JP3179700B2 - ガス不純物の除去装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、空気中に含まれる
ガス不純物、とりわけ空気中に微量（ｐｐｔ〜ｐｐｍの
濃度）含まれる水溶性ガス状不純物（以下、「ガス状不
純物」という）の除去に適したガス不純物の除去装置に
関するものであり、例えば対象となる施設内に供給する
外気の清浄化処理や、特殊施設から発生する排ガスの清
浄化処理に利用される。

【０００２】

【従来の技術】空気中に含まれるガス不純物の除去手段
としては、従来からケミカルフィルタ処理（乾式法）に
よる除去方法と、気液接触による除去方法とが知られて
いる。前者の乾式法は、気中のガス不純物を化学結合に
より取り込み除去するもので、ガス不純物の種類により
濾材の種類や処理方法および濾材に添着する化学物質の
種類が異なる。一方後者の気液接触による除去は、液滴
の噴霧や空隙率の高い、即ち表面積の大きい充填材に液
状物資を供給することにより、気中のガス状不純物を除
去するものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の除去方法では、次のような問題点がある。まず、ケ
ミカルフィルタを用いた乾式法によれば、（ａ）寿命が
短くランニングコストが高い、そのため従来は寿命をチ
ェックできないために、約６カ月で交換していたのが実
状である。さらに（ｂ）除去性能が連続的に低下してい
く、（ｃ）再利用できないために、産業廃棄物として処
理しなければならない、（ｄ）交換作業が必要となる、
（ｅ）送風抵抗（圧力損失）が大きく送風コストが上昇
する、（ｆ）化学添加物自身が給気室内の汚染源となる
危険性があるといった問題がある。次に気液接触による
除去方法では、（ｇ）給水性の低い充填材を使用して、
気液接触面積を大きくしようとするために、大量の液状
物質を供給しなければならずランニングコストが高くな
る、（ｈ）液滴径が大きいために（従来の粒径は、平均
粒径が１００μｍを越えていた）、大量の液状物質を供
給しなければならずこの点からもランニングコストが高
くなっていたのである。

【０００４】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、前記した湿式法の欠点を解決すると同時に、乾
式法と同等の性能を有しながら乾式法の欠点も解消し
て、上記問題の解決を図ることを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め，請求項１の発明によれば，ガス不純物を含む対象空
気流をその内部で上流から下流に流通させることが可能
なチャンバと，平均液滴径が１０μｍ〜１００μｍの粒
径の液体粒子を上記気流内に霧状に発生させるノズル及
びこのノズルから下流側に所定間隔離れて位置した不純
物除去手段とを夫々前記チャンバ内に有し，前記不純物
除去手段は，吸水性の素材からなるエリミネータからな
り，当該エリミネータが濡れた状態で保持されているこ
とを特徴とする，ガス不純物の除去装置が提供される。
また請求項２によれば，ガス不純物を含む対象空気流を
その内部で上流から下流に流通させることが可能なチャ
ンバと，液体粒子を前記チャンバ内に霧状に発生させる
ノズル及びこのノズルから下流側に所定間隔離れて位置
した不純物除去手段とを夫々前記チャンバ内に有し，前
記不純物除去手段は，吸水性素材からなるエリミネータ
であって，慣性衝突原理によって水滴を回収できる構造
を有していることを特徴とする，ガス不純物の除去装置
が提供される。 さらに請求項３によれば，ガス不純物を
含む対象空気流をその内部で上流から下流に流通させる
ことが可能なチャンバと，液体粒子を前記チャンバ内に
霧状に発生させるノズル及びこのノズルから下流側に所
定間隔離れて位置した不純物除去手段とを夫々前記チャ
ンバ内に有し，前記不純物除去手段は，吸水性素材から
なるエリミネータであって，前記エリミネータは気流の
流れに沿って配置されていることを特徴とする，ガス不
純物の除去装置が提供される。 請求項２，３の場合，請
求項４のように，エリミネータが濡れた状態で保持され
ていることが好ましい。 そして以上の各ガス不純物の除
去装置において使用される吸水性素材は，請求項５のよ
うに，気孔率が５０ｖｏｌ．％以上であることが好まし
い。

【０００６】この場合，使用する液体粒子は，請求項６
に記載したように，純水の粒子，即ちノズルから純水を
噴出させるようにしてもよい。このとき，請求項７に記
載したように，不純物除去手段からの液体を回収する液
体回収手段と，純水製造手段とを備え，前記液体回収手
段によって回収した液体を前記純水製造手段を経た後に
再びノズルへと供給するようにすれば，さらに好ましい
効果が得られる。

【０００７】請求項８に記載のガス不純物の除去装置に
よれば，ガス不純物を含む対象空気流をその内部で上流
から下流に流通させることが可能なチャンバと，このチ
ャンバ内に配置される吸水性素材からなるエリミネータ
と，このエリミネータの上方から水を直接垂らして給水
する給水手段とを備えてなるガス不純物の除去装置が提
供される。また請求項９によれば，ガス不純物を含む対
象空気流をその内部で上流から下流に流通させることが
可能なチャンバと，このチャンバ内に設けられる吸水性
素材からなるエリミネータと，このエリミネータに直接
給水する給水手段とを備え，前記給水手段の給水口は前
記エリミネータに接触しているガス不純物の除去装置が
提供される。

【０００８】請求項１の発明は、まずノズルから噴霧さ
せる液体粒子の平均粒径を、１０μｍ〜１００μｍに設
定すると共に、下流側に吸水性の素材からなるエリミネ
ータを設置している。かかる手段により、従来より極め
て少量のガス吸収液で従来と同等若しくはそれ以上の気
液接触面積を得ることができる。

【０００９】即ち、液体粒子の平均粒径を１０μｍ〜１
００μｍにすることにより、液滴との気液接触面積が単
純に大きくなり、例えば従来の液滴径数百μｍ以上に対
して、同じ液量での気液接触面積は、最大で１００倍も
大きくなっている。

【００１０】そして下流側に吸水性素材からなるエリミ
ネータを設置しているので、前記小径の液滴粒子はその
小径ゆえにこのエリミネータの表面の広範囲に行き渡り
やすくなり、少液量で大面積のエリミネータを常にウェ
ットの状態にできる。また吸水性素材を利用したことに
より、液滴の到達しない面にも素材内部での液体の移動
によって液体が到達し、より広い面積をウェットな状態
にできる。その結果このウェット面での気液接触によっ
ても高いガス吸収効率を得られる。かかる点を鑑みる
と、吸水性素材の材質自体は高吸液（水）性の材質（気
孔率５０ｖｏｌ．％以上）が好ましく、それによって構
成されるエリミネータの材料は、プレート状のものとし
て、ポリエステル繊維をフェノール樹脂をバインダーと
して０．５mm〜５mmｔの厚さに成形したものが好まし
い。例えばフェノール系熱硬化性樹脂とポリエステル不
織布等の強化素材で複合化した、商品名「ユニベックス
−ＳＢ」が適している。もちろんエリミネータ構成であ
るから、液滴粒子が下流側に飛散することは防止され
る。

【００１１】なおかかるエリミネータ自体に、スポンジ
状の多孔質ブロックを設置することも考えられるが、圧
力損失が大きくなって好ましくない。この点本発明では
容易に低圧損化が図れる。また吸水性の素材を採用して
いるので、表面に付着する不純物も、付着した液滴粒子
によって容易に洗い流すことができる。従って、例えば
後述の実施形態のように、吸水性の素材を板状に成形し
た吸水性の板を適宜組み合わせ配置したエリミネータの
方が、圧力損失、メンテナンスの点ではるかに有利であ
る。このような観点から、本願請求項１〜４の発明に使
用する吸水性素材の形態はプレート状のものが適してい
る。

【００１２】なおノズルからの噴霧方向は、より好まし
くは、下流側に向けるとよい。それは、例えば上流側に
向ける場合よりも、ノズルに水等を供給する配管等に液
滴が付着してチャンバ内に落下することを防止できるか
らである。もちろん上流側に向けてもガス吸収効率は高
い。

【００１３】そして請求項６のように，ノズルから純水
を噴霧するようにすれば，特に水溶性ガス不純物を効率
よく除去することができる。

【００１４】また請求項７のように，液体回収手段と，
純水製造手段（例えば逆浸透膜を利用した純水製造装
置）とを備え，前記液体回収手段によって回収した液体
を前記純水製造手段を経た後に再びノズルへと供給する
ようにすれば，純水を再利用することができ，ランニン
グコストを抑えることが可能である。

【００１５】さらに請求項８，９のガス不純物の除去装
置によれば，ガス不純物を含む対象空気流をその内部で
上流から下流に流通させることが可能なチャンバと，こ
のチャンバ内に設けられる吸水性素材からなるエリミネ
ータと，このエリミネータに直接給水する給水手段（例
えば純水を給水する手段）とを備えているので，ノズル
による噴霧がなくとも，エリミネータの表面を常にウェ
ットな状態にすることができる。従って，高いガス吸収
効率が得られる。またノズルを不要とすることから，ガ
ス吸収面積をより大きくとることができ，構成もより簡
素化されるという利点がある。直接給水する方法として
は，例えば請求項８のように，エリミネータの上方から
水を直接垂らしたり，請求項９のように，給水手段の給
水口をエリミネータに接触させることが提案できる。ま
た必ずしも上方ではなく，サイドから供給するようにし
てもよい。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施形態にかか
るガス不純物の除去装置１を組み込んだクリーンルーム
（ＣＲ）用の外気処理空調機２の全体を示しており、チ
ャンバ３内には、上流側（入口側）から順に、プレフィ
ルタ４、除塩フィルタ５、加熱コイル６、冷却コイル
７、及びガス不純物の除去装置１、ファン８、再熱コイ
ル９、ＵＬＰＡフィルタなどの超高性能微粒子除去フィ
ルタ１０が配置されている。

【００１７】そして本実施形態にかかるガス不純物の除
去装置１は、チャンバ３外に設置されている純水製造装
置１１から往管１２を通じて純水が供給され、これを下
流側に向けて噴霧する複数のノズル１３と、このノズル
１３から所定の距離ｌを隔てて位置しているエリミネー
タとなるウェットプレート群１４とを有している。

【００１８】各ノズル１３は、処理空気の下流側に１０
０μｍ以下の粒径の水滴を発生できる機能を有してお
り、所定の間隔で設置されている。図２に示したよう
に、各ノズル１３の設置間隔ｄは、処理空気の流速によ
って決定する。例えば２ｍ／ｓｅｃ程度の風速（＝面風
速）では、１５〜３０ｃｍ間隔程度が望ましい。さらに
各ノズル１３は、図２に示したように、チャンバ３に対
して同一垂直面内に位置するように設置することで、水
滴が偏ることなくウェットプレート群１４に衝突して回
収される。なおノズル１３とウェットプレート群１４の
下部は共通のドレンパンになっている。

【００１９】ノズル１３とウェットプレート群１４間の
距離ｌの最適値も、処理風速により決定される。水滴と
空気との気液接触率を向上させるためには長い程良い
が、他方ウェットプレート群１４に均一に水滴が到達さ
せるためには、ある程度短い方がよい。従って、ノズル
１３とウェットプレート群１４間の距離ｌは、その双方
のバランスと処理風速とを考慮して決定し、例えば処理
風速２ｍ／ｓｅｃ程度では、５０〜１７０ｃｍ程度が望
ましい。

【００２０】ウェットプレート群１４は、複数のウェッ
トプレート１５によって構成されており、ノズル１３に
よって上流部に発生させた小径の水滴を回収し、かつ直
接気中のガス不純物を吸収除去できる機能を有してい
る。ウェットプレート群１４の構成については、後述の
ように様々なものが考えられるが、実際の構造設計は、
次の４項目の機能の向上を考えて行われる。即ち、 １．水滴を慣性衝突原理により効率よく回収できる構造
であること、 ２．送風圧力損失が低くなる構造であること、 ３．ウェットプレート群の表面積（＝気液接触面積）が
大きくできること、 ４．ウェットプレート群の場所により水滴の付着密度に
差があっても（例えば上流部に集中する場合）、ウェッ
トプレート群全体が常に濡れた状態に保持できる構造で
あること、である。

【００２１】本実施形態で採用したウェットプレート群
１４は、平面からみて、つづら折りした複数のウェット
プレート１５を気流の流れに沿って平行に配置した構成
をとっている。より詳述すれば、水滴の慣性力による回
収性能を向上させるため、各ウェットプレート１５が気
流方向に対してある角度θをなすようにの折り角をつけ
ている。この角度θは、処理風速、ウェットプレートの
段数（折れている数のこと。本実施形態においては、６
段折りである）、ウェットプレート１５の設置間隔（＝
ピッチａ）、折れ長さｂによって最適値が設定される
が、１２０゜〜１７０゜範囲が好ましい。本実施形態で
は、角度θは１３５゜である。

【００２２】送風圧損については、ウェットプレート１
５の厚さを薄くし、前記角度θを水滴を回収できる角度
より小さくしないように最適値に設定することで、従来
のケミカルフィルタよりもかなり低くできる。またその
ようにウェットプレート１５の厚さを薄くすることによ
っても低圧損化が図られる。いずれにしろ、送風圧損を
最適なものに設定することが極めて容易である。具体的
にいえば、ウェットプレート１５の厚さとしては１〜３
ｍｍ程度が適している。本実施形態におけるウェットプ
レート１５の厚さは１ｍｍであり、面風速２ｍ／ｓｅｃ
での圧力損失は６ｍｍＡｑである。

【００２３】ウェットプレート群１４での気液接触面積
の大面積化については、ピッチａを小さくかつ段数を多
くすることによって容易に達成できる。ただし、これは
圧力損失との兼ね合いもあり、必要なガス状不純物除去
性能と圧力損失の上限値から決定される。

【００２４】なおよりウェットプレート群１４のガス吸
収面積をより大きくとりたい場合は、ウェットプレート
群１４の上部から、純水を垂らして直接給水をする手段
をとってもよい。この場合はノズル１３が不要となり、
配管系も簡素化される。

【００２５】ウェットプレート群１４全体が常に濡れた
状態に保持するためには、水滴の付き易い部分（例えば
最上流側）と付きにくい部分（例えば最下流側）とが吸
水性の高い材質でつながっている構造にすればよい。本
実施形態におけるウェットプレート群１４の場合、気流
方向には１枚のウェットプレート１５を５ヶ所で折った
構造であるから、最上流側と最下流側とは完全につなが
っており、各ウェットプレート１５、即ちウェットプレ
ート群１４全体を容易にそのような濡れた状態に保持で
きる。

【００２６】なおそのように構造的に上流側と下流側と
がつながっていない場合は、下流側のウェットプレート
１５まで水滴が到達するように、ウェットプレートの形
状及び設置間隔などを設計すれば、全体を常に濡れた状
態に保持できる。

【００２７】そしてウェットプレート群１４の各ウェッ
トプレート１５を伝ってチャンバ３内の下面に溜まる水
は、回収手段としての還管１６によって純水製造装置１
１へと戻され、そこで再び純水が製造されて、ノズル１
３へと供給されるようになっている。従って、純水の再
利用が図れる。なおこの純水製造装置１１へは、適宜損
失分（蒸発分）にみあった水が補給されるようになって
いる。

【００２８】本実施形態にかかるガス不純物の除去装置
１を組み込んだクリーンルーム（ＣＲ）用の外気処理空
調機２は、以上のような構成を有しており、次にその運
転例について説明すると、この外気処理空調機２は既述
したように、クリーンルームに供給する外気の処理に使
われるもので、クリーンルーム内の絶対湿度に等しく制
御した清浄空気を供給することができる。例えば、２３
℃、ＲＨ４５％のクリーンルームに１２℃、ＲＨ９０％
の空気を供給する場合について、冬期の加湿モードの場
合と夏期の除湿モードの場合とに分けてそれぞれ説明す
る。

【００２９】外気が５℃、７０％（図３中の）の冬期
の加湿モードにおいては、図４にも示したように、まず
プレフィルタ４、除塩フィルタ５を介して、チャンバ３
内に前処理した外気を取り入れる。そしてそのようにし
て粒子を除去した空気を加熱コイル６によって、２０．
５℃まで加熱する（図３中の）。そしてガス不純物除
去装置１によってガス状不純物を除去する。このとき水
加湿も行われるので、処理空気は１０．３℃、ＲＨ１０
０％となる（図３中の）。そしてファン８によって送
風されて再熱コイル９で加熱されると共に、超高性能微
粒子除去フィルタ１０によって微粒子を除去し、所期の
１２℃、ＲＨ９０％の清浄空気がチャンバ３から送り出
される（図３中の）。そして当該清浄空気は、クリー
ンルーム（２３℃、ＲＨ４５％：図３中の）に供給さ
れる。

【００３０】以上のようないわば加湿モードでは、ガス
不純物除去装置１は加湿器としても機能しており、加湿
しながらガス状不純物を除去する作用を奏する。加湿に
より蒸発する水量は、最高でも給水量の２０％以下であ
る。なお加湿専用装置としてガス不純物除去装置１の上
流側に蒸気加湿器等の加湿器を設けてもよい。

【００３１】一方外気が、３０℃、ＲＨ７０％（図５中
の）の夏期の減湿モードにおいては、まずプレフィル
タ４、ＨＥＰＡフィルタなどの除塩フィルタ５を介し
て、チャンバ３内に前処理した外気を取り入れる。その
ようにして粒子を除去した空気を冷却コイル７によっ
て、１０．３℃、ＲＨ１００％まで冷却する（図５中の
）そしてガス不純物除去装置１によってガス状不純物
を除去する（図５中の）。次いでファン８によって送
風され、再熱コイル９で加熱されると共に、超高性能微
粒子除去フィルタ１０によって微粒子を除去し、所期の
１２℃、ＲＨ９０％の清浄空気がチャンバ３から送り出
される（図５中の）。そして当該清浄空気は、クリー
ンルーム（２３℃、ＲＨ４５％：図５中の）に供給さ
れる。

【００３２】以上のようないわば減湿モードでは、ガス
不純物除去装置１へは露点に達した空気が供給されるこ
とから、給水される水は一切蒸発しないで純水製造装置
１１に戻され純水に再生される。この不純物除去に使用
された純水は、微量の水溶性のガス不純物だけが溶解し
ているだけで一般水に比べた場合はるかに不純物レベル
の低い水である。従って純水製造装置１１に再び戻すこ
とによって容易に再生でき、このような再生循環形式を
採用することにより、純水コストを大幅に低減できる。

【００３３】このような冬期の加湿モード、夏期の減湿
モードのいずれにおいても、ガス不純物除去装置１は、
処理空気中のガス状不純物を高効率で除去している。即
ちノズルから噴霧される純水の小径粒子によって、気液
接触効率が従来より大幅に向上して不純物が取り込ま
れ、そのままウェットプレート群１４に衝突し、そこで
捕集される。そしてこのウェットプレート群１４を構成
している各ウェットプレート１５は、つづら折りされた
エリミネータを構成しているから、効率よく純水の小径
粒子を捕集することができる。しかも各ウェットプレー
ト１５は、極めて吸水率の高いプレートであるから、偏
ることなく表面の広範囲に純水が行き渡り、このウェッ
ト面での気液接触によっても高いガス吸収効率を得られ
る。従って、処理空気中のガス状不純物を高い効率で除
去できる。そのうえ純水粒子は、記述したように、１０
μｍ〜１００μｍという極めて小径のものであるから、
少ない液量で大面積の各ウェットプレート１５を常にウ
ェットの状態にできる。

【００３４】もちろんウェットプレート群１４は、エリ
ミネータの構成をとっているから、下流側への純水粒子
の飛散の心配はない。しかも送風圧損の調整について
も、ウェットプレート群１４を構成する各ウェットプレ
ート１５の折れ角度θ、段数、設置間隔（＝ピッチ
ａ）、折れ長さｂ、ウェットプレート１５自体の厚さを
適宜変更することにより、極めて容易にこれを行うこと
ができる。

【００３５】なお本発明のエリミネータとなる前記ウェ
ットプレート群１４は、つづら折りしたウェットプレー
ト１５を複数配置することで構成していたが、これに限
らず、本発明においては、図７〜図１０に示したよう
に、種々の形態のウェットプレート群を提案できる。

【００３６】図７に示した例は、平面からみてその頂部
２１ａがノズル１３側になるように略Ｖ字形に折った複
数ウェットプレート２１を、適宜の空隙Ｌを設けて気流
方向と垂直に横一列配置し、さらに次列を構成する複数
のウェットプレート２１は、その頂部２１ａが、前列の
空隙Ｌの後方に位置するように配置し、以後気流方向に
沿って交互に頂部２１ａと空隙Ｌを位置させるようにし
て、ウェットプレート２１を４列に配置したものであ
る。かかる構成のウェットプレート群２２によっても、
前記実施形態におけるウェットプレート群１４と同様な
作用効果が得られる。

【００３７】図８に示した例は、前記図７の平面略Ｖ字
形のウェットプレート２１に代えて、平面が略半円形の
ウェットプレート３１を用いてウェットプレート群３２
を構成した例である。

【００３８】図９に示した例は、細幅でフラットなウェ
ットプレート４１を用いて、ウェットプレート群４２を
構成したものである。この場合、ウェットプレート４１
自体は、湾曲させたり、折ったりする必要がないので、
より容易にウェットプレート群４２を構成することがで
きる。

【００３９】そして図１０に示した例は、気流方向に沿
って配置される一の長幅のフラットな多孔板５１に、複
数の短い幅の多孔板５２を所定の間隔Ｍで直交させる形
で組み合わせたウェットプレート５３を、気流方向と平
行にチャンバ３に沿って複数配置し、隣接する他のウェ
ットプレート５３における多孔板５２の端部が、前記間
隔Ｍの間に位置するように配設した構成したものであ
る。かかる構成のウェットプレート群５４によれば、ウ
ェットプレート群を配置する長さ（チャンバ３の気流方
向の長さ）が小さくても、極めて大きい面積のウェット
面を創出することができる。

【００４０】さらに前記実施形態では、純水を使用した
が、用途に応じて、例えば排気ガスに対処するため、純
水以外の吸収液、反応吸収液を用いてもよい。さらに露
点制御できる装置を併用してもよい。

【００４１】

【実施例】前記実施形態にかかる外気処理空調機２を用
いて、減湿モード（夏期）において、空気中に含まれる
ＳＯ₂ガスとＮＨ₃ガスの除去を実施した結果を表１に示
す。

【００４２】

【表１】

【００４３】この結果からもわかるように、処理風速が
１．５ｍ／ｓのとき、ＳＯ₂ガスについては、除去率が
９１．０％、ＮＨ₃ガスについては、同９５．３％とい
う高い除去率が確認された。またそのときの送風圧損は
３．５ｍｍＡｑという低い値であった。

【００４４】

【発明の効果】請求項１〜９にかかる本発明によれば，
乾式法と同等のガス不純物の除去効率が得られ，しかも
気液接触法の併用により性能の経時変化を克服した。ま
た実施形態で記載したような長寿命の素材を用いること
により，交換作業などのメンテナンス作業も極めて少な
くでき，発生する産業廃棄物も非常に少量である。そし
て液滴平均粒径が１０μｍ〜１００μｍという小径の場
合，液体の使用量の大幅な低減が図れ，ランニングコス
トを低く抑えることができる。同時に吸水性エリミネー
タを採用したことにより，全気液接触面積を大幅に向上
させることが可能であり，少量の液体（例えば水や純水
など）で高い除去効率を達成できる。

【００４５】さらに噴霧液滴の小径化は冬季のように処
理空気への加湿が必要な場合に、加湿効率の向上という
副次効果を生む。つまり液滴の小径化により蒸発が容易
となり加湿効率が向上するのである。またエリミネータ
面に吸水特性を付加したことも、少ない液量（例えば水
量）で濡れ面積を大きくできる結果、エリミネータでの
加湿効率も向上する。その他エリミネータ構成であるか
ら下流側への液滴粒子の飛散は防止され、プレート形状
を採用することにより、所望の送風圧損を考慮した設計
も容易である。

【００４６】また請求項６のようにノズルから純水を発
生させることにより，添加物による問題も生じない。さ
らに請求項７のように純水を再利用することにより，新
たな水の補給量を減らしてより一層ランニングコストを
抑えることができる。

【００４７】請求項８，９によれば，ノズルによる噴霧
がなくとも，エリミネータの表面を常にウェットな状態
にすることができ，高いガス吸収効率が得られる。また
ノズルを不要とすることから，ガス吸収面積をより大き
くとることができ，構成もより簡素化されるという利点
がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態にかかるガス不純物除去装置
を組み込んだ外気処理空調機の構成を示す斜視図であ
る。

【図２】図１のガス不純物除去装置の平面図である。

【図３】図１の外気処理空調機を用いた冬期の運転例の
空気線図である。

【図４】図１の外気処理空調機を用いた冬期の運転例の
処理フローを示す説明図である。

【図５】図１の外気処理空調機を用いた夏期の運転例の
空気線図である。

【図６】図１の外気処理空調機を用いた夏期の運転例の
処理フローを示す説明図である。

【図７】平面略Ｖ字形のウェットプレートを用いたガス
不純物除去装置の平面図である。

【図８】平面略半円形のウェットプレートを用いたガス
不純物除去装置の平面図である。

【図９】フラットな細幅のウェットプレートを用いたガ
ス不純物除去装置の平面図である。

【図１０】フラットな長幅及び短幅の多孔板を組み合わ
せたウェットプレートを用いたガス不純物除去装置の平
面図である。

【符号の説明】

１ ガス不純物除去装置 ２ 外気処理空調機 ３ チャンバ ８ ファン １１ 純水製造装置 １３ ノズル １４ ウェットプレート群 １５ ウェットプレート １６ 還管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡村 典明 神奈川県川崎市多摩区西生田３−20−９ (56)参考文献 特開 平７−96125（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−328361（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−256116（ＪＰ，Ａ) 実開 平６−3429（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 47/00 - 51/10 B01D 45/08 B01D 53/14 - 53/18

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガス不純物を含む対象空気流をその内部
   で上流から下流に流通させることが可能なチャンバと， 平均直径が１０μｍ〜１００μｍの粒径の液体粒子を前
   記チャンバ内に霧状に発生させるノズル及びこのノズル
   から下流側に所定間隔離れて位置した不純物除去手段と
   を夫々前記チャンバ内に有し， 前記不純物除去手段は，吸水性素材からなるエリミネー
   タからなり，当該エリミネータが濡れた状態に保持され
   ていることを特徴とする，ガス不純物の除去装置。
2. 【請求項２】 ガス不純物を含む対象空気流をその内部
   で上流から下流に流通させることが可能なチャンバと， 液体粒子を前記チャンバ内に霧状に発生させるノズル及
   びこのノズルから下流側に所定間隔離れて位置した不純
   物除去手段とを夫々前記チャンバ内に有し， 前記不純物除去手段は，吸水性素材からなるエリミネー
   タであって，慣性衝突原理によって水滴を回収できる構
   造を有していることを特徴とする， ガス不純物の除去装
   置。
3. 【請求項３】 ガス不純物を含む対象空気流をその内部
   で上流から下流に流通させることが可能なチャンバと， 液体粒子を前記チャンバ内に霧状に発生させるノズル及
   びこのノズルから下流側に所定間隔離れて位置した不純
   物除去手段とを夫々前記チャンバ内に有し， 前記不純物除去手段は，吸水性素材からなるエリミネー
   タであって，前記エリミネータは気流の流れに沿って配
   置されていることを特徴とする， ガス不純物の除去装
   置。
4. 【請求項４】 前記エリミネータが濡れた状態で保持さ
   れていることを特徴とする，請求項２又は３に記載のガ
   ス不純物の除去装置。
5. 【請求項５】 前記吸水性素材は，気孔率が５０ｖｏ
   ｌ．％以上であるであることを特徴とする，請求項１，
   ２，３又は４のいずれかに記載のガス不純物の除去装
   置。
6. 【請求項６】 液体粒子は，純水の粒子であることを特
   徴とする，請求項１ ，２，３，４又は５のいずれかに記
   載のガス不純物の除去装置。
7. 【請求項７】 不純物除去手段からの液体を回収する液
   体回収手段と，純水製造手段とを備え，前記液体回収手
   段によって回収した液体を前記純水製造手段を経た後に
   再びノズルへと供給するようにしたことを特徴とする，
   請求項６に記載のガス不純物の除去装置。
8. 【請求項８】 ガス不純物を含む対象空気流をその内部
   で上流から下流に流通させることが可能なチャンバと，
   このチャンバ内に設けられる吸水性素材からなるエリミ
   ネータと，このエリミネータの上方から水を直接垂らし
   て給水する給水手段とを備えてなるガス不純物の除去装
   置。
9. 【請求項９】 ガス不純物を含む対象空気流をその内部
   で上流から下流に流通させることが可能なチャンバと，
   このチャンバ内に設けられる吸水性素材からなるエリミ
   ネータと，このエリミネータに直接給水する給水手段と
   を備え，前記給水手段の給水口は前記エリミネータに接
   触しているガス不純物の除去装置。