
アミンを−１０℃において縮合させ、そして次に−５℃
において８.８ｇ（０.０８０７モル）の３−メチル−ピ
リジン１−オキシドの１１０ｍｌの塩化メチレン中溶液
に加えた。次に２１.３ｍｌ（０.２４２１モル）の塩化
スルフリルの２０ｍｌの塩化メチレン中溶液を同じ温度
において滴々添加した。微細な白色沈澱が生成し、それ
を室温において１時間にわたり解凍させ、そして次にこ
の温度においてさらに２時間撹拌した。この時間中に沈
澱が完全に溶解した。生じた金黄色溶液を一夜放置し、
そして次に回転蒸発器中で蒸発させた。
【００６２】４８.７ｇのグリース状固体が得られ、そ
れは1Ｎ−ＮＭＲスペクトルに従うと１１.６ｇ（理論値
の７７％）の塩化トリメチル−(５−メチル−ピリジニ
−２−ル)−アンモニウムを含有していた。
れは1Ｎ−ＮＭＲスペクトルに従うと１１.６ｇ（理論値
の７７％）の塩化トリメチル−(５−メチル−ピリジニ
−２−ル)−アンモニウムを含有していた。
【００６３】実施例６
【００６４】
【化１５】
【００６５】１０９ｇ（１.０モル）の３−メチル−ピ
リジン１−オキシドを最初に８００ｍｌの１,２−ジク
ロロエタン中に加え、そして混合物を−３０℃に冷却し
た。１３０ｇ（２.２モル）のトリメチルアミンをこの
温度において縮合させ、そして２１２ｇ（１.２モル）
のベンゼンスルホクロライドを次に２時間にわたり連続
的に冷却しながら加えた。次に冷却を停止させ、そして
反応混合物を２０℃において１５時間撹拌した。次に混
合物を３５℃に加熱し、そして塩化水素をこの温度にお
いて薄層クロマトグラフィーによる分析に従い反応が完
了するまで加えた（期間：約３２時間）。混合物を２０
％水酸化ナトリウム溶液を用いてアルカリ性ｐＨ値に調
節しそして溶液をジクロロメタンで抽出することによ
り、混合物を処理した。有機相を硫酸ナトリウムを用い
て乾燥し、そして濾過した。溶媒を濾液から水流ジェッ
ト真空下で注意深く蒸留除去した。
リジン１−オキシドを最初に８００ｍｌの１,２−ジク
ロロエタン中に加え、そして混合物を−３０℃に冷却し
た。１３０ｇ（２.２モル）のトリメチルアミンをこの
温度において縮合させ、そして２１２ｇ（１.２モル）
のベンゼンスルホクロライドを次に２時間にわたり連続
的に冷却しながら加えた。次に冷却を停止させ、そして
反応混合物を２０℃において１５時間撹拌した。次に混
合物を３５℃に加熱し、そして塩化水素をこの温度にお
いて薄層クロマトグラフィーによる分析に従い反応が完
了するまで加えた（期間：約３２時間）。混合物を２０
％水酸化ナトリウム溶液を用いてアルカリ性ｐＨ値に調
節しそして溶液をジクロロメタンで抽出することによ
り、混合物を処理した。有機相を硫酸ナトリウムを用い
て乾燥し、そして濾過した。溶媒を濾液から水流ジェッ
ト真空下で注意深く蒸留除去した。
【００６６】１３６ｇの粗製生成物が得られ、それはガ
スクロマトグラフィーによる分析に従うと７８％の２−
クロロ−５−メチルピリジンを含有していた。
スクロマトグラフィーによる分析に従うと７８％の２−
クロロ−５−メチルピリジンを含有していた。
【００６７】収率：理論値の８４％。
【００６８】本発明の主なる特徴および態様は以下のと
おりである。
おりである。
【００６９】１.式
【００７０】
【化１６】
【００７１】の２−クロロ−５−メチル−ピリジンの製
造方法において、第一段階で式（II）
造方法において、第一段階で式（II）
【００７２】
【化１７】
【００７３】の３−メチル−ピリジン１−オキシドを、
任意に希釈剤の存在下で、有機窒素系塩基Ａおよび求電
子性化合物と反応させて、一般式（III）
任意に希釈剤の存在下で、有機窒素系塩基Ａおよび求電
子性化合物と反応させて、一般式（III）
【００７４】
【化１８】
【００７５】［式中、Ａは有機窒素系塩基を表し、そし
てＺ-は求電子性化合物から製造されたアニオンを表
す］の化合物を与え、そしてこの化合物IIIを任意に粗
製中間生成物として単離するかまたは任意にさらに精製
し、そして第二段階で化合物IIIを１０℃−１５０℃の
間の温度において塩素化剤と反応させることを特徴とす
る方法。
てＺ-は求電子性化合物から製造されたアニオンを表
す］の化合物を与え、そしてこの化合物IIIを任意に粗
製中間生成物として単離するかまたは任意にさらに精製
し、そして第二段階で化合物IIIを１０℃−１５０℃の
間の温度において塩素化剤と反応させることを特徴とす
る方法。
【００７６】２.有機窒素系塩基Ａがトリ−(Ｃ1−Ｃ4-
アルキル)−アミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)
−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−
シクロヘキシルアミンまたは任意にＣ1−Ｃ4-アルキル
によりモノ−、ジ−もしくはトリ置換されていてもよい
ピリジンからなる系からの化合物であり、酸クロライド
または無水物を求電子性化合物として使用し、そして他
の反応物にクロライドイオンを供与することのできる化
合物を塩素化剤として使用することを特徴とする、上記
１の方法。
アルキル)−アミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)
−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−
シクロヘキシルアミンまたは任意にＣ1−Ｃ4-アルキル
によりモノ−、ジ−もしくはトリ置換されていてもよい
ピリジンからなる系からの化合物であり、酸クロライド
または無水物を求電子性化合物として使用し、そして他
の反応物にクロライドイオンを供与することのできる化
合物を塩素化剤として使用することを特徴とする、上記
１の方法。
【００７７】３.有機窒素系塩基Ａがトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−
ジエチル−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−シクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−シクロヘキシルア
ミンまたは任意にメチルもしくはエチルによりモノ−も
しくはジ−置換されていてもよいピリジンからなる系か
らの化合物であり、求電子性化合物が塩化アセチル、塩
化プロピオニル、無水酢酸、無水プロピオン酸、塩化ベ
ンゾイル、ベンゾトリクロライド、ホスゲン、塩化オキ
サリル、ベンゼンスルホクロライド、塩化ｐ−トルエン
スルホニル、塩化燐（III）、塩化ホスホリル（オキシ
塩化燐）、塩化燐（Ｖ）、塩化チオニル、塩化スルフリ
ル、塩化ジクロロメチレンジメチルインモニウム、塩化
シアヌルおよびクロロトリメチルシランからなる系から
の化合物であり、そして塩素化剤が塩化アセチル、塩化
ベンゾイル、ホスゲン、塩化オキサリル、ベンゾスルホ
クロライド、塩化燐（III）、塩化ホスホリル、塩化燐
（Ｖ）、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化水素、塩
化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモ
ニウムおよび塩化ベンジルトリエチルアンモニウムから
なる系からの化合物であることを特徴とする、上記１の
方法。
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−
ジエチル−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−シクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−シクロヘキシルア
ミンまたは任意にメチルもしくはエチルによりモノ−も
しくはジ−置換されていてもよいピリジンからなる系か
らの化合物であり、求電子性化合物が塩化アセチル、塩
化プロピオニル、無水酢酸、無水プロピオン酸、塩化ベ
ンゾイル、ベンゾトリクロライド、ホスゲン、塩化オキ
サリル、ベンゼンスルホクロライド、塩化ｐ−トルエン
スルホニル、塩化燐（III）、塩化ホスホリル（オキシ
塩化燐）、塩化燐（Ｖ）、塩化チオニル、塩化スルフリ
ル、塩化ジクロロメチレンジメチルインモニウム、塩化
シアヌルおよびクロロトリメチルシランからなる系から
の化合物であり、そして塩素化剤が塩化アセチル、塩化
ベンゾイル、ホスゲン、塩化オキサリル、ベンゾスルホ
クロライド、塩化燐（III）、塩化ホスホリル、塩化燐
（Ｖ）、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化水素、塩
化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモ
ニウムおよび塩化ベンジルトリエチルアンモニウムから
なる系からの化合物であることを特徴とする、上記１の
方法。
【００７８】４.有機窒素系塩基がトリメチルアミンで
あり、求電子性化合物がホスゲン、塩化チオニル、塩化
スルフリル、塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化ｐ−ト
ルエン−スルホニルからなる系からの化合物であり、そ
して塩素化剤がホスゲンまたは塩化水素であることを特
徴とする、上記１の方法。
あり、求電子性化合物がホスゲン、塩化チオニル、塩化
スルフリル、塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化ｐ−ト
ルエン−スルホニルからなる系からの化合物であり、そ
して塩素化剤がホスゲンまたは塩化水素であることを特
徴とする、上記１の方法。
【００７９】５.トリメチルアミンを有機窒素系塩基Ａ
として使用する場合には、第一反応段階を−５０℃〜＋
１２０℃の間の温度範囲で実施することを特徴とする、
上記１−４の方法。
として使用する場合には、第一反応段階を−５０℃〜＋
１２０℃の間の温度範囲で実施することを特徴とする、
上記１−４の方法。
【００８０】６.トリメチルアミン以外の有機窒素系塩
基を使用する場合には、第一反応段階を−３０℃〜＋１
００℃の間の温度範囲で実施することを特徴とする、上
記１−４の方法。
基を使用する場合には、第一反応段階を−３０℃〜＋１
００℃の間の温度範囲で実施することを特徴とする、上
記１−４の方法。
【００８１】７.第二反応段階（塩素化）を２０℃〜１
２０℃の間の温度において実施することを特徴とする、
上記１−６の方法。
２０℃の間の温度において実施することを特徴とする、
上記１−６の方法。
【００８２】８.１モルの３−メチル−ピリジン１−オ
キシド（II）当たり１−１０モルの有機窒素系塩基Ａお
よび１−１０モルの求電子性化合物を使用することを特
徴とする、上記１−５の方法。
キシド（II）当たり１−１０モルの有機窒素系塩基Ａお
よび１−１０モルの求電子性化合物を使用することを特
徴とする、上記１−５の方法。
【００８３】９.１モルの３−メチル−ピリジン１−オ
キシド（II）当たり２−５モルの有機窒素系塩基Ａおよ
び２−５モルの求電子性化合物を使用することを特徴と
する、上記１−６の方法。
キシド（II）当たり２−５モルの有機窒素系塩基Ａおよ
び２−５モルの求電子性化合物を使用することを特徴と
する、上記１−６の方法。
【００８４】１０.本発明に従う方法の第一段階で３−
メチル−ピリジン１−オキシド（II）を最初に不活性有
機希釈剤中に加えそして冷却後に最初に有機窒素系塩基
Ａをそして次に求電子性化合物をゆっくりと順番に撹拌
しながら計量添加することを特徴とする、上記１−７の
方法。
メチル−ピリジン１−オキシド（II）を最初に不活性有
機希釈剤中に加えそして冷却後に最初に有機窒素系塩基
Ａをそして次に求電子性化合物をゆっくりと順番に撹拌
しながら計量添加することを特徴とする、上記１−７の
方法。
【００８５】１１.式
【００８６】
【化１９】
【００８７】［式中、Ａは有機窒素系塩基を表し、そし
てＺ-は求電子性化合物から製造されたアニオンを表
す］の化合物。
てＺ-は求電子性化合物から製造されたアニオンを表
す］の化合物。
【００８８】１２.Ａがトリ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−ア
ミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−ベンジルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−シクロヘキシル
アミンまたは任意にＣ1−Ｃ4-アルキルによりモノ−、
ジ−もしくはトリ置換されていてもよいピリジンからな
る系からの有機窒素系化合物を表し、そしてＺ-がクロ
ライドまたはＣ1−Ｃ4-アルキルカルボキシレートイオ
ンを表す、上記１１の式（III）の化合物。
ミン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−ベンジルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジ−(Ｃ1−Ｃ4-アルキル)−シクロヘキシル
アミンまたは任意にＣ1−Ｃ4-アルキルによりモノ−、
ジ−もしくはトリ置換されていてもよいピリジンからな
る系からの有機窒素系化合物を表し、そしてＺ-がクロ
ライドまたはＣ1−Ｃ4-アルキルカルボキシレートイオ
ンを表す、上記１１の式（III）の化合物。
【００８９】１３.Ａがトリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ,
Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−ベ
ンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−シクロヘキシルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−シクロヘキシルアミンまたは任
意にメチルもしくはエチルによりモノ−もしくはジ−置
換されていてもよいピリジンを表し、そしてＺ-がクロ
ライドまたはアセテートイオンを表す、上記１１の式
（III）の化合物。
アミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ,
Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−ベ
ンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチル−シクロヘキシルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジエチル−シクロヘキシルアミンまたは任
意にメチルもしくはエチルによりモノ−もしくはジ−置
換されていてもよいピリジンを表し、そしてＺ-がクロ
ライドまたはアセテートイオンを表す、上記１１の式
（III）の化合物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特許2505557（ＪＰ，Ｂ２) Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ▲Ｉ▼, ｐ．1436−1445（1977) Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ▲Ｉ▼, ｐ．2623−2627（1983) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 213/00 - 213/74 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 式 【化１】 の２−クロロ−５−メチル−ピリジンの製造方法におい
て、第一段階で式(II) 【化２】 の３−メチル−ピリジン１−オキシドを、任意に希釈剤
の存在下で、下記有機窒素系塩基Ａおよび求電子性化合
物と反応させて、一般式（III） 【化３】 ［式中、 Ａはトリ−(Ｃ 1 −Ｃ 4 -アルキル)−アミン、Ｎ,Ｎ−ジ−
(Ｃ 1 −Ｃ 4 -アルキル )−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジ−
(Ｃ 1 −Ｃ 4 -アルキル)−シクロヘキシルア ミンまたは任
意にＣ 1 −Ｃ 4 -アルキルによりモノ−、ジ−もしくはト
リ置換 されていてもよいピリジンからなる系から選ばれ
る有機窒素系塩基を表し、そしてＺ-は求電子性化合物
から製造されたアニオンを表す］の化合物を与え、そし
てこの化合物IIIを任意に粗製中間生成物として単離す
るかまたは任意にさらに精製し、そして第二段階で化合
物IIIを１０℃−１５０℃の間の温度において塩素化剤
と反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 式 【化４】 ［式中、 Ａはトリ−(Ｃ 1 −Ｃ 4 -アルキル)−アミン、Ｎ,Ｎ−ジ−
(Ｃ 1 −Ｃ 4 -アルキル )−ベンジルアミン、Ｎ,Ｎ−ジ−
(Ｃ 1 −Ｃ 4 -アルキル)−シクロヘキシルア ミンまたは任
意にＣ 1 −Ｃ 4 -アルキルによりモノ−、ジ−もしくはト
リ置換 されていてもよいピリジンからなる系から選ばれ
る有機窒素系塩基を表し、そしてＺ-は求電子性化合物
から製造されたアニオンを表す］の化合物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4204920 | 1992-02-19 | ||
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