JP3166631B2 - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置Info
- Publication number
- JP3166631B2 JP3166631B2 JP25139996A JP25139996A JP3166631B2 JP 3166631 B2 JP3166631 B2 JP 3166631B2 JP 25139996 A JP25139996 A JP 25139996A JP 25139996 A JP25139996 A JP 25139996A JP 3166631 B2 JP3166631 B2 JP 3166631B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- illuminance
- cylinder
- light
- lamp
- elliptical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウエハ周辺部
の露光、スポットキュアなどに使用される紫外線照射装
置に関し、特に本発明は、紫外線照度を調整する機構を
備えた紫外線照射装置に関するものである。
の露光、スポットキュアなどに使用される紫外線照射装
置に関し、特に本発明は、紫外線照度を調整する機構を
備えた紫外線照射装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】各種エレクトロニクス素子の製造工程等
においては、各種基板に塗布されたレジストの露光処理
等のため、紫外線照射装置が使用される。上記露光処理
においては、レジストに照射される露光量が常に一定に
なるように調整する必要がある。例えば、ポジ型ホトレ
ジストの場合には、露光光が照射された部分が、光化学
反応によって現像液に可溶な物質に変化するが、露光量
が不足すると、現像時露光量が少ない部分が現像液に溶
けないで基板表面に残ることとなる。
においては、各種基板に塗布されたレジストの露光処理
等のため、紫外線照射装置が使用される。上記露光処理
においては、レジストに照射される露光量が常に一定に
なるように調整する必要がある。例えば、ポジ型ホトレ
ジストの場合には、露光光が照射された部分が、光化学
反応によって現像液に可溶な物質に変化するが、露光量
が不足すると、現像時露光量が少ない部分が現像液に溶
けないで基板表面に残ることとなる。
【0003】露光量は照度×時間で定義され、露光量が
一定になるようにするには、照度もしくは露光時間を変
えて調整する必要がある。照度が大きいと露光時間が短
くてすみスループットは短くなるが、大きすぎると上記
光化学反応が急激におこるため、反応時に発生する気体
(窒素)がレジスト中で泡になり、場合によっては破裂
し、はじけたレジストがゴミとなり不良の原因となる。
一方、露光時間を長くすれば、小さい照度でも充分な露
光量を得ることができるが、スループットが長くなる。
すなわち、照度と露光時間との関係において、それぞれ
ある最適な条件範囲がある。
一定になるようにするには、照度もしくは露光時間を変
えて調整する必要がある。照度が大きいと露光時間が短
くてすみスループットは短くなるが、大きすぎると上記
光化学反応が急激におこるため、反応時に発生する気体
(窒素)がレジスト中で泡になり、場合によっては破裂
し、はじけたレジストがゴミとなり不良の原因となる。
一方、露光時間を長くすれば、小さい照度でも充分な露
光量を得ることができるが、スループットが長くなる。
すなわち、照度と露光時間との関係において、それぞれ
ある最適な条件範囲がある。
【0004】現状では、上記した露光量(=照度×露光
時間)を一定にするため、次のような方法が採られてい
る。 (a) 一定の時間間隔で露光光出射部より出射される露光
光の照度を測定する。照度変化が一定範囲内の場合に
は、露光時間を変化させて露光量を一定に保ち露光を行
う。すなわち、数パーセントの照度低下に対しては、そ
れに対応した分露光時間を長くして露光量を一定にす
る。 (b) 照度が所定範囲以下になった場合は、後述するよう
に手動にて照度調整を行い、照度を大きくする。
時間)を一定にするため、次のような方法が採られてい
る。 (a) 一定の時間間隔で露光光出射部より出射される露光
光の照度を測定する。照度変化が一定範囲内の場合に
は、露光時間を変化させて露光量を一定に保ち露光を行
う。すなわち、数パーセントの照度低下に対しては、そ
れに対応した分露光時間を長くして露光量を一定にす
る。 (b) 照度が所定範囲以下になった場合は、後述するよう
に手動にて照度調整を行い、照度を大きくする。
【0005】なお、露光時間、照度をともに調整し、一
方を固定としないのは次の理由による。 紫外線照射装置の光源に使用するランプは、通常放
電ランプであり、点灯しているとき徐々に照度が変化
(低下)する。常に変化し続ける照度を手動で調整し一
定に保つことは煩雑である。なお、ランプの照度が変化
するのは、電極が磨耗しアークの形状が変化したり、電
極に使用している物質がランプの封体を形成するガラス
の内壁に付着することによりガラスが黒化し光の透過率
が低下するためである。
方を固定としないのは次の理由による。 紫外線照射装置の光源に使用するランプは、通常放
電ランプであり、点灯しているとき徐々に照度が変化
(低下)する。常に変化し続ける照度を手動で調整し一
定に保つことは煩雑である。なお、ランプの照度が変化
するのは、電極が磨耗しアークの形状が変化したり、電
極に使用している物質がランプの封体を形成するガラス
の内壁に付着することによりガラスが黒化し光の透過率
が低下するためである。
【0006】 露光時間のみを変えたのでは、特に同
じ露光装置が複数台ある場合、装置の処理能力の管理が
非常に困難となる。すなわち、それぞれの露光装置のラ
ンプの照度が大きく異なっていると各装置の露光時間を
大きく変えなければならず、その分、装置間のスループ
ットが異なることになる。このため、複数の装置の運用
管理が難しくなる。以上のように露光量を一定に保つた
めには、被処理物に照射される光の照度を調整する必要
があり、このため、従来においては、紫外線照射装置に
次のような調整機構が設けられていた。
じ露光装置が複数台ある場合、装置の処理能力の管理が
非常に困難となる。すなわち、それぞれの露光装置のラ
ンプの照度が大きく異なっていると各装置の露光時間を
大きく変えなければならず、その分、装置間のスループ
ットが異なることになる。このため、複数の装置の運用
管理が難しくなる。以上のように露光量を一定に保つた
めには、被処理物に照射される光の照度を調整する必要
があり、このため、従来においては、紫外線照射装置に
次のような調整機構が設けられていた。
【0007】図6は従来の紫外線照射装置の構成を示す
図であり、同図は半導体ウエハの周辺部を露光するため
の紫外線照射装置の構成を示している。同図において、
1はランプハウスであり、ランプハウス1にランプ1a
が設けられており、ランプ1aから放射される光は楕円
集光鏡1bで集光されてミラー1cで反射され、シャッ
タ1dが開いているとき、ランプハウス出射部2から出
射する。ランプ1aの一端はランプ位置調整機構1fに
取り付けられており、ランプ1aの発光部は楕円集光鏡
1bの第1焦点付近でX,Y,Z方向(Xは同図の左右
方向、Yは前後方向、Zは上下方向)に移動可能であ
る。
図であり、同図は半導体ウエハの周辺部を露光するため
の紫外線照射装置の構成を示している。同図において、
1はランプハウスであり、ランプハウス1にランプ1a
が設けられており、ランプ1aから放射される光は楕円
集光鏡1bで集光されてミラー1cで反射され、シャッ
タ1dが開いているとき、ランプハウス出射部2から出
射する。ランプ1aの一端はランプ位置調整機構1fに
取り付けられており、ランプ1aの発光部は楕円集光鏡
1bの第1焦点付近でX,Y,Z方向(Xは同図の左右
方向、Yは前後方向、Zは上下方向)に移動可能であ
る。
【0008】また、楕円集光鏡1bの第2焦点はランプ
ハウス出射部2の近傍に位置しており、第2焦点と導光
ファイバ3の入射端3aの中心とが一致するように配置
されている。このため、ランプ1aからの光は第2焦点
に集光され、導光ファイバ3を介して露光光出射部4に
導かれる。導光ファイバ3を介して露光光出射部4に導
かれた露光光は露光光出射部4から出射し、ホトレジス
トPhが塗布されたウエハWの周辺部に照射される。
ハウス出射部2の近傍に位置しており、第2焦点と導光
ファイバ3の入射端3aの中心とが一致するように配置
されている。このため、ランプ1aからの光は第2焦点
に集光され、導光ファイバ3を介して露光光出射部4に
導かれる。導光ファイバ3を介して露光光出射部4に導
かれた露光光は露光光出射部4から出射し、ホトレジス
トPhが塗布されたウエハWの周辺部に照射される。
【0009】ランプ位置調整機構1fにはハンドル1g
が設けられており、ハンドル1gを回転させることによ
り、楕円集光鏡1bに対するランプ1aの位置を調整す
ることができる。上記ランプ位置調整機構1fによりラ
ンプ1aの位置を調整することにより、導光ファイバ3
の入射端3aにおける集光量を変化させることができ、
露光光出射部4から出射される光の量を変えることがで
きる。
が設けられており、ハンドル1gを回転させることによ
り、楕円集光鏡1bに対するランプ1aの位置を調整す
ることができる。上記ランプ位置調整機構1fによりラ
ンプ1aの位置を調整することにより、導光ファイバ3
の入射端3aにおける集光量を変化させることができ、
露光光出射部4から出射される光の量を変えることがで
きる。
【0010】上記紫外線照射装置において照度調整は次
のように行われる。 (1) 新しいランプを取り付けたとき(ランプ交換時)の
照度調整。 新しいランプ1aを取り付け、ランプ1aを点灯させ、
シャッタ1dを開けて露光光出射部4から出射される露
光光の照度を測定する。照度が最大の値になるように、
ランプ位置調整機構1fによりランプ1aをX,Y,Z
方向に移動させる。照度が最大となる位置は、導光ファ
イバ3の入射端3aの中心、即ち楕円集光鏡の第2焦点
に光が集光する位置、すなわち、ランプ1aの発光部A
における最大輝度の部分が楕円集光鏡1bの第1焦点に
位置する場合である。次に、ランプ位置調整機構1fに
よりランプ1aをZ方向のみに移動させて、照度を下
げ、照度が所定の値になるようにする。ランプ1aをZ
方向に移動させることにより、ランプ1aの発光部Aが
楕円集光鏡1bの第1焦点からずれ、光が第2焦点で集
光しなくなり、導光ファイバ3の入射端3aから入射す
る光の量が小さくなる。上記所定の値は最大照度より小
さく、ウエハW上のホトレジストPhの発泡等を生じる
照度以下であり、露光時間が長くなり過ぎない、予め実
験で求めた値である。
のように行われる。 (1) 新しいランプを取り付けたとき(ランプ交換時)の
照度調整。 新しいランプ1aを取り付け、ランプ1aを点灯させ、
シャッタ1dを開けて露光光出射部4から出射される露
光光の照度を測定する。照度が最大の値になるように、
ランプ位置調整機構1fによりランプ1aをX,Y,Z
方向に移動させる。照度が最大となる位置は、導光ファ
イバ3の入射端3aの中心、即ち楕円集光鏡の第2焦点
に光が集光する位置、すなわち、ランプ1aの発光部A
における最大輝度の部分が楕円集光鏡1bの第1焦点に
位置する場合である。次に、ランプ位置調整機構1fに
よりランプ1aをZ方向のみに移動させて、照度を下
げ、照度が所定の値になるようにする。ランプ1aをZ
方向に移動させることにより、ランプ1aの発光部Aが
楕円集光鏡1bの第1焦点からずれ、光が第2焦点で集
光しなくなり、導光ファイバ3の入射端3aから入射す
る光の量が小さくなる。上記所定の値は最大照度より小
さく、ウエハW上のホトレジストPhの発泡等を生じる
照度以下であり、露光時間が長くなり過ぎない、予め実
験で求めた値である。
【0011】(2) 照度が所定以下に低下した場合。 ランプ位置調整機構1fによりランプ1aをZ方向に移
動させて、ランプ1aの発光部を楕円集光鏡1bの第1
焦点に近づけて照度を上げ、照度を所定の値に戻す。ラ
ンプ1aの発光部Aが楕円集光鏡1bの第1焦点に近づ
くことにより、光が第2焦点で集光するようになり、導
光ファイバ3の入射端3aより入射する光の量が大きく
なる。ランプ1aの照度が著しく低下しランプ1aの発
光部Aが楕円集光鏡1bの第1焦点にきても所定の値に
ならないか、またはランプの保証寿命に達するまでは上
記のようなランプ1aの位置を調整し、照度を調整す
る。
動させて、ランプ1aの発光部を楕円集光鏡1bの第1
焦点に近づけて照度を上げ、照度を所定の値に戻す。ラ
ンプ1aの発光部Aが楕円集光鏡1bの第1焦点に近づ
くことにより、光が第2焦点で集光するようになり、導
光ファイバ3の入射端3aより入射する光の量が大きく
なる。ランプ1aの照度が著しく低下しランプ1aの発
光部Aが楕円集光鏡1bの第1焦点にきても所定の値に
ならないか、またはランプの保証寿命に達するまでは上
記のようなランプ1aの位置を調整し、照度を調整す
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】図6に示した紫外線照
射装置において、ランプ1aをZ方向に移動させたとき
の照度変化は図7のようになる。図7は最大照度を示す
点(すなわち、ランプ1aの発光部Aの最も明るい部分
である最大輝度の部分が楕円集光鏡1bの第1焦点にあ
るとき)を0とし、その位置からハンドル1gを操作し
てランプ1aをZ方向の上方向に移動させてランプ1a
の発光部Aを第1焦点から楕円集光鏡1b側にずらして
いったときの最大照度に対する照度の変化をプロットし
たものである。
射装置において、ランプ1aをZ方向に移動させたとき
の照度変化は図7のようになる。図7は最大照度を示す
点(すなわち、ランプ1aの発光部Aの最も明るい部分
である最大輝度の部分が楕円集光鏡1bの第1焦点にあ
るとき)を0とし、その位置からハンドル1gを操作し
てランプ1aをZ方向の上方向に移動させてランプ1a
の発光部Aを第1焦点から楕円集光鏡1b側にずらして
いったときの最大照度に対する照度の変化をプロットし
たものである。
【0013】同図に示すように、ランプ1aの位置をZ
方向に移動させたとき照度は一様に変化せず、ランプ1
aが略1.3mm移動したところでピークが生ずる。こ
れは、図8に示すようにランプ1aの発光部Aの輝度分
布が一様でなく、輝度のピークが2個所(同図のF1
a,F1b)で現れ、これがランプ1aを移動させたと
きにそのまま照度変化に現れるためと考えられる。ま
た、図7から明らかなように、ランプ1aの位置を1.
7mm移動させると照度は50%変化し、平均するとラ
ンプ1aを0.17mm移動させると照度は5%変化す
る。新品のランプでは、通常、最大照度は約2500m
W/cm2 以上あるので、ランプ1aを0.17mm移
動させることにより、照度は125mW/cm2 変化す
ることとなる。
方向に移動させたとき照度は一様に変化せず、ランプ1
aが略1.3mm移動したところでピークが生ずる。こ
れは、図8に示すようにランプ1aの発光部Aの輝度分
布が一様でなく、輝度のピークが2個所(同図のF1
a,F1b)で現れ、これがランプ1aを移動させたと
きにそのまま照度変化に現れるためと考えられる。ま
た、図7から明らかなように、ランプ1aの位置を1.
7mm移動させると照度は50%変化し、平均するとラ
ンプ1aを0.17mm移動させると照度は5%変化す
る。新品のランプでは、通常、最大照度は約2500m
W/cm2 以上あるので、ランプ1aを0.17mm移
動させることにより、照度は125mW/cm2 変化す
ることとなる。
【0014】以上のように、従来の紫外線照射装置はラ
ンプ1aの位置を移動させたときの照度変化が一様でな
く、また、ランプ1aを僅かに移動させただけで照度が
大きく変化するため、照度の調整が難しくその調整に熟
練を要するといった問題があった。また、ランプ1aの
位置を僅かに移動させただけで照度が大きく変わるの
で、ランプ位置を高精度に調整することができるランプ
位置調整機構を設ける必要があり、装置コストが高くな
るといった問題があった。
ンプ1aの位置を移動させたときの照度変化が一様でな
く、また、ランプ1aを僅かに移動させただけで照度が
大きく変化するため、照度の調整が難しくその調整に熟
練を要するといった問題があった。また、ランプ1aの
位置を僅かに移動させただけで照度が大きく変わるの
で、ランプ位置を高精度に調整することができるランプ
位置調整機構を設ける必要があり、装置コストが高くな
るといった問題があった。
【0015】さらに、ランプ位置調整機構1fがランプ
ハウス3内に設けられているため、照度調整をするため
にはランプハウス3の遮光用カバーを開けなければなら
ず、ランプの照度が低下して頻繁に照度調整を行う必要
がある場合には手数がかかるといった問題があった。な
お、ランプ1aに供給する電力を変化させても照度を変
えることはできるが、電力を変化させただけでは約15
%の照度調整しかできず、また、照度を低下させたとき
のランプの点灯性が悪くなる。
ハウス3内に設けられているため、照度調整をするため
にはランプハウス3の遮光用カバーを開けなければなら
ず、ランプの照度が低下して頻繁に照度調整を行う必要
がある場合には手数がかかるといった問題があった。な
お、ランプ1aに供給する電力を変化させても照度を変
えることはできるが、電力を変化させただけでは約15
%の照度調整しかできず、また、照度を低下させたとき
のランプの点灯性が悪くなる。
【0016】本発明は上記した従来技術の問題点を解決
するためになされたものであって、その目的とするとこ
ろは、操作が簡単で微妙な照度調整を容易に行うことが
でき、また装置コストを低減化することができる紫外線
照射装置を提供することである。
するためになされたものであって、その目的とするとこ
ろは、操作が簡単で微妙な照度調整を容易に行うことが
でき、また装置コストを低減化することができる紫外線
照射装置を提供することである。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、従来のランプ位置調整機構を設
ける代わりに、楕円集光鏡の第1焦点位置に放電ランプ
の発光部における最大輝度の部分が位置するように上記
放電ランプを設置し、導光ファイバの入射端の位置を移
動させ、上記楕円集光鏡により光が集光される位置と上
記入射端との距離を調整する照度調整機構を設け、照度
調整を行うように構成した。そして、上記照度調整機構
を、紫外線照射装置の外壁に取り付けられた第1の円筒
と、第1の円筒に回転可能に挿入され、ガイドピンを有
する第2の円筒と、外周にねじ溝が設けられ、第1及び
第2の円筒の組立体に挿入され、導光ファイバが挿入固
定される第3の円筒から構成し、第2の円筒を回転させ
ることによって、第3の円筒のねじ溝が第2の円筒のガ
イドピンに案内され、第3の円筒が移動するようにし
た。本発明においては上記構成としたので、照度調整時
の照度変化が緩やかとなり微妙な調整が可能となる。ま
た、照度を変化させたとき、照度が単調に減少し、前記
図7に示したようなピークが生ずることがないので調整
が容易になる。さらに、ランプハウスの遮光カバーを開
けることなく照度調整が可能となったので、操作を簡単
化することができる。
め、本発明においては、従来のランプ位置調整機構を設
ける代わりに、楕円集光鏡の第1焦点位置に放電ランプ
の発光部における最大輝度の部分が位置するように上記
放電ランプを設置し、導光ファイバの入射端の位置を移
動させ、上記楕円集光鏡により光が集光される位置と上
記入射端との距離を調整する照度調整機構を設け、照度
調整を行うように構成した。そして、上記照度調整機構
を、紫外線照射装置の外壁に取り付けられた第1の円筒
と、第1の円筒に回転可能に挿入され、ガイドピンを有
する第2の円筒と、外周にねじ溝が設けられ、第1及び
第2の円筒の組立体に挿入され、導光ファイバが挿入固
定される第3の円筒から構成し、第2の円筒を回転させ
ることによって、第3の円筒のねじ溝が第2の円筒のガ
イドピンに案内され、第3の円筒が移動するようにし
た。本発明においては上記構成としたので、照度調整時
の照度変化が緩やかとなり微妙な調整が可能となる。ま
た、照度を変化させたとき、照度が単調に減少し、前記
図7に示したようなピークが生ずることがないので調整
が容易になる。さらに、ランプハウスの遮光カバーを開
けることなく照度調整が可能となったので、操作を簡単
化することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施例の紫外線照
射装置の構成を示す図である。本実施例では前記したウ
エハ周辺露光装置における紫外線照射装置について説明
するが、本発明はウエハ周辺露光装置以外にスポットキ
ュア等、紫外線をスポット的に照射するための紫外線照
射装置として使用することができる。同図において、前
記図6に示したものと同一のものには同一の符号が付さ
れており、1はランプハウス、1aはランプ、1bは楕
円集光鏡、1cはミラー、1dはシャッタであり、本実
施例においてランプ1aはその発光部Aが楕円集光鏡1
bの第1焦点に位置するようにランプ固定ホルダ1hに
より固定的に取り付けられており移動しない。
射装置の構成を示す図である。本実施例では前記したウ
エハ周辺露光装置における紫外線照射装置について説明
するが、本発明はウエハ周辺露光装置以外にスポットキ
ュア等、紫外線をスポット的に照射するための紫外線照
射装置として使用することができる。同図において、前
記図6に示したものと同一のものには同一の符号が付さ
れており、1はランプハウス、1aはランプ、1bは楕
円集光鏡、1cはミラー、1dはシャッタであり、本実
施例においてランプ1aはその発光部Aが楕円集光鏡1
bの第1焦点に位置するようにランプ固定ホルダ1hに
より固定的に取り付けられており移動しない。
【0019】2’はランプハウス出射部であり、ランプ
ハウス出射部2’はその中心が楕円集光鏡1bの第2焦
点と一致するように位置しており、本実施例のランプハ
ウス出射部2’には導光ファイバ3の入射端の位置を移
動させることにより照度を調整する照度調整機構20が
設けられている。そして、導光ファイバ3に入射した光
は、導光ファイバ3を介して露光光出射部4に導かれ、
露光光出射部4から出射し、ホトレジストPhが塗布さ
れたウエハWの周辺部に照射される。
ハウス出射部2’はその中心が楕円集光鏡1bの第2焦
点と一致するように位置しており、本実施例のランプハ
ウス出射部2’には導光ファイバ3の入射端の位置を移
動させることにより照度を調整する照度調整機構20が
設けられている。そして、導光ファイバ3に入射した光
は、導光ファイバ3を介して露光光出射部4に導かれ、
露光光出射部4から出射し、ホトレジストPhが塗布さ
れたウエハWの周辺部に照射される。
【0020】図2、図3は上記したランプハウス出射部
2’の照度調整機構20の構成を示す図であり、図2は
その組み立て後の断面図、図3は分解図を示している。
図2、図3において、21は第1の円筒であり、円筒2
1はフランジ21aによりランプハウス1の外壁に取り
付けられている。22は第2の円筒であり、第2の円筒
22は図3に示すように第1の円筒21に挿入される。
第2の円筒22の外周には円環状の抜け止め溝22aが
設けられており、第2の円筒22を第1の円筒21に挿
入したのち、抜け止めピン21bを第1の円筒21に取
り付けると、抜け止めピン21bが上記抜け止め溝22
aに係合し、第2の円筒22は第1の円筒21に回転可
能に取り付けられる。
2’の照度調整機構20の構成を示す図であり、図2は
その組み立て後の断面図、図3は分解図を示している。
図2、図3において、21は第1の円筒であり、円筒2
1はフランジ21aによりランプハウス1の外壁に取り
付けられている。22は第2の円筒であり、第2の円筒
22は図3に示すように第1の円筒21に挿入される。
第2の円筒22の外周には円環状の抜け止め溝22aが
設けられており、第2の円筒22を第1の円筒21に挿
入したのち、抜け止めピン21bを第1の円筒21に取
り付けると、抜け止めピン21bが上記抜け止め溝22
aに係合し、第2の円筒22は第1の円筒21に回転可
能に取り付けられる。
【0021】23は第3の円筒であり、第3の円筒23
は、図3に示すように第1、第2の円筒21,22の組
み立て体に挿入される。第3の円筒23の外周には、ネ
ジ溝23aが設けられており、ネジ溝23aは第2の円
筒22に取り付けられるガイドピン22bと係合する。
また、第3の円筒23には、その外側の軸方向にガイド
溝23bが設けられており、第1の円筒21に取り付け
られるガイドピン21cが上記ガイド溝23bに係合す
る。このため、第3の円筒23は第1の円筒21に対し
て回転しないが、同図矢印方向に移動可能に取り付けら
れる。
は、図3に示すように第1、第2の円筒21,22の組
み立て体に挿入される。第3の円筒23の外周には、ネ
ジ溝23aが設けられており、ネジ溝23aは第2の円
筒22に取り付けられるガイドピン22bと係合する。
また、第3の円筒23には、その外側の軸方向にガイド
溝23bが設けられており、第1の円筒21に取り付け
られるガイドピン21cが上記ガイド溝23bに係合す
る。このため、第3の円筒23は第1の円筒21に対し
て回転しないが、同図矢印方向に移動可能に取り付けら
れる。
【0022】さらに、上記第3の円筒23には、図3に
示すように導光ファイバ3が挿入され図示しない止めネ
ジ等で固定される。ランプハウス出射部2’を図2のよ
うに組み立てたのち、第2の円筒22を回転させると、
第3の円筒23は同図矢印方向に移動し、これとともに
導光ファイバ3の入射端3aの位置が移動する。すなわ
ち、第2の円筒22に取り付けたガイドピン22bが第
3の円筒23に設けられたネジ溝23aに係合してお
り、また、第3の円筒23は、カイドピン21cにより
第1の円筒21に対して回転しないように構成されてい
るので、第2の円筒22を回転させると、第3の円筒2
3のネジ溝23aがガイドピン22bに案内され、第3
の円筒23が同図矢印方向に移動し、第3の円筒23に
固定された導光ファイバ3の入射端3aも同図矢印方向
に移動する。
示すように導光ファイバ3が挿入され図示しない止めネ
ジ等で固定される。ランプハウス出射部2’を図2のよ
うに組み立てたのち、第2の円筒22を回転させると、
第3の円筒23は同図矢印方向に移動し、これとともに
導光ファイバ3の入射端3aの位置が移動する。すなわ
ち、第2の円筒22に取り付けたガイドピン22bが第
3の円筒23に設けられたネジ溝23aに係合してお
り、また、第3の円筒23は、カイドピン21cにより
第1の円筒21に対して回転しないように構成されてい
るので、第2の円筒22を回転させると、第3の円筒2
3のネジ溝23aがガイドピン22bに案内され、第3
の円筒23が同図矢印方向に移動し、第3の円筒23に
固定された導光ファイバ3の入射端3aも同図矢印方向
に移動する。
【0023】本実施例の紫外線照射装置は上記のような
構成であり、ランプ交換時、あるいは照度調整時に、照
度調整機構20により導光ファイバ3の入射端3aの位
置を変化させることにより、照度を調整することができ
る。すなわち、図1において、ランプ1aからの光は、
常に楕円集光鏡1bの第2焦点に集光されているので、
導光ファイバ3の入射端3aの位置を第2焦点に近づけ
れば、入射端3aには集光した光が入射して露光出射部
4より放射される光の照度が大きくなり、また、導光フ
ァイバ3の入射端3aの位置を第2焦点から遠ざけれ
ば、入射端3aに拡散した光が入射するので、照度が小
さくなる。また、照度は導光ファイバ3の入射端3aが
第2焦点にあるときに最大となる。
構成であり、ランプ交換時、あるいは照度調整時に、照
度調整機構20により導光ファイバ3の入射端3aの位
置を変化させることにより、照度を調整することができ
る。すなわち、図1において、ランプ1aからの光は、
常に楕円集光鏡1bの第2焦点に集光されているので、
導光ファイバ3の入射端3aの位置を第2焦点に近づけ
れば、入射端3aには集光した光が入射して露光出射部
4より放射される光の照度が大きくなり、また、導光フ
ァイバ3の入射端3aの位置を第2焦点から遠ざけれ
ば、入射端3aに拡散した光が入射するので、照度が小
さくなる。また、照度は導光ファイバ3の入射端3aが
第2焦点にあるときに最大となる。
【0024】図4は本実施例において、照度調整機構2
0により導光ファイバ3の入射端3aの位置を変化させ
たときの照度変化を示す図である。図4は最大照度を示
す点(すなわち、入射端3aが楕円集光鏡1bの第2焦
点にあるとき)を0とし、その位置から入射端3aを第
2焦点からランプハウス3の反対側にずらしていったと
きの最大照度に対する照度の変化をプロットしたもので
ある。同図に示すように、最大照度点から導光ファイバ
3の入射端3aの位置を約30mm移動させると最大照
度の50%となる。
0により導光ファイバ3の入射端3aの位置を変化させ
たときの照度変化を示す図である。図4は最大照度を示
す点(すなわち、入射端3aが楕円集光鏡1bの第2焦
点にあるとき)を0とし、その位置から入射端3aを第
2焦点からランプハウス3の反対側にずらしていったと
きの最大照度に対する照度の変化をプロットしたもので
ある。同図に示すように、最大照度点から導光ファイバ
3の入射端3aの位置を約30mm移動させると最大照
度の50%となる。
【0025】本実施例においては、照度調整機構20の
第2の円筒22を一回転させたとき導光ファイバ3の入
射端3aの位置が5mm移動するので、第2の円筒22
を6回転させたとき照度が最大照度の50%になる。し
たがって、平均すると第2の円筒22の一回転当たりの
照度変化は約7%である。したがって、照度調整機構を
操作したときの照度変化は従来装置のように急激でな
く、微妙な照度調整が可能である。
第2の円筒22を一回転させたとき導光ファイバ3の入
射端3aの位置が5mm移動するので、第2の円筒22
を6回転させたとき照度が最大照度の50%になる。し
たがって、平均すると第2の円筒22の一回転当たりの
照度変化は約7%である。したがって、照度調整機構を
操作したときの照度変化は従来装置のように急激でな
く、微妙な照度調整が可能である。
【0026】また、図4から明らかなように、照度調整
機構を操作したとき照度は単調に減少し、前記図7に示
したような照度のピークが現れないので、調整が従来の
ものに比べ容易である。これは、以下の理由による。図
5は、前記図8に示した輝度の最大輝度の点F1aを楕
円集光鏡1bの第1焦点F1上に位置させたときの光軸
上の照度変化を示す図である。最大輝度の点F1aから
放出された光は、第2焦点F2の位置で集光する。一
方、光軸上の第1焦点F1以外の位置から放出された光
は、図5の破線で示したように光軸上では集光せず、ボ
ケた状態になる。
機構を操作したとき照度は単調に減少し、前記図7に示
したような照度のピークが現れないので、調整が従来の
ものに比べ容易である。これは、以下の理由による。図
5は、前記図8に示した輝度の最大輝度の点F1aを楕
円集光鏡1bの第1焦点F1上に位置させたときの光軸
上の照度変化を示す図である。最大輝度の点F1aから
放出された光は、第2焦点F2の位置で集光する。一
方、光軸上の第1焦点F1以外の位置から放出された光
は、図5の破線で示したように光軸上では集光せず、ボ
ケた状態になる。
【0027】すなわち、本実施例においては、ランプ1
aの最大輝度の点F1aを楕円集光鏡1bの第1焦点F
1に固定しており、ランプ1aの輝度分布の第2のピー
クF1bは第1焦点F1の位置からずれているため、上
記第2のピークF1bは導光ファイバ3の入射端3aの
位置ではボケてしまいその影響が小さくなるためであ
る。なお、本実施例の紫外線照射装置においては、照度
の調整範囲が50%であり、従来のものに比べ調整範囲
が狭いが、紫外線照射装置の照度の調整幅は通常50%
程度あるので十分実用可能である。なお、導光ファイバ
の移動距離を大きくすれば、50%以上の調整範囲とす
ることができる。
aの最大輝度の点F1aを楕円集光鏡1bの第1焦点F
1に固定しており、ランプ1aの輝度分布の第2のピー
クF1bは第1焦点F1の位置からずれているため、上
記第2のピークF1bは導光ファイバ3の入射端3aの
位置ではボケてしまいその影響が小さくなるためであ
る。なお、本実施例の紫外線照射装置においては、照度
の調整範囲が50%であり、従来のものに比べ調整範囲
が狭いが、紫外線照射装置の照度の調整幅は通常50%
程度あるので十分実用可能である。なお、導光ファイバ
の移動距離を大きくすれば、50%以上の調整範囲とす
ることができる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、導光ファイバの入射端の位置を移動させ照度調整を
するようにしたので、以下の効果を得ることができる。 (1)照度の調整時、調整機構を移動させる距離に対し
て、照度の変化が緩やかになったので、微妙な照度調整
が可能となった。また、従来のようにランプ位置の高精
度な位置決めを行うことなく、照度調整を行うことがで
きるので、照度調整機構のコストダウンを図ることがで
きる。 (2)調整機構を移動させているとき、ランプの発光部
の輝度分布による照度変化がほとんど現れないので、調
整が容易となった。 (3)ランプハウスの遮光カバーを開けることなく照度
調整を行うことができ、簡単に照度調整を行うことがで
きるようになった。
は、導光ファイバの入射端の位置を移動させ照度調整を
するようにしたので、以下の効果を得ることができる。 (1)照度の調整時、調整機構を移動させる距離に対し
て、照度の変化が緩やかになったので、微妙な照度調整
が可能となった。また、従来のようにランプ位置の高精
度な位置決めを行うことなく、照度調整を行うことがで
きるので、照度調整機構のコストダウンを図ることがで
きる。 (2)調整機構を移動させているとき、ランプの発光部
の輝度分布による照度変化がほとんど現れないので、調
整が容易となった。 (3)ランプハウスの遮光カバーを開けることなく照度
調整を行うことができ、簡単に照度調整を行うことがで
きるようになった。
【図1】本発明の実施例の紫外線照射装置の全体構成を
示す図である。
示す図である。
【図2】本発明の実施例の照度調整機構の構成を示す図
である。
である。
【図3】本発明の実施例の照度調整機構の分解図であ
る。
る。
【図4】本発明の実施例の照度調整機構による照度変化
を示す図である。
を示す図である。
【図5】ランプの発光部の最大輝度の点を第1焦点に位
置させたときの光軸上の照度変化を示す図である。
置させたときの光軸上の照度変化を示す図である。
【図6】従来の紫外線照射装置の構成を示す図である。
【図7】従来の照度調整機構による照度変化を示す図で
ある。
ある。
【図8】ランプの発光部の輝度分布を示す図である。
1 ランプハウス 1a ランプ 1b 楕円集光鏡 1c ミラー 1d シャッタ 1h ランプ固定ホルダ 2’ ランプハウス出射部 3 導光ファイバ 4 露光光出射部 20 照度調整機構 21 第1の円筒 21a フランジ 21b 抜け止めピン 21c ガイドピン 22 第2の円筒 22a 抜け止め溝 22b ガイドピン 23 第3の円筒 23a ネジ溝 23b ガイド溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 G03F 7/20 502 H01L 21/26
Claims (1)
- 【請求項1】 紫外光を含む光を放出するショートアー
ク型の放電ランプと、上記放電ランプから放出される光
を集光する楕円集光鏡と、 上記楕円集光鏡により集光された光が入射端から入射
し、該光を出射端より放出する導光ファイバから構成さ
れる紫外線照射装置であって、 上記楕円集光鏡の第1焦点位置に上記放電ランプの発光
部における最大輝度の部分の位置が位置するように上記
放電ランプが設置され、 上記導光ファイバの入射端の位置を移動させ、上記楕円
集光鏡により光が集光される位置と上記入射端との距離
を調整する照度調整機構を備えた紫外線照射装置におい
て、 上記照度調整機構は、紫外線照射装置の外壁に取り付け
られた第1の円筒と、第1の円筒に回転可能に挿入さ
れ、ガイドピンを有する第2の円筒と、外周にねじ溝が
設けられ、第1及び第2の円筒の組立体に挿入され、導
光ファイバが挿入固定される第3の円筒からなり、 第2の円筒を回転させることによって、第3の円筒のね
じ溝が第2の円筒のガイドピンに案内され、第3の円筒
が移動する ことを特徴とする紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25139996A JP3166631B2 (ja) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25139996A JP3166631B2 (ja) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1097973A JPH1097973A (ja) | 1998-04-14 |
JP3166631B2 true JP3166631B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=17222272
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25139996A Expired - Fee Related JP3166631B2 (ja) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3166631B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000058786A1 (fr) | 1999-03-31 | 2000-10-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dispositif de source lumineuse, dispositif de reglage associe et procede de fabrication associe, et dispositif d'eclairage et systeme de projection pourvu du dispositif de source lumineuse |
JP2002217084A (ja) * | 2001-01-15 | 2002-08-02 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | ウェハ周辺露光装置およびウェハ周辺露光方法 |
JP4847046B2 (ja) * | 2005-05-26 | 2011-12-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
-
1996
- 1996-09-24 JP JP25139996A patent/JP3166631B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1097973A (ja) | 1998-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4732842A (en) | Exposure method of semiconductor wafer by rare gas-mercury discharge lamp | |
JP3166631B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP3599648B2 (ja) | 照明装置、投影露光装置並びにそれを用いたデバイス製造方法 | |
JP3814444B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
KR20070090790A (ko) | 자외선 조사 장치 | |
KR0137900B1 (ko) | 칼라 수상관의 형광면의 형성방법 및 노광장치 | |
KR20150121530A (ko) | Led 광원 노광장치 | |
WO2001082001A1 (en) | Lithography system with device for exposing the periphery of a wafer | |
JP3376043B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
TWI410754B (zh) | 用於遮蔽弧燈之一部份之蓋、弧燈、及微影裝置 | |
JP3115822B2 (ja) | 紫外線照射装置およびその照射方法 | |
KR20050062164A (ko) | 디스플레이장치의 노광구조 | |
KR930011243B1 (ko) | 음극선관의 패널 노광방법 및 그 장치 | |
TWI813630B (zh) | 投影曝光裝置 | |
KR102651377B1 (ko) | 투영 노광 장치 및 투영 노광 장치에 사용하는 차광판 | |
KR200151379Y1 (ko) | 반도체 스테퍼장비의 조명계 | |
US20040189971A1 (en) | Wafer edge exposing apparatus | |
KR100497274B1 (ko) | 웨이퍼 가장자리 노광 시스템 | |
KR100660954B1 (ko) | 웨이퍼 에지 노광 장치 | |
KR200211721Y1 (ko) | 반도체소자제조를위한스텝퍼장비의축소렌즈보호장치 | |
JPH10294273A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
KR20240037500A (ko) | 주변 노광 장치 | |
TW202334760A (zh) | 曝光用光照射裝置、曝光裝置以及曝光方法 | |
JPH10104407A (ja) | 光量調整フィルタとその製造方法及び装置 | |
KR19990015742A (ko) | 줌 렌즈 어레이 및 이를 장착한 노광장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080309 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090309 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090309 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100309 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |