JP3171384B2

JP3171384B2 - リブ形成法

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Publication number: JP3171384B2
Application number: JP17114097A
Authority: JP
Inventors: 弘章佐藤
Original assignee: Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1997-06-11
Filing date: 1997-06-11
Publication date: 2001-05-28
Anticipated expiration: 2017-06-11
Also published as: JPH111344A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、蛍
光表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、
混成集積回路等の製造工程におけるガラス隔壁等のリブ
形成法に関し、更に詳しくは、ガラスやセラミック等の
セラミックス材料によるリブ形成性が良好なリブ形成法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ガラスやセラミック等のパタ
ーン（隔壁）を形成する方法の一つとして、基板上にパ
ターン形成用の材料を設けた後、不要な部分を取り除い
てパターンを形成させる、所謂サンドブラスト法が行わ
れており、かかる方法で形成されたパターンは、最終的
には焼成された後、実用に供されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】かかるパターン形成方
法は、最近のＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル）のリブ形成にも利用されており、ＰＤＰの技術発達
に伴い、更なる高精細化が要求されるようになってき
た。

【０００４】

〔但し、ＷＲ₄₀₀、ＷＲ₆₀₀、ＷＣ₄₀₀、ＷＣ₆₀₀は、それぞれ上記の重量減少率（％）を表す〕

【０００５】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に述べる。
本発明に用いられるリブ形成用セラミックス材料として
は、低融点ガラスフリット、耐熱顔料、骨剤等を有機バ
インダー樹脂に分散させた有機ペースト材料や珪酸ナト
リウムを主成分とした水ガラス（１〜３号のいずれも使
用可）等が挙げられ、耐熱顔料としては、酸化クロム、
酸化鉄、酸化コバルト、酸化チタン、酸化銅、アルミニ
ウム等が用いられ、骨剤としては、シリカ、アルミナ、
ジルコニア、ＳｉＣ、ＢＮ、ＳＵＳ、マイカ等が用いら
れる。また、該ペースト材料には、硬化剤、安定剤、分
散剤等の添加剤を配合することもできる。かかるセラミ
ックス材料に用いられるバインダー樹脂としては、エポ
キシ系樹脂、ノボラック系樹脂、ポリイミド系樹脂、ア
クリル系樹脂、フェノール系樹脂、セルロース系樹脂、
酢酸ビニル系樹脂等が挙げられ、上記の如きリブ形成用
セラミックス材料の重量減少率と後述する感光性樹脂組
成物の重量減少率の関係を満足するように、これらの中
からバインダー樹脂を任意に選択することが必要であ
る。

【０００６】また、本発明に用いられる感光性樹脂組成
物も、上記の如くリブ形成用セラミックス材料との重量
減少率の関係を満足していれば、特に限定されないが、
通常はベースポリマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）及び重合
開始剤（Ｃ）からなる組成物が用いられる。かかるベー
スポリマー（Ａ）としては、アクリル系樹脂が好適に用
いられ、該樹脂は（メタ）アクリレートを主成分とする
もので、必要に応じてエチレン性不飽和カルボン酸や他
の共重合可能なモノマーを共重合したアクリル系共重合
体が重要で、アセトアセチル基含有アクリル系共重合体
を用いることもできる。

【０００７】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどが例示される。

【０００８】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。

【０００９】稀アルカリ現像型とするときは、エチレン
性不飽和カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１
００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度）共重合することが必
要である。他の共重合可能モノマーとしては、アクリル
アミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビ
ニル、アルキルビニルエーテルなどが例示できる。

【００１０】また、モノマー（Ｂ）としては、通常エチ
レン性不飽和化合物が用いられ、かかる化合物として
は、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−
ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリン
ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキ
シジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４
−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパ
ン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシ
プロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレ
ート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリ
レート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メ
タ）アクリレートなどの多官能モノマーが挙げられる。
また、特開平７−６２０５６号公報、特開平７−６２０
５７号公報、特開平７−５３６６４号公報等に記載のエ
チレン性不飽和基含有ウレタンモノマーの使用も可能で
ある。これらの多官能モノマーと共に、単官能モノマー
を適当量併用することもできる。

【００１１】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メ
タ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタ
レート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）
アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、
２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフ
ェート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレー
ト、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミドなどがあげ
られる。

【００１２】ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対す
るモノマー（Ｂ）の割合は、１０〜２００重量部、特に
４０〜１００重量部の範囲から選ぶことが望ましい。モ
ノマー（Ｂ）の過少は硬化不良、可撓性の低下、現像速
度の遅延を招き、モノマー（Ｂ）の過多は粘着性の増
大、コールドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招
く。

【００１３】重合開始剤（Ｃ）としては、光重合開始剤
が有用で、かかる開始剤としては、Ｎ−フェニルグリシ
ン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル、ベンジルジフェニルジスルフィド、ジベンジ
ル、ジアセチル、アントラキノン、ナフトキノン、３，
３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾ
フェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、ピバロインエチルエーテル、１，１−ジクロロア
セトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、２−クロロチ
オキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジ
エチルチオキサントン、２，２−ジエトキシアセトフェ
ノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノ
ン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイソブ
チルフェノン、ジベンゾスパロン、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プ
ロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロモ
フェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホ
ン、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−クロロ−
１，２，３−ベンゾトリアゾール、４−カルボキシ−
１，２，３−ベンゾトリアゾール、５−カルボキシ−
１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ−２−エチ
ルヘキシル）アミノメチレン−１，２，３−ベンゾトリ
アゾール、ビス（Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノメチ
レン−１，２，３−トリルトリアゾール、ビス（Ｎ−２
−ヒドロキシエチル）アミノメチレン−１，２，３−ベ
ンゾトリアゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−
４’−メトキシフェニル−ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−
ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−［４−（２−エトキシエチ
ル）−ナフト−１−イル］−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ
−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（アセナフト−５−イル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（２’，４’−ジクロロフェニル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−
ノニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−ｐ−メチルスチリル−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メトキシ
スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、アクリジン、９−フェニルアクリジンなどが
例示され、これらの１種類又は２種類以上が用いられ
る。このときの、重合開始剤（Ｃ）の総配合割合は、ベ
ースポリマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計量１００
重量部に対し１〜２０重量部程度とするのが適当であ
る。

【００１４】本発明の感光性樹脂組成物には、そのほ
か、染料（着色、発色）、密着性付与剤、可塑剤、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質剤、安定
剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を適宜
添加することができる。本発明の感光性樹脂組成物は、
このままでもリブ（パターン）形成用のフォトレジスト
として用いることは勿論可能であるが、塗工乾燥工程を
省略できるという作業の簡便化、ハンドリングの容易
性、レジスト層厚みの均一性、厚膜成形性等を考慮すれ
ば、あらかじめドライフィルム化しておき、該フィルム
を用いてパターン形成を行った方が有利である。

【００１５】本発明の感光性樹脂組成物をドライフィル
ム化、即ちドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）とするに
は公知の方法が用いられ、例えば、上記の感光性樹脂組
成物をポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリスチレンフィルム等のベースフィルム面に塗工
した後、その塗工面の上からポリエチレンフィルム、ポ
リビニルアルコール系フィルムなどの保護フィルムを被
覆してＤＦＲとする方法が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。このときの、該感光性樹脂組成物層
の厚みは、１０〜１００μｍ程度が可能である。

【００１６】かくして、得られた上記の如き感光性樹脂
組成物及びセラミックス材料を用いて、パターン形成を
行うのであるが、本発明においては、かかる感光性樹脂
組成物の熱天秤（測定開始温度：３０℃、昇温速度：５
℃／ｍｉｎ、空気雰囲気下で測定）による４００℃にお
ける重量減少率（ＷＲ₄₀₀）及び６００℃における重量
減少率（ＷＲ₆₀₀）とセラミックス材料の熱天秤（同
上）による４００℃における重量減少率（ＷＣ₄₀₀）及
び６００℃における重量減少率（ＷＣ₆₀₀）が下式
（１）を満足する必要がある。（ＷＲ₄₀₀／ＷＲ₆₀₀）＞（ＷＣ₄₀₀／ＷＣ₆₀₀）・・・（１）〔但し、ＷＲ₄₀₀、ＷＲ₆₀₀、ＷＣ₄₀₀、ＷＣ₆₀₀は、それ
ぞれ上記の重量減少率（％）を表す〕

【００１７】上記の関係が、（ＷＲ₄₀₀／ＷＲ₆₀₀）≦
（ＷＣ₄₀₀／ＷＣ₆₀₀）のときは、焼成完了後のセラミッ
クスパターンの上部の形状が著しく悪化又は高さが低く
なって、本発明の目的を達成することはできない。ここ
で、熱天秤（測定開始温度：３０℃、昇温速度：５℃／
ｍｉｎ、空気雰囲気下で測定）による４００℃における
重量減少率（ＷＲ₄₀₀或いはＷＣ₄₀₀）とは、具体的には
感光性樹脂組成物或いはセラミックス材料を１５０℃で
２０分間乾燥させた後、サーマルグラビメトリックア
ナライザー『ＴＧＡ−７』（パーキンエルマー社製）等
の熱天秤を用いて測定される重量減少率であって、測定
前（乾燥後）の重量をＷ₀とし、空気雰囲気下で、測定
開始温度を３０℃として、昇温速度が５℃／ｍｉｎで昇
温したときの４００℃での重量Ｗ₁を測定して次式より
求められる重量変化を意味するものであり、上記のＷＲ
₆₀₀、ＷＣ₆₀₀もそれぞれの材料を６００℃で同様に測定
した値を示すものである。重量減少率（％）＝［（Ｗ₀−Ｗ₁）／Ｗ₀］×１００かかる感光性樹脂組成物の熱天秤による４００℃におけ
る重量減少率は、１０〜８０％であることが好ましく、
更には１５〜６５％が好ましく、また、６００℃におけ
る同様の重量減少率が９０％以上が好ましい。

【００１８】次に、本発明のリブ形成法（プラズマディ
スプレイ隔壁形成法）を具体的に説明する。尚、本発明
においては、サンドブラスト法によるリブ形成法が有用
で、かかる方法について、以下詳細に説明するが、これ
に限定されるものではない。

【００１９】（リブ形成用セラミックス材料層作製）ガ
ラス基板上に、上記のリブ形成用セラミックス材料（リ
ブペースト）をスクリーン印刷により塗工して、１２０
〜１５０℃で、１０〜３０分程度加熱乾燥する。この操
作を繰り返して、所定厚み（通常は１００〜２００μｍ
程度）のリブ形成用セラミックス材料層を作製する。（感光性樹脂組成物層（ＤＦＲ）の作製）上記の感光性
樹脂組成物をポリエステルフィルム、ポリプロピレンフ
ィルム、ポリスチレンフィルムなどのベースフィルム面
に塗工した後、その塗工面の上からポリエチレンフィル
ム、ポリビニルアルコール系フィルムなどの保護フィル
ムを被覆してＤＦＲとする。

【００２０】（感光性樹脂組成物層のラミネート）上記
のＤＦＲをリブ形成用セラミックス材料層上にラミネー
トするときは、ＤＦＲのベースフィルムと感光性樹脂組
成物層との接着力及び保護フィルムと感光性樹脂組成物
層との接着力を比較し、接着力の低い方のフィルムを剥
離してから、ラミネーター等により、ラミネートロール
温度７０〜１３０℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ²以下、
ラミネート速度４ｍ／ｍｉｎ以下にて、ラミネートす
る。また、ＤＦＲとしてラミネートする以外に、感光性
樹脂組成物を、ディップコート法、フローコート法、ス
クリーン印刷法等の常法により、リブ形成用セラミック
ス材料層上に直接塗工し、厚さ１〜１５０μｍの感光層
を形成することもでき、かかる塗工時には、メチルエチ
ルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート、シクロヘキサン、メチルセルソルブ、
塩化メチレン、１，１，１−トリクロルエタン等の溶剤
を添加することもできる。

【００２１】（露光）ベースフィルムまたは保護フィル
ムを介して、感光性樹脂組成物層上にパターンマスクを
密着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着性を有し
ないときは、該フィルムを剥離してからパターンマスク
を感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光することも
できる。リブ形成用セラミックス材料層に直接塗工した
場合は、その塗工面に直接またはポリエステルフィルム
などを介してパターンマスクを接触させ、露光に供す
る。露光は、通常紫外線照射により行い、その際の光源
としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルラン
プなどが用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱
を行って、硬化の完全を図ることもできる。

【００２２】（現像）露光後は、レジスト上のフィルム
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ０．１〜２重
量％程度の稀薄水溶液を用いて行う。（サンドブラスト）上記の如く硬化レジストのパターン
が形成された後、粒子径が１〜１００μｍ程度のＳｉ
Ｃ、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等を用いて、ブラスト圧０．５
〜１０ｋｇで吹き付けてサンドブラストを行う。

【００２３】（焼成）最後にピーク温度５８０℃に設定
したメッシュベルト炉を用いて、残っている硬化レジス
トを消失せしめると共に、上記リブ形成用セラミックス
材料を基板上に結着させることにより、リブが形成され
る。尚、硬化レジストを水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどの０．１〜５重量％程度の濃度のアルカリ水溶
液からなるアルカリ剥離液を用いて、硬化レジストを剥
離した後、焼成することも可能であるが、上記の方が本
発明の作用効果をより顕著に発揮することができる。以
上、プラズマディスプレイ用隔壁形成について説明した
が、本発明は、ガラスの食刻やセラミック加工等のサン
ドブラスト法にも有用で、更にはガラス製のメタルマス
クの作製や墓標の食刻等にも用いることができる。

【００２４】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、実施例中「部」及び「％」とあるのは、断
りのない限り重量基準を意味する。実施例１（ドープの調製）下記のベースポリマー（Ａ）６０部に
下記のモノマー（Ｂ）及び下記処方の重合開始剤（Ｃ）
の全量を混合して感光性樹脂組成物を調整し、更に溶媒
としてメチルエチルケトン９０部及びメチルセロソルブ
２０部を混合してドープを得た。ベースポリマー（Ａ）メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５０／１２／１５／２３である共重合
体（酸価１５０、ガラス転移点６３．３℃、重量平均分
子量８万）

【００２５】モノマー（Ｂ）ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製『ＵＶ−
３０００Ｂ』）／エチレンオキサイド変性ビスフェノー
ルＡジメタクリレート（第一工業製薬社製『ニューフロ
ンテアＢＰＥＭ１０』）／２−アクリロイロキシエチル
フタル酸が１０部／２０部／１０部の混合物重合開始剤（Ｃ）２，４−ジエチルオキサントン／エチルｐ−ジメチルア
ミノベンゾエート／ロイコクリスタルバイオレット／Ａ
Ｏ−４２５／マラカイトグリーンが０．７部／５部／
０．８部／０．２／０．０６部の混合物

【００２６】（ＤＦＲの作製）次に得られたドープを、
ギャップ１０ミルのアプリケーターを用いて厚さ２０μ
ｍのポリエステルフィルム上に塗工し、室温で１分３０
秒間放置後、６０℃、９０℃、１１０℃のオーブンでそ
れぞれ３分間乾燥して、レジスト厚５０μｍのドライフ
ィルムレジスト用積層体（保護フィルムは、設けていな
い）を得た。（リブ形成用セラミックス材料層作製）電極及び誘電体
層を予め設けたガラス基板上に、ガラスパウダー（ホウ
ケイ酸鉛＊／アルミナ／酸化チタン＝６０部／３６部／
４部の混合物）／ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（バ
インダー樹脂：東都化成社製『エポトートＹＤ−１２
８』）／ブチルカルビトールアセテートが１００部／３
部／２０部の混合物を塗工後、１５０℃で３０分間加熱
処理を行って、３０μｍ厚みを得、これを４回繰り返し
て１２０μｍ厚みのリブ形成用セラミックス材料層を作
製した。＊ホウケイ酸鉛は、ＰｂＯ／ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃＝８部／
８０部／１２部の混合物

【００２７】（感光性樹脂組成物層のラミネート）上記
のＤＦＲをリブ形成用セラミックス材料層にラミネート
した。なお、上記のラミネート工程においては、リブ形
成用セラミックス材料層をオーブンで６０℃に予熱し、
ラミネートロール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃ
ｍ²、ラミネート速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネート
した。（露光・現像）上記の感光性樹脂組成物層表面にライン
／スペース＝６０μｍ／１３０μｍのパターンマスクを
当てて、オーク製作所の露光機ＨＭＷ−５３２Ｄにて２
ｋｗ超高圧水銀灯で５０ｍｊで露光した。露光後１５分
間のホールドタイムを取った後、１％Ｎａ₂ＣＯ₃水溶
液、３０℃で最少現像時間の１．５倍の時間で現像し
て、リブ形成用セラミックス材料層上に開口幅１３０μ
ｍ、開口高さ５０μｍの凹部（雌型）を形成した。（サンドブラスト）レジストパターン（凹部）を作製
後、不二製作所社製の「ＰＮＥＵＭＡＢＬＡＳＴＥ
Ｒ」（ハイパーノズル、エアー圧：０．３ＭＰａ、切削
剤：ＳｉＣ＃６００、粉体供給量：２２０ｇ／ｍｉｎ）
を用いて、２分間サンドブラストを行った。

【００２８】（焼成）最後にピーク温度５８０℃に設定
したメッシュベルト炉を通すことにより焼成を行って、
残っていた硬化レジストを消失せしめると共に、リブ形
成用セラミックス材料を焼成してセラミックスパターン
（リブ）を形成せしめた。なお、上記の感光性樹脂組成
物及びリブ形成用セラミックス材料の熱天秤（測定開始
温度：３０℃、昇温速度：５℃／ｍｉｎ、空気雰囲気下
で測定）による４００℃における重量減少率をサーマル
グラビメトリックアナライザー『ＴＧＡ−７』（パー
キンエルマー社製）で測定したところ、６０重量％（Ｗ
Ｒ₄₀₀）及び４５重量％（ＷＣ₄₀₀）であった。また、６
００℃における感光性樹脂組成物の同様の重量減少率
（ＷＲ₆₀₀）は９６重量％であった。

【００２９】上記で形成されたセラミックスパターンの
形状を走査型電子顕微鏡で観察したところ、ライン（パ
ターン）の断面形状は、わずかに台形形状を示したが良
好であった。また、このときの隔壁上部幅は８０μｍ
で、隔壁高さは１１２μｍであった。更にライン（パタ
ーン）を硬度６Ｈの鉛筆で引っ掻いたが、ライン（パタ
ーン）の崩れは認められなかった。

【００３０】実施例２実施例１において、ベースポリマー（Ａ）を下記の如く
変更して、感光性樹脂組成物（熱天秤による４００℃に
おける重量減少率を同様に測定したところ、６５重量％
（ＷＲ₄₀₀）であった。また、６００℃における同様の
重量減少率（ＷＲ₆₀₀）は９８重量％であった。）を調
製した以外は同様に行って、セラミックスパターンを形
成せしめたが、実施例１と同様、ライン（パターン）の
断面形状は、良好であった。また、このときの隔壁上部
幅は８２μｍで、隔壁高さは１１３μｍであった。更に
ライン（パターン）を硬度６Ｈの鉛筆で引っ掻いたが、
ライン（パターン）の崩れは認められなかった。ベースポリマー（Ａ）メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／スチ
レン／メタクリル酸の共重合割合が重量基準で４０／２
５／１０／２５である共重合体（酸価１６２．８、ガラ
ス転移点５７．５℃、重量平均分子量５万）

【００３１】実施例３実施例１において、モノマー（Ｂ）を下記の如く変更し
て、感光性樹脂組成物（熱天秤による４００℃における
重量減少率を同様に測定したところ、７５重量％（ＷＲ
₄₀₀）であった。また、６００℃における同様の重量減
少率（ＷＲ₆₀₀）は９６重量％であった。）を調製した
以外は同様に行って、セラミックスパターンを形成せし
めたが、実施例１と同様、ライン（パターン）の断面形
状は、良好であった。また、このときの隔壁上部幅は７
８μｍで、隔壁高さは１２０μｍであった。更にライン
（パターン）を硬度６Ｈの鉛筆で引っ掻いたが、ライン
（パターン）の崩れは認められなかった。モノマー（Ｂ）エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジメタクリレ
ート（第一工業製薬社製『ニューフロンテアＢＰＥＭ１
０』）／ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製
『ＵＶ−９５１０ＥＡ』）が３０部／１０部の混合物

【００３２】実施例４実施例１において、リブ形成用セラミックス材料（熱天
秤による４００℃における重量減少率を同様に測定した
ところ、２５重量％（ＷＣ₄₀₀）であった）を下記の如
く変更した以外は同様に行って、セラミックスパターン
を形成せしめたが、実施例１と同様、ライン（パター
ン）の断面形状は、良好であった。また、このときの隔
壁上部幅は８２μｍで、隔壁高さは１１２μｍであっ
た。更にライン（パターン）を硬度６Ｈの鉛筆で引っ掻
いたが、ライン（パターン）の崩れは認められなかっ
た。リブ形成用セラミックス材料バインダー樹脂をフェノールノボラック型エポキシ樹脂
（ダウ・ケミカル社製『ＤＥＲＡＫＡＮＥ４７０−３０
０』）に変更した以外は、実施例１に同じ。

【００３３】実施例５実施例１において、ライン／スペース＝５０μｍ／１１
０μｍとした以外は同様に行って、セラミックスパター
ンを形成せしめたが、実施例１と同様、ライン（パター
ン）の断面形状は、良好であった。また、このときの隔
壁上部幅は４８μｍで、隔壁高さは１１３μｍであっ
た。更にライン（パターン）を硬度６Ｈの鉛筆で引っ掻
いたが、ライン（パターン）の崩れは認められなかっ
た。

【００３４】比較例１実施例１において、リブ形成用セラミックス材料のバイ
ンダー樹脂（ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂３０部）
をエチルセルロース２部に変更した以外は同様に行っ
て、セラミックスパターンを形成せしめたが、ライン上
部に欠損が発生して、良好なパターン形成ができなかっ
た。なお、このときのリブ形成用セラミックス材料の熱
天秤による４００℃における重量減少率を同様に測定し
たところ、７５重量％（ＷＣ₄₀₀）であった。

【００３５】

【発明の効果】本発明の方法では、レジストパターン形
成用の感光性樹脂組成物の熱天秤による４００℃及び６
００℃における重量減少率とセラミックス材料の熱天秤
による４００℃及び６００℃における重量減少率を特定
の関係にしているため、セラミックス材料のパターン形
成性が良好で、精度の高いセラミックス材料の隔壁を形
成することができ、特に液晶表示装置、蛍光表示装置、
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、混成集積回路
等の製造工程におけるサンドブラスト法によるリブ形成
法に有用で、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）の隔壁形成に大変有用である。

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C03C 15/00 - 23/00 C04B 41/85 C04B 41/87 H01J 9/00 - 9/18 H01J 9/24 - 9/50 G03F 7/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】リブ形成用セラミックス材料層に感光性
樹脂組成物層を設けて、露光、現像によって所定の凹部
を設けた後、該凹部のリブ形成用セラミックス材料を除
去し、その後焼成してリブを形成するにあたり、該感光
性樹脂組成物の熱天秤（測定開始温度：３０℃、昇温速
度：５℃／ｍｉｎ、空気雰囲気下で測定）による４００
℃における重量減少率（ＷＲ₄₀₀）及び６００℃におけ
る重量減少率（ＷＲ₆₀₀）と該セラミックス材料の熱天
秤（同上）による４００℃における重量減少率（ＷＣ
₄₀₀）及び６００℃における重量減少率（ＷＣ₆₀₀）が下
式（１）を満足してなることを特徴とするパターン形成
法。（ＷＲ₄₀₀／ＷＲ₆₀₀）＞（ＷＣ₄₀₀／ＷＣ₆₀₀）・・・（１）〔但し、ＷＲ₄₀₀、ＷＲ₆₀₀、ＷＣ₄₀₀、ＷＣ₆₀₀は、それ
ぞれ上記の重量減少率（％）を表す〕
【請求項２】サンドブラスト法により、凹部のリブ形
成用セラミックス材料を除去することを特徴とする請求
項１記載のリブ形成法。
【請求項３】感光性樹脂組成物の熱天秤（測定開始温
度：３０℃、昇温速度：５℃／ｍｉｎ、空気雰囲気下で
測定）による４００℃における重量減少率（ＷＲ₄₀₀）
が１０〜８０重量％であることを特徴とする請求項１ま
たは２記載のリブ形成法。
【請求項４】感光性樹脂組成物の熱天秤（測定開始温
度：３０℃、昇温速度：５℃／ｍｉｎ、空気雰囲気下で
測定）による６００℃における重量減少率（ＷＲ₆₀₀）
が９０重量％以上であることを特徴とする請求項１〜３
いずれか記載のリブ形成法。
【請求項５】感光性樹脂組成物層として、ドライフィ
ルムレジストを用いることを特徴とする請求項１〜４い
ずれか記載のリブ形成法。