JP3165300B2 - 化粧料 - Google Patents

化粧料

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JP3165300B2
JP3165300B2 JP25033693A JP25033693A JP3165300B2 JP 3165300 B2 JP3165300 B2 JP 3165300B2 JP 25033693 A JP25033693 A JP 25033693A JP 25033693 A JP25033693 A JP 25033693A JP 3165300 B2 JP3165300 B2 JP 3165300B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は化粧料に関し、更に詳し
くは、油ゲル化能に優れるリン酸ジエステル多価金属塩
を含有する化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
使用されてきている油性化粧料は、液状かあるいは固形
(ワックス)状のものであることから、液ダレする、容
器から取り出しにくい等、その使用性に難があった。こ
のことは、油性化粧料に適度な粘性を付与し得るゲル化
剤が未だに見出されていないことに起因する。このた
め、これまで油ゲル化剤として知られている物質を化粧
料に応用する試みが多方面でなされてきている。
【0003】しかし、これらのゲル化剤のうち、金属石
鹸、デキストリン脂肪酸エステル、ジアルキルリン酸エ
ステル金属塩等は、加温して油に溶解した後、相転位温
度(以下、「Tc」という)以下に冷却すると脆く固い
ゲルとなって、応力を与えたとき復元することがなく、
これを元の状態に戻すには再びTc以上に加熱する必要
があるという問題があった。この問題を解決するに足る
チキソトロピー性を得るためには、上記化合物のうち短
鎖長分岐アルキル基を有し、かつTcが室温以下のもの
を使用すればよいが、これらにより得られるゲルは粘性
が高く、かつ曳糸性があることから、これらを含有する
化粧料はいずれもべたつきがはなはだしく、使用性に難
がある。また、有機変性ベントナイトは、油性化粧料に
十分なチキソトロピー性を付与し得るものではあるもの
の、このものを使用した場合には、添加物質が溶け出
す、柔軟性のあるゲルが形成されないといった問題があ
る。
【0004】そこで、十分なチキソトロピー性を有し、
取扱いが容易で、しかも安定性、使用感に優れる化粧料
の開発が望まれていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる実
情に鑑み鋭意検討した結果、後述するリン酸ジエステル
多価金属塩を含有する化粧料が十分なチキソトロピー性
を有しながら曳糸性がなく、透明で、しかも安定性、使
用感に優れるものであることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【0006】すなわち、本発明は、下記一般式(1)
【0007】
【化2】
【0008】(式中、R1 は炭素数1〜20の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基を示し、R2 及びR4 は、同一又は
異なって、炭素数2〜3の直鎖又は分岐鎖のアルキレン
基を示し、R3 は炭素数3〜20の直鎖又は炭素数5〜
20の分岐鎖のアルキレン基を示し、Aは−COO−又
は−O−を示し、x及びyは同一又は異なって、0〜1
0の整数を示し、Lは炭素数1〜40の直鎖若しくは分
岐鎖のアルキル基又はR1-(OR2)x-A-R3-(OR4)y-(式中、
1 、R2 、R3 、R4 、A、x及びyは前記と同義で
ある)を示し、Mは2価以上の多価金属を示し、mは多
価金属の原子価と同じ数を示す)で表わされるリン酸ジ
エステル多価金属塩を含有することを特徴とする化粧料
を提供するものである。
【0009】本発明のリン酸ジエステル多価金属塩は、
前記一般式(1)で表わされるものであり、式中、R1
で示される炭素数1〜20の直鎖又は分岐鎖のアルキル
基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシル、エイコサデシル、ネオペンチル、2−
エチルヘキシル、3,3−ジメチルブチル、3,7−ジ
メチルオクチル、3,7−ジメチルオクタン−3−イ
ル、2−ヘキシルデシル、2−ヘキシルウンデシル、2
−ヘキシルドデシル、3,7,11−トリメチルドデシ
ル、3,7,11,15−テトラメチルヘキサデシル、
3,5,5−トリメチルヘキシル、2,3,4−トリメ
チルペンタン−3−イル、2,3,4,6,6−ペンタ
メチルヘプタン−3−イル、イソステアリル等の基が挙
げられる。
【0010】R2 及びR4 で示される炭素数2〜3の直
鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、例えばエチレン
基、メチルエチレン基等が挙げられる。また、R3 で示
される炭素数3〜20の直鎖又は炭素数5〜20の分岐
鎖のアルキレン基としては、例えばトリメチレン、テト
ラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタ
メチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレ
ン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、トリデカメチ
レン、テトラデカメチレン、ペンタデカメチレン、ヘキ
サデカメチレン、ヘプタデカメチレン、オクタデカメチ
レン、ノナデカメチレン、エイコサデカメチレン、3−
メチルペンタン−1,5−ジイル、2−エチルヘキサン
−1,6−ジイル、3,7−ジメチルオクタン−1,8
−ジイル、3,7−ジメチルオクタン−3,8−ジイル
等の基が挙げられる。
【0011】Lのうち、炭素数1〜40の直鎖又は分岐
鎖のアルキル基としては、前記炭素数1〜20のアルキ
ル基のほか、2−ヘキシルヘキサデシル基、2−ヘキシ
ルオクタデシル基、2−ヘキシルエイコシル基等が挙げ
られる。また、Mで示される2価以上の多価金属イオン
としては、例えばCa2+、Al 3+、Fe3+、Fe2+、B
2+、Ti4+、Zn2+、Zr4+等が挙げられ、特にCa
2+、Al3+が好ましい。
【0012】リン酸ジエステル多価金属塩(1)の好ま
しい具体例としては、次の化合物(1−1)〜(1−2
8)が挙げられる。
【0013】
【化3】
【0014】
【化4】
【0015】
【化5】
【0016】
【化6】
【0017】リン酸ジエステル多価金属塩(1)は、本
発明化粧料中に0.01〜20重量%(以下、単に
「%」という)、特に0.3〜6%配合するのが好まし
い。0.01%未満では本発明の化粧料を安定化させる
ことはできず、また、20%を超えると系全体の粘度が
著しく高くなり、使用時ののびが悪く、油性感、べたつ
き感を与えるので化粧料として好ましくない。
【0018】本発明の化粧料には、上記必須成分の他、
目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲におい
て、ポリエーテル変性シリコーン、一般化粧料用油剤、
保湿剤、細胞間脂質(セラミド等)、紫外線吸収剤、キ
レート類、pH調整剤、防腐剤、増粘剤、色素、香料、薬
効成分、乳化剤、洗浄剤等を適宜配合することができ
る。
【0019】本発明化粧料は、前記成分を常法に従って
混合、攪拌することにより製造され、外観上均一なゲル
状とすることができる。また、これに乳化剤及び水相を
形成する成分を添加することにより安定なW/O型及び
O/W型乳化化粧料とすることができる。更に、このゲ
ル又は乳化物に粉体を、好ましくは10〜40%、より
好ましくは15〜30%、配合することにより乳液状又
はクリーム状ファンデーションとすることができる。粉
体としては、一般に化粧料に用いられる粉体、例えばタ
ルク、マイカ、カオリン、セリサイト等の体質顔料;酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、群青等の無機顔料;チタ
ンマイカ系パール顔料;青色404号、赤色202号、
黄色401号等の有機顔料を挙げることができる。本発
明においては、上記粉体の一種又は二種以上を任意に選
択し使用できる。
【0020】
【発明の効果】本発明の化粧料は、ゲル状を呈するもの
でありながら良好なチキソトロピー性を有し、取扱いが
容易で、しかも安定性、使用感に優れるものである。
【0021】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0022】製造例1〔リン酸ジエステルカルシウム塩
(1−1)の製造〕 (1)1,6−ヘキサンジオール350g(3.00mo
l )、水酸化ナトリウム50g(1.25mol )及びキ
シレン1lを、ディーンスタークトラップを取り付けた
3l四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、100℃まで
昇温した。次に、2−エチルヘキシルブロマイド120
g(0.62mol )を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン1lで希釈し、希
塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去
した後、減圧蒸留により精製し、125gのモノエーテ
ル体を無色オイルとして得た。GLC分析により純度は
97%であった。200MHz 1H−NMRにてδ=
1.5に水酸基、δ=1.2−1.5,3.3,3.3
5,3.65にメチン及びメチレン基、δ=0.85−
0.95にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエ
ーテル体の生成を確認した。
【0023】(2)(1)で得られたモノエーテル体1
15g(0.50mol )を300ml四つ口フラスコに入
れ、攪拌しながら、五酸化リン24.0g(0.167
mol )を反応温度を70℃以下に保ちながら加えた。次
に反応温度を75〜85℃に保ち、そのまま4時間攪拌
を続けた後、水10mlを加え、更に4時間攪拌した。こ
れを1lオートクレーブに移し、水酸化ナトリウム1
5.3gを15%水溶液として加え、攪拌しながら14
5℃まで昇温し、そのまま7時間攪拌した。ジャケット
付きの1l三つ口フラスコに移し、10%硫酸水溶液3
50mlを加え、60℃まで昇温し、そのまま1時間攪拌
した。その後、室温で静置し、分層した有機層を水洗し
た。溶媒を留去し得られた残渣を減圧蒸留により精製
し、50gの黄色オイルとして下記式で表わされるリン
酸ジエステル(2−1)を得た。31P−NMRより純度
は99%、200MHz 1H−NMR(溶媒CDC
3、TMS標準)より、δ=1.2−1.5,3.
3,3.35,4.05にメチン及びメチレン基、δ=
0.85−0.95にメチル基のプロトンシグナルを認
め、リン酸ジエステルの生成を確認した。
【0024】
【化7】
【0025】(3)(2)で得られたリン酸ジエステル
(2−1)50gにエタノール100ml、酢酸カルシウ
ム16g及び水100mlを加え、60℃で2時間攪拌
し、室温まで冷却した後、ヘキサン200mlを加えて分
層させた。有機層を水洗した後、溶媒を留去し、アセト
ンで再沈させた。43gの白色固体としてリン酸ジエス
テルカルシウム塩(1−1)を得た。31P−NMRより
純度は99%、200MHz 1H−NMRより、δ=
1.2−1.5,3.3,3.35,3.85にメチン
及びメチレン基、δ=0.85−0.95にメチル基の
プロトンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム
塩の生成を確認した。
【0026】製造例2〔リン酸ジエステルアルミニウム
塩(1−2)の製造〕 リン酸ジエステル(2−1)75gにエタノール100
ml、酢酸アルミニウム30g及び水100mlを加え、6
0℃で2時間攪拌し、室温まで冷却した後、析出してき
た固体を濾過により集め、70gの白色固体としてリン
酸ジエステルアルミニウム塩(1−2)を得た。31P−
NMRより純度は99%、200MHz 1H−NMRよ
り、δ=1.2−1.6,3.3,3.35,3.8に
メチン及びメチレン基、δ=0.85−0.9にメチル
基のプロトンシグナルを認め、リン酸ジエステルアルミ
ニウム塩の生成を確認した。
【0027】製造例3〔リン酸ジエステルカルシウム塩
(1−3)の製造〕 (1)1,9−ノナンジオール500g(3.04mol
)、水酸化ナトリウム50g(1.25mol )及びキ
シレン1lを、ディーンスタークトラップを取り付けた
3l四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、100℃まで
昇温した。次に、2−エチルヘキシルブロマイド120
g(0.26mol )を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン1lで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、減圧蒸
留により精製して、135gのモノエーテル体を無色オ
イルとして得た。GLC分析により純度は99%であっ
た。200MHz 1H−NMRにてδ=1.5に水酸
基、δ=1.2−1.6,3.3,3.35,3.65
にメチン及びメチレン基、δ=0.85−0.95にメ
チル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体の生
成を確認した。
【0028】(2)(1)で得られたモノエーテル体1
50g(0.515mol )を300ml四つ口フラスコに
入れ、攪拌しながら、五酸化リン25.0g(0.17
2mol)を、反応温度を70℃以下に保ちながら加え
た。次に反応温度を75〜85℃に保ち、そのまま4時
間攪拌を続けた後、水17.5mlを加え、更に4時間攪
拌した。これを1lオートクレーブに移し、水酸化ナト
リウム10.5gを15%水溶液として加え、攪拌しな
がら、145℃まで昇温し、そのまま7時間攪拌した。
ジャケット付きの1l三つ口フラスコに移し、10%硫
酸水溶液350mlを加え、60℃まで昇温し、そのまま
1時間攪拌した。その後、室温で静置し、分層してきた
有機層を水洗した。これにエタノール100ml、酢酸カ
ルシウム20g及び水100mlを加え、60℃で2時間
攪拌し、室温まで冷却した後、ヘキサン200mlを加え
て分層させた。有機層を水洗した後、溶媒を留去し、ア
セトンで再沈させた。析出してきた固体を濾過により集
め、乾燥させ、62gの白色固体としてリン酸ジエステ
ルカルシウム塩(1−3)を得た。31P−NMRより純
度は99%、200MHz 1H−NMRより、δ=1.
2−1.6,3.3,3.35,3.85にメチン及び
メチレン基、δ=0.85−0.95にメチル基のプロ
トンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の
生成を確認した。
【0029】製造例4〔リン酸ジエステルカルシウム塩
(1−4)の製造〕 (1)1,6−ヘキサンジオール350g(3.00mo
l )、水酸化ナトリウム50g(1.25mol )及びキ
シレン1lを、ディーンスタークトラップを取り付けた
3l四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、100℃まで
昇温した。次に、3,7−ジメチルオクチルクロライド
111g(0.631mol )を滴下した後、水が溜出し
なくなるまで還流した。反応終了後、トルエン1lで希
釈し、希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を
留去した後、減圧蒸留により精製し、125gのモノエ
ーテル体を無色オイルとして得た。GLC分析により純
度は98%であった。また、200MHz 1H−NMR
にてδ=1.5に水酸基、δ=1.2−1.5,3.
3,3.35,3.65にメチン及びメチレン基、δ=
0.85−0.9にメチル基のプロトンシグナルを認
め、モノエーテル体の生成を確認した。
【0030】(2)モノエーテル体110.4g(0.
428mol )を300ml四つ口フラスコに入れ、攪拌し
ながら、五酸化リン21.1g(0.149mol )を、
反応温度を70℃以下に保ちながら加えた。次に反応温
度を75〜85℃に保ち、そのまま4時間攪拌を続けた
後、水13mlを加え、更に4時間攪拌した。これを1l
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム11.9gを
10%水溶液として加え、攪拌しながら145℃まで昇
温し、そのまま8時間攪拌した。ジャケット付きの1l
三つ口フラスコに移し、10%硫酸水溶液350mlを加
え、60℃まで昇温し、そのまま1時間攪拌した。その
後、室温で静置し、分層した有機層を水洗した。これに
エタノール200ml、酢酸カルシウム50g及び水20
0mlを加え、60℃で2時間攪拌し、室温まで冷却した
後、ヘキサン300mlを加えて分層させた。有機層を水
洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈させた。析出
してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、53gの白
色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩(1−4)
を得た。31P−NMRより純度は98%、200MHz
1H−NMRより、δ=1.2−1.6,3.3,3.
35,3.85にメチン及びメチレン基、δ=0.85
−0.9にメチル基のプロトンシグナルを認め、リン酸
ジエステルカルシウム塩の生成を確認した。
【0031】製造例5 (1)2−(2−エチルヘキシロキシ)エタノール50
0g(2.81mol )及び塩化チオニル500gを2l
四つ口フラスコに入れ、2時間加熱還流した。その後、
減圧蒸留により、510gの2−(2−エチルヘキシロ
キシ)エチルクロライドを無色オイルとして得た。
【0032】(2)1,9−ノナンジオール500g
(3.04mol )、水酸化ナトリウム50g(1.25
mol )及びキシレン1lを、ディーンスタークトラップ
を取り付けた3l四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、
100℃まで昇温した。次に、2−(2−エチルヘキシ
ロキシ)エチルクロライド120g(0.62mol )を
滴下した後、水が溜出しなくなるまで還流した。反応終
了後、トルエン1lで希釈し、析出してきた結晶を濾過
により除き、母液を希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾
過後、溶媒を留去した後、減圧蒸留により精製し、14
0gのモノエーテル体を無色オイルとして得た。GLC
分析により純度は98%であった。200MHz 1H−
NMRにてδ=1.2−1.5,3.35,3.45,
3.55,3.65にメチン及びメチレン基、δ=0.
85−0.9にメチル基のプロトンシグナルを認め、モ
ノエーテル体の生成を確認した。
【0033】(3)モノエーテル体140g(0.50
7mol )を300ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン25.0g(0.172mol )を、反応
温度を70℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を
75〜85℃に保ち、そのまま4時間攪拌を続けた後、
水17.5mlを加え、更に4時間攪拌した。これを1l
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム10.5gを
15%水溶液として加え、攪拌しながら、145℃まで
昇温し、そのまま7時間攪拌した。ジャケット付きの1
l三つ口フラスコに移し、10%硫酸水溶液350mlを
加え、60℃まで昇温し、そのまま1時間攪拌した。そ
の後、室温まで冷却し、エーテルを加えて分層させた。
分層してきた有機層を更に水洗した後、溶媒を留去し
た。これにエタノール100ml、酢酸カルシウム20
g、水100mlを加え、60℃で2時間攪拌し、室温ま
で冷却した後、エーテル300mlを加えて分層させた。
有機層を水洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈さ
せた。析出してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、
60gの白色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩
(1−5)を得た。31P−NMRより純度は99%、2
00MHz 1H−NMRより、δ=1.2−1.6,
3.35,3.45,3.55,3.85にメチン及び
メチレン基、δ=0.85−0.9にメチル基のプロト
ンシグナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の生
成を確認した。
【0034】製造例6 (1)2,3,4−トリメチルペンタン−3−カルボン
酸500g(3.09mol )、塩化チオニル500gを
2時間加熱還流した。その後、減圧蒸留により、518
gの2,3,4−トリメチルペンタン−3−カルボニル
クロライドを無色オイルとして得た。
【0035】(2)1,6−ヘキサンジオール100g
(0.85mol )を500mlナスフラスコに入れ、トリ
エチルアミン70g、ベンゼン50mlに溶解した。2,
3,4−トリメチルペンタン−3−カルボニルクロライ
ド50g(0.29mol )をベンゼン50mlに溶解して
滴下し、2晩攪拌した。水100mlを加えた後、エーテ
ル抽出した。有機層を希塩酸、水、飽和重曹水、水、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸留により精製し、5
1.5gのモノエステル体を無色オイルとして得た。G
LC分析により純度は97%であった。200MHz 1
H−NMRにてδ=2.0に水酸基、δ=1.2−1.
5,3.7,4.0にメチン及びメチレン基、δ=0.
85−0.95にメチル基のプロトンシグナルを認め、
モノエステル体の生成を確認した。
【0036】(3)モノエステル体40g(0.155
mol )を200ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン7.80g(0.515mol )を、反応
温度70℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を7
5〜85℃に保ち、そのまま4時間攪拌を続けた後、水
5.0mlを加え、更に8時間攪拌した。これを500ml
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム4.1gを1
0%水溶液として加え、攪拌しながら145℃まで昇温
し、そのまま7時間攪拌した。ジャケット付きの1l三
つ口フラスコに移し、10%硫酸水溶液105mlを加
え、60℃まで昇温し、そのまま2時間攪拌した。その
後、室温まで冷却し、エーテルを加えて分層させた。分
層してきた有機層を水洗した後、溶媒を留去した。これ
にエタノール100ml、酢酸カルシウム10g及び水1
00mlを加え、60℃で2時間攪拌し、室温まで冷却し
た後、エーテル100mlを加えて分層させた。有機層を
水洗した後、溶媒を留去し、アセトンで再沈させた。析
出してきた固体を濾過により集め、乾燥させ、12gの
白色固体としてリン酸ジエステルカルシウム塩(1−
6)を得た。31P−NMRより純度は99%、200M
Hz 1H−NMRより、δ=1.2−1.5,3.8
5,4.0にメチン及びメチレン基、δ=0.85−
0.9にメチル基のプロトンシグナルを認め、リン酸ジ
エステルカルシウム塩の生成を確認した。
【0037】製造例7 (1)1,9−ノナンジオール500g(3.04mol
)、水酸化ナトリウム50g(1.25mol )及びキ
シレン1lを、ディーンスタークトラップを取り付けた
3l四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、100℃まで
昇温した。次に、2−エチルヘキシルブロマイド120
g(0.62mol )を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン1lで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸
留により精製し、135gのモノエーテル体を無色オイ
ルとして得た。GLC分析により純度は99%であっ
た。また、200MHz 1H−NMRにてδ=1.5に
水酸基、δ=1.2−1.6,3.3,3.35,3.
65にメチン及びメチレン基、δ=0.85−0.95
にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体
の生成を確認した。
【0038】(2)モノエーテル体150g(0.51
5mol )を300ml四つ口フラスコに入れ、攪拌しなが
ら、五酸化リン25.0g(0.172mol )を、反応
温度を70℃以下に保ちながら加えた。次に反応温度を
75〜85℃に保ち、そのまま4時間攪拌を続けた後、
水17.5mlを加え、更に4時間攪拌した。これを1l
オートクレーブに移し、水酸化ナトリウム10.5gを
15%水溶液として加え、攪拌しながら145℃まで昇
温し、そのまま7時間攪拌した。ジャケット付きの1l
三つ口フラスコに移し、10%硫酸水溶液350mlを加
え、60℃まで昇温し、そのまま1時間攪拌した。その
後、室温で静置し、分層してきた有機層を更に水洗し
た。これにエタノール100ml、酢酸アルミニウム30
g及び水100mlを加え、60℃で2時間攪拌し、室温
まで冷却した後、析出してきた固体を濾過により集め、
乾燥させ、70gの白色固体としてリン酸ジエステルア
ルミニウム塩(1−9)を得た。31P−NMRより純度
は99%、200MHz 1H−NMRより、δ=1.2
−1.6,3.3,3.35,3.8にメチン及びメチ
レン基、δ=0.85−0.9にメチル基のプロトンシ
グナルを認め、リン酸ジエステルアルミニウム塩の生成
を確認した。
【0039】製造例8 (1)1,9−ノナンジオール500g(3.04mol
)、水酸化ナトリウム50g(1.25mol )及びキ
シレン1lを、ディーンスタークトラップを取り付けた
3l四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、100℃まで
昇温した。次に、2−エチルヘキシルブロマイド120
g(0.62mol )を滴下した後、水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、トルエン1lで希釈し、析
出してきた結晶を濾過により除き、母液を希塩酸、水、
飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去した後、減圧蒸
留により精製し、135gのモノエーテル体を無色オイ
ルとして得た。GLC分析により純度は99%であっ
た。また、200MHz 1H−NMRにてδ=1.5に
水酸基、δ=1.2−1.6,3.3,3.35,3.
65にメチン及びメチレン基、δ=0.85−0.95
にメチル基のプロトンシグナルを認め、モノエーテル体
の生成を確認した。
【0040】(2)オキシ塩化リン50g(0.327
mol )をテトラヒドロフラン(THF)に溶解し、50
0ml四つ口フラスコに入れ、窒素導入下、−60℃に冷
却し、攪拌しながらモノエーテル体100g(0.34
3mol )及びトリエチルアミン33gをTHFに溶かし
て滴下した。この時反応温度は−30℃以下に保った。
そのまま4時間攪拌を続けた後0℃まで昇温し、ヘキサ
デカノール83g(0.343mol )及びトリエチルア
ミン33gをTHFに溶かして滴下した。この時反応温
度5℃以下に保った。そのまま0℃で24時間攪拌した
後、水6.2gを加え、更に6時間攪拌した。その後析
出してきた固体を濾過により除き、溶媒を留去して得ら
れた残渣をエタノールに溶かし、酢酸カルシウム60
g、水及びエタノールを加えて60℃で4時間攪拌した
後、室温まで冷却し、エーテルで分層させた。有機層を
水洗し、溶媒を留去して得られた残渣をアセトンで再沈
させた。析出してきた固体を濾過により集め、乾燥さ
せ、150gの白色固体としてリン酸ジエステルカルシ
ウム塩(1−12)を得た。31P−NMRより純度は9
9%、200MHz 1H−NMRより、δ=1.2−
1.6,3.3,3.35,3.85にメチン及びメチ
レン基、δ=0.85−0.9にメチル基のプロトンシ
グナルを認め、リン酸ジエステルカルシウム塩の生成を
確認した。
【0041】製造例9 (1)tert−ブタノール200g(2.7mo
l)、1,9−ノナンジオール100g(0.625m
ol)及び硫酸2gを500mlナスフラスコに入れ、5
時間加熱還流後、水酸化ナトリウム水溶液で中和した。
未反応tert−ブタノールを留去後、ヘキサンを加え
攪拌した。ヘキサン不溶のジオールを濾過により除き、
ヘキサン層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開ヘキサン/クロロホルム)
で精製し、35gの9−tert−ブトキシ−1−ノナ
ノールを無色オイルとして得た。GLC分析より純度は
99%以上であった。200MHz 1H−NMR(溶
媒CDCl3 、TMS標準)より、δ=1.2にter
t−ブチル由来のメチル、δ=1.3,1.5〜1.
6,3.35,3.65にメチレンのそれぞれプロトン
シグナルを認め、モノエーテル体の生成を確認した。
【0042】(2)オキシ塩化リン5.0g(0.03
3mol)をTHFに溶かし、窒素導入下−50℃以下
に冷却し、これに(1)で得られたモノエーテル体15
g(0.069mol)とトリエチルアミン7.0g
(0.069mol)をTHFに溶解したものを滴下し
た。滴下終了後、0℃まで昇温し、そのまま一晩攪拌し
た。1.26gの水を滴下し、しばらく攪拌後、析出し
てきたトリエチルアミン塩酸塩を濾過により除き、溶媒
を留去して黄色オイルとしてジアルキルリン酸エステル
トリエチルアミン塩を定量的に得、これを31P−NMR
により確認した。
【0043】(3)(2)で得られたジアルキルリン酸
エステルトリエチルアミン塩4gを1.5N塩酸に分散
させ、40〜50℃で3時間攪拌した。ヘキサンで抽出
し、水洗後、溶媒を留去して、無色オイルとしてジアル
キルリン酸エステルを得た。こうして得られたジアルキ
ルリン酸エステルをエタノールに溶解し、4gの酢酸ア
ルミニウム/エタノール/水を加え、50℃で30分攪
拌した。倍量の水を加え、室温まで冷却後、析出してき
た固体を濾過により集め、水、エタノール、アセトンで
洗浄後、乾燥し、2.5gの白色固体としてジアルキル
リン酸エステルアルミニウム塩(1−21)を得た。31
P−NMRより純度は99%以上、200MHz 1
−NMR(溶媒CDCl3 、TMS標準)より、δ=
1.2にメチル、δ=1.3,1.5,1.68,3.
3,3.98にメチレンのそれぞれプロトンシグナルを
認め、ジアルキルリン酸エステルアルミニウム塩の生成
を確認した。
【0044】製造例10 (1)製造例5の(2)の1,9−ノナンジオールの代
わりに、分岐率34%のジオールの混合物(1,9−ノ
ナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール
=66:34の混合ジオール)を用いて製造例9の場合
と同様にして合成した。31P−NMRより純度は99%
以上、200MHz 1H−NMR(溶媒CDCl3
TMS標準)より、δ=0.88,1.2にメチル、δ
=1.3〜1.5,1.7,3.3,3.98にメチレ
ン及びメチンのそれぞれプロトンシグナルを認め、ジア
ルキルリン酸エステルアルミニウム塩(1−23)の生
成を確認した。
【0045】製造例11 (1)3,3−ジメチル−1−ブタノール10g(0.
10mol)、ピリジン8g(0.10mol)をベン
ゼンに溶かし、塩化チオニル12gのベンゼン溶液を氷
冷下、滴下し、80℃で5時間還流させた。水100ml
を氷冷下加え、ヘキサンで抽出した。希塩酸、水、飽和
重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、淡黄色オイルと
して得られた5gの1−クロロ−3,3−ジメチルブタ
ンをトルエンに溶解した。1,9−ノナンジオール25
g(0.156mol)をトルエンに溶かし、水酸化ナ
トリウム3.2g(0.08mol)を加え、ディーン
スタークトラップを用いて1時間共沸脱水させた。次に
1−クロロ−3,3−ジメチルブタンのトルエン溶液を
滴下し、そのまま5時間加熱還流を続け、室温まで放置
した。倍量のヘキサンを加え、不溶分を濾過により除
き、ヘキサン/トルエン層を水洗、濃縮して、モノエー
テル:ジエーテル=60:40の混合物を黄色オイルと
して得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
クロロホルム)により精製し、5gのモノエーテル体を
淡黄色オイルとして得た。GLCより純度は95%であ
った。200MHz 1H−NMR(溶媒CDCl3
TMS標準)よりδ=0.9にtert−ブチル由来の
メチル、δ=1.32,1.55〜1.7,3.45,
3.65にメチレンのそれぞれプロトンシグナルを認
め、モノエーテル体の生成を確認した。
【0046】(2)オキシ塩化リン0.91g(0.0
059mol)をTHFに溶かし、窒素導入下0℃以下
に冷却し、これに(1)で得られたモノエーテル体3.
7g(0.015mol)とトリエチルアミン1.2g
(0.012mol)をTHFに溶解したものを滴下し
た。滴下終了後、そのまま18時間攪拌した。200mg
の水をTHFに溶かして滴下し、しばらく攪拌後、2N
塩酸に分散させ、50℃で2時間攪拌した。ヘキサンで
抽出し、水洗後、溶媒を留去して得られた残渣をエタノ
ールに溶解し、5.0gの酢酸アルミニウム/エタノー
ル/水を加え、50℃で1.5時間攪拌した。倍量の水
を加え、室温まで冷却後、析出してきた固体を濾過によ
り集め、水、エタノール、アセトンで洗浄後、乾燥し、
1.5gの淡黄色固体としてジアルキルリン酸エステル
アルミニウム塩(1−28)を得た。31P−NMRより
純度は99%以上、200MHz 1H−NMR(溶媒
CDCl3 、TMS標準)よりδ=0.9にメチル、δ
=1.32,1.55〜1.7,3.45,4.0にメ
チレンのそれぞれプロトンシグナルを認め、ジアルキル
リン酸エステルアルミニウム塩の生成を確認した。
【0047】実施例1 以下に組成を示す日焼け防止ジェリーを下記製法により
調製した。
【0048】
【表1】 (組成) (重量%) (1)製造例1の化合物(1−1) 4 (2)スクワラン バランス (3)メチルフェニルポリシロキサン 5 (4)p−ジメチルアミノ安息香酸イソオクチル 2 (5)香料 適量
【0049】(製法)(1)〜(4)を加温し、ディス
パーにて均一溶解する。これに(5)をディスパーにて
均一混合し、日焼け防止ジェリーを得る。
【0050】このものは使用時に指からの液ダレが生じ
ることなく、ベタツキもない、使用感に優れるものであ
った。
【0051】実施例2 以下に組成を示すサンスクリーンクリームを下記製法に
より調製した。
【0052】
【表2】 (組成) (重量%) (1)製造例2の化合物(1−2) 4 (2)パルミチン酸のイソプロピル バランス (3)ジメチルポリシロキサン(6cs) 5 (4)メトキシ桂皮酸オクチル 3 (5)酸化チタン 5 (6)香料 適量
【0053】(製法)(1)〜(4)を加温し、ディス
パーにて均一溶解する。これに(5)及び(6)をディ
スパーにて均一に混合し、サンスクリーンクリームを得
る。
【0054】このものは、顔料分散安定性に優れるとと
もに使用感の良好なものであった。
【0055】実施例3 以下に組成を示す油性洗浄剤を下記製法により調製し
た。
【0056】
【表3】 (組成) (重量%) (1)製造例3の化合物(1−3) 3 (2)トリイソステアリン酸POE(20)グリセリル 10 (3)スクワラン 40 (4)パルミチン酸イソプロピル 47
【0057】(製法)(1)〜(4)を加温し、ディス
パーにて均一溶解する。
【0058】このものは、安定で使用感に優れるもので
あった。また、使用時に指からの液ダレが生じなかっ
た。
【0059】実施例4 以下に組成を示すクリーム状W/O型ファンデーション
を下記製法により得た。
【0060】
【表4】 (組成) (重量%) (1)製造例4の化合物(1−4) 10 (2)ジメチルポリシロキサン(6cs) 5 (3)スクワラン 40 (4)グリセリン 2 (5)精製水 残量 (6)顔料 セリサイト 6 酸化チタン 8 酸化鉄 12 (7)ナイロンパウダー 5 (8)ジメチルポリシロキサン・ポリオキシ アルキレン共重合体 1
【0061】(製法)(1)〜(3)及び(8)を加温
し、ディスパーにて均一に溶解した後、(6)及び
(7)を添加して、更にディスパーにて分散させた。こ
れに(4)及び(5)を攪拌しながら添加して乳化し、
ファンデーションを得る。
【0062】このものは顔料分散安定性及び使用感に優
れ、また、使用時に指からの液ダレもなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−207538(JP,A) 特開 平5−43419(JP,A) 特開 平5−25028(JP,A) 特開 平2−229106(JP,A) 特開 平1−316309(JP,A) 特開 昭63−51934(JP,A) 特開 平1−193278(JP,A) 特開 昭63−112590(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A61K 7/00 - 7/50 C09K 3/00 C07F 9/09 - 9/40

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は炭素数1〜20の直鎖又は分岐鎖のアル
    キル基を示し、R2 及びR4 は、同一又は異なって、炭
    素数2〜3の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、R
    3 は炭素数3〜20の直鎖又は炭素数5〜20の分岐鎖
    のアルキレン基を示し、Aは−COO−又は−O−を示
    し、x及びyは、同一又は異なって、0〜10の整数を
    示し、Lは炭素数1〜40の直鎖若しくは分岐鎖のアル
    キル基又はR1-(OR2)x-A-R3-(OR4)y-(式中、R1
    2 、R3 、R4 、A、x及びyは前記と同義である)
    を示し、Mは2価以上の多価金属を示し、mは多価金属
    の原子価と同じ数を示す)で表わされるリン酸ジエステ
    ル多価金属塩を含有することを特徴とする化粧料。
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