JP3167323B2 - ダイナミック半導体メモリ - Google Patents

ダイナミック半導体メモリ

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JP3167323B2 JP51385191A JP51385191A JP3167323B2 JP 3167323 B2 JP3167323 B2 JP 3167323B2 JP 51385191 A JP51385191 A JP 51385191A JP 51385191 A JP51385191 A JP 51385191A JP 3167323 B2 JP3167323 B2 JP 3167323B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも1つのワード線ブロックを含む
メモリセル装置と、それぞれnチャネル部分及びpチャ
ネル部分から成る読出し増幅器と、読出し増幅器のnチ
ャネル部分を駆動するためワード線ブロック毎に設けら
れた少なくとも1つのSANドライバと、読出し増幅器の
pチャネル部分を駆動するためワード線ブロック毎に設
けられた少なくとも1つのSAPドライバとを有するダイ
ナミック半導体メモリに関する。
この形式のダイナミック半導体メモリはVLSI回路に関
する1989年シンポジゥムのテクニカルペーパー・ダイジ
ェスト(第113〜114頁)のチン(サムスン)(B.Chin
(Samsung))の“減ぜられたピーク電流ノイズを有す
る実験16メガビットDRAM"という標題の刊行物から公知
である。これは、導体抵抗を低くするためブロックごと
にその上に位置する金属の導体路にスルーホール接続さ
れている(メタルストラピング)導線を有し、またトラ
ンジスタから成る分配されたSANおよびSAPドライバを有
し、読出し増幅器ごとに各1つのSANドライバトランジ
スタおよびSAPドライバトランジスタが存在しているダ
イナミック半導体メモリである。従って各読出し増幅器
に対して2つの付加されたトランジスタが必要であるの
で、このことから占有場所がさらに大きくなる。
本発明の課題は、冒頭に記載した種類のダイナミック
半導体メモリであって、最小のチップ占有場所において
評価確実性および短いアクセス時間からの最適化を可能
にすることにある。
この課題を解決するため、本発明によれば、少なくと
も1つのワード線ブロックを含むメモリセル装置と、そ
れぞれnチャネル部分及びpチャネル部分から成る読出
し増幅器と、読出し増幅器のnチャネル部分を駆動する
ためワード線ブロック後に設けられた少なくとも1つの
SANドライバと、読出し増幅器のpチャネル部分を駆動
するためワード線ブロック毎に設けられた少なくとも1
つのSAPドライバとを有するダイナミック半導体メモリ
において、少なくとも1つのワード線ブロックは多数の
ビット線ブロックを含み、ビット線ブロックは多数のビ
ット線対を含み、ビット線ブロックの各々は、ビット線
ブロックに属する最適化された駆動機能を有するローカ
ルなSANドライバを含み、ローカルなSANドライバは所属
のビット線ブロックに属するすべての読出し増幅器のn
チャネル部分をローカルなSANN線を介して駆動し、SAN
ドライバはダイオードと第1のnチャネルトランジスタ
の直列回路を介して基準電位と接続されたドライバ出力
端を有し、そのダイオードに並列にnチャネルトランジ
スタが接続され、その並列回路に並列に少なくとも1つ
の別のnチャネルトランジスタが接続され、各nチャネ
ルトランジスタはそれぞれ制御信号により駆動可能とし
たものである。
本発明により達成可能な利点は特に、本発明により構
成されたダイナミック半導体メモリでは、サムスン(Sa
msung)の前記のダイナミック半導体メモリにくらべ
て、最適化された駆動機能を有するブロックごとにしか
必要とされないドライバに基づいて、またいずれにせよ
導体スルーホール接続により形成される読出し増幅器ブ
ロックの間の間隙の利用のもとに、付加の場所が必要と
されないことにある。
本発明のダイナミック半導体メモリの好ましい実施例
は請求の範囲2〜10に記載したとおりである。
以下、図面により本発明を一層詳細に説明する。
第1図は特にグローバルなドライバにおけるドライバ
導線抵抗の作用を説明するための電圧−時間ダイアグラ
ムおよび原理回路図、 第2図は結合されたメモリセルおよびビット線等価回
路を有する読出し増幅器の回路図、 第3図は本発明によるダイナミック半導体メモリにお
けるローカルなSANドライバのブロックごとの配置のた
めの回路図、 第4図は本発明によるダイナミック半導体メモリのn
相のローカルSANドライバの詳細回路図、 第5図は第4図のn相のローカルなSANドライバを説
明するための電圧−時間ダイアグラム、 第6図は本発明によるダイナミック半導体メモリにお
けるローカルなSANおよびSAPドライバのブロックごとの
配置のための回路図、 第7図は本発明によるダイナミック半導体メモリにお
けるn相のローカルなSAPドライバの詳細回路図であ
る。
第1図はグローバルなSAP導線1a、1a′の電圧U1aおよ
びU1a′およびグローバルなSANN導線2a、2a′の電圧U2
a、U2a′を示す電圧−時間ダイアグラムである。その際
にnチャネル部分SANおよびpチャネル部分SAPから成る
読出し増幅器LVがpチャネル−ドライバトランジスタT1
およびnチャネル−トランジスタT2のすぐ近くに位置し
ている。ドライバの近くのSAP導線セクション1aはトラ
ンジスタT1のソース端子を読出し増幅器LVのpチャネル
部分SAPと接続し、またドライバの近くのSANN導線セク
ション2aはドライバトランジスタT2のドレイン端子を読
出し増幅器LVのnチャネル部分SANと接続する。ドライ
バから遠い読出し増幅器LV′はnチャネル部分SAN′お
よびpチャネル部分SAP′から成っており、その際にn
チャネル部分SAN′はドライバから遠いSANN導線セクシ
ョン2a′と、またpチャネル部分SAP′はドライバから
遠いSAP導線セクション1a′と接続されている。ドライ
バの近くのSAP導線セクションとドライバから遠いSAP導
線セクションとの間は導線抵抗R1から成っており、また
ドライバの近くのSANN導線セクションとドライバから遠
いSANN導線セクションとの間は導線抵抗R2から成ってい
る。ドライバの近くのSAP導線セクションに生ずる電圧U
1aおよびドライバの近くのSANN導線セクション2aに生ず
る電圧U2aは電圧−時間ダイアグラム中に破線で示され
ており、またドライバから遠いSAP導線セクション1a′
に生ずる電圧U1a′およびドライバから遠いSANN導線セ
クション2a′に生ずる電圧U2a′は実線により示されて
いる。Pチャネル−ドライバトランジスタT1のドレイン
端子は供給電圧VDDと、またnチャネル−ドライバトラ
ンジスタT2のソース端子は基準電位Vssと接続されてお
り、また両トランジスタのゲート端子の接続は詳細には
示されていない。SAP導線の電圧U1aおよびU1a′は時間
と共に予充電レベルUmから供給電圧VDDの方向に変化
し、また電圧U2aおよびU2a′はその際に予充電レベルUm
から基準電位Vssの方向に変化し、その際にこのことは
ドライバの近くの読出し増幅器LVにおいてそれぞれドラ
イバから遠い読出し増幅器LV′における変化よりも速く
行われる。電圧U1aおよびU1a′または電圧経過U2aおよ
びU2a′のの相異なる電圧経過は電流依存性の電圧負帰
還により抵抗R1および抵抗R2における電圧降下に基づい
て行われる。
SAPまたはSANN導線の長さの増大と共に電気抵抗R1ま
たはR2は増大し、またそれと結び付けられる電圧降下に
より読出し増幅器LV′に与えられる制御電圧は減少す
る。その際にドライバから遠い読出し増幅器がドライバ
の近くの読出し増幅器よりも不完全に制御され、従って
また遅く評価し、また外部ノイズに干渉を受けやすいこ
とは非常に不利である。さらに、ドライバと読出し増幅
器との間の電気抵抗が相異なっており、またドライバの
内部抵抗にくらべて無視できないので、すべての読出し
増幅器に対して等しい最適化された駆動機能が与えられ
ない。他方においてドライバトランジスタT1およびT2
が、ドライバから遠い読出し増幅器が十分に制御される
ように強く制御されると、ドライバの近くの読出し増幅
器において、過度に強い制御の結果として、誤評価の危
険がある。極端な場合には、ドライバから最も離れた読
出し増幅器は論理0を、また他の読出し増幅器はそれぞ
れ論理1を評価すべきである。この場合、論理1を評価
すべき読出し増幅器は論理0を評価すべき読出し増幅器
の前に能動化され、それによってたとえば放電電流がSA
NN導線およびドライバトランジスタT2を経て基準電位V
ssへ流れ、またSANN導線上に電圧降下を発生する。論理
0を評価すべき読出し増幅器は制御電圧U=Um−UT(Um
=予充電電圧、UT=カットオフ電圧)の到達の際に初め
て評価が開始される。たとえば電流依存性の電圧負帰還
がSANN導線2a、2a′の抵抗R2に基づいて大きいならば、
それはこの制御電圧レベルが到達されるまで比較的長く
継続し得る。
第2図には、メモリセルZとビット線BLを介して結合
されており、また比較ビット線BLNと接続されている読
出し増幅器の1つの可能な詳細回路が示されている。メ
モリセルZはnチャネルMOSトランジスタ3から成って
おり、そのソース端子はセルコンデンサ4を介して基準
電位と、そのドレイン端子はビット線BLと、またそのゲ
ートはワード線WLと接続されている。ビット線BLは2つ
の並列コンデンサ5および7および直列抵抗6から成る
Pi等価回路により示されている。比較ビット線BLNは相
応の仕方で2つの並列コンデンサ8および10および直列
抵抗9により表されている。ビット線BLおよび比較ビッ
ト線BLNは2つの交叉結合されたpチャネルトランジス
タT3およびT4から成る読出し増幅器のpチャネル部分SA
Pと接続されており、その際にトランジスタT3のドレイ
ン端子およびトランジスタT4のゲート端子はビット線BL
と、トランジスタT4のドレイン端子およびトランジスタ
T3のゲート端子は比較ビット線BLNと、またトランジス
タT3のソース端子はトランジスタT4のソース端子と一緒
にSAP入力端E1と接続されている。トランジスタ12によ
りビット線BLは比較ビット線BLNと短絡可能であり、ト
ランジスタ11によりビット線BLは入力端18に与えられて
いる電圧に予充電可能であり、またトランジスタ13によ
り比較ビット線BLNは入力端19に与えられている予充電
電圧に充電可能である。トランジスタ11ないし13のゲー
トは共通に入力端20を介して駆動可能である。2つのト
ランスファトランジスタ14および15はpチャネル部分SA
Pのビット線対BLまたはBLNを読出し増幅器のnチャネル
部分SANのビット線セクション22および23と接続し、ま
たトランジスタ14および15のゲートは入力端21を介して
共通に駆動可能である。読出し増幅器のnチャネル部分
SANは2つの交叉結合されたnチャネルトランジスタT5
およびT6を有し、トランジスタ14と接続されているビッ
ト線セクション22はトランジスタT5のドレイン端子およ
びトランジスタT6のゲートと、トランスファトランジス
タ15と接続されているビット線セクション23はトランジ
スタT6のドレインおよびトランジスタT5のゲートと、ま
たトランジスタT5およびT6のソース端子はSAN入力端E2
と接続されている。基準電位に対してビット線セクショ
ン22はキャパシタンス16を有し、またビット線セクショ
ン23は基準電位に対してキャパシタンス17を有する。
高電位にあるメモリセルZにもかかわらずビット線BL
はビット線セクション22と一緒に、構成要素の対称性の
結果として、付属の比較ビット線セクション23を有する
比較ビット線BLNよりも速く放電される。たとえばキャ
パシタンス7および16から形成されるキャパシタンスが
キャパシタンス10および17により形成されるキャパシタ
ンスよりも小さいならば、またはトランジスタT4の電流
増幅率またはトランジスタT5の電流増幅率がトランジス
タT3またはトランジスタT6の電流増幅率よりも大きいな
らば、SAP入力端E1からの電圧の過度に速い上昇またはS
AN入力端E2における電圧の過度に速い低下が行われるか
ぎり、ビット線BLはビット線セクション22と一緒に誤っ
た仕方で付属のビット線セクション23を有する比較ビッ
ト線BLNよりも速く放電され得る。このことから、入力
端E1およびE2に対する最適化された駆動機能の要求が生
ずる。最適化された駆動機能がすべての読出し増幅器に
対してほぼ等しいように、SAP入力端E1およびSAN入力端
E2の電圧駆動が必要である。ローカルなSANドライバま
たはSAPドライバにより近似的に電圧制御が達成され
る。
第3図には1つの本発明によるダイナミックな半導体
メモリにおけるそれぞれ読出し増幅器LVB、LVB′、LV
B″…の間のローカルなSANドライバLTN、STN′、…の1
つのブロックごとの配置が示されている。読出し増幅器
ブロックLVBはたとえば読出し増幅器LVのようにビット
線対BLおよびBLNと接続されており、またそれぞれSAN入
力端E2を介して駆動可能である多数の読出し増幅器から
成っている。その際にたとえば読出し増幅器LVのような
読出し増幅器ブロックLVBに付属の読出し増幅器のSAN入
力端E2はローカルなSANN線を介してSANドライバ出力端A
2と接続されている。ローカルなSANドライバLTNはnの
駆動線SENを介してn相で駆動され、また基準電位Vss
接続されている。読出し増幅器LVB、LVB′、LVB″…は
ビット線ブロックTB、TB′、TB″…に対応付けられてお
り、ビット線ブロックTBはたとえばビット線対BLおよび
BLNのような多数のビット線対を、またビット線ブロッ
クTB′はたとえばビット線対BL′およびBLN′のような
多数ビット線対を含んでいる。第3図中では、複数のワ
ード線ブロックを代表して、ワード線ネイルNとスルー
ホール接続されたワード線WLから成るワード線ブロック
WLBが示されている。すべてのセル領域を代表して、ビ
ット線BLおよびワード線WLを有するメモリセルZならび
にビット線BL′およびワード線WLを有するメモリセル
Z′が示されている。
より望ましい仕方でビット線ブロックTB′がワード線
WLの2つのスルーホール接続ネイルNの間のすべてのビ
ット線対の集合に一致していれば、ローカルなSANドラ
イバLTN、LTN′…に対して読出し増幅器ブロックLVB、L
VB′、LVB″…の間のスルーホール接続ネイルNにより
生ずるまさにそれぞれ1つの間隔が利用され得る。ワー
ド線ネイルNに対するスルーホール接続個所はワード線
よりもはるかに幅が広く、またワード線間隔の最小化の
ために段状に配置されており、このことから読出し増幅
器ブロックの間に十分な間隙が生ずる。たとえば1024の
読出し増幅器と接続されているグローバルなSANN線の代
わりに、たとえば本発明によるダイナミック半導体メモ
リのなかではそれぞれ64の読出し増幅器LVと接続されて
いる16のローカルなSANドライバLTN、LTN′…および16
のローカルなSANN線2、2′…を有する配置が利用され
る。この例ではローカルなSANN線の抵抗はグローバルな
SANN線にくらべて係数16だけ減少し、またこうしてその
つどのローカルなSANドライバの内部抵抗にくらべてほ
ぼ無視され得る。ローカルなSANN線のはるかにはるかに
低い抵抗により同じく電流に関係する電圧帰還結合が無
視され、また読出し増幅器ブロックのすべての読出し増
幅器LVがそれらのSAN入力端E2にほぼ同一の駆動電圧を
得る。それは最適化された駆動機能を有するSANドライ
バの使用に対する前提である。
ワード線WLがたとえば低抵抗の材料の1つの平面内の
みを導かれているならば、スルーホール接続ネイルNは
応用されず、従ってワード線より短くなければならず、
また付加のワード線ドライバが必要である。付加のワー
ド線ドライバにより形成される読出し増幅器ブロックの
間の間隙は有利な仕方でローカルなSANまたはSAPドライ
バに対して利用され得る。
第4図には本発明によるダイナミック半導体メモリの
n相のローカルなSANドライバの詳細回路が示されてい
る。ローカルなSANドライバ回路は最小3つまた最大n
のチャネルトランジスタTを有し、これらのトランジス
タは最小の場合には3つの駆動線SEN1ないしSEN3によ
り、また最大の場合にはnの駆動線SEN1ないしSENnを介
して駆動可能である。nチャネルトランジスタNT1のド
レイン端子はSANドライバ出力端A2と、ソース端子は導
通方向に接続されているダイオードD1を介して基準電位
Vssと、またnチャネルトランジスタNT1のゲートは駆動
線SEN1と接続されている。ダイオードD1に対して別のn
チャネルトランジスタNT2が並列に接続されている。ま
た駆動線SEN2と接続されている。SANドライバ出力端A2
と基準電位Vssとの間に、第3の駆動線SEN3により駆動
可能である第3のnチャネルトランジスタNT3が位置し
ている。最適な駆動機能の一層良好な近似のために、ゲ
ートで駆動線SENnと接続されているトランジスタNTnま
での別のnチャネルトランジスタがトランジスタNT3に
並列に接続され得る。駆動線SEN1ないしSENnがローカル
なSANドライバの外側に形成可能であるか否か、または
それらがローカルなSANドライバのなかにそれぞれたと
えば駆動線SEN1の信号から伝播時間回路により形成可能
であるか否かはここでは下位の意義を有する。
ダイオードD1は、本発明によるダイナミック半導体メ
モリの他の個所にも使用されるCMOSプロセスステップに
より実現されたバイポーラダイオードであり、またその
電流収率は、妥当な時間内にSANN線に接続されている接
合キャパシタンスおよび導線キャパシタンスが放電さる
ように設計されていなければならない。個々のトランジ
スタの設計および時間的駆動の選定により制御電圧は段
階的に最初は平らに、また次いで急峻に降下するように
形成され得る。
第4図に示されているローカルなn相のSANドライバ
による最適化された駆動機能の段階的な形成は第5図の
電圧−時間ダイアグラムに示されている。この電圧−時
間ダイアグラムは、SANドライバ出力端A2がローカルなS
AN線を介して読出し増幅器と接続されているかぎり、SA
Nドライバ出力端A2における電圧U2を示す。すべての駆
動線SEN1…SENnが低電位にあるならば、電圧U2は予充電
レベルUmに一致しているが、第1の相B1でトランジスタ
NT1が導通状態になると直ちに、出力電圧U2はほぼnチ
ャネル読出しトランジスタのカットオフ電圧UTだけ減ぜ
られた値Um−UTに低下し、その際に電圧値Um−UTはほぼ
ダイオードD1のしきい電圧に一致している。本来の評価
は、トランジスタNT1のチャネル抵抗がトランジスタNT2
に対して並列に接続されている第2の相B2で開始する。
トランジスタNT3ないしNTnの付加接続によりSANドライ
バの内部抵抗は段階的に意図的に小さくされ、それによ
って出力電圧U2は最適化された駆動機能に従って基準電
位に低下する。
第6図には本発明によるダイナミック半導体メモリに
おけるローカルなSANドライバおよびSAPドライバのブロ
ックごとの配置が示されている。第4図の場合と類似し
て、第6図に付属のビット線ブロックTB、TB′、TB″…
を有する読出し増幅器ブロックLVB、LVB′、LVB″が示
されている。ワード線ブロックWLBは同じくワード線ネ
イルNとスルーホール接続されたワード線WLから成って
おり、これはすべてのメモリセルに対する代表としてメ
モリセルZおよびメモリセルZ′と接続されている。読
出し増幅器ブロックLVBはたとえば読出し増幅器LVのよ
うな多数の読出し増幅器から成っており、これらはたと
えばビット線対BLおよびBLNのようなビット線対と接続
されている。読出し増幅器LVはメモリセルZと接続され
ているビット線BLをビット線BLNと比較する。また相応
の仕方で読出し増幅器ブロックLVB′のなかで、セル
Z′と接続されているビット線BL′がビット線BLN′と
比較される。第4図との主な相違点は、ローカルなn相
のSANドライバに対して付加的に存在するローカルなp
相のSAPドライバLTPであり、これらはそれぞれp駆動線
SEPにより駆動可能である。読出し増幅器ブロックLVBの
読出し増幅器LVのSAN入力端E2はローカルなSANN線2を
介してローカルなSANドライバLTNのSAN出力端A2と接続
されている。類似の仕方で読出し増幅器ブロックLVBの
読出し増幅器LVのSAP入力端E1はローカルなSAP線1を介
してローカルなSAPドライバLTPのSAP出力端A1と接続さ
れている。相応の仕方でこのことは、ローカルなSAPド
ライバ線1′およびローカルなSANNドライバ線2′を介
してローカルなSAPドライバLTP′およびローカルなSAN
ドライバLTN′と接続されているたとえば読出し増幅器
ブロックLVB′のような他の読出し増幅器ブロックにも
当てはまる。
ローカルなSAPドライバLTP、LTP′により、ローカル
なSANドライバの場合と類似の仕方で、読出し増幅器の
pチャネル部分に対する最適化された駆動機能の達成が
可能である。ローカルなSAPドライバは、pチャネルド
ライバトランジスタにおけるより低い多数キャリア移動
度に基づいて、相応のローカルなSANドライバよりも約
3倍の場所をとる。本発明によるダイナミック半導体メ
モリにおけるn相のローカルなSAPドライバの第7図に
示されている詳細回路は構造的に、第4図に示されてい
るローカルなSANドライバに類似している。ローカルなS
APドライバはpチャネルトランジスタPT1を有し、その
ドレイン端子はSAPドライバ出力端A1と、そのソース端
子は導通方向に接続されているダイオードD2を介して供
給電圧VDDと、またそのゲートは制御線SEP1と接続され
ている。ダイオードD2に対してpチャネルトランジスタ
PT2が並列に接続されており、またトランジスタPT2のゲ
ートは駆動線SEP2と接続されている。SAPドライバ出力
端A1と供給電圧VDDとの間にpチャネルトランジスタPT3
が位置しており、そのゲートは駆動線SEP3を介して駆動
可能である。最適な駆動機能を一層良好に近似するた
め、ゲートで駆動線SEPpと接続されているトランジスタ
PT Pまでの別のpチャネルトランジスタがトランジスタ
PT3に対して並列に接続され得る。第4図で説明したSAN
ドライバの場合と類似して、SAPドライバの場合にも伝
播時間回路によりたとえば駆動線SEP1の信号から別の駆
動線SEP2…SEPnに対する信号が形成可能である。
駆動線SEP1が低電位を得る第1の相では、トランジス
タPT1は導通状態となり、またSAPドライバ出力端A1にお
ける電圧は予充電電圧Umから、供給電圧VDDよりもダイ
オードD2のしきい電圧だけ低い1つの電圧へ上昇する。
駆動線SEP2が低電位を得る第2の相では、トランジスタ
PT2は導通状態となり、こうしてトランジスタPT1および
PT2のチャネル抵抗の直列回路が生ずる。第3ないし第
pの相ではトランジスタPT3ないしPTpが次々と制御線SE
P3ないしSEPp上の低電位により導通状態となり、またそ
れによってSAPドライバの内部抵抗が段階的に減ぜら
れ、その際にSAPドライバ出力端A1における電圧は最適
化された駆動機能に従って供給電圧VDDにもたらされ
る。
SANドライバの場合にもSAPドライバの場合にもMOSト
ランジスタおよびバイポーラトランジスタから成る1つ
の組み合わせが考えられる。MOSトランジスタは完全に
バイポーラトランジスタにより置換され得ない。なぜな
らば、バイポーラトランジスタにおいて生ずるしきい電
圧に基づいて供給電圧KVssへ の低下またはVDDへの上
昇が可能でないからである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/4091

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくとも1つのワード線ブロック(WL
    B)を含むメモリセル装置と、それぞれnチャネル部分
    及びpチャネル部分から成る読出し増幅器と、読出し増
    幅器のnチャネル部分を駆動するためワード線ブロック
    毎に設けられた少なくとも1つのSANドライバと、読出
    し増幅器のpチャネル部分を駆動するためワード線ブロ
    ック毎に設けられた少なくとも1つのSAPドライバとを
    有するダイナミック半導体メモリにおいて、 少なくとも1つのワード線ブロックは多数のビット線ブ
    ロック(TB、TB′…)を含み、ビット線ブロックは多数
    のビット線対(BL、BLN)を含み、ビット線ブロック(T
    B)の各々は、ビット線ブロックに属する最適化された
    駆動機能を有するローカルなSANドライバ(LTN)を含
    み、ローカルなSANドライバ(LTN)は所属のビット線ブ
    ロックに属するすべての読出し増幅器(LV)のnチャネ
    ル部分(SAN)をローカルなSANN線(2)を介して駆動
    し、SANドライバ(LTN)はダイオード(D1)と第1のn
    チャネルトランジスタ(NT1)の直列回路を介して基準
    電位(VSS)と接続されたドライバ出力端(A1)を有
    し、そのダイオード(D1)に並列にnチャネルトランジ
    スタ(NT2)が接続され、前記並列回路(D1、NT1)に並
    列に少なくとも1つの別のnチャネルトランジスタ(NT
    3、NTn)が接続され、各nチャネルトランジスタ(N
    T1、NT2、NT3、NTn)はそれぞれ制御信号(SEN1、SEN
    2、SEN3、SENn)により駆動可能であることを特徴とす
    るダイナミック半導体メモリ。
  2. 【請求項2】ビット線ブロックに属するローカルなSAN
    ドライバ(LTN)が半導体チップ上に空間的に配置さ
    れ、このSANドライバ(LTN)がビット線ブロック(TB)
    に属する読出し増幅器(LVB)とビット線ブロック(T
    B)に隣接するビット線ブロック(TB′)に属する読出
    し増幅器(LVB′)との間に位置することを特徴とする
    請求項1記載のダイナミック半導体メモリ。
  3. 【請求項3】少なくとも1つの別のnチャネルトランジ
    スタ(NTn)が第3のnチャネルトランジスタ(NT3)に
    並列に接続され、それぞれ別のnチャネルトランジスタ
    (NTn)の第1の端子がローカルなSANドライバのドライ
    バ出力端(A2)と接続され、別のnチャネルトランジス
    タ(NTn)の第2の端子が基準電位(VSS)と接続され、
    別のnチャネルトランジスタ(NTn)のゲート端子が別
    の制御信号(SENn)により駆動可能であることを特徴と
    する請求項1記載のダイナミック半導体メモリ。
  4. 【請求項4】ローカルなSANドライバのnチャネルトラ
    ンジスタ(NT1…NTn)が相異なるチャネル幅を有するこ
    とを特徴とする請求項3記載のダイナミック半導体メモ
    リ。
  5. 【請求項5】ビット線ブロック(TB)毎に、ローカルな
    SANドライバ(LTN)に付加して最適化された駆動機構を
    有するSAPドライバ(LTP)が設けられ、このSAPドライ
    バはローカルなSAPドライバ(LTP)を形成し、各ローカ
    ルなSAPドライバがビット線ブロックに属するすべての
    読出し増幅器(LV)のpチャネル部分(SAP)をローカ
    ルなSAP線(1)を介して駆動することを特徴とする請
    求項1記載のダイナミック半導体メモリ。
  6. 【請求項6】ビット線ブロックに属するローカルなSAP
    ドライバ(LTP)が半導体チップ上に空間的に配置さ
    れ、SAPドライバ(LTP)がビット線ブロック(TB)に属
    する読出し増幅器(LVB)とビット線ブロック(TB)に
    隣接するビット線ブロック(TB′)に属する読出し増幅
    器(LVB′)との間に位置することを特徴とする請求項
    5記載のダイナミック半導体メモリ。
  7. 【請求項7】それぞれ1つのローカルなSAPドライバが
    ダイオード(D2)を含み、このダイオード(D2)は陽極
    側で供給電圧(VDD)と、陰極側で第1のpチャネルト
    ランジスタ(PT1)の第1の端子と接続され、第1のチ
    ャネルトランジスタ(PT1)の第2の端子がローカルなS
    APドライバのドライバ出力端(A1)と接続され、第1の
    pチャネルトランジスタ(PT1)のゲート端子が第1の
    制御信号(SEP1)により駆動可能であり、 ダイオード(D2)に対して第2のpチャネルトランジス
    タ(PT2)が並列に接続され、そのゲート端子が第2の
    制御信号(SEP2)により駆動可能であり、 第3のpチャネルトランジスタ(PT3)の第1の端子が
    ローカルなSAPドライバのドライバ出力端(A1)と接続
    され、第3のpチャネルトランジスタ(PT3)の第2の
    端子が供給電圧(VDD)と接続され、第3のpチャネル
    トランジスタ(PT3)のゲート端子が第3の制御信号(S
    EP3)により駆動可能であることを特徴とする請求項5
    記載のダイナミック半導体メモリ。
  8. 【請求項8】少なくとも1つの別のpチャネルトランジ
    スタ(PTp)が第3のpチャネルトランジスタ(PT3)に
    並列に接続され、それぞれ別のpチャネルトランジスタ
    (PTp)の第1の端子がローカルなSAPドライバのドライ
    バ出力端(A1)と接続され、別のpチャネルトランジス
    タ(PTp)の第2の端子が供給電圧(VDD)と接続され、
    別のpチャネルトランジスタ(PTp)のゲート端子が別
    の制御信号(SEPp)により駆動可能であることを特徴と
    する請求項7記載のダイナミック半導体メモリ。
  9. 【請求項9】ローカルなSAPドライバのpチャネルトラ
    ンジスタ(PT1…PTp)が相異なるチャネル幅を有するこ
    とを特徴とする請求項7又は8記載のダイナミック半導
    体メモリ。
  10. 【請求項10】ワード線(WL)が、その上に位置しワー
    ド線に比べて低抵抗の導体路とワード線ネイル(N)に
    よりスルーホール接続され、それぞれワード線(WL)の
    2つのワード線ネイル(N)の間に位置しているビット
    線対(BL′、BLN′)がビット線ブロック(TB′)を形
    成していることを特徴とする請求項2又は6記載のダイ
    ナミック半導体メモリ。
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