JP3166564B2 - 半導体レーザ実装体およびその製造方法 - Google Patents

半導体レーザ実装体およびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、垂直共振器型面発光レ
ーザに光ファイバテープを光学結合した半導体レーザ実
装体およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在広く用いられている光ファイバ付き
半導体レーザ実装体は端面発光型の半導体レーザを用い
ている。端面発光型の半導体レーザは、出力光の放射角
度が大きいため、高い結合効率を得るためにはレンズを
介して光ファイバと光学結合する必要がある。この際、
半導体レーザ、レンズおよび光ファイバ間の精密な位置
合せが必要となるが、通常は半導体レーザを発光状態に
して光ファイバの遠端からの出力光パワーが最大となる
ように光ファイバを固定する。この方法は半導体レーザ
を通電状態にして組み立てを行うので作業効率が悪く、
また自動化された位置合せ装置を用いても相当の作業時
間を要することから、半導体レーザ実装体の低価格化を
妨げる要因となっている。このため、V溝を有する基板
で光ファイバの位置決めをする機械精度による光軸合せ
の方法も考案されているが、半導体レーザチップとV溝
基板の精密な位置合せに課題が残っている。
【0003】一方、近年急速に特性が向上した垂直共振
器型面発光レーザを光ファイバ付き半導体レーザ実装体
に応用することが提案されている。面発光レーザは出力
光の放射角度が小さいので、レンズを使わない直接結合
でも高い結合効率が期待できる。この直接結合は例え
ば、K. Tai他 "Selfaligned fiber pigtailed surfacee
mitting lasers on Si submounts"、エレクトロニクス
・レターズ(Electronics Letters)誌、27巻(19
91年)、2030頁〜2032頁に述べられている。
この例では、レーザ光が基板表面に垂直に出力されるこ
とを利用して、自己整合的に光軸合せを行っている。図
7に示す通り、垂直共振器型の面発光レーザ701が形
成された発光チップ702がSiサブマウント703に
接着されており、サブマウント703に開口されたガイ
ド穴704に固定された光ファイバ705と光学結合す
る。ガイド穴704に対して位置決めしたサブマウント
703上のInパッドと面発光レーザ701に対して位
置決めした発光チップ702上のInパッドを接着する
と、Inの張力による自己整合作用で面発光レーザ70
1とガイド穴704が位置合せされる。光ファイバ70
5をガイド穴704に挿入し、紫外線硬化樹脂706に
よって固定すると、最終的に面発光レーザ701と光フ
ァイバ705が光軸合せされることになる。また、面発
光レーザ701は発光チップ702にボンディングされ
たn接続ワイヤ707とサブマウントにボンディングさ
れたp接続ワイヤ708によって、外部回路と電気的に
接続される。マルチモード光ファイバに対する結合で
は、この方法で100%近い結合効率が得られている。
【0004】上記の面発光レーザと光ファイバの結合方
法は、組み立て時にレーザを通電状態にする必要がな
く、しかも高い結合効率が得られるという利点を有して
いる。しかし、サブマウントの片面側に発光チップがあ
り、反対面側から光ファイバが取り出されているので、
サブマウントをパッケージに固定するのが困難である。
この点を改善した光ファイバモジュールが特開平6−2
37016号公報に示されている。図8において、電子
回路基板801はSiあるいはGaAsのICチップで
あり、パッケージ802の台座803にダイボンドされ
ている。また、電子回路基板801のパッド804とパ
ッケージ802のリード805はワイヤ806によって
接続されている。発光チップ807は主表面側に垂直共
振器型の面発光レーザ808が形成されており、電子回
路基板801の一部領域上に主表面を接するように接着
されている。面発光レーザ808のアノード809とカ
ソード810はそれぞれ個別に電子回路基板801上の
配線と電気接点を持つようになっている。発光チップ8
07の主表面裏側にはガイド穴811が開口されてお
り、ここに光ファイバ812が挿入され紫外線硬化樹脂
等の接着剤813で固定されている。本構成によれば、
発光チップ807の電子回路基板801への接着面と光
ファイバ812の取り出し方向が反対側になるので、容
易にパッケージ802上に組み立てることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】面発光レーザに光ファ
イバを結合した半導体レーザ実装体に関する上記従来の
技術では、面発光レーザに1本の光ファイバが結合され
ているだけである。一方、複数本の光ファイバを用いた
並列光インターコネクションが近年注目を集めており、
面発光レーザアレイに対して複数本の光ファイバを結合
する技術が望まれている。特開平6−237016号公
報には、発光チップに形成される面発光レーザが複数個
の場合にも当該発明は容易に実施されるとの記載がある
が、実際に複数の面発光レーザに対して複数本の光ファ
イバを結合するのは容易ではない。光ファイバをガイド
穴に挿入するという結合方法であっても、挿入に際して
は光ファイバとチップの位置合せが必要であり、順次挿
入していくという方法では先に挿入した光ファイバが障
害となって次の光ファイバの位置合せができない。
【0006】複数の光ファイバ心線が被覆材によって並
列に固定された光ファイバテープを用いた場合にも、光
ファイバテープでは光ファイバ心線が1次元アレイに配
置されており、2次元アレイに配列された面発光レーザ
との結合を考えると同様の問題が生じる。すなわち、2
次元アレイの1列に対しては1本の光ファイバテープを
結合すればよいものの、次の列には別の光ファイバテー
プを結合する必要があり、先に挿入した光ファイバテー
プが位置合せの障害となる。また、光ファイバ心線を被
覆材から露出すると、光ファイバ心線の間隔が保持され
なくなるという問題もある。現在実用に供されている光
ファイバテープは光ファイバ心線の中心間隔が250μ
mであるが、被覆材除去後に通常の露出長である10m
mで光ファイバ心線を切断するとその先端は自然にクロ
スしてしまうことが多い。
【0007】さらに、上記従来の技術では面発光レーザ
チップと光ファイバの機械的な固定が不十分である。特
開平6−237016号公報の例は言うまでもなく、K.
Taiらの例でも浅いガイド穴に挿入された光ファイバの
先端を樹脂等で固定しただけでは光ファイバとチップ面
の垂直性を保つのは困難である。光ファイバに外力が加
わった場合には光ファイバは容易に傾き、接着部分がは
ずれてしまう可能性も高い。接着部分がはずれた場合は
勿論、光ファイバが大きく傾いた場合にも面発光レーザ
と光ファイバの光学結合効率は大幅に低下することにな
る。
【0008】
【0009】
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体レーザ実
装体は、支持基板と、前記支持基板に第1主面を接して
固定された半導体基板と、前記半導体基板の第1主面上
に形成された面発光レーザと、前記半導体基板の第2主
面上に形成されたガイド穴と、前記半導体基板の前記第
2主面に先端が突き当てられた光ファイバと、前記光フ
ァイバの前記先端に近い部分と前記半導体基板と前記支
持基板とを一体封止する樹脂成形体と、前記半導体基板
に垂直に保持されたファイバ支持体とを有し、前記面発
光レーザから出射される光ビームの中心と前記ガイド穴
の中心が前記第2主面上において概ね同一位置となるよ
うに前記ガイド穴が位置合せされており、前記光ファイ
バは光ファイバ心線と前記光ファイバ心線を被覆する被
覆材よりなり、前記ガイド穴の直径は前記光ファイバ心
線の外径に概ね等しく、前記光ファイバの先端において
前記被覆材より露出した前記光ファイバ心線が前記ガイ
ド穴に挿入されており、前記光ファイバの前記被覆材が
前記ファイバ支持体に固定されているものである
【0011】また、本発明では上記課題を解決するため
に以下の方法で半導体レーザ実装体を製造する。第1の
製造方法は、半導体基板の第1主面上に2次元アレイに
配列された面発光レーザを形成する工程と、前記面発光
レーザに位置合せして前記半導体基板の第2主面上に2
次元アレイに配列されたガイド穴を形成する工程と、前
記半導体基板を前記第1主面を接して支持基板に固定す
る工程と、第1の光ファイバ心線(複数)と前記第1の
光ファイバ心線を並列に固定する第1の被覆材よりなる
第1の光ファイバテープの先端において前記第1の光フ
ァイバ心線を前記第1の被覆材より僅かに露出させる工
程と、前記第1の光ファイバ心線が前記ガイド穴の第1
列に挿入されるように位置合せして前記第1の光ファイ
バテープを前記半導体基板の前記第2主面に突き当てる
工程と、前記第1の光ファイバテープの第1の被覆材を
前記半導体基板に垂直に保持されたファイバ支持体に固
定する工程と、第2の光ファイバ心線(複数)と前記第
2の光ファイバ心線を並列に固定する第2の被覆材より
なる第2の光ファイバテープの先端において前記第2の
光ファイバ心線を前記第2の被覆材より僅かに露出させ
る工程と、前記第2の光ファイバ心線が前記ガイド穴の
第2列に挿入されるように位置合せして前記第2の光フ
ァイバテープを前記半導体基板の前記第2主面に突き当
てる工程と、前記第2の光ファイバテープの第2の被覆
材を前記第1の光ファイバテープの前記第1の被覆材に
固定する工程とを有する。
【0012】第2の製造方法は、半導体基板の第1主面
上に2次元アレイに配列された面発光レーザを形成する
工程と、前記面発光レーザに位置合せして前記半導体基
板の第2主面上に2次元アレイに配列されたガイド穴を
形成する工程と、前記半導体基板を前記第1主面を接し
て支持基板に固定する工程と、第1の光ファイバ心線
(複数)と前記第1の光ファイバ心線を並列に固定する
第1の被覆材よりなる第1の光ファイバテープの先端に
おいて前記第1の光ファイバ心線を前記第1の被覆材よ
り僅かに露出させる工程と、第2の光ファイバ心線(複
数)と前記第2の光ファイバ心線を並列に固定する第2
の被覆材よりなる第2の光ファイバテープの先端におい
て前記第2の光ファイバ心線を前記第2の被覆材より僅
かに露出させる工程と、前記第1および第2の光ファイ
バテープを積重ねて前記第1の光ファイバ心線と前記第
2の光ファイバ心線の位置合せをする工程と、前記第1
の光ファイバテープと前記第2の光ファイバテープを固
定する工程と、前記第1および第2の光ファイバ心線が
前記ガイド穴に挿入されるように位置合せして前記第1
および第2の光ファイバテープを前記半導体基板の前記
第2主面に突き当てる工程とを有する。
【0013】
【0014】
【0015】
【作用】 本発明の半導体レーザ実装体では、面発光レー
ザが形成された半導体基板とこれを搭載する支持基板お
よび光ファイバの先端に近い部分を一体樹脂封止する。
光ファイバの先端では光ファイバ心線がガイド穴に挿入
されているので、樹脂を圧入する際にも光ファイバが位
置ずれすることはない
【0016】以上の構成では、面発光レーザおよびガイ
ド穴を2次元アレイとし、複数の光ファイバテープを積
重ねて半導体基板の第2主面に突き当てる構造とするこ
ともできる。この場合、2次元アレイの1列目に対して
1本目の光ファイバテープを結合した後、2列目に2本
目の光ファイバテープを結合しようとすると、1本目の
光ファイバテープが位置合せの障害となる。この問題を
回避するための製造方法が本発明の第1および第2の製
造方法である。本発明の第1の製造方法では、上記第2
の構成で述べたファイバ支持体を利用する。第1の光フ
ァイバテープの先端において第1の光ファイバ心線(複
数)を第1の被覆材より僅かに露出させてガイド穴の第
1列に挿入した後、第1の被覆材をファイバ支持体に固
定する。挿入に際しては、光学ステージに取付けた保持
治具によって第1の被覆材をクリップし、そこから第1
の光ファイバテープを直線状に保持してガイド穴との位
置合せを行う。このクリップ位置はファイバ支持体より
も遠方である。第1の被覆材をファイバ支持体に固定後
はこのクリップをはずして、第1の光ファイバテープを
湾曲させる。次に、第2の光ファイバテープの先端にお
いて第2の光ファイバ心線(複数)を第2の被覆材より
僅かに露出させてガイド穴の第2列に挿入するように位
置合せするが、この時も先程の光学ステージに取付けた
保持治具で第2の被覆材をクリップする。第1の光ファ
イバテープは湾曲させてあるので、第2の光ファイバテ
ープの位置合せの障害にはならない。最後に第2の被覆
材を第1の被覆材に固定することで第1および第2の光
ファイバテープの固定が完了する。
【0017】本発明の第2の製造方法では、ガイド穴に
挿入する前に第1の光ファイバテープと第2の光ファイ
バテープを相互に固定する。すなわち、第1の光ファイ
バテープの先端において第1の光ファイバ心線(複数)
を第1の被覆材より僅かに露出させ、第2の光ファイバ
テープの先端において第2の光ファイバ心線(複数)を
第2の被覆材より僅かに露出させ、前記第1および第2
の光ファイバテープを積重ねて前記第1の光ファイバ心
線と前記第2の光ファイバ心線の位置合せをする。光フ
ァイバテープの被覆材の外周と光ファイバ心線の中心は
ある程度の精度で位置合せされているので、実際には第
1および第2の被覆材を重ねて上下方向および左右方向
から押えることで光ファイバ心線の位置合せをすること
も可能である。この後、第1の光ファイバテープと第2
の光ファイバテープを固定し、第1および第2の光ファ
イバ心線を一括してガイド穴に挿入する。
【0018】
【実施例】図1は本発明の一実施例の半導体レーザ実装
体の要部断面斜視図である。半導体基板101の第1主
面上には複数の面発光レーザ102が形成されており、
第2主面上には複数のガイド穴103が形成されてい
る。図1には1個の面発光レーザ102しか明示されて
いないが、実際にはガイド穴103に対応する各位置に
面発光レーザ102が2次元アレイ状に形成されてい
る。半導体基板101は配線パターン104を有する支
持基板105に第1主面を接して固定され、面発光レー
ザ102が前記配線パターン104と電気的に接続され
ている。図1には示されていないが、半導体基板101
は紫外線硬化型あるいは熱硬化型の樹脂によって支持基
板に接着固定する。
【0019】一方、半導体基板101の第2主面には光
ファイバテープ106の先端が突き当てられている。光
ファイバテープ106はコア107およびクラッド10
8よりなる複数の光ファイバ心線109が被覆材110
によって並列に固定されたものである。複数の面発光レ
ーザ102の配列間隔は複数の光ファイバ心線109の
中心間隔に等しく、面発光レーザ102から出射される
光ビーム111の中心とガイド穴103の中心は半導体
基板101の第2主面上において概ね同一位置となるよ
うに位置合せされており、ガイド穴103の直径は光フ
ァイバ心線109の外径に概ね等しい。光ファイバテー
プ106の先端において光ファイバ心線109は被覆材
110より僅かに露出しており、ガイド穴103に挿入
されている。
【0020】以上の構成で、面発光レーザ102から出
射される光ビーム111は光ファイバ心線109に光学
結合されるが、光ファイバ心線109がマルチモードフ
ァイバの場合には、光ビーム111の中心とガイド穴1
03の中心の間の距離が半導体基板101の第2主面上
において10μm以下となるようにガイド穴103が位
置合せされており、ガイド穴103の直径が光ファイバ
心線109の外径よりも1ないし10μm大きい構成で
あれば、60%以上の高い光学結合効率が実現できる。
また、半導体基板101に突き当てられた光ファイバテ
ープ106の先端において光ファイバ心線109が被覆
材110より露出している長さ(露出長)112は1m
m以下であることが望ましい。これは、光ファイバ心線
109が被覆材110から露出する長さが長くなると光
ファイバ心線109の間隔が保持されなくなるためであ
る。
【0021】図2は本発明の第2の実施例の半導体レー
ザ実装体の断面図である。半導体基板201の第1主面
上には面発光レーザ202が形成されており、第2主面
上にはガイド穴203が形成されている。図2には面発
光レーザ202とガイド穴203が1個ずつしか示され
ていないが、両者は紙面奥行き方向に1次元アレイ状に
配列されている。半導体基板201は支持基板204に
第1主面を接して固定され、支持基板204はパッケー
ジ205にダイボンドされている。半導体基板201は
紫外線硬化型あるいは熱硬化型の樹脂206によって支
持基板204に接着固定されている。面発光レーザ20
2は支持基板204上の配線パターンと電気的に接続さ
れており、最終的には支持基板のボンディングパッド2
07からワイヤ208を介してパッケージ205のリー
ド209に接続される。
【0022】一方、半導体基板201の第2主面には光
ファイバテープ210の先端が突き当てられている。光
ファイバテープ210は紙面奥行き方向に並んだ複数の
光ファイバ心線211が被覆材212によって固定され
たものである。面発光レーザ202の配列間隔は光ファ
イバ心線211の中心間隔に等しく、面発光レーザ20
2から出射される光ビーム213の中心とガイド穴20
3の中心は半導体基板201の第2主面上において概ね
同一位置となるように位置合せされており、ガイド穴2
03の直径は光ファイバ心線211の外径に概ね等し
い。光ファイバテープ210の先端において光ファイバ
心線211は被覆材212より僅かに露出しており、ガ
イド穴203に挿入されている。
【0023】本実施例は、基本的には第1の実施例にお
ける支持基板204がパッケージ205に収められた構
成となっている。本実施例の特徴は半導体基板201に
対して垂直に保持されたファイバ支持体214がパッケ
ージ205に固定されており、光ファイバテープ210
の被覆材212がこのファイバ支持体214に固定され
ていることにある。このファイバ支持体214は、ガイ
ド穴203を用いた光ファイバテープ210の結合にお
いて、半導体基板201と光ファイバテープ210の機
械的な固定強度を高めるためのものである。ガイド穴2
03に挿入された光ファイバテープ210の先端を樹脂
等で固定しただけでは光ファイバテープ210と半導体
基板201の垂直性を保つのは困難であり、光ファイバ
テープ210に外力が加わった場合には光ファイバテー
プ210が傾き、面発光レーザ202と光ファイバテー
プ210の光学結合効率が低下する。光ファイバテープ
210の被覆材212をファイバ支持体214に固定す
ることで、光ファイバテープ210の先端に外力が加わ
るのを防ぐことができる。光ファイバテープ210の先
端はガイド穴203によって位置合せされているのに対
し、ファイバ支持体214は面発光レーザ202に対し
て厳密には位置合せされないので、ファイバ支持体21
4の位置ずれがあると光ファイバテープ210と半導体
基板201の垂直性が失われることになる。しかし、被
覆材212をファイバ支持体214に固定する位置を光
ファイバテープ210の先端から遠ざければこの傾きは
小さくすることができ、光学結合効率はあまり劣化しな
い。
【0024】図3は本発明の第3の実施例の半導体レー
ザ実装体の断面図である。半導体基板301の第1主面
上には面発光レーザ302が形成されており、第2主面
上にはガイド穴303が形成されている。半導体基板3
01は支持基板304に第1主面を接して固定され、支
持基板304はリードフレーム305にダイボンドされ
ている。半導体基板301は紫外線硬化型あるいは熱硬
化型の樹脂306によって支持基板304に接着固定さ
れている。面発光レーザ302は支持基板304上の配
線パターンと電気的に接続されており、最終的には支持
基板のボンディングパッド307からワイヤ308を介
してリードフレーム305に接続される。一方、半導体
基板301の第2主面には光ファイバ309の先端が突
き当てられている。光ファイバ309は光ファイバ心線
310が被覆材311によって被覆されたものである。
面発光レーザ302から出射される光ビーム312の中
心とガイド穴303の中心は半導体基板301の第2主
面上において概ね同一位置となるように位置合せされて
おり、ガイド穴303の直径は光ファイバ心線310の
外径に概ね等しい。光ファイバ309の先端において光
ファイバ心線310は被覆材311より僅かに露出して
おり、ガイド穴303に挿入されている。また、光ファ
イバ309の先端に近い部分と半導体基板301、支持
基板304およびリードフレーム305は樹脂成形体3
13によって一体封止されている。
【0025】本実施例の特徴は光ファイバ309の先端
に近い部分を含めて全体が樹脂封止されている点にあ
る。これによって、ガイド穴303を用いた光ファイバ
309の結合において半導体基板301と光ファイバ3
09の機械的な固定強度を高めることができる。この効
果は第2の実施例の場合と同様であるが、第2の実施例
で用いているパッケージに比べて、樹脂封止をした方が
一般に低コストになるという利点がある。光ファイバ3
09の先端では光ファイバ心線310がガイド穴303
に挿入されているので、樹脂を圧入する際にも光ファイ
バ309が位置ずれすることはない。ただし、樹脂圧入
の条件によっては光ファイバ309がたわみ、先端がガ
イド穴303からはずれてしまうこともある。これを避
けるためには、本発明の第2の構成を併用するのが有効
である。すなわち、光ファイバ309の被覆材311を
リードフレームと一体化されたファイバ支持体に固定し
た後、ファイバ支持体を含めて樹脂封止する。
【0026】図4は本発明の第4の実施例の半導体レー
ザ実装体の製造方法のうち、前半の工程を示す断面図で
ある。図4(A)では、GaAs等の半導体基板401
の第1主面上に例えばp型AlAsとp型GaAsのよ
うな2種類の半導体材料を交互に多数積層した第1の反
射器402、例えばInGaAs量子井戸層とGaAs
障壁層よりなる活性層403、および例えばn型AlA
sとn型GaAsのような2種類の半導体材料を交互に
多数積層した第2の反射器404をエピタキシアル成長
する。次に、電極金属405を蒸着し、これをマスクと
して第2の反射器404および活性層403をメサエッ
チングする。図4(B)に示すように、ここで形成され
たメサは面発光レーザ406およびダイボンド時の電気
接点であるバンプ407となる。面発光レーザ406と
バンプ407は第1の絶縁膜408上に蒸着された配線
金属409によって接続される。以上の工程で半導体基
板401の第1主面上に2次元アレイに配列された面発
光レーザ406が形成される。
【0027】図4(C)では、面発光レーザ406に位
置合せして半導体基板401の第2主面上に2次元アレ
イに配列されたガイド穴410を形成する。この位置合
せは、ウエハの表面側に置かれたフォトマスクとウエハ
裏面を同時に観察してアライメントを行った後、ウエハ
表面にマスクパターンを焼付ける両面マスク合せ装置を
用いれば、容易に行うことができる。フォトレジストに
焼付けられたガイド穴410のパターンによって、第2
の絶縁膜411をエッチングし、これをマスクとして半
導体基板401をエッチングすることでガイド穴410
が形成される。この後、図4(D)に示されるように半
導体基板401は第1主面を接するように支持基板41
2に固定される。この固定は、例えば紫外線硬化型の樹
脂413によって行われる。
【0028】図5は本発明の第4の実施例の半導体レー
ザ実装体の製造方法のうち、後半の工程を示す断面図で
ある。図5(A)において、半導体基板501の第1主
面上に面発光レーザ502が形成され、第2主面上にガ
イド穴503が形成され、この半導体基板501が第一
主面を接して支持基板504に固定されている部分は、
図4(D)までの前半工程で作製された部分である。支
持基板504はパッケージ505にボンディングされ、
ファイバ支持体506がパッケージ505に取付けられ
る。この後、紙面奥行き方向に並列に並んだ第1の光フ
ァイバ心線507とこれを被覆する第1の被覆材508
よりなる第1の光ファイバテープ509の先端において
第1の光ファイバ心線507を第1の被覆材508より
僅かに露出させ、第1の光ファイバ心線507をガイド
穴503の第1列に挿入する。この際、光学ステージに
取付けられた保持治具510で第1の被覆材508をク
リップし、そこから第1の光ファイバテープ509を直
線状に保持してガイド穴503との位置合せを行う。第
1の光ファイバ心線507がガイド穴503の第1列に
挿入された状態で、第1の被覆材508をファイバ支持
体506に固定する。ファイバ支持体506に固定後は
保持治具510によるクリップをはずし、図5(B)に
示すように第1の光ファイバテープ509を湾曲させ
る。
【0029】図5(B)では、紙面奥行き方向に並列に
並んだ第2の光ファイバ心線511とこれを被覆する第
2の被覆材512よりなる第2の光ファイバテープ51
3の先端において第2の光ファイバ心線511を第2の
被覆材512より僅かに露出させ、第2の光ファイバ心
線511をガイド穴503の第2列に挿入する。この際
も先程の光学ステージに取付けた保持治具510で第2
の被覆材512をクリップするが、第1の光ファイバテ
ープ509は湾曲させてあるので、第2の光ファイバテ
ープ513の位置合せの障害にはならない。最後に第2
の被覆材512を第1の被覆材508に固定することで
第1および第2の光ファイバテープの固定が完了する。
【0030】図6は本発明の第5の実施例の半導体レー
ザ実装体の製造方法のうち、後半の工程を示す断面図で
ある。本実施例の前半の工程は第4の実施例と同じであ
る。図6(A)では、第1の光ファイバ心線601とこ
れを並列に固定する第1の被覆材602よりなる第1の
光ファイバテープ603の先端において第1の光ファイ
バ心線601を第1の被覆材602より僅かに露出させ
る。また、第2の光ファイバ心線604とこれを並列に
固定する第2の被覆材605よりなる第2の光ファイバ
テープ606の先端において第2の光ファイバ心線60
4を第2の被覆材605より僅かに露出させる。次に、
第1の光ファイバ心線601と第2の光ファイバ心線6
04の位置を合せて、第1の光ファイバテープ603お
よび第2の光ファイバテープ606を積重ねる。この位
置合せは、例えばガイドピン607を有するファイバ台
608上に光ファイバテープを置くことで実現できる。
この上からファイバ押え609を載せて、ガイドピン6
07とファイバ押え609を接着剤610で固定するこ
とで、第1の光ファイバテープ603および第2の光フ
ァイバテープ606を固定する。
【0031】図6(B)において、半導体基板611の
第1主面上に面発光レーザ612が形成され、第2主面
上にガイド穴613が形成され、この半導体基板611
が第1主面を接して支持基板614に固定されている部
分は、図4(D)までの前半工程で作製された部分であ
る。支持基板614はリードフレーム615にボンディ
ングされ、図6(A)に示した第1および第2の光ファ
イバテープ603、606の先端近くを相互に固定した
ものが半導体基板611の第2主面に突き当てられる。
第1および第2の光ファイバ心線601、604は相互
に位置合せされているので、一括してガイド穴613に
挿入することができる。最後に、第1および第2の光フ
ァイバテープ603、606の先端に近い部分、半導体
基板611、支持基板614、およびリードフレーム6
15を樹脂成形体616によって一体封止する。
【0032】なお、以上の実施例の説明では典型的な構
成および製造方法を例示したが、これらの実施例を適宜
組み合せて実施してもよいことは言うまでもない。
【0033】
【発明の効果】本発明の半導体レーザ実装体によれば、
半導体基板に形成された複数個の面発光レーザに対して
複数本の光ファイバを機械的な位置合せによって光学結
合することができる。本願発明の構成では、面発光レー
ザに位置合せして半導体基板の第2主面上に形成された
ガイド穴に対して位置合せを行うので、半導体レーザを
発光状態にして光ファイバの遠端からの出力光パワーが
最大となるように光ファイバを固定するという位置合せ
方法のみならず、V溝基板を用いた機械的位置合せと比
較しても部品点数と工数の削減および組立て作業時間の
短縮が可能となり、半導体レーザ実装体の低価格化が可
能になる。
【0034】また、光ファイバをガイド穴に挿入する際
に先に挿入した光ファイバが障害となって次の光ファイ
バの位置合せができない、あるいは光ファイバテープに
おいて光ファイバ心線を被覆材から長く露出すると光フ
ァイバ心線の間隔が保持されなくなるという問題も解決
されている。
【0035】さらに、半導体基板と光ファイバの機械的
な固定も十分確保されており、光ファイバに外力が加わ
った場合に光ファイバが傾くあるいは接着部分がはずれ
てしまうという問題もない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の半導体レーザ実装体の要部
断面斜視図
【図2】本発明の第2の実施例の半導体レーザ実装体の
断面図
【図3】本発明の第3の実施例の半導体レーザ実装体の
断面図
【図4】本発明の第4の実施例の半導体レーザ実装体の
製造方法の前半工程を示す断面図
【図5】本発明の第4の実施例の半導体レーザ実装体の
製造方法の後半工程を示す断面図
【図6】本発明の第5の実施例の半導体レーザ実装体の
製造方法の後半工程を示す斜視図および断面図
【図7】従来の半導体レーザ実装体の断面図
【図8】従来の半導体レーザ実装体の断面図
【符号の説明】
101 半導体基板 102 面発光レーザ 103 ガイド穴 105 支持基板 106 光ファイバテープ 109 光ファイバ心線 110 被覆材 201 半導体基板 202 面発光レーザ 203 ガイド穴 204 支持基板 210 光ファイバテープ 211 光ファイバ心線 212 被覆材 214 ファイバ支持体 301 半導体基板 302 面発光レーザ 303 ガイド穴 304 支持基板 309 光ファイバ 310 光ファイバ心線 311 被覆材 312 樹脂成形体 401 半導体基板 406 面発光レーザ 410 ガイド穴 412 支持基板 501 半導体基板 502 面発光レーザ 503 ガイド穴 504 支持基板 506 ファイバ支持体 509 第1の光ファイバテープ 510 保持治具 513 第2の光ファイバテープ 603 第1の光ファイバテープ 606 第2の光ファイバテープ 611 半導体基板 612 面発光レーザ 613 ガイド穴 614 支持基板 616 樹脂成形体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/26 - 6/43 H01S 5/02 - 5/022 G02B 6/04 - 6/08

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】支持基板と、前記支持基板に第1主面を接
    して固定された半導体基板と、前記半導体基板の第1主
    面上に形成された面発光レーザと、前記半導体基板の第
    2主面上に形成されたガイド穴と、前記半導体基板の前
    記第2主面に先端が突き当てられた光ファイバと、前記
    光ファイバの前記先端に近い部分と前記半導体基板と前
    記支持基板とを一体封止する樹脂成形体と、前記半導体
    基板に垂直に保持されたファイバ支持体とを有し、前記
    面発光レーザから出射される光ビームの中心と前記ガイ
    ド穴の中心が前記第2主面上において概ね同一位置とな
    るように前記ガイド穴が位置合せされており、前記光フ
    ァイバは光ファイバ心線と前記光ファイバ心線を被覆す
    る被覆材よりなり、前記ガイド穴の直径は前記光ファイ
    バ心線の外径に概ね等しく、前記光ファイバの先端にお
    いて前記被覆材より露出した前記光ファイバ心線が前記
    ガイド穴に挿入されており、前記光ファイバの前記被覆
    材が前記ファイバ支持体に固定されていることを特徴と
    する半導体レーザ実装体。
  2. 【請求項2】半導体基板の第1主面上に2次元アレイに
    配列された面発光レーザを形成する工程と、前記面発光
    レーザに位置合せして前記半導体基板の第2主面上に2
    次元アレイに配列されたガイド穴を形成する工程と、前
    記半導体基板を前記第1主面を接して支持基板に固定す
    る工程と、第1の光ファイバ心線(複数)と前記第1の
    光ファイバ心線を並列に固定する第1の被覆材よりなる
    第1の光ファイバテープの先端において前記第1の光フ
    ァイバ心線を前記第1の被覆材より僅かに露出させる工
    程と、前記第1の光ファイバ心線が前記ガイド穴の第1
    列に挿入されるように位置合せして前記第1の光ファイ
    バテープを前記半導体基板の前記第2主面に突き当てる
    工程と、前記第1の光ファイバテープの第1の被覆材を
    前記半導体基板に垂直に保持されたファイバ支持体に固
    定する工程と、第2の光ファイバ心線(複数)と前記第
    2の光ファイバ心線を並列に固定する第2の被覆材より
    なる第2の光ファイバテープの先端において前記第2の
    光ファイバ心線を前記第2の被覆材より僅かに露出させ
    る工程と、前記第2の光ファイバ心線が前記ガイド穴の
    第2列に挿入されるように位置合せして前記第2の光フ
    ァイバテープを前記半導体基板の前記第2主面に突き当
    てる工程と、前記第2の光ファイバテープの第2の被覆
    材を前記第1の光ファイバテープの前記第1の被覆材に
    固定する工程とを有することを特徴とする半導体レーザ
    実装体の製造方法。
  3. 【請求項3】半導体基板の第1主面上に形成された面発
    光レーザに対する前記半導体基板の第2主面上に形成さ
    れるガイド穴の位置合せを両面マスク合せ装置によって
    行うことを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ実装
    体の製造方法。
  4. 【請求項4】半導体基板を樹脂によって支持基板に固定
    することを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ実装
    体の製造方法。
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