KR102651377B1 - 투영 노광 장치 및 투영 노광 장치에 사용하는 차광판 - Google Patents

Abstract

[과제] 오리엔테이션 플랫을 갖는 웨이퍼의 노광을 적절히 행하는 것을 가능하게 한다. [해결 수단] 광원의 출사광의 조도를 균일화하여 레티클에 조사하는 조명 광학계와, 조명 광학계에 설치된 차광판과, 차광판을 이동시키는 차광판 이동 기구를 구비하고, 오리엔테이션 플랫부가 형성된 기판을 노광하는 투영 노광 장치로서, 차광판은, 직선부와 곡선부로 이루어지는 연속 엣지를 갖고, 오리엔테이션 플랫부 및 투영 범위의 상대적 위치 관계에 따라 차광판 이동 기구에 의해서 차광판의 위치를 제어하도록 하는 투영 노광 장치이다.

Description

투영 노광 장치 및 투영 노광 장치에 사용하는 차광판{PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND LIGHT SHIELDING PLATE USED FOR THE PROJECTION EXPOSURE APPARATUS}

본 발명은, 스텝 앤드 리피트에 의해서 웨이퍼에 패턴을 노광하는 투영 노광 장치 및 투영 노광 장치에 사용하는 차광판에 관한 것이다.

투영 노광 장치에는, 노광 에어리어가 웨이퍼 엣지에 걸릴 때에 엣지단으로부터 소정의 폭을 노광하지 않는 기구(WEM: 웨이퍼 엣지 마스킹)가 설치되어 있다. 고정밀의 노광 결과가 요구되는 투영 노광 장치에서는, 파티클 대책이나 차광 경계의 선명함 등의 이유로, 광학계 중에 WEM를 설치하는 방법이 선택된다.

예를 들면, 조명 광학계의 레티클과 공역인 위치에 이동 가능한 차광판을 설치하고, 노광 위치에 따라 차광판을 이동시켜 소정 부분의 빛을 차단함으로서 웨이퍼 주변 비노광을 실시하는 선행 기술(특허문헌 1)이 존재한다. 반도체 웨이퍼에는, 웨이퍼의 결정축의 방향을 나타내기 위해서, 오리엔테이션 플랫(Orientation Flat)이 설치되고 있는 것이 있다. 오리엔테이션 플랫은, 예를 들면 웨이퍼의 일부를 노치함으로써 형성된 직선 엣지 부분(이하에서는 이 부분을 오리엔테이션 플랫부라고 칭함)이다. 특허문헌 1의 기술에서는 이 오리엔테이션 플랫부의 차광을 할 수 없었다.

또, 웨이퍼 상에 차광 부재를 설치하는 기술이 알려져 있다. 웨이퍼 상에 웨이퍼 둘레를 커버하는 차광 부재를 설치하는 방법에서, 웨이퍼의 원호상의 주연부분과 오리엔테이션 플랫부를 동시에 차광하는 것이 특허문헌 2(도 8)에 기재되어 있다.

일본 공개특허 특개2011-233781호 공보 일본 공개특허 특개2015-200910호 공보

웨이퍼 상에서 차광하는 WEM는, 웨이퍼 상에 차광 부재를 설치하기 위해, 웨이퍼에 차광 부재 유래의 파티클이 부착되거나, 차광한 경계가 불선명하게 된다고 하는 문제가 생긴다. 또, 오리엔테이션 플랫이 없는 웨이퍼를 노광할 때, 직선부가 없는 차광 부재(선행 문헌 2의 도 3)로 교환할 필요가 있어, 작업이 번잡했다 .

따라서, 본 발명의 목적은, 웨이퍼의 주변 비노광을 실시할 때에 원호상부 뿐만 아니라 오리엔테이션 플랫부도 비노광으로 하는 것이 가능한, 조명 광학계에 설치된 WEM를 구비하는 투영 노광 장치 및 투영 노광 장치에 사용하는 차광판을 제공하는 것에 있다.

본 발명은, 광원의 출사광의 조도를 균일화하여 레티클에 조사하는 조명 광학계와,

조명 광학계에 설치된 차광판과,

차광판을 이동시키는 차광판 이동 기구를 구비하고,

오리엔테이션 플랫부가 형성된 기판을 노광하는 투영 노광 장치로서,

차광판은, 직선부와 곡선부로 이루어지는 연속 엣지를 갖고,

오리엔테이션 플랫부 및 투영 범위의 상대적 위치 관계에 따라 차광판 이동 기구에 의해서 차광판의 위치를 제어하도록 하는 투영 노광 장치이다.

또, 본 발명은, 투영 노광 장치의 조명 광학계에 배치되는 차광판으로서,

오리엔테이션 플랫부를 갖는 웨이퍼에 대해서 비노광 영역을 형성하도록, 직선부와 곡선부로 이루어지는 연속 엣지를 갖는 차광판이다.

또한, 본 발명은, 광원의 출사광의 조도를 균일화하여 레티클에 조사하는 조명 광학계와 조명 광학계에 설치된 차광판과,

차광판을 이동시키는 차광판 이동 기구를 구비하고,

차광판 이동 기구는, 조명 광학계의 광축에 대해서 차광판을 출입시키는 직동 기구와, 조명 광학계의 광축을 중심으로 차광판을 회전시키는 제1θ 축기구와, 직동 기구에 대해서 차광판을 회전시키는 제2θ 축기구를 갖고,

차광판은, 직선부와 곡선부로 이루어지는 연속 엣지를 갖고,

기판의 오리엔테이션 플랫부 및 투영 범위의 상대적 위치 관계에 따라 차광판 이동 기구에 의해서 차광판의 위치를 제어하도록 하는 투영 노광 장치이다.

적어도 하나의 실시 형태에 의하면, 웨이퍼의 주변 비노광을 실시할 때에, 원호상부(圓弧狀部) 뿐만 아니라 오리엔테이션 플랫부도 비노광으로 할 수 있다. 또, 여기에 기재된 효과는 반드시 한정되는 것이 아니고, 본 명세서에 기재되어 있는 효과 중 하나 또는 그와 이질의 효과여도 좋다.

[도 1] 도 1은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
[도 2] 도 2는, 일 실시의 형태에서의 차광판의 일례의 정면도이다.
[도 3] 도 3은, 일 실시의 형태에서의 차광판의 다른 예의 정면도이다.
[도 4] 도 4는, 일 실시의 형태에서의 차광판의 또 다른 예의 정면도이다.
[도 5] 도 5는, 일 실시의 형태에서의 차광판 이동 기구를 정면도이다.
[도 6] 도 6은, 일 실시의 형태에서의 차광판 이동 기구의 단면도이다.
[도 7] 도 7은, 노광 동작의 설명에 사용하는 평면도이다.
[도 8] 도 8은, 웨이퍼와 차광판의 관계를 나타내는 평면도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태 등에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 또, 이하에 설명하는 실시의 형태 등은 본 발명의 매우 적합한 구체적인 예이며, 본 발명의 내용이 이러한 실시 형태 등으로 한정되는 것은 아니다.

도 1은 본 발명의 투영 노광 장치의 일 실시의 형태의 개략 구성도이다. 또, 도 1의 각 요소는, 주요한 광축에 따른 단면도로 표시되고 있고, 그 때의 햇칭은 생략되고 있다. 투영 노광 장치는, 광원(1)과, 광원(1)의 출사광을 균일한 조도의 조명광으로 하는 조명 광학계(4)를 갖는다. 조명 광학계(4)로부터의 조명광이 패턴의 원판(原版)인 레티클(포토마스크(photomask))(8)에 조사된다. 레티클(8)의 상이 투영 광학계(12)에 의해서 웨이퍼(기판)(13)에 투영된다.

웨이퍼(13)는, 노광 스테이지(워크 척)(14) 상에 재치되고 있다. 노광 스테이지(14)는, 스테이지 이동 기구(15)에 의해서 이동된다. 스테이지 이동 기구(15) 및 광학계(광원(1), 조명 광학계(4), 투영 광학계(12))가 발판(架台)(16)에 의해서 지지된다.

광원(1)은, 예를 들면 UV램프이다. 또, 타원 미러(2)가 설치되어 있고, 라드 렌즈의 입구를 향해서 빛을 집광한다. 라드 렌즈(5)는, 라드 렌즈 지지부(6)에 의해서 지지된다. 광원(1)으로서 수은 램프, 레이저 등을 사용해도 좋다.

조명 광학계(4)는, 라드 렌즈(5)와, 크리티컬 조명 렌즈군(7)을 구비한다. 라드 렌즈(5)는, 다각형의 단면을 갖는 투명체이며, 조명광 균일화 수단으로서 기능한다. 조명광 균일화 수단으로서는, 라드 렌즈에 한정하지 않고, 내면 반사경(복수의 거울을 내향으로 붙여 조합한 것 같은 다각형의 통)을 사용해도 좋다.

크리티컬 조명 렌즈군(7)은, 라드 렌즈(5)의 출구면의 상(像)을 소정의 배율(예를 들면 2배)로 확대하여 레티클(8)에 조사한다. 또, 도면에서는 크리티컬 조명 렌즈군(7)을 사각형으로 생략하고 있지만, 복수의 렌즈(예를 들면 10매의 렌즈)로 구성되어 있다. 또, 조명 광학계(4)는, 후술하는 차광기구(WEM)(11)를 구비하고 있다.

레티클(8)은, 소정의 패턴이 묘화(描畵)된 투과형의 포토마스크(photomask)이다. 레티클(8)은 레티클 스테이지(9)에 의해서 지지되고 있다. 레티클(8)은, 예를 들면 석영 유리제의 것으로, 전사되어야 할 소정의 패턴(예를 들면 회로 패턴)이 묘화된 투과형의 포토마스크(photomask)이다.

투영 광학계(12)는, 예를 들면 다이슨 광학계이다. 일 실시의 형태에서는, 투영 광학계(12)의 배율은 등배이다.

웨이퍼(13)의 형상은 원형으로, 직경은 예를 들면 300 mm이다. 또, 오리엔테이션 플랫이 형성되어 있다. 웨이퍼(13)는, 예를 들면 단결정 실리콘의 표면 상에 포토레지스트(photoresist)(감광제)가 도포된 실리콘 웨이퍼이다. 단결정 실리콘제의 것 이외에도, 유리, 사파이어, 또는 화합물로 이루어지는 경우도 있다.

패턴 노광 영역뿐만 아니라, 웨이퍼(13)의 주변부의 적어도 일부에도 포토레지스트가 도포되고 있다. 포토레지스트는, 자외선을 이용하여 패턴을 형성하는 감광 재료이다. 포토레지스트로서는, 포지티브형, 네거티브형의 어느 하나라도 좋다. 웨이퍼(13)의 주변부에는 소정의 비노광 영역이 설정되어 있다. 예를 들면 웨이퍼(13)의 엣지 둘레에 걸쳐서 폭 5 mm가 비노광 영역으로 이루어진다. 또, 비노광 영역은 오리엔테이션 플랫부에도 설치되어 있다.

노광 스테이지(14)가 웨이퍼(13)를 흡착 보관 유지한다. 노광 스테이지(14)가 스테이지 이동 기구(15)에 의해서, X, Y, θ 방향으로 이동된다. 웨이퍼(13)의 표면(이차원 평면)을 X 방향 및 Y 방향으로 규정하고, 회전 방향을 θ로 규정한다. 스테이지 이동 기구(15)는, 스텝 노광을 위한 이동과, 웨이퍼 얼라이먼트의 미소한 이동을 행한다. 또, 웨이퍼(13)의 초점 맞댐(焦点合) 때문에, Z 방향의 이동 및 노광 스테이지의 기울기 조정을 실시하는 기구를 구비한다.

투영 노광 장치는, 노광 스테이지(14)와 광학계를 설치하기 위한 발판(16)을 구비한다. 얼라이먼트 카메라(10)가 발판(16)에 장착되어 있다.

일 실시의 형태에서는, 조명 광학계(4)의 웨이퍼(13)의 공역면에 차광판(17)이 설치되어 있다. 또, 차광판(17)은 라드 렌즈(5)의 출구부에 위치한다. 구체적으로는, 차광판(17)에 근접한 위치에 라드 렌즈(5)의 출구면이 위치하도록 된다.

도 2는 웨이퍼(13)의 주변 비노광 영역을 따라서 빛을 차광하기 위한 차광판(17)의 일례를 나타낸다. 차광판(17)은, 레티클(8)과 동일한 재질 예를 들면 석영 유리의 판에 대해서 흑색의 차광제를 피착시킨 것이다. 후술하듯이, 광축에 대해서 차광판을 출입시키는 직동 기구와, 조명 광학계의 광축을 중심으로 차광판을 회전시키는 제1θ 축기구와, 직동 기구에 대해서 차광판을 회전시키는 제2θ 축기구를 구비하는 차광판 이동 기구가 설치되어 있다.

차광판(17)은, 제2θ 축기구가 릴리즈 되는 반원상 노치(18)를 내주측의 중심부분에 갖는다. 외주측이 노치(18)를 따라서 전체적으로 산형(山形) 또는 철형(凸型)을 하고 있다. 차광판(17)은, 외주측에, 제1 차광부(19a), 제2 차광부(19b) 및 제3 차광부(19c)를 갖는다. 도면을 향해 좌측의 정점 a1로부터 우측으로 상측의 정점 a2를 향해 곡선상 엣지(c1)가 형성되고, 정점 a2로부터 우측으로 상측의 정점 a3을 향해 직선상 엣지(s1)가 형성된다. 이러한 곡선상 엣지(c1) 및 직선상 엣지(s1)로 이루어지는 연속 엣지에 의해서 제1 차광부(19a)가 구성된다.

정점 a3과 정점 b3이 거의 같은 높이 위치로 이루어지고, 이러한 정점 a3 및 b3를 묶는 곡선상 엣지(c3)에 의해서 제3 차광부(19c)가 구성된다. 또한, 정점 b3으로부터 우측으로 하강한 위치의 정점 b2를 향해 직선상 엣지(s2)가 형성되고, 정점 b2로부터 우측으로 낮은 위치의 정점 b1을 향해 곡선상 엣지(c2)가 형성된다. 이러한 곡선상 엣지(c2) 및 직선상 엣지(s2)에 의해서 제2 차광부(19b)가 구성된다. 웨이퍼(13) 상에서, 직선상 엣지(s1 및 s2)의 각각의 길이는, 1개의 노광 범위의 길이 방향의 길이보다 긴 것으로 이루어진다. 또, 여기서의 노광 범위란, 1회의 노광 샷으로 웨이퍼(13) 상에 노광 가능한 최대의 투영상을 나타내고, 예를 들면 라드 렌즈(5)의 출구면의 상을, 크리티컬 조명 렌즈군(7)과 투영 광학계(12)의 배율을 따라서 확대(또는 축소)한 형상으로 나타내진다.

이와 같이, 차광판(17)은, 반원상 노치(18)의 중심을 통해 상하로 연장되는 선에 대해서 좌우 대칭의 형상을 가지고 있다. 제1 차광부(19a)는, 오리엔테이션 플랫부와, 이 직선 엣지 부분에 연속하기는 일방의 곡선부에 대한 차광의 기능을 갖고, 제2 차광부(19b)는, 오리엔테이션 플랫부와, 이 오리엔테이션 플랫부에 연속하는 타방의 곡선부에 대한 차광의 기능을 갖고, 제3 차광부(19c)가 오리엔테이션 플랫부 이외의 차광의 기능을 갖는다. 또, 각 차광부의 엣지 부분은, 조명 광학계의 NA에 대응하는 테이퍼 형상의 단면을 갖는다. 테이퍼 형상은, 비노광 영역 이외에서는 출사광의 광량의 감소를 방지하기 위함이다.

도 3은, 차광판(17)의 변형예로서의 차광판(17A)을 나타낸다. 도 2에 대응하는 부분에는, 동일한 참조 부호를 부가한다. 이 차광판(17A)은, 제1 차광부(19aa)와 제2 차광부(19ab)를 갖고, 제3 차광부(19c)를 생략한 구성이다. 이 차광판(17A)의 경우, 오리엔테이션 플랫부 이외의 차광은, 제1 차광부(19aa)의 곡선상 엣지(c1) 및 제2 차광부(19ab)의 곡선상 엣지(c2)에 의해서 이루어진다.

도 4는, 차광판(17)의 변형예로서의 차광판(17B)를 나타낸다. 차광판(17B)은, 차광판(17)과 달리, 외주측이 노치(18)와는 반대로 전체적으로 곡형(谷形) 혹은 요형(凹型)을 하고 있다. 도면을 향해 좌측의 정점 d1로부터 오른쪽 밑의 곡선상 엣지 c4가 정점 d2까지 형성된다. 정점 d2가 오리엔테이션 플랫부와 대응하는 직선상 엣지 s3를 통해 정점 d3에 이른다. 또한, 정점 d3으로부터 오른쪽 위의 곡선상 엣지 c5가 정점 d4까지 형성된다.

차광판(17B)은, 곡선상 엣지 c4 및 직선상 엣지 s3에 의해서 제1 차광부(19ba)를 구성하고, 곡선상 엣지 c5 및 직선상 엣지 s3에 의해서 제2 차광부(19bb)를 구성한다. 이러한 차광부(19ba 및 19bb)에 의해서 오리엔테이션 플랫부와, 오리엔테이션 플랫부에 연속하는 곡선 부분의 차광이 이루어진다. 또한, 오리엔테이션 플랫부와, 오리엔테이션 플랫부에 연속하는 곡선 부분 이외의 곡선 부분의 차광은, 곡선상 엣지 c4 및 c5에 의해서 행해진다.

도 5 및 도 6은, 예를 들면 차광판(17)을 이동시키는 차광판 이동 기구의 정면도 및 측면 단면도이다. 도 6에 나타내듯이, 라드 렌즈 측면과 인접하도록 하여 차광판 이동 기구가 설치되어 있다. 차광판 이동 기구는 중공 구조가 되고, 중공부 내에 라드 렌즈 지지부가 설치된다. 차광판 이동 기구는, 광축에 대해서 차광판을 출입시키는 직동 기구(23)와, 조명 광학계의 광축을 중심으로 차광판을 회전시키는 제1θ 축기구와, 직동 기구(23)에 대해서 차광판(17)을 회전시키는 제2θ 축기구를 구비한다.

도 5에 나타내듯이, 차광판(17)의 내측의 원호상 노치(18)의 원호가 차광판 회전 모터(20)의 회전축에 장착되어 있다. 차광판 회전 모터(20)가 베이스 플레이트(21)에 대해서 고정되고 있다. 베이스 플레이트(21)가 착탈용 나사(22a 및 22b)에 의해서 직동 기구(23)에 대해서 장착된다. 또, 차광판 회전 모터(20)는, 직동 기구(23)에 대해서 차광판(17)을 회전시키기 위한 것으로, 제2θ 축기구를 구성한다.

직동 기구(23)는, 볼 나사 등의 단축 액츄에이터이며, 차광판(17) 및 차광판 회전 모터(20)를 직선적으로 변위시키는 기구이다. 직동 기구(23)에 의해서, 조명 광학계(4)의 광축에 대해서 차광판(17)의 엣지를 접근 또는 이간시킨다. 직동 기구(23)는, 비노광 영역의 폭에 대응하여 차광판(17)의 엣지의 위치를 설정하는 것이다.

제1θ 축기구는, 조명 광학계의 광축을 중심으로 하여 차광판(17)을 회전시키는 회전 기구이다. 도 6에 나타내듯이, 중공 모터(24)가 설치되어, 중공 모터(24)에 의해서 중공 샤프트(25)가 회전된다. 중공 모터(24)는, 슬립 링 등의 회전 케이블부(26)를 구비하고 있다.

중공 샤프트(25) 내에 라드 렌즈(5)를 갖는 라드 렌즈 지지부(6)가 설치된다. 예를 들면 중공 샤프트(25)의 중심과 라드 렌즈(5)의 광축이 일치하도록 된다. 라드 렌즈 지지부(6)는, 라드 렌즈(5)의 입구측이 케이스에 고정되고, 출구측은 중공 샤프트(25) 내에 설치된 베어링(27)에 의해서 지지된다. 단, 베어링(27)에 의해서 라드 렌즈(5)의 출구측을 지지하지 않고, 입구측만에서 라드 렌즈(5) 및 라드 렌즈 지지부(6)를 지지하는 편지지 구성이어도 좋다.

중공 샤프트(25)의 라드 렌즈(5)의 출구측에 회전 스테이지(28)가 장착되어 있다. 회전 스테이지(28)는, 원판상으로 그 중심 위치에 중공 샤프트(25)의 선단이 고착된다. 회전 스테이지(28)에는, 부착부를 통해 직동 기구(23)가 장착되어 있다. 예를 들면 회전 스테이지(28)의 지름 방향과 직동 기구(23)의 직선 운동의 방향이 일치하도록 되고 있다. 상술한 것처럼, 직동 기구(23)에 대해서는, 차광판(17) 및 차광판 회전 모터(20)를 갖는 제2θ 축기구가 장착되어 있다. 따라서, 중공 샤프트(25)가 중공 모터(24)에 의해서 회전되면, 조명 광학계의 광축을 중심으로, 회전 스테이지(28), 직동 기구(23), 제2θ 축기구 및 차광판(17)이 일체로 회전한다.

또한, 본 실시 형태에서는 조명광 균일화 수단으로서 라드 렌즈를 사용했지만, 플라이 아이 렌즈를 이용해도 좋다. 그 경우는, 플라이 아이 렌즈의 뒤에 결상 광학계를 설치하고, 결상면에 차광판이 오도록 차광판 이동 기구를 설치하면 좋다.

다음으로 본 발명의 일 실시 형태의 차광 동작에 대해 설명한다. 도 7은 웨이퍼(13)에 대한 스텝 앤드 리피트 노광 동작을 나타내는 도면이다. 도 7의 예에서는, 41회의 노광을 실시한다. 1회의 노광 범위를 직사각형으로 나타내고 있고, 십자는 노광의 중심(광축의 위치)을 나타내고 있다.

웨이퍼(13)의 외주를 따라서 비노광 영역(MA)이 설정되어 있다. WEM에 의한 차광의 예를 왼쪽 위에 나타낸다. 노광 에어리어가 비노광 영역(MA)에 걸리지 않는 위치의 노광 동작 시에는, 차광판(17)이 라드 렌즈(5)로부터 퇴피하는 위치로 후퇴하고 있다.

차광판 이동 기구는, 오리엔테이션 플랫부의 차광과 오리엔테이션 플랫부 이외의 차광에서는 다른 동작을 실시한다. 최초로 오리엔테이션 플랫부 이외의 비노광 영역을 차광하는 동작을 설명한다. 이 경우에서는, 제2θ 축기구(차광판 회전 모터(20))는, 차광판(17)의 제3 차광부(19c)가 직동 기구(23)의 이동축 상의 중심에 오도록 회전하고, 이후는 그 상태를 유지한다.

노광 에어리어가 비노광 영역(MA)에 걸리는 위치(노광 범위 EA1, EA2)에서는, 차광판(17)이 비노광 영역(MA)을 차광하는 만큼 라드 렌즈(5)를 향해 전진하고, 조명광의 일부를 차광한다. 또, EA1, EA2에서의 비노광 영역(MA)의 각도에 따라 제1θ 축기구가 회전한다. 그 결과, 차광 영역(SA)이 노광 위치(노광 범위 EA1, EA2, ···)와 비노광 영역(MA)에 따라 위치 결정된다.

다음으로, 오리엔테이션 플랫부의 차광 동작에 대해 설명한다. 도 8은, WEM(차광판(17))이 오리엔테이션 플랫부의 비노광 영역(MA)을 차광하는 이미지를 나타내는 도면이다. 또, 도 8에 나타나고 있는 차광판(17)은, 조명 광학계와 투영 광학계의 배율에 의해서 확대된 이미지를 나타내고 있다.

도 7에 나타내듯이, 오리엔테이션 플랫부의 우단부를 포함한 노광 범위 EA3를 노광할 때, 차광판(17)의 제2 차광부(19b)를 사용한다. 즉, 직선상 엣지(s2) 및 곡선상 엣지(c2)의 양쪽 모두를 사용하여 원호와 직선의 양쪽 모두의 부분의 차광을 동시에 행하도록 된다.

노광 범위 EA3의 비노광 영역을 차광하기 위해서, 제2θ 축기구는, 차광판(17)의 제2 차광부(19b)가 라드 렌즈(5)에 걸리도록 회전이동한다. 이 때 제 1θ 축기구의 각도 θ1, 직동 기구(23)의 거리 R, 제2θ 축기구의 각도 θ2를 연동시켜 계산하고, 차광판(17)의 제2 차광부(19b)가 오리엔테이션 플랫부 상에 적절히 위치하도록, 차광판(17)을 이동시킨다.

이와 같이, 노광 범위 EA5를 노광할 때, 차광판(17)의 제1 차광부(19a)가 오리엔테이션 플랫부 상에 적절히 위치하도록, 차광판(17)을 이동시킨다. 또한, 노광 범위 EA4를 노광할 때, 제1 차광부(19a) 또는 제2 차광부(19b)를 이용하여 차광을 행한다. 이 때문에, 제1 차광부(19a)의 직선상 엣지(s1) 및 제2 차광부(19b)의 직선상 엣지(s2)는, 노광 범위 EA4의 장변의 길이보다 긴 것으로 되어 있다.

이상, 본 기술의 일 실시의 형태에 대해 구체적으로 설명했지만, 본 발명은, 상술의 일 실시의 형태로 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상에 근거하는 각종의 변형이 가능하다. 또, 상술의 실시 형태에서 든 구성, 방법, 공정, 형상, 재료 및 수치 등은 어디까지나 예에 지나지 않고, 필요에 따라서 이와 다른 구성, 방법, 공정, 형상, 재료 및 수치 등을 이용해도 좋다.

1···광원, 4···조명 광학계, 5···라드 렌즈,
8···레티클, 10···얼라이먼트 카메라, 11···차광기구,
12···투영 광학계, 13···웨이퍼, 14···노광 스테이지,
17···차광판, 19a···제1 차광부, 19b···제2 차광부,
19c···제3 차광부, 20···차광판 회전 모터, 23···직동 기구,
24···중공 모터, 28···회전 스테이지,
c1, c2, c3···곡선상 엣지, s1, s2···직선상 엣지

Claims (6)

1. 광원의 출사광의 조도를 균일화하여 레티클에 조사하는 조명 광학계와,
   상기 조명 광학계에 설치되고, 상기 조명 광학계의 빛의 일부를 차광하는 차광판과,
   상기 차광판을 이동시키는 차광판 이동 기구를 구비하고,
   상기 차광판 이동 기구는, 상기 조명 광학계의 광축에 대해서 상기 차광판을 출입시키는 직동 기구와, 상기 조명 광학계의 광축을 중심으로 상기 차광판을 회전시키는 제1θ축기구와, 상기 직동 기구에 대해서 상기 차광판을 회전시키는 제2θ축기구를 갖고,
   상기 차광판은, 직선부와 곡선부가 연속적으로 이루어지는 연속 엣지를 갖고,
   오리엔테이션 플랫부 및 투영 범위의 상대적 위치 관계에 따라 상기 차광판 이동 기구에 의해서 상기 차광판의 위치를 제어하도록 하는 투영 노광 장치.
   
2. 제1항에 있어서,
   웨이퍼 상에서의 상기 직선부의 길이가 상기 투영 범위의 길이 방향의 길이보다 길게 이루어지는 투영 노광 장치.
   
3. 제1항에 있어서,
   상기 차광판의 중심선을 대칭으로서, 상기 연속 엣지를 2개 갖는 투영 노광 장치.
   
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 차광판이 상기 연속 엣지와는 다른 곡선상 엣지를 갖는 투영 노광 장치.
   
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