JP3165300B2 - 化粧料 - Google Patents
化粧料Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は化粧料に関し、更に詳し
くは、油ゲル化能に優れるリン酸ジエステル多価金属塩
を含有する化粧料に関する。
くは、油ゲル化能に優れるリン酸ジエステル多価金属塩
を含有する化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
使用されてきている油性化粧料は、液状かあるいは固形
（ワックス）状のものであることから、液ダレする、容
器から取り出しにくい等、その使用性に難があった。こ
のことは、油性化粧料に適度な粘性を付与し得るゲル化
剤が未だに見出されていないことに起因する。このた
め、これまで油ゲル化剤として知られている物質を化粧
料に応用する試みが多方面でなされてきている。
使用されてきている油性化粧料は、液状かあるいは固形
（ワックス）状のものであることから、液ダレする、容
器から取り出しにくい等、その使用性に難があった。こ
のことは、油性化粧料に適度な粘性を付与し得るゲル化
剤が未だに見出されていないことに起因する。このた
め、これまで油ゲル化剤として知られている物質を化粧
料に応用する試みが多方面でなされてきている。
【０００３】しかし、これらのゲル化剤のうち、金属石
鹸、デキストリン脂肪酸エステル、ジアルキルリン酸エ
ステル金属塩等は、加温して油に溶解した後、相転位温
度（以下、「Ｔｃ」という）以下に冷却すると脆く固い
ゲルとなって、応力を与えたとき復元することがなく、
これを元の状態に戻すには再びＴｃ以上に加熱する必要
があるという問題があった。この問題を解決するに足る
チキソトロピー性を得るためには、上記化合物のうち短
鎖長分岐アルキル基を有し、かつＴｃが室温以下のもの
を使用すればよいが、これらにより得られるゲルは粘性
が高く、かつ曳糸性があることから、これらを含有する
化粧料はいずれもべたつきがはなはだしく、使用性に難
がある。また、有機変性ベントナイトは、油性化粧料に
十分なチキソトロピー性を付与し得るものではあるもの
の、このものを使用した場合には、添加物質が溶け出
す、柔軟性のあるゲルが形成されないといった問題があ
る。
鹸、デキストリン脂肪酸エステル、ジアルキルリン酸エ
ステル金属塩等は、加温して油に溶解した後、相転位温
度（以下、「Ｔｃ」という）以下に冷却すると脆く固い
ゲルとなって、応力を与えたとき復元することがなく、
これを元の状態に戻すには再びＴｃ以上に加熱する必要
があるという問題があった。この問題を解決するに足る
チキソトロピー性を得るためには、上記化合物のうち短
鎖長分岐アルキル基を有し、かつＴｃが室温以下のもの
を使用すればよいが、これらにより得られるゲルは粘性
が高く、かつ曳糸性があることから、これらを含有する
化粧料はいずれもべたつきがはなはだしく、使用性に難
がある。また、有機変性ベントナイトは、油性化粧料に
十分なチキソトロピー性を付与し得るものではあるもの
の、このものを使用した場合には、添加物質が溶け出
す、柔軟性のあるゲルが形成されないといった問題があ
る。
【０００４】そこで、十分なチキソトロピー性を有し、
取扱いが容易で、しかも安定性、使用感に優れる化粧料
の開発が望まれていた。
取扱いが容易で、しかも安定性、使用感に優れる化粧料
の開発が望まれていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる実
情に鑑み鋭意検討した結果、後述するリン酸ジエステル
多価金属塩を含有する化粧料が十分なチキソトロピー性
を有しながら曳糸性がなく、透明で、しかも安定性、使
用感に優れるものであることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
情に鑑み鋭意検討した結果、後述するリン酸ジエステル
多価金属塩を含有する化粧料が十分なチキソトロピー性
を有しながら曳糸性がなく、透明で、しかも安定性、使
用感に優れるものであることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、下記一般式（１）
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒ1 は炭素数１〜２０の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基を示し、Ｒ2 及びＲ4 は、同一又は
異なって、炭素数２〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン
基を示し、Ｒ3 は炭素数３〜２０の直鎖又は炭素数５〜
２０の分岐鎖のアルキレン基を示し、Ａは−ＣＯＯ−又
は−Ｏ−を示し、ｘ及びｙは同一又は異なって、０〜１
０の整数を示し、Ｌは炭素数１〜４０の直鎖若しくは分
岐鎖のアルキル基又はR1-(OR2)x-A-R3-(OR4)y-（式中、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ａ、ｘ及びｙは前記と同義で
ある）を示し、Ｍは２価以上の多価金属を示し、ｍは多
価金属の原子価と同じ数を示す）で表わされるリン酸ジ
エステル多価金属塩を含有することを特徴とする化粧料
を提供するものである。
分岐鎖のアルキル基を示し、Ｒ2 及びＲ4 は、同一又は
異なって、炭素数２〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン
基を示し、Ｒ3 は炭素数３〜２０の直鎖又は炭素数５〜
２０の分岐鎖のアルキレン基を示し、Ａは−ＣＯＯ−又
は−Ｏ−を示し、ｘ及びｙは同一又は異なって、０〜１
０の整数を示し、Ｌは炭素数１〜４０の直鎖若しくは分
岐鎖のアルキル基又はR1-(OR2)x-A-R3-(OR4)y-（式中、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ａ、ｘ及びｙは前記と同義で
ある）を示し、Ｍは２価以上の多価金属を示し、ｍは多
価金属の原子価と同じ数を示す）で表わされるリン酸ジ
エステル多価金属塩を含有することを特徴とする化粧料
を提供するものである。
【０００９】本発明のリン酸ジエステル多価金属塩は、
前記一般式（１）で表わされるものであり、式中、Ｒ1
で示される炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル
基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシル、エイコサデシル、ネオペンチル、２−
エチルヘキシル、３，３−ジメチルブチル、３，７−ジ
メチルオクチル、３，７−ジメチルオクタン−３−イ
ル、２−ヘキシルデシル、２−ヘキシルウンデシル、２
−ヘキシルドデシル、３，７，１１−トリメチルドデシ
ル、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル、
３，５，５−トリメチルヘキシル、２，３，４−トリメ
チルペンタン−３−イル、２，３，４，６，６−ペンタ
メチルヘプタン−３−イル、イソステアリル等の基が挙
げられる。
前記一般式（１）で表わされるものであり、式中、Ｒ1
で示される炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル
基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシル、エイコサデシル、ネオペンチル、２−
エチルヘキシル、３，３−ジメチルブチル、３，７−ジ
メチルオクチル、３，７−ジメチルオクタン−３−イ
ル、２−ヘキシルデシル、２−ヘキシルウンデシル、２
−ヘキシルドデシル、３，７，１１−トリメチルドデシ
ル、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル、
３，５，５−トリメチルヘキシル、２，３，４−トリメ
チルペンタン−３−イル、２，３，４，６，６−ペンタ
メチルヘプタン−３−イル、イソステアリル等の基が挙
げられる。
【００１０】Ｒ2 及びＲ4 で示される炭素数２〜３の直
鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、例えばエチレン
基、メチルエチレン基等が挙げられる。また、Ｒ3 で示
される炭素数３〜２０の直鎖又は炭素数５〜２０の分岐
鎖のアルキレン基としては、例えばトリメチレン、テト
ラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタ
メチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレ
ン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、トリデカメチ
レン、テトラデカメチレン、ペンタデカメチレン、ヘキ
サデカメチレン、ヘプタデカメチレン、オクタデカメチ
レン、ノナデカメチレン、エイコサデカメチレン、３−
メチルペンタン−１，５−ジイル、２−エチルヘキサン
−１，６−ジイル、３，７−ジメチルオクタン−１，８
−ジイル、３，７−ジメチルオクタン−３，８−ジイル
等の基が挙げられる。
鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、例えばエチレン
基、メチルエチレン基等が挙げられる。また、Ｒ3 で示
される炭素数３〜２０の直鎖又は炭素数５〜２０の分岐
鎖のアルキレン基としては、例えばトリメチレン、テト
ラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタ
メチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレ
ン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、トリデカメチ
レン、テトラデカメチレン、ペンタデカメチレン、ヘキ
サデカメチレン、ヘプタデカメチレン、オクタデカメチ
レン、ノナデカメチレン、エイコサデカメチレン、３−
メチルペンタン−１，５−ジイル、２−エチルヘキサン
−１，６−ジイル、３，７−ジメチルオクタン−１，８
−ジイル、３，７−ジメチルオクタン−３，８−ジイル
等の基が挙げられる。
【００１１】Ｌのうち、炭素数１〜４０の直鎖又は分岐
鎖のアルキル基としては、前記炭素数１〜２０のアルキ
ル基のほか、２−ヘキシルヘキサデシル基、２−ヘキシ
ルオクタデシル基、２−ヘキシルエイコシル基等が挙げ
られる。また、Ｍで示される２価以上の多価金属イオン
としては、例えばＣａ2+、Ａｌ 3+、Ｆｅ3+、Ｆｅ2+、Ｂ
ａ2+、Ｔｉ4+、Ｚｎ2+、Ｚｒ4+等が挙げられ、特にＣａ
2+、Ａｌ3+が好ましい。
鎖のアルキル基としては、前記炭素数１〜２０のアルキ
ル基のほか、２−ヘキシルヘキサデシル基、２−ヘキシ
ルオクタデシル基、２−ヘキシルエイコシル基等が挙げ
られる。また、Ｍで示される２価以上の多価金属イオン
としては、例えばＣａ2+、Ａｌ 3+、Ｆｅ3+、Ｆｅ2+、Ｂ
ａ2+、Ｔｉ4+、Ｚｎ2+、Ｚｒ4+等が挙げられ、特にＣａ
2+、Ａｌ3+が好ましい。
【００１２】リン酸ジエステル多価金属塩（１）の好ま
しい具体例としては、次の化合物（１−１）〜（１−２
８）が挙げられる。
しい具体例としては、次の化合物（１−１）〜（１−２
８）が挙げられる。
【００１３】
【化３】
【００１４】
【化４】
【００１５】
【化５】
【００１６】
【化６】
【００１７】リン酸ジエステル多価金属塩（１）は、本
発明化粧料中に０．０１〜２０重量％（以下、単に
「％」という）、特に０．３〜６％配合するのが好まし
い。０．０１％未満では本発明の化粧料を安定化させる
ことはできず、また、２０％を超えると系全体の粘度が
著しく高くなり、使用時ののびが悪く、油性感、べたつ
き感を与えるので化粧料として好ましくない。
発明化粧料中に０．０１〜２０重量％（以下、単に
「％」という）、特に０．３〜６％配合するのが好まし
い。０．０１％未満では本発明の化粧料を安定化させる
ことはできず、また、２０％を超えると系全体の粘度が
著しく高くなり、使用時ののびが悪く、油性感、べたつ
き感を与えるので化粧料として好ましくない。
【００１８】本発明の化粧料には、上記必須成分の他、
目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲におい
て、ポリエーテル変性シリコーン、一般化粧料用油剤、
保湿剤、細胞間脂質（セラミド等）、紫外線吸収剤、キ
レート類、pH調整剤、防腐剤、増粘剤、色素、香料、薬
効成分、乳化剤、洗浄剤等を適宜配合することができ
る。
目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲におい
て、ポリエーテル変性シリコーン、一般化粧料用油剤、
保湿剤、細胞間脂質（セラミド等）、紫外線吸収剤、キ
レート類、pH調整剤、防腐剤、増粘剤、色素、香料、薬
効成分、乳化剤、洗浄剤等を適宜配合することができ
る。
【００１９】本発明化粧料は、前記成分を常法に従って
混合、攪拌することにより製造され、外観上均一なゲル
状とすることができる。また、これに乳化剤及び水相を
形成する成分を添加することにより安定なＷ／Ｏ型及び
Ｏ／Ｗ型乳化化粧料とすることができる。更に、このゲ
ル又は乳化物に粉体を、好ましくは１０〜４０％、より
好ましくは１５〜３０％、配合することにより乳液状又
はクリーム状ファンデーションとすることができる。粉
体としては、一般に化粧料に用いられる粉体、例えばタ
ルク、マイカ、カオリン、セリサイト等の体質顔料；酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、群青等の無機顔料；チタ
ンマイカ系パール顔料；青色４０４号、赤色２０２号、
黄色４０１号等の有機顔料を挙げることができる。本発
明においては、上記粉体の一種又は二種以上を任意に選
択し使用できる。
混合、攪拌することにより製造され、外観上均一なゲル
状とすることができる。また、これに乳化剤及び水相を
形成する成分を添加することにより安定なＷ／Ｏ型及び
Ｏ／Ｗ型乳化化粧料とすることができる。更に、このゲ
ル又は乳化物に粉体を、好ましくは１０〜４０％、より
好ましくは１５〜３０％、配合することにより乳液状又
はクリーム状ファンデーションとすることができる。粉
体としては、一般に化粧料に用いられる粉体、例えばタ
ルク、マイカ、カオリン、セリサイト等の体質顔料；酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、群青等の無機顔料；チタ
ンマイカ系パール顔料；青色４０４号、赤色２０２号、
黄色４０１号等の有機顔料を挙げることができる。本発
明においては、上記粉体の一種又は二種以上を任意に選
択し使用できる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の化粧料は、ゲル状を呈するもの
でありながら良好なチキソトロピー性を有し、取扱いが
容易で、しかも安定性、使用感に優れるものである。
でありながら良好なチキソトロピー性を有し、取扱いが
容易で、しかも安定性、使用感に優れるものである。
【００２１】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２２】製造例１〔リン酸ジエステルカルシウム塩
（１−１）の製造〕 （１）１，６−ヘキサンジオール３５０ｇ（３．００mo
l ）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．６２mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、希
塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去
した後、減圧蒸留により精製し、１２５ｇのモノエーテ
ル体を無色オイルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は
９７％であった。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝
１．５に水酸基、δ＝１．２−１．５，３．３，３．３
５，３．６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−
０．９５にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエ
ーテル体の生成を確認した。
（１−１）の製造〕 （１）１，６−ヘキサンジオール３５０ｇ（３．００mo
l ）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．６２mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、希
塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去
した後、減圧蒸留により精製し、１２５ｇのモノエーテ
ル体を無色オイルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は
９７％であった。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝
１．５に水酸基、δ＝１．２−１．５，３．３，３．３
５，３．６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−
０．９５にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエ
ーテル体の生成を確認した。
【００２３】（２）（１）で得られたモノエーテル体１
１５ｇ（０．５０mol ）を３００ml四つ口フラスコに入
れ、攪拌しながら、五酸化リン２４．０ｇ（０．１６７
mol ）を反応温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次
に反応温度を７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌
を続けた後、水１０mlを加え、更に４時間攪拌した。こ
れを１ｌオートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１
５．３ｇを１５％水溶液として加え、攪拌しながら１４
５℃まで昇温し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット
付きの１ｌ三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３
５０mlを加え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌
した。その後、室温で静置し、分層した有機層を水洗し
た。溶媒を留去し得られた残渣を減圧蒸留により精製
し、５０ｇの黄色オイルとして下記式で表わされるリン
酸ジエステル（２−１）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度
は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣ
ｌ3、ＴＭＳ標準）より、δ＝１．２−１．５，３．
３，３．３５，４．０５にメチン及びメチレン基、δ＝
０．８５−０．９５にメチル基のプロトンシグナルを認
め、リン酸ジエステルの生成を確認した。
１５ｇ（０．５０mol ）を３００ml四つ口フラスコに入
れ、攪拌しながら、五酸化リン２４．０ｇ（０．１６７
mol ）を反応温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次
に反応温度を７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌
を続けた後、水１０mlを加え、更に４時間攪拌した。こ
れを１ｌオートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１
５．３ｇを１５％水溶液として加え、攪拌しながら１４
５℃まで昇温し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット
付きの１ｌ三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３
５０mlを加え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌
した。その後、室温で静置し、分層した有機層を水洗し
た。溶媒を留去し得られた残渣を減圧蒸留により精製
し、５０ｇの黄色オイルとして下記式で表わされるリン
酸ジエステル（２−１）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度
は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣ
ｌ3、ＴＭＳ標準）より、δ＝１．２−１．５，３．
３，３．３５，４．０５にメチン及びメチレン基、δ＝
０．８５−０．９５にメチル基のプロトンシグナルを認
め、リン酸ジエステルの生成を確認した。
【００２４】
【化７】
【００２５】（３）（２）で得られたリン酸ジエステル
（２−１）５０ｇにエタノール１００ml、酢酸カルシウ
ム１６ｇ及び水１００mlを加え、６０℃で２時間攪拌
し、室温まで冷却した後、ヘキサン２００mlを加えて分
層させた。有機層を水洗した後、溶媒を留去し、アセト
ンで再沈させた。４３ｇの白色固体としてリン酸ジエス
テルカルシウム塩（１−１）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより
純度は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝
１．２−１．５，３．３，３．３５，３．８５にメチン
及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５にメチル基の
プロトンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム
塩の生成を確認した。
（２−１）５０ｇにエタノール１００ml、酢酸カルシウ
ム１６ｇ及び水１００mlを加え、６０℃で２時間攪拌
し、室温まで冷却した後、ヘキサン２００mlを加えて分
層させた。有機層を水洗した後、溶媒を留去し、アセト
ンで再沈させた。４３ｇの白色固体としてリン酸ジエス
テルカルシウム塩（１−１）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより
純度は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝
１．２−１．５，３．３，３．３５，３．８５にメチン
及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５にメチル基の
プロトンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム
塩の生成を確認した。
【００２６】製造例２〔リン酸ジエステルアルミニウム
塩（１−２）の製造〕 リン酸ジエステル（２−１）７５ｇにエタノール１００
ml、酢酸アルミニウム３０ｇ及び水１００mlを加え、６
０℃で２時間攪拌し、室温まで冷却した後、析出してき
た固体を濾過により集め、７０ｇの白色固体としてリン
酸ジエステルアルミニウム塩（１−２）を得た。31Ｐ−
ＮＭＲより純度は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲよ
り、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．８に
メチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９にメチル
基のプロトンシグナルを認め、リン酸ジエステルアルミ
ニウム塩の生成を確認した。
塩（１−２）の製造〕 リン酸ジエステル（２−１）７５ｇにエタノール１００
ml、酢酸アルミニウム３０ｇ及び水１００mlを加え、６
０℃で２時間攪拌し、室温まで冷却した後、析出してき
た固体を濾過により集め、７０ｇの白色固体としてリン
酸ジエステルアルミニウム塩（１−２）を得た。31Ｐ−
ＮＭＲより純度は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲよ
り、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．８に
メチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９にメチル
基のプロトンシグナルを認め、リン酸ジエステルアルミ
ニウム塩の生成を確認した。
【００２７】製造例３〔リン酸ジエステルカルシウム塩
（１−３）の製造〕 （１）１，９−ノナンジオール５００ｇ（３．０４mol
）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．２６mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、減圧蒸
留により精製して、１３５ｇのモノエーテル体を無色オ
イルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は９９％であっ
た。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝１．５に水酸
基、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．６５
にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５にメ
チル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体の生
成を確認した。
（１−３）の製造〕 （１）１，９−ノナンジオール５００ｇ（３．０４mol
）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．２６mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、減圧蒸
留により精製して、１３５ｇのモノエーテル体を無色オ
イルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は９９％であっ
た。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝１．５に水酸
基、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．６５
にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５にメ
チル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体の生
成を確認した。
【００２８】（２）（１）で得られたモノエーテル体１
５０ｇ（０．５１５mol ）を３００ml四つ口フラスコに
入れ、攪拌しながら、五酸化リン２５．０ｇ（０．１７
２mol）を、反応温度を７０℃以下に保ちながら加え
た。次に反応温度を７５〜８５℃に保ち、そのまま４時
間攪拌を続けた後、水１７．５mlを加え、更に４時間攪
拌した。これを１ｌオートクレーブに移し、水酸化ナト
リウム１０．５ｇを１５％水溶液として加え、攪拌しな
がら、１４５℃まで昇温し、そのまま７時間攪拌した。
ジャケット付きの１ｌ三つ口フラスコに移し、１０％硫
酸水溶液３５０mlを加え、６０℃まで昇温し、そのまま
１時間攪拌した。その後、室温で静置し、分層してきた
有機層を水洗した。これにエタノール１００ml、酢酸カ
ルシウム２０ｇ及び水１００mlを加え、６０℃で２時間
攪拌し、室温まで冷却した後、ヘキサン２００mlを加え
て分層させた。有機層を水洗した後、溶媒を留去し、ア
セトンで再沈させた。析出してきた固体を濾過により集
め、乾燥させ、６２ｇの白色固体としてリン酸ジエステ
ルカルシウム塩（１−３）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純
度は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．
２−１．６，３．３，３．３５，３．８５にメチン及び
メチレン基、δ＝０．８５−０．９５にメチル基のプロ
トンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の
生成を確認した。
５０ｇ（０．５１５mol ）を３００ml四つ口フラスコに
入れ、攪拌しながら、五酸化リン２５．０ｇ（０．１７
２mol）を、反応温度を７０℃以下に保ちながら加え
た。次に反応温度を７５〜８５℃に保ち、そのまま４時
間攪拌を続けた後、水１７．５mlを加え、更に４時間攪
拌した。これを１ｌオートクレーブに移し、水酸化ナト
リウム１０．５ｇを１５％水溶液として加え、攪拌しな
がら、１４５℃まで昇温し、そのまま７時間攪拌した。
ジャケット付きの１ｌ三つ口フラスコに移し、１０％硫
酸水溶液３５０mlを加え、６０℃まで昇温し、そのまま
１時間攪拌した。その後、室温で静置し、分層してきた
有機層を水洗した。これにエタノール１００ml、酢酸カ
ルシウム２０ｇ及び水１００mlを加え、６０℃で２時間
攪拌し、室温まで冷却した後、ヘキサン２００mlを加え
て分層させた。有機層を水洗した後、溶媒を留去し、ア
セトンで再沈させた。析出してきた固体を濾過により集
め、乾燥させ、６２ｇの白色固体としてリン酸ジエステ
ルカルシウム塩（１−３）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純
度は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．
２−１．６，３．３，３．３５，３．８５にメチン及び
メチレン基、δ＝０．８５−０．９５にメチル基のプロ
トンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の
生成を確認した。
【００２９】製造例４〔リン酸ジエステルカルシウム塩
（１−４）の製造〕 （１）１，６−ヘキサンジオール３５０ｇ（３．００mo
l ）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、３，７−ジメチルオクチルクロライド
１１１ｇ（０．６３１mol ）を滴下した後、水が溜出し
なくなるまで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希
釈し、希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を
留去した後、減圧蒸留により精製し、１２５ｇのモノエ
ーテル体を無色オイルとして得た。ＧＬＣ分析により純
度は９８％であった。また、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ
にてδ＝１．５に水酸基、δ＝１．２−１．５，３．
３，３．３５，３．６５にメチン及びメチレン基、δ＝
０．８５−０．９にメチル基のプロトンシグナルを認
め、モノエーテル体の生成を確認した。
（１−４）の製造〕 （１）１，６−ヘキサンジオール３５０ｇ（３．００mo
l ）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、３，７−ジメチルオクチルクロライド
１１１ｇ（０．６３１mol ）を滴下した後、水が溜出し
なくなるまで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希
釈し、希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を
留去した後、減圧蒸留により精製し、１２５ｇのモノエ
ーテル体を無色オイルとして得た。ＧＬＣ分析により純
度は９８％であった。また、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ
にてδ＝１．５に水酸基、δ＝１．２−１．５，３．
３，３．３５，３．６５にメチン及びメチレン基、δ＝
０．８５−０．９にメチル基のプロトンシグナルを認
め、モノエーテル体の生成を確認した。
【００３０】（２）モノエーテル体１１０．４ｇ（０．
４２８mol ）を３００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌し
ながら、五酸化リン２１．１ｇ（０．１４９mol ）を、
反応温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温
度を７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた
後、水１３mlを加え、更に４時間攪拌した。これを１ｌ
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１１．９ｇを
１０％水溶液として加え、攪拌しながら１４５℃まで昇
温し、そのまま８時間攪拌した。ジャケット付きの１ｌ
三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３５０mlを加
え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌した。その
後、室温で静置し、分層した有機層を水洗した。これに
エタノール２００ml、酢酸カルシウム５０ｇ及び水２０
０mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温まで冷却した
後、ヘキサン３００mlを加えて分層させた。有機層を水
洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈させた。析出
してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、５３ｇの白
色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩（１−４）
を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９８％、２００ＭＨｚ
1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−１．６，３．３，３．
３５，３．８５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５
−０．９にメチル基のプロトンシグナルを認め、リン酸
ジエステルカルシウム塩の生成を確認した。
４２８mol ）を３００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌し
ながら、五酸化リン２１．１ｇ（０．１４９mol ）を、
反応温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温
度を７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた
後、水１３mlを加え、更に４時間攪拌した。これを１ｌ
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１１．９ｇを
１０％水溶液として加え、攪拌しながら１４５℃まで昇
温し、そのまま８時間攪拌した。ジャケット付きの１ｌ
三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３５０mlを加
え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌した。その
後、室温で静置し、分層した有機層を水洗した。これに
エタノール２００ml、酢酸カルシウム５０ｇ及び水２０
０mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温まで冷却した
後、ヘキサン３００mlを加えて分層させた。有機層を水
洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈させた。析出
してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、５３ｇの白
色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩（１−４）
を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９８％、２００ＭＨｚ
1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−１．６，３．３，３．
３５，３．８５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５
−０．９にメチル基のプロトンシグナルを認め、リン酸
ジエステルカルシウム塩の生成を確認した。
【００３１】製造例５ （１）２−（２−エチルヘキシロキシ）エタノール５０
０ｇ（２．８１mol ）及び塩化チオニル５００ｇを２ｌ
四つ口フラスコに入れ、２時間加熱還流した。その後、
減圧蒸留により、５１０ｇの２−（２−エチルヘキシロ
キシ）エチルクロライドを無色オイルとして得た。
０ｇ（２．８１mol ）及び塩化チオニル５００ｇを２ｌ
四つ口フラスコに入れ、２時間加熱還流した。その後、
減圧蒸留により、５１０ｇの２−（２−エチルヘキシロ
キシ）エチルクロライドを無色オイルとして得た。
【００３２】（２）１，９−ノナンジオール５００ｇ
（３．０４mol ）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５
mol ）及びキシレン１ｌを、ディーンスタークトラップ
を取り付けた３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、
１００℃まで昇温した。次に、２−（２−エチルヘキシ
ロキシ）エチルクロライド１２０ｇ（０．６２mol ）を
滴下した後、水が溜出しなくなるまで還流した。反応終
了後、トルエン１ｌで希釈し、析出してきた結晶を濾過
により除き、母液を希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾
過後、溶媒を留去した後、減圧蒸留により精製し、１４
０ｇのモノエーテル体を無色オイルとして得た。ＧＬＣ
分析により純度は９８％であった。２００ＭＨｚ 1Ｈ−
ＮＭＲにてδ＝１．２−１．５，３．３５，３．４５，
３．５５，３．６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．
８５−０．９にメチル基のプロトンシグナルを認め、モ
ノエーテル体の生成を確認した。
（３．０４mol ）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５
mol ）及びキシレン１ｌを、ディーンスタークトラップ
を取り付けた３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、
１００℃まで昇温した。次に、２−（２−エチルヘキシ
ロキシ）エチルクロライド１２０ｇ（０．６２mol ）を
滴下した後、水が溜出しなくなるまで還流した。反応終
了後、トルエン１ｌで希釈し、析出してきた結晶を濾過
により除き、母液を希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾
過後、溶媒を留去した後、減圧蒸留により精製し、１４
０ｇのモノエーテル体を無色オイルとして得た。ＧＬＣ
分析により純度は９８％であった。２００ＭＨｚ 1Ｈ−
ＮＭＲにてδ＝１．２−１．５，３．３５，３．４５，
３．５５，３．６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．
８５−０．９にメチル基のプロトンシグナルを認め、モ
ノエーテル体の生成を確認した。
【００３３】（３）モノエーテル体１４０ｇ（０．５０
７mol ）を３００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン２５．０ｇ（０．１７２mol ）を、反応
温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を
７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた後、
水１７．５mlを加え、更に４時間攪拌した。これを１ｌ
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１０．５ｇを
１５％水溶液として加え、攪拌しながら、１４５℃まで
昇温し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット付きの１
ｌ三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３５０mlを
加え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌した。そ
の後、室温まで冷却し、エーテルを加えて分層させた。
分層してきた有機層を更に水洗した後、溶媒を留去し
た。これにエタノール１００ml、酢酸カルシウム２０
ｇ、水１００mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温ま
で冷却した後、エーテル３００mlを加えて分層させた。
有機層を水洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈さ
せた。析出してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、
６０ｇの白色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩
（１−５）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％、２
００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−１．６，
３．３５，３．４５，３．５５，３．８５にメチン及び
メチレン基、δ＝０．８５−０．９にメチル基のプロト
ンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の生
成を確認した。
７mol ）を３００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン２５．０ｇ（０．１７２mol ）を、反応
温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を
７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた後、
水１７．５mlを加え、更に４時間攪拌した。これを１ｌ
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１０．５ｇを
１５％水溶液として加え、攪拌しながら、１４５℃まで
昇温し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット付きの１
ｌ三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３５０mlを
加え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌した。そ
の後、室温まで冷却し、エーテルを加えて分層させた。
分層してきた有機層を更に水洗した後、溶媒を留去し
た。これにエタノール１００ml、酢酸カルシウム２０
ｇ、水１００mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温ま
で冷却した後、エーテル３００mlを加えて分層させた。
有機層を水洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈さ
せた。析出してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、
６０ｇの白色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩
（１−５）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％、２
００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−１．６，
３．３５，３．４５，３．５５，３．８５にメチン及び
メチレン基、δ＝０．８５−０．９にメチル基のプロト
ンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の生
成を確認した。
【００３４】製造例６ （１）２，３，４−トリメチルペンタン−３−カルボン
酸５００ｇ（３．０９mol ）、塩化チオニル５００ｇを
２時間加熱還流した。その後、減圧蒸留により、５１８
ｇの２，３，４−トリメチルペンタン−３−カルボニル
クロライドを無色オイルとして得た。
酸５００ｇ（３．０９mol ）、塩化チオニル５００ｇを
２時間加熱還流した。その後、減圧蒸留により、５１８
ｇの２，３，４−トリメチルペンタン−３−カルボニル
クロライドを無色オイルとして得た。
【００３５】（２）１，６−ヘキサンジオール１００ｇ
（０．８５mol ）を５００mlナスフラスコに入れ、トリ
エチルアミン７０ｇ、ベンゼン５０mlに溶解した。２，
３，４−トリメチルペンタン−３−カルボニルクロライ
ド５０ｇ（０．２９mol ）をベンゼン５０mlに溶解して
滴下し、２晩攪拌した。水１００mlを加えた後、エーテ
ル抽出した。有機層を希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸留により精製し、５
１．５ｇのモノエステル体を無色オイルとして得た。Ｇ
ＬＣ分析により純度は９７％であった。２００ＭＨｚ 1
Ｈ−ＮＭＲにてδ＝２．０に水酸基、δ＝１．２−１．
５，３．７，４．０にメチン及びメチレン基、δ＝０．
８５−０．９５にメチル基のプロトンシグナルを認め、
モノエステル体の生成を確認した。
（０．８５mol ）を５００mlナスフラスコに入れ、トリ
エチルアミン７０ｇ、ベンゼン５０mlに溶解した。２，
３，４−トリメチルペンタン−３−カルボニルクロライ
ド５０ｇ（０．２９mol ）をベンゼン５０mlに溶解して
滴下し、２晩攪拌した。水１００mlを加えた後、エーテ
ル抽出した。有機層を希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸留により精製し、５
１．５ｇのモノエステル体を無色オイルとして得た。Ｇ
ＬＣ分析により純度は９７％であった。２００ＭＨｚ 1
Ｈ−ＮＭＲにてδ＝２．０に水酸基、δ＝１．２−１．
５，３．７，４．０にメチン及びメチレン基、δ＝０．
８５−０．９５にメチル基のプロトンシグナルを認め、
モノエステル体の生成を確認した。
【００３６】（３）モノエステル体４０ｇ（０．１５５
mol ）を２００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン７．８０ｇ（０．５１５mol ）を、反応
温度７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を７
５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた後、水
５．０mlを加え、更に８時間攪拌した。これを５００ml
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム４．１ｇを１
０％水溶液として加え、攪拌しながら１４５℃まで昇温
し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット付きの１ｌ三
つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液１０５mlを加
え、６０℃まで昇温し、そのまま２時間攪拌した。その
後、室温まで冷却し、エーテルを加えて分層させた。分
層してきた有機層を水洗した後、溶媒を留去した。これ
にエタノール１００ml、酢酸カルシウム１０ｇ及び水１
００mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温まで冷却し
た後、エーテル１００mlを加えて分層させた。有機層を
水洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈させた。析
出してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、１２ｇの
白色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩（１−
６）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％、２００Ｍ
Ｈｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−１．５，３．８
５，４．０にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−
０．９にメチル基のプロトンシグナルを認め、リン酸ジ
エステルカルシウム塩の生成を確認した。
mol ）を２００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン７．８０ｇ（０．５１５mol ）を、反応
温度７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を７
５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた後、水
５．０mlを加え、更に８時間攪拌した。これを５００ml
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム４．１ｇを１
０％水溶液として加え、攪拌しながら１４５℃まで昇温
し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット付きの１ｌ三
つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液１０５mlを加
え、６０℃まで昇温し、そのまま２時間攪拌した。その
後、室温まで冷却し、エーテルを加えて分層させた。分
層してきた有機層を水洗した後、溶媒を留去した。これ
にエタノール１００ml、酢酸カルシウム１０ｇ及び水１
００mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温まで冷却し
た後、エーテル１００mlを加えて分層させた。有機層を
水洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈させた。析
出してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、１２ｇの
白色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩（１−
６）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％、２００Ｍ
Ｈｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−１．５，３．８
５，４．０にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−
０．９にメチル基のプロトンシグナルを認め、リン酸ジ
エステルカルシウム塩の生成を確認した。
【００３７】製造例７ （１）１，９−ノナンジオール５００ｇ（３．０４mol
）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．６２mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸
留により精製し、１３５ｇのモノエーテル体を無色オイ
ルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は９９％であっ
た。また、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝１．５に
水酸基、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．
６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５
にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体
の生成を確認した。
）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．６２mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸
留により精製し、１３５ｇのモノエーテル体を無色オイ
ルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は９９％であっ
た。また、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝１．５に
水酸基、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．
６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５
にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体
の生成を確認した。
【００３８】（２）モノエーテル体１５０ｇ（０．５１
５mol ）を３００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン２５．０ｇ（０．１７２mol ）を、反応
温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を
７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた後、
水１７．５mlを加え、更に４時間攪拌した。これを１ｌ
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１０．５ｇを
１５％水溶液として加え、攪拌しながら１４５℃まで昇
温し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット付きの１ｌ
三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３５０mlを加
え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌した。その
後、室温で静置し、分層してきた有機層を更に水洗し
た。これにエタノール１００ml、酢酸アルミニウム３０
ｇ及び水１００mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温
まで冷却した後、析出してきた固体を濾過により集め、
乾燥させ、７０ｇの白色固体としてリン酸ジエステルア
ルミニウム塩（１−９）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度
は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２
−１．６，３．３，３．３５，３．８にメチン及びメチ
レン基、δ＝０．８５−０．９にメチル基のプロトンシ
グナルを認め、リン酸ジエステルアルミニウム塩の生成
を確認した。
５mol ）を３００ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン２５．０ｇ（０．１７２mol ）を、反応
温度を７０℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を
７５〜８５℃に保ち、そのまま４時間攪拌を続けた後、
水１７．５mlを加え、更に４時間攪拌した。これを１ｌ
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム１０．５ｇを
１５％水溶液として加え、攪拌しながら１４５℃まで昇
温し、そのまま７時間攪拌した。ジャケット付きの１ｌ
三つ口フラスコに移し、１０％硫酸水溶液３５０mlを加
え、６０℃まで昇温し、そのまま１時間攪拌した。その
後、室温で静置し、分層してきた有機層を更に水洗し
た。これにエタノール１００ml、酢酸アルミニウム３０
ｇ及び水１００mlを加え、６０℃で２時間攪拌し、室温
まで冷却した後、析出してきた固体を濾過により集め、
乾燥させ、７０ｇの白色固体としてリン酸ジエステルア
ルミニウム塩（１−９）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度
は９９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２
−１．６，３．３，３．３５，３．８にメチン及びメチ
レン基、δ＝０．８５−０．９にメチル基のプロトンシ
グナルを認め、リン酸ジエステルアルミニウム塩の生成
を確認した。
【００３９】製造例８ （１）１，９−ノナンジオール５００ｇ（３．０４mol
）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．６２mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸
留により精製し、１３５ｇのモノエーテル体を無色オイ
ルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は９９％であっ
た。また、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝１．５に
水酸基、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．
６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５
にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体
の生成を確認した。
）、水酸化ナトリウム５０ｇ（１．２５mol ）及びキ
シレン１ｌを、ディーンスタークトラップを取り付けた
３ｌ四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、１００℃まで
昇温した。次に、２−エチルヘキシルブロマイド１２０
ｇ（０．６２mol ）を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン１ｌで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸
留により精製し、１３５ｇのモノエーテル体を無色オイ
ルとして得た。ＧＬＣ分析により純度は９９％であっ
た。また、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲにてδ＝１．５に
水酸基、δ＝１．２−１．６，３．３，３．３５，３．
６５にメチン及びメチレン基、δ＝０．８５−０．９５
にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体
の生成を確認した。
【００４０】（２）オキシ塩化リン５０ｇ（０．３２７
mol ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、５０
０ml四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、−６０℃に冷
却し、攪拌しながらモノエーテル体１００ｇ（０．３４
３mol ）及びトリエチルアミン３３ｇをＴＨＦに溶かし
て滴下した。この時反応温度は−３０℃以下に保った。
そのまま４時間攪拌を続けた後０℃まで昇温し、ヘキサ
デカノール８３ｇ（０．３４３mol ）及びトリエチルア
ミン３３ｇをＴＨＦに溶かして滴下した。この時反応温
度５℃以下に保った。そのまま０℃で２４時間攪拌した
後、水６．２ｇを加え、更に６時間攪拌した。その後析
出してきた固体を濾過により除き、溶媒を留去して得ら
れた残渣をエタノールに溶かし、酢酸カルシウム６０
ｇ、水及びエタノールを加えて６０℃で４時間攪拌した
後、室温まで冷却し、エーテルで分層させた。有機層を
水洗し、溶媒を留去して得られた残渣をアセトンで再沈
させた。析出してきた固体を濾過により集め、乾燥さ
せ、１５０ｇの白色固体としてリン酸ジエステルカルシ
ウム塩（１−１２）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９
９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−
１．６，３．３，３．３５，３．８５にメチン及びメチ
レン基、δ＝０．８５−０．９にメチル基のプロトンシ
グナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の生成を
確認した。
mol ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、５０
０ml四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、−６０℃に冷
却し、攪拌しながらモノエーテル体１００ｇ（０．３４
３mol ）及びトリエチルアミン３３ｇをＴＨＦに溶かし
て滴下した。この時反応温度は−３０℃以下に保った。
そのまま４時間攪拌を続けた後０℃まで昇温し、ヘキサ
デカノール８３ｇ（０．３４３mol ）及びトリエチルア
ミン３３ｇをＴＨＦに溶かして滴下した。この時反応温
度５℃以下に保った。そのまま０℃で２４時間攪拌した
後、水６．２ｇを加え、更に６時間攪拌した。その後析
出してきた固体を濾過により除き、溶媒を留去して得ら
れた残渣をエタノールに溶かし、酢酸カルシウム６０
ｇ、水及びエタノールを加えて６０℃で４時間攪拌した
後、室温まで冷却し、エーテルで分層させた。有機層を
水洗し、溶媒を留去して得られた残渣をアセトンで再沈
させた。析出してきた固体を濾過により集め、乾燥さ
せ、１５０ｇの白色固体としてリン酸ジエステルカルシ
ウム塩（１−１２）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９
９％、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲより、δ＝１．２−
１．６，３．３，３．３５，３．８５にメチン及びメチ
レン基、δ＝０．８５−０．９にメチル基のプロトンシ
グナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の生成を
確認した。
【００４１】製造例９ （１）ｔｅｒｔ−ブタノール２００ｇ（２．７ｍｏ
ｌ）、１，９−ノナンジオール１００ｇ（０．６２５ｍ
ｏｌ）及び硫酸２ｇを５００mlナスフラスコに入れ、５
時間加熱還流後、水酸化ナトリウム水溶液で中和した。
未反応ｔｅｒｔ−ブタノールを留去後、ヘキサンを加え
攪拌した。ヘキサン不溶のジオールを濾過により除き、
ヘキサン層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開ヘキサン／クロロホルム）
で精製し、３５ｇの９−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−ノナ
ノールを無色オイルとして得た。ＧＬＣ分析より純度は
９９％以上であった。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶
媒ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ標準）より、δ＝１．２にｔｅｒ
ｔ−ブチル由来のメチル、δ＝１．３，１．５〜１．
６，３．３５，３．６５にメチレンのそれぞれプロトン
シグナルを認め、モノエーテル体の生成を確認した。
ｌ）、１，９−ノナンジオール１００ｇ（０．６２５ｍ
ｏｌ）及び硫酸２ｇを５００mlナスフラスコに入れ、５
時間加熱還流後、水酸化ナトリウム水溶液で中和した。
未反応ｔｅｒｔ−ブタノールを留去後、ヘキサンを加え
攪拌した。ヘキサン不溶のジオールを濾過により除き、
ヘキサン層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開ヘキサン／クロロホルム）
で精製し、３５ｇの９−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−ノナ
ノールを無色オイルとして得た。ＧＬＣ分析より純度は
９９％以上であった。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶
媒ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ標準）より、δ＝１．２にｔｅｒ
ｔ−ブチル由来のメチル、δ＝１．３，１．５〜１．
６，３．３５，３．６５にメチレンのそれぞれプロトン
シグナルを認め、モノエーテル体の生成を確認した。
【００４２】（２）オキシ塩化リン５．０ｇ（０．０３
３ｍｏｌ）をＴＨＦに溶かし、窒素導入下−５０℃以下
に冷却し、これに（１）で得られたモノエーテル体１５
ｇ（０．０６９ｍｏｌ）とトリエチルアミン７．０ｇ
（０．０６９ｍｏｌ）をＴＨＦに溶解したものを滴下し
た。滴下終了後、０℃まで昇温し、そのまま一晩攪拌し
た。１．２６ｇの水を滴下し、しばらく攪拌後、析出し
てきたトリエチルアミン塩酸塩を濾過により除き、溶媒
を留去して黄色オイルとしてジアルキルリン酸エステル
トリエチルアミン塩を定量的に得、これを31Ｐ−ＮＭＲ
により確認した。
３ｍｏｌ）をＴＨＦに溶かし、窒素導入下−５０℃以下
に冷却し、これに（１）で得られたモノエーテル体１５
ｇ（０．０６９ｍｏｌ）とトリエチルアミン７．０ｇ
（０．０６９ｍｏｌ）をＴＨＦに溶解したものを滴下し
た。滴下終了後、０℃まで昇温し、そのまま一晩攪拌し
た。１．２６ｇの水を滴下し、しばらく攪拌後、析出し
てきたトリエチルアミン塩酸塩を濾過により除き、溶媒
を留去して黄色オイルとしてジアルキルリン酸エステル
トリエチルアミン塩を定量的に得、これを31Ｐ−ＮＭＲ
により確認した。
【００４３】（３）（２）で得られたジアルキルリン酸
エステルトリエチルアミン塩４ｇを１．５Ｎ塩酸に分散
させ、４０〜５０℃で３時間攪拌した。ヘキサンで抽出
し、水洗後、溶媒を留去して、無色オイルとしてジアル
キルリン酸エステルを得た。こうして得られたジアルキ
ルリン酸エステルをエタノールに溶解し、４ｇの酢酸ア
ルミニウム／エタノール／水を加え、５０℃で３０分攪
拌した。倍量の水を加え、室温まで冷却後、析出してき
た固体を濾過により集め、水、エタノール、アセトンで
洗浄後、乾燥し、２．５ｇの白色固体としてジアルキル
リン酸エステルアルミニウム塩（１−２１）を得た。31
Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％以上、２００ＭＨｚ 1Ｈ
−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ標準）より、δ＝
１．２にメチル、δ＝１．３，１．５，１．６８，３．
３，３．９８にメチレンのそれぞれプロトンシグナルを
認め、ジアルキルリン酸エステルアルミニウム塩の生成
を確認した。
エステルトリエチルアミン塩４ｇを１．５Ｎ塩酸に分散
させ、４０〜５０℃で３時間攪拌した。ヘキサンで抽出
し、水洗後、溶媒を留去して、無色オイルとしてジアル
キルリン酸エステルを得た。こうして得られたジアルキ
ルリン酸エステルをエタノールに溶解し、４ｇの酢酸ア
ルミニウム／エタノール／水を加え、５０℃で３０分攪
拌した。倍量の水を加え、室温まで冷却後、析出してき
た固体を濾過により集め、水、エタノール、アセトンで
洗浄後、乾燥し、２．５ｇの白色固体としてジアルキル
リン酸エステルアルミニウム塩（１−２１）を得た。31
Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％以上、２００ＭＨｚ 1Ｈ
−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ標準）より、δ＝
１．２にメチル、δ＝１．３，１．５，１．６８，３．
３，３．９８にメチレンのそれぞれプロトンシグナルを
認め、ジアルキルリン酸エステルアルミニウム塩の生成
を確認した。
【００４４】製造例１０ （１）製造例５の（２）の１，９−ノナンジオールの代
わりに、分岐率３４％のジオールの混合物（１，９−ノ
ナンジオール：２−メチル−１，８−オクタンジオール
＝６６：３４の混合ジオール）を用いて製造例９の場合
と同様にして合成した。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％
以上、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ3 、
ＴＭＳ標準）より、δ＝０．８８，１．２にメチル、δ
＝１．３〜１．５，１．７，３．３，３．９８にメチレ
ン及びメチンのそれぞれプロトンシグナルを認め、ジア
ルキルリン酸エステルアルミニウム塩（１−２３）の生
成を確認した。
わりに、分岐率３４％のジオールの混合物（１，９−ノ
ナンジオール：２−メチル−１，８−オクタンジオール
＝６６：３４の混合ジオール）を用いて製造例９の場合
と同様にして合成した。31Ｐ−ＮＭＲより純度は９９％
以上、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ3 、
ＴＭＳ標準）より、δ＝０．８８，１．２にメチル、δ
＝１．３〜１．５，１．７，３．３，３．９８にメチレ
ン及びメチンのそれぞれプロトンシグナルを認め、ジア
ルキルリン酸エステルアルミニウム塩（１−２３）の生
成を確認した。
【００４５】製造例１１ （１）３，３−ジメチル−１−ブタノール１０ｇ（０．
１０ｍｏｌ）、ピリジン８ｇ（０．１０ｍｏｌ）をベン
ゼンに溶かし、塩化チオニル１２ｇのベンゼン溶液を氷
冷下、滴下し、８０℃で５時間還流させた。水１００ml
を氷冷下加え、ヘキサンで抽出した。希塩酸、水、飽和
重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、淡黄色オイルと
して得られた５ｇの１−クロロ−３，３−ジメチルブタ
ンをトルエンに溶解した。１，９−ノナンジオール２５
ｇ（０．１５６ｍｏｌ）をトルエンに溶かし、水酸化ナ
トリウム３．２ｇ（０．０８ｍｏｌ）を加え、ディーン
スタークトラップを用いて１時間共沸脱水させた。次に
１−クロロ−３，３−ジメチルブタンのトルエン溶液を
滴下し、そのまま５時間加熱還流を続け、室温まで放置
した。倍量のヘキサンを加え、不溶分を濾過により除
き、ヘキサン／トルエン層を水洗、濃縮して、モノエー
テル：ジエーテル＝６０：４０の混合物を黄色オイルと
して得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
クロロホルム）により精製し、５ｇのモノエーテル体を
淡黄色オイルとして得た。ＧＬＣより純度は９５％であ
った。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ3 、
ＴＭＳ標準）よりδ＝０．９にｔｅｒｔ−ブチル由来の
メチル、δ＝１．３２，１．５５〜１．７，３．４５，
３．６５にメチレンのそれぞれプロトンシグナルを認
め、モノエーテル体の生成を確認した。
１０ｍｏｌ）、ピリジン８ｇ（０．１０ｍｏｌ）をベン
ゼンに溶かし、塩化チオニル１２ｇのベンゼン溶液を氷
冷下、滴下し、８０℃で５時間還流させた。水１００ml
を氷冷下加え、ヘキサンで抽出した。希塩酸、水、飽和
重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、淡黄色オイルと
して得られた５ｇの１−クロロ−３，３−ジメチルブタ
ンをトルエンに溶解した。１，９−ノナンジオール２５
ｇ（０．１５６ｍｏｌ）をトルエンに溶かし、水酸化ナ
トリウム３．２ｇ（０．０８ｍｏｌ）を加え、ディーン
スタークトラップを用いて１時間共沸脱水させた。次に
１−クロロ−３，３−ジメチルブタンのトルエン溶液を
滴下し、そのまま５時間加熱還流を続け、室温まで放置
した。倍量のヘキサンを加え、不溶分を濾過により除
き、ヘキサン／トルエン層を水洗、濃縮して、モノエー
テル：ジエーテル＝６０：４０の混合物を黄色オイルと
して得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
クロロホルム）により精製し、５ｇのモノエーテル体を
淡黄色オイルとして得た。ＧＬＣより純度は９５％であ
った。２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ3 、
ＴＭＳ標準）よりδ＝０．９にｔｅｒｔ−ブチル由来の
メチル、δ＝１．３２，１．５５〜１．７，３．４５，
３．６５にメチレンのそれぞれプロトンシグナルを認
め、モノエーテル体の生成を確認した。
【００４６】（２）オキシ塩化リン０．９１ｇ（０．０
０５９ｍｏｌ）をＴＨＦに溶かし、窒素導入下０℃以下
に冷却し、これに（１）で得られたモノエーテル体３．
７ｇ（０．０１５ｍｏｌ）とトリエチルアミン１．２ｇ
（０．０１２ｍｏｌ）をＴＨＦに溶解したものを滴下し
た。滴下終了後、そのまま１８時間攪拌した。２００mg
の水をＴＨＦに溶かして滴下し、しばらく攪拌後、２Ｎ
塩酸に分散させ、５０℃で２時間攪拌した。ヘキサンで
抽出し、水洗後、溶媒を留去して得られた残渣をエタノ
ールに溶解し、５．０ｇの酢酸アルミニウム／エタノー
ル／水を加え、５０℃で１．５時間攪拌した。倍量の水
を加え、室温まで冷却後、析出してきた固体を濾過によ
り集め、水、エタノール、アセトンで洗浄後、乾燥し、
１．５ｇの淡黄色固体としてジアルキルリン酸エステル
アルミニウム塩（１−２８）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより
純度は９９％以上、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒
ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ標準）よりδ＝０．９にメチル、δ
＝１．３２，１．５５〜１．７，３．４５，４．０にメ
チレンのそれぞれプロトンシグナルを認め、ジアルキル
リン酸エステルアルミニウム塩の生成を確認した。
０５９ｍｏｌ）をＴＨＦに溶かし、窒素導入下０℃以下
に冷却し、これに（１）で得られたモノエーテル体３．
７ｇ（０．０１５ｍｏｌ）とトリエチルアミン１．２ｇ
（０．０１２ｍｏｌ）をＴＨＦに溶解したものを滴下し
た。滴下終了後、そのまま１８時間攪拌した。２００mg
の水をＴＨＦに溶かして滴下し、しばらく攪拌後、２Ｎ
塩酸に分散させ、５０℃で２時間攪拌した。ヘキサンで
抽出し、水洗後、溶媒を留去して得られた残渣をエタノ
ールに溶解し、５．０ｇの酢酸アルミニウム／エタノー
ル／水を加え、５０℃で１．５時間攪拌した。倍量の水
を加え、室温まで冷却後、析出してきた固体を濾過によ
り集め、水、エタノール、アセトンで洗浄後、乾燥し、
１．５ｇの淡黄色固体としてジアルキルリン酸エステル
アルミニウム塩（１−２８）を得た。31Ｐ−ＮＭＲより
純度は９９％以上、２００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒
ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ標準）よりδ＝０．９にメチル、δ
＝１．３２，１．５５〜１．７，３．４５，４．０にメ
チレンのそれぞれプロトンシグナルを認め、ジアルキル
リン酸エステルアルミニウム塩の生成を確認した。
【００４７】実施例１ 以下に組成を示す日焼け防止ジェリーを下記製法により
調製した。
調製した。
【００４８】
【表１】 （組成） （重量％） （１）製造例１の化合物（１−１） ４ （２）スクワラン バランス （３）メチルフェニルポリシロキサン ５ （４）ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソオクチル ２ （５）香料 適量
【００４９】（製法）（１）〜（４）を加温し、ディス
パーにて均一溶解する。これに（５）をディスパーにて
均一混合し、日焼け防止ジェリーを得る。
パーにて均一溶解する。これに（５）をディスパーにて
均一混合し、日焼け防止ジェリーを得る。
【００５０】このものは使用時に指からの液ダレが生じ
ることなく、ベタツキもない、使用感に優れるものであ
った。
ることなく、ベタツキもない、使用感に優れるものであ
った。
【００５１】実施例２ 以下に組成を示すサンスクリーンクリームを下記製法に
より調製した。
より調製した。
【００５２】
【表２】 （組成） （重量％） （１）製造例２の化合物（１−２） ４ （２）パルミチン酸のイソプロピル バランス （３）ジメチルポリシロキサン（６cs） ５ （４）メトキシ桂皮酸オクチル ３ （５）酸化チタン ５ （６）香料 適量
【００５３】（製法）（１）〜（４）を加温し、ディス
パーにて均一溶解する。これに（５）及び（６）をディ
スパーにて均一に混合し、サンスクリーンクリームを得
る。
パーにて均一溶解する。これに（５）及び（６）をディ
スパーにて均一に混合し、サンスクリーンクリームを得
る。
【００５４】このものは、顔料分散安定性に優れるとと
もに使用感の良好なものであった。
もに使用感の良好なものであった。
【００５５】実施例３ 以下に組成を示す油性洗浄剤を下記製法により調製し
た。
た。
【００５６】
【表３】 （組成） （重量％） （１）製造例３の化合物（１−３） ３ （２）トリイソステアリン酸POE(20)グリセリル １０ （３）スクワラン ４０ （４）パルミチン酸イソプロピル ４７
【００５７】（製法）（１）〜（４）を加温し、ディス
パーにて均一溶解する。
パーにて均一溶解する。
【００５８】このものは、安定で使用感に優れるもので
あった。また、使用時に指からの液ダレが生じなかっ
た。
あった。また、使用時に指からの液ダレが生じなかっ
た。
【００５９】実施例４ 以下に組成を示すクリーム状Ｗ／Ｏ型ファンデーション
を下記製法により得た。
を下記製法により得た。
【００６０】
【表４】 （組成） （重量％） （１）製造例４の化合物（１−４） １０ （２）ジメチルポリシロキサン（６cs） ５ （３）スクワラン ４０ （４）グリセリン ２ （５）精製水 残量 （６）顔料 セリサイト ６ 酸化チタン ８ 酸化鉄 １２ （７）ナイロンパウダー ５ （８）ジメチルポリシロキサン・ポリオキシ アルキレン共重合体 １
【００６１】（製法）（１）〜（３）及び（８）を加温
し、ディスパーにて均一に溶解した後、（６）及び
（７）を添加して、更にディスパーにて分散させた。こ
れに（４）及び（５）を攪拌しながら添加して乳化し、
ファンデーションを得る。
し、ディスパーにて均一に溶解した後、（６）及び
（７）を添加して、更にディスパーにて分散させた。こ
れに（４）及び（５）を攪拌しながら添加して乳化し、
ファンデーションを得る。
【００６２】このものは顔料分散安定性及び使用感に優
れ、また、使用時に指からの液ダレもなかった。
れ、また、使用時に指からの液ダレもなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−207538（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−43419（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−25028（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−229106（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−316309（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−51934（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−193278（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−112590（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50 C09K 3/00 C07F 9/09 - 9/40
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基を示し、Ｒ2 及びＲ4 は、同一又は異なって、炭
素数２〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ
3 は炭素数３〜２０の直鎖又は炭素数５〜２０の分岐鎖
のアルキレン基を示し、Ａは−ＣＯＯ−又は−Ｏ−を示
し、ｘ及びｙは、同一又は異なって、０〜１０の整数を
示し、Ｌは炭素数１〜４０の直鎖若しくは分岐鎖のアル
キル基又はR1-(OR2)x-A-R3-(OR4)y-（式中、Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ａ、ｘ及びｙは前記と同義である）
を示し、Ｍは２価以上の多価金属を示し、ｍは多価金属
の原子価と同じ数を示す）で表わされるリン酸ジエステ
ル多価金属塩を含有することを特徴とする化粧料。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25033693A JP3165300B2 (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 化粧料 |
| TW082111037A TW251302B (ja) | 1992-12-28 | 1993-12-27 | |
| US08/454,181 US5872272A (en) | 1992-12-28 | 1993-12-28 | Polyvalent metal salts of phosphoric diester and organo(poly)siloxanes modified with polyvalent metal salt of phosphoric diester |
| SG1996001411A SG50437A1 (en) | 1992-12-28 | 1993-12-28 | Polyvalvent metal salts of phosphoric diester and organo (poly) siloxanes modified with polyvalent metal salt of phosphoric diester |
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