JP3168964B2 - 高出力電界効果トランジスタ - Google Patents

高出力電界効果トランジスタ

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、高出力FET
(Field Effect Transistor;
電解効果トランジスタ)に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は従来の高出力FETの構成を示す
平面図である。この図3において、半導体基板100の
表面部には活性領域101が形成されており、この活性
領域101には、ソースフィンガー電極41と、ゲート
フィンガー電極51と、ドレインフィンガー電極31と
からなる単位FETが複数個設けられている。これらの
フィンガー電極の配置は繰り返し構造を持っていて、ド
レインフィンガー電極31の次にゲート電極51、次に
ソースフィンガー電極41と続き、さらにゲートフィン
ガー電極51、ドレインフィンガー電極31のように同
様な周期を繰り返す。
【0003】各ドレインフィンガー電極31は、ドレイ
ン電極パッド33に接続されており、このドレイン電極
パッド33には、図示しないボンディング線が接続され
る。また、各ソースフィンガー電極41は、ソース電極
パッド43に接続される。ドレインフィンガー電極31
およびソースフィンガー電極41は、それぞれドレイン
電極パッド33およびソース電極パッド43に連結さ
れ、各々櫛状になして互いに向かい合っている。ゲート
フィンガー電極51は、ゲートバスバー52で連結され
る。ソース電極パッド43は半導体基坂を貫通したバイ
アホール61内の第2の金属層62により半導体基板の
表面に設けられた第1の金属層70(図3では図示略)
に接続されて接地される。
【0004】図4は、図3に示すFETのA−A’線で
の断面構造およびB−B’での断面構造を示す断面図で
ある。この構造では、ソースフィンガー電極41は、実
際の接地面である第1の金属層70からの距離が大きい
と、ミリ波帯での寄生発振を起こすのに十分なソースイ
ンダクタンスを有する。このため、特開平8−2741
16号公報に開示の技術においては、同公報に掲載され
た明細書の図1に示すように、ソースインダクタンスを
低減するために、ソース電極パッド43をゲート電極パ
ッド53と活性領域101の間に配している。これによ
り、ソースインダクタンスを十分低減し、単位FETの
ソースインダクタンスによる直列帰還量を減少させるこ
とにより寄生発振を抑制することを主眼としている。
【0005】しかしながら、高出力FETにおいては大
きな出力を得るために単位FETを多数並列に並べるた
め、上記モードに加え、FET間の同期現象によりミリ
波の発振を起こすこモードが存在する。
【0006】このミリ波の寄生発振のメカニズムを図5
を参照して説明する。高出力FETは模式的には図5に
示すように、単位FET201がソースバスバー24
2、ドレインバスバー232、ゲートバスバー252に
より並列に複数接続されたものとなる。ミリ波に対して
は、各単位FET間の位相差が十分大きくなるので、1
つの単位FETでのドレイン電極での発振信号は、その
発振周波数での位相にして、nπ(n=1、2、3・・
・)だけ離れたFET間では逆相、もしくは同相となり
同期することになる。すなわち、単体FETに比較し
て、他のFETからの入射信号により発振の閥値が下が
ることになる。そして、高出力FETでは複数の単位F
ETが規則正しく数多く分布しているために、最終的に
は並列したFET群全体が同期し、定常波を形成するこ
とになる。バスバー端はオープン条件であるので、通常
は最も外側の単位FETを腹とし、n=1、2、3・・
・を節の数とした条件で発振を起こす。
【0007】この発振周波数は並列に接続されたFET
のサイズに依存しており、接続ピッチや接続されている
1フィンガー分の単位FETの容量によって決まる。つ
まりFETの電極のサイズおよびFETの容量を決定す
るゲート幅により基本周波数が決定される。
【0008】図6にゲート長が0・ 5ミクロン、ゲート
ピッチが20ミクロンのGaAsMESFETにおい
て、ゲートフィンガー長を80ミクロンおよび125ミ
クロンに固定した場合の基本発振周波数(最低周波数)
のゲートフィンガー数依存性の測定値を示す。同図に示
すように、容量値が変化することに対応して、発振周波
数が全ゲート幅の平方根に反比例して変化する。図7に
はゲートフィンガー数が12本の場合に、ゲートフィン
ガー長を変化させた場合の基本発振周波数を示すもので
ある。この図7に示すように、基本発振周波数は、図6
の場合と同様、全ゲート幅の平方根に反比例することと
なる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の高出力型FETは、通常の単位フィンガーを横方
向に複数並列に規則正しく接続した構成となっており、
FETパターン全体を共振器として発振するような定在
波が生じるため、並列したFET間の発振が同期する現
象がおこるという問題があった。
【0010】この発明は以上説明した事情に鑑みてなさ
れたものであり、FET間の同期現象によるミリ波寄生
発振を抑制した高出力FETを提供することを目的とし
ている。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明に係る高出力F
ETは、ドレイン電極パッド上にオープンスタブを有す
る。より具体的には、発振周波数の半導体基坂上でのλ
/4の電気長で、かつ発振の定在波の空間距離とは異な
る間隔で形成した複数のオープンスタブを有するもので
ある。本発明は、このミリ波寄生発振周波数のλ/4の
オープンスタブにより形成されるショート面を、定常発
振パターンの空間距離とは異なる距離でドレインバスバ
ー上に形成することにより、発振の定在波を抑制するも
のである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し、本発明の実
施の形態について説明する。
【0013】A.第1の実施形態 図1はこの発明の第1の実施形態である高出力型FET
の構成を示す平面図である。本実施形態では、例えばG
aAs基板上に、ソースフィンガー電極41、ドレイン
フィンガー電極31およびゲートフィンガー電極51か
らなる単位GaAsMESFETを形成する。単位FE
Tは、Au等でメタライズされたソース電極パッド4
3、ゲートバスバー52、ドレイン電極パッド33に対
し、複数個並列に接続されている。ソース電極パッド下
にはバイアホール61が、GaAs基板を貫通して形成
され、Au等のメタル62を通して接地されている。そ
して、ドレイン電極パッド33にはAu等で形成したオ
ープンスタブ11が複数個接続されている。
【0014】ここで、各単位GaAsMESFETにお
けるゲートフィンガー電極51の長さは例えば125ミ
クロンであり、各単位GaAsMESFETは24本横
方向に接続されているものとする。また、各ゲートフィ
ンガー電極51間の距離は20ミクロンとする。このよ
うなFETに対する発振可能性のある周波数は図6、図
7を参照をして求められる。電極の繰り返し構造やデバ
イスの容量が変化しなければ発振周波数は変化しないか
らである。次に、図8において、発振の定在波の周波数
を低い方のモードから順に示すと、38GHz、54G
Hz、66GHz、77GHz・・・という周波数で発
振を起こし、そのときの発振の定在波の空間距離はそれ
ぞれぞれ480ミクロン、240ミクロン、160ミク
ロン、120ミクロンとなる。それぞれ、定在波のノー
ド数が1、2、3、4に対応する。
【0015】そこで、本実施形態では第2のモードの5
4GHzで空間距離240ミクロンの定在波に対して、
発振を抑制することとする。このため、ドレイン電極パ
ッド33に160ミクロン間隔で、54GHzに対する
GaAs基板上(比誘電率13.2)でλ/4の距離で
ある462ミクロンのオープンスタブ11を形成する。
このオープンスタブ11によりドレイン電極パッド33
上に160ミクロン間隔のショート面が形成され、発振
の閥値を増加することができ、寄生発振を抑制すること
ができる。
【0016】B.第2の実施形態 図2はこの発明の第2の実施形態である高出力型FET
の構成を示す平面図である。FETの電極サイズ等は図
1と同様である。図1と同様に54GHzの発振に対し
て、λ/4のオープンスタブ11を120ミクロン間隔
で配置する。また、66GHzに対するλ/4の385
ミクロンのオープンスタブを240ミクロン間隔で配置
する。これにより、54GHz、66GHzに対する、
発振の閥値を上げ寄生発振を抑制できる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ドレイン電極パッド上に形成されたオープンスタブ
により発振の閥値を上げることができるため、並列FE
T間の同期によるミリ波寄生発振を抑制することができ
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の第1の実施形態である高出力型F
ETの構成を示す平面図である。
【図2】 この発明の第2の実施形態である高出力型F
ETの構成を示す平面図である。
【図3】 従来のFETの構成を示す平面図である。
【図4】 図3におけるA−A’線およびB−B’線で
の各断面構造を示す断面図である。
【図5】 高出力FETの構成の模式図である。
【図6】 発振周波数とゲートフィンガー数の関係図で
ある。
【図7】 発振周波数とゲートフィンガー長の関係図で
ある。
【図8】 発振モードと発振周波数および発振低在波の
空間距離の関係図である。
【符号の説明】
11 第1のオープンスタブ 12 第2のオープンスタブ 31 ドレインフィンガー電極 33 ドレイン電極パッド 41 ソースフィンガー電極 43 ソース電極パッド 51 ゲートフィンガー電極 52 ゲートバスバー 53 ゲート電極パッド 61 バイアホール 62 第2の金属層(メタル) 70 第1の金属層 100 半導体基板 102 プロトン注入領域 103 半絶縁性GaAs基板 104 n型GaAs層 201 単位FET 232 ドレインバスバー 242 ソースバスバー 252 ゲートバスバー
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/338 H01L 29/812 H03F 3/60

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板の表面部に形成された活性領
    域上に交互に1つずつ配置された複数のドレインフィン
    ガー電極およびソースフィンガー電極と、 隣接する前記ドレインフィンガー電極およびソースフィ
    ンガー電極の各間にそれぞれ1つずつ配置された複数の
    ゲートフィンガー電極と、 前記活性領域の外側に配置され、前記複数のドレインフ
    ィンガー電極を連結するドレイン電極パッドと、 前記活性領域を間に挟んで前記ドレイン電極パッドと対
    向して配置され、前記複数のゲートフィンガー電極を連
    結する前記ゲートバスバーおよび該ゲートバスパーに接
    続されるゲート電極パッドと、 前記活性領域から離れて配置され、前記ソースフィンガ
    ー電極を連結するソース電極パッドと、 前記半導体基板の裏面に設けられた第1の導体層と、 前記ソース電極パッドと前記半導体基板の裏面に設けら
    れた第1の導体層との間に設けられたバイアホールと、 前記バイアホール内に形成され、前記ソース電極パッド
    と前記第1の導体層とを接続する第2の導体層と、 前記ドレイン電極パッドに、寄生発振周波数での空間距
    離とは異なる距離間隔で接続された、前記寄生発振周波
    数に対応した波長の4分の1の長さをもつ、複数のオー
    プンスタブとを具備すること特徴とする高出力電界効果
    トランジスタ。
  2. 【請求項2】 記複数のオープンスタブの間隔が等間
    隔でないことを特徴とする請求項1記載の高出力電解効
    果トラジスタ。
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