JP3162782B2 - 磁気特性の優れた軟磁性鉄板及びその製造方法 - Google Patents
磁気特性の優れた軟磁性鉄板及びその製造方法Info
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- JP3162782B2 JP3162782B2 JP04855592A JP4855592A JP3162782B2 JP 3162782 B2 JP3162782 B2 JP 3162782B2 JP 04855592 A JP04855592 A JP 04855592A JP 4855592 A JP4855592 A JP 4855592A JP 3162782 B2 JP3162782 B2 JP 3162782B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、磁気シールド材や磁
性機器のヨーク材などの用途に用いて好適な磁気特性の
優れた軟磁性鉄板及びその製造方法に関するものであ
る。
性機器のヨーク材などの用途に用いて好適な磁気特性の
優れた軟磁性鉄板及びその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、医療機器の分野で核磁気共鳴現象
を利用した磁気共鳴断層撮影装置（ＭＲＩ）や、高速鉄
道としてのリニアモーター等の実用化が精力的に進めら
れ、それに伴い、発生する漏洩磁気の遮断材として優れ
た磁気特性を有する磁気シールド材が要求されている。
また、ＳＳＣ（Superconducting-Super-Collider）等の
巨大加速器や素粒子検出器などの建設に伴って、それら
磁性機器のヨーク材として特に優れた軟磁性を有する大
量供給可能な軟磁性鉄板が求められている。
を利用した磁気共鳴断層撮影装置（ＭＲＩ）や、高速鉄
道としてのリニアモーター等の実用化が精力的に進めら
れ、それに伴い、発生する漏洩磁気の遮断材として優れ
た磁気特性を有する磁気シールド材が要求されている。
また、ＳＳＣ（Superconducting-Super-Collider）等の
巨大加速器や素粒子検出器などの建設に伴って、それら
磁性機器のヨーク材として特に優れた軟磁性を有する大
量供給可能な軟磁性鉄板が求められている。
【０００３】磁気シールド性を高めた、高透磁率を有す
る鋼板については、従来から種々の提案がなされ、たと
えば特開昭60-96749号公報には、厚板の成分を主体にし
たものが示されているけれども、透磁率レベルが低い。
また特開平３-94046号公報には最大透磁率μmax 及び磁
束密度 B1 に優れた磁気シールド用鋼板が開示されてい
る。
る鋼板については、従来から種々の提案がなされ、たと
えば特開昭60-96749号公報には、厚板の成分を主体にし
たものが示されているけれども、透磁率レベルが低い。
また特開平３-94046号公報には最大透磁率μmax 及び磁
束密度 B1 に優れた磁気シールド用鋼板が開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の軟
磁性鉄板に、保磁力について考慮が払われてなく、大量
生産で得られるものの保磁力はせいぜい 1.9エルステッ
ド（Oe）程度でしかなく、またμmax も数1000程度にす
ぎなかった。この発明は、上記の問題を有利に解決する
もので、大量生産の下でも、保磁力が著しく低く、かつ
高い透磁率を有する軟磁性鉄板を、その有利な製造方法
と共に提案することを目的とする。
磁性鉄板に、保磁力について考慮が払われてなく、大量
生産で得られるものの保磁力はせいぜい 1.9エルステッ
ド（Oe）程度でしかなく、またμmax も数1000程度にす
ぎなかった。この発明は、上記の問題を有利に解決する
もので、大量生産の下でも、保磁力が著しく低く、かつ
高い透磁率を有する軟磁性鉄板を、その有利な製造方法
と共に提案することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】さて一般に保磁力を支配
する因子としては、歪や成分など種々の要因があると考
えられるけれども、この点に関する発明者らの研究によ
れば、残留不純物成分の混入を低く抑え、特に炭素を30
ppm以下に抑制した上で、常法に従う再結晶焼鈍後に、
特殊な条件下で圧延処理及び焼鈍処理を施すことによっ
て、格段に低い保磁力と高い透磁率を有する軟磁性鋼板
が得られることの知見を得た。この発明は、上記の知見
に立脚するものである。
する因子としては、歪や成分など種々の要因があると考
えられるけれども、この点に関する発明者らの研究によ
れば、残留不純物成分の混入を低く抑え、特に炭素を30
ppm以下に抑制した上で、常法に従う再結晶焼鈍後に、
特殊な条件下で圧延処理及び焼鈍処理を施すことによっ
て、格段に低い保磁力と高い透磁率を有する軟磁性鋼板
が得られることの知見を得た。この発明は、上記の知見
に立脚するものである。
【０００６】すなわちこの発明は、 Ｃ：0.003 wt％（以下単に％で示す）以下（但し 0.003
％は除く）、 Si：0.05％以下、 Mn：0.05〜0.3 ％、 Al：0.05％以下、 Ｐ＋Ｓ：0.03％以下、 Ｏ：0.015 ％以下、 Ｎ：0.005 ％以下 を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成にな
り、フェライト粒の大きさが結晶粒度番号で２以下、−
７以上で、かつ板厚が１〜６mmであることを特徴とする
磁気特性の優れた軟磁性鉄板である。
％は除く）、 Si：0.05％以下、 Mn：0.05〜0.3 ％、 Al：0.05％以下、 Ｐ＋Ｓ：0.03％以下、 Ｏ：0.015 ％以下、 Ｎ：0.005 ％以下 を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成にな
り、フェライト粒の大きさが結晶粒度番号で２以下、−
７以上で、かつ板厚が１〜６mmであることを特徴とする
磁気特性の優れた軟磁性鉄板である。
【０００７】またこの発明は、 Ｃ：0.003 ％以下（但し 0.003％は除く）、 Si：0.05％以下、 Mn：0.05〜0.3 ％、 Al：0.05％以下、 Ｐ＋Ｓ：0.03％以下、 Ｏ：0.015 ％以下、 Ｎ：0.005 ％以下 を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる
スラブを、熱間圧延し、ついで所定の厚みに冷間圧延し
た後、再結晶焼鈍を施し、その後 0.5〜30％の圧下率で
２次冷延を施して１〜６mmの板厚とした後、 800〜900
℃の温度範囲で最終焼鈍を施すことを特徴とする磁気特
性の優れた軟磁性鉄板の製造方法である。
スラブを、熱間圧延し、ついで所定の厚みに冷間圧延し
た後、再結晶焼鈍を施し、その後 0.5〜30％の圧下率で
２次冷延を施して１〜６mmの板厚とした後、 800〜900
℃の温度範囲で最終焼鈍を施すことを特徴とする磁気特
性の優れた軟磁性鉄板の製造方法である。
【０００８】以下、この発明を具体的に説明する。 Si：0.04％, Mn：0.1 ％, Al：0.03, （Ｐ＋Ｓ）：0.01
％, Ｏ：0.008 ％及びＮ：0.001 ％を基本成分として含
み、Ｃ量を種々に変化させて含有させたスラブに、熱間
圧延ついで冷間圧延を施したのち、再結晶焼鈍処理を施
し、引き続き２次冷延を施してから最終焼鈍処理を施し
て結晶粒径の大きさを種々に異ならせた鉄板の残留磁化
Hc について調べた結果を、Ｃ含有量と結晶粒度との関
係で図１に示す。同図より明らかなように、HcはＣ含有
量と強い相関があり、Ｃ量を30 ppm以下に低減させるこ
とによってはじめて低い残留磁化が得られる。しかしな
がらＣ≦30 ppmではあっても、結晶粒の大きさが結晶粒
度番号で２を超えるとHcの増大を招く。
％, Ｏ：0.008 ％及びＮ：0.001 ％を基本成分として含
み、Ｃ量を種々に変化させて含有させたスラブに、熱間
圧延ついで冷間圧延を施したのち、再結晶焼鈍処理を施
し、引き続き２次冷延を施してから最終焼鈍処理を施し
て結晶粒径の大きさを種々に異ならせた鉄板の残留磁化
Hc について調べた結果を、Ｃ含有量と結晶粒度との関
係で図１に示す。同図より明らかなように、HcはＣ含有
量と強い相関があり、Ｃ量を30 ppm以下に低減させるこ
とによってはじめて低い残留磁化が得られる。しかしな
がらＣ≦30 ppmではあっても、結晶粒の大きさが結晶粒
度番号で２を超えるとHcの増大を招く。
【０００９】次に、図２に、Ｐ及びＳが残留磁化に及ぼ
す影響について調べた結果を、Ｃ含有量との関係で示
す。同図より明らかなように、Ｃ含有量を30 ppm以下と
した上で、（Ｐ＋Ｓ）量を0.03％以下まで低減すること
により、Hc≦1.5 Oeの優れた残留磁化が得られている。
す影響について調べた結果を、Ｃ含有量との関係で示
す。同図より明らかなように、Ｃ含有量を30 ppm以下と
した上で、（Ｐ＋Ｓ）量を0.03％以下まで低減すること
により、Hc≦1.5 Oeの優れた残留磁化が得られている。
【００１０】
【作用】以下、この発明で軟磁性鉄板の成分組成範囲を
前記の範囲に限定した理由について説明する。 Ｃ：0.003 ％以下（但し 0.003％は除く） 前掲図１に示したとおり、Ｃ量が 0.003％（30 ppm）を
超えると残留磁化が増大し、1.5 Oe以下の残留磁化が得
難くなるので、Ｃ量は0.003 ％以下（但し 0.003％は除
く）に抑制するものとした。
前記の範囲に限定した理由について説明する。 Ｃ：0.003 ％以下（但し 0.003％は除く） 前掲図１に示したとおり、Ｃ量が 0.003％（30 ppm）を
超えると残留磁化が増大し、1.5 Oe以下の残留磁化が得
難くなるので、Ｃ量は0.003 ％以下（但し 0.003％は除
く）に抑制するものとした。
【００１１】Si：0.05％以下 Siは、飽和磁束密度（ＢS ）及び透磁率の劣化を招く元
素であり、0.05％を超えて多量に含有されると、良好な
残留磁化が得られないので、0.05％以下の範囲で含有さ
せるものとした。
素であり、0.05％を超えて多量に含有されると、良好な
残留磁化が得られないので、0.05％以下の範囲で含有さ
せるものとした。
【００１２】Mn：0.05〜0.3 ％ Mnは、表面性状の改善に有効に寄与するが、含有量が0.
05％に満たないとその添加効果に乏しく、一方 0.3％を
超えると磁気特性に悪影響を及ぼすので、0.05〜0.3 ％
の範囲で含有させるものとした。
05％に満たないとその添加効果に乏しく、一方 0.3％を
超えると磁気特性に悪影響を及ぼすので、0.05〜0.3 ％
の範囲で含有させるものとした。
【００１３】Al：0.05％以下 Al含有量が0.05％を超えると、後述する所定範囲の結晶
粒度が得られなくなるだけでなく、窒素や酸素とて結合
して微小析出物が形成され、磁気特性の劣化を招くの
で、0.05％以下で含有させるものとした。
粒度が得られなくなるだけでなく、窒素や酸素とて結合
して微小析出物が形成され、磁気特性の劣化を招くの
で、0.05％以下で含有させるものとした。
【００１４】Ｐ＋Ｓ：0.03％以下 Ｐ及びＳはいずれも、粒界に偏析し、また特にＳはMnな
どと硫化物を形成して磁壁の移動を阻害する有害元素で
あり極力低減することが望ましい。とくに前掲図２に示
したとおり、（Ｐ＋Ｓ）量が0.03％を超えると残留磁化
が増大するので、Ｐ，Ｓはそれらの合計量で0.03％以下
に制限した。
どと硫化物を形成して磁壁の移動を阻害する有害元素で
あり極力低減することが望ましい。とくに前掲図２に示
したとおり、（Ｐ＋Ｓ）量が0.03％を超えると残留磁化
が増大するので、Ｐ，Ｓはそれらの合計量で0.03％以下
に制限した。
【００１５】Ｏ：0.015 ％以下、Ｎ：0.005 ％以下 Ｏ及びＮはいずれも、介在物を形成して磁気特性を劣化
させる有害元素であるが、それぞれＯ：0.015 ％以下、
Ｎ：0.005 ％以下の範囲で許容される。
させる有害元素であるが、それぞれＯ：0.015 ％以下、
Ｎ：0.005 ％以下の範囲で許容される。
【００１６】以上、成分組成範囲について説明したが、
この発明では成分組成が上記の範囲を満足するだけでは
不十分で、フェライト結晶粒の大きさを所定の範囲に制
限することが肝要である。すなわち前掲図１に示したよ
うに、フェライト結晶粒の大きさが結晶粒度番号で２を
超えるとHcが増大し、この発明で目標とするHc≦1.5 Oe
の優れた残留磁化が得られない。とはいえ結晶粒の大き
さが結晶粒度番号で−７を下回るほど粗大になると強度
の面で問題が生じる。そこでフェライト結晶粒の大きさ
は、結晶粒度番号で２以下、−７以上の範囲に限定する
ものとした。
この発明では成分組成が上記の範囲を満足するだけでは
不十分で、フェライト結晶粒の大きさを所定の範囲に制
限することが肝要である。すなわち前掲図１に示したよ
うに、フェライト結晶粒の大きさが結晶粒度番号で２を
超えるとHcが増大し、この発明で目標とするHc≦1.5 Oe
の優れた残留磁化が得られない。とはいえ結晶粒の大き
さが結晶粒度番号で−７を下回るほど粗大になると強度
の面で問題が生じる。そこでフェライト結晶粒の大きさ
は、結晶粒度番号で２以下、−７以上の範囲に限定する
ものとした。
【００１７】次に、この発明に従う製造方法について説
明する。素材の溶製に際しては特に限定されることはな
く、従来公知の溶製法いずれもが使用できるが、とくに
真空脱ガス等の精錬処理を施すことが、不純物元素の混
入量や非金属介在物量を低減する上で有利である。ま
た、熱間圧延、冷間圧延及び再結晶焼鈍処理について
も、特に限定されることはなく、常法に従って行えばよ
い。
明する。素材の溶製に際しては特に限定されることはな
く、従来公知の溶製法いずれもが使用できるが、とくに
真空脱ガス等の精錬処理を施すことが、不純物元素の混
入量や非金属介在物量を低減する上で有利である。ま
た、熱間圧延、冷間圧延及び再結晶焼鈍処理について
も、特に限定されることはなく、常法に従って行えばよ
い。
【００１８】さてこの発明法では、上記の各処理後、
0.5〜30％の圧下率で２次冷延を施した後、 800〜900
℃の温度範囲で最終焼鈍を施すことによって、結晶粒を
所望の大きさとし、もって磁気特性の向上を図るのであ
る。図３（ａ），（ｂ）に、Ｃ含有量が12 ppmの再結晶
焼鈍板に、圧下率を種々に変化させて２次冷延を施した
のち、 750℃, 800℃, 880℃の各温度で30秒間の最終
焼鈍を施した後のHcとμmax の値について調べた結果を
それぞれ示す。同図より明らかなように、圧下率が 0.5
〜30％の範囲であれば、その後の最終焼鈍温度 800℃以
上において良好な磁気特性が得られている。そこでこの
発明では、２次冷延における圧下率につき、 0.5〜30％
の範囲に限定したのである。なお２次冷延後の板厚につ
いては、１〜６mm程度とすることが好ましい。というの
は板厚が１mmより薄いと実用上、強度等に問題が残り、
一方６mmを超えると焼鈍条件等で粒径の制御が困難とな
るからである。
0.5〜30％の圧下率で２次冷延を施した後、 800〜900
℃の温度範囲で最終焼鈍を施すことによって、結晶粒を
所望の大きさとし、もって磁気特性の向上を図るのであ
る。図３（ａ），（ｂ）に、Ｃ含有量が12 ppmの再結晶
焼鈍板に、圧下率を種々に変化させて２次冷延を施した
のち、 750℃, 800℃, 880℃の各温度で30秒間の最終
焼鈍を施した後のHcとμmax の値について調べた結果を
それぞれ示す。同図より明らかなように、圧下率が 0.5
〜30％の範囲であれば、その後の最終焼鈍温度 800℃以
上において良好な磁気特性が得られている。そこでこの
発明では、２次冷延における圧下率につき、 0.5〜30％
の範囲に限定したのである。なお２次冷延後の板厚につ
いては、１〜６mm程度とすることが好ましい。というの
は板厚が１mmより薄いと実用上、強度等に問題が残り、
一方６mmを超えると焼鈍条件等で粒径の制御が困難とな
るからである。
【００１９】次に図４（ａ），（ｂ）に、同じくＣ含有
量が12 ppmの再結晶焼鈍板につき、２次冷延後の焼鈍温
度を種々に変化させて焼鈍処理を施したときのHcとμ
max の値について調べた結果を、冷延圧下率をパラメー
タとしてそれぞれ示す。同図より明らかなように、所定
の圧下率で冷延後、 800〜900 ℃の温度範囲で最終焼鈍
を施すことによって、優れた磁気特性が得られている。
そこでこの発明では、最終焼鈍における焼鈍温度につ
き、 800〜900 ℃の範囲に限定したのである。なお焼鈍
時間については、結晶粒界の移動速度、冷間圧延時に導
入される歪の回復などを考慮すると、20秒以上とするこ
とが好ましい。
量が12 ppmの再結晶焼鈍板につき、２次冷延後の焼鈍温
度を種々に変化させて焼鈍処理を施したときのHcとμ
max の値について調べた結果を、冷延圧下率をパラメー
タとしてそれぞれ示す。同図より明らかなように、所定
の圧下率で冷延後、 800〜900 ℃の温度範囲で最終焼鈍
を施すことによって、優れた磁気特性が得られている。
そこでこの発明では、最終焼鈍における焼鈍温度につ
き、 800〜900 ℃の範囲に限定したのである。なお焼鈍
時間については、結晶粒界の移動速度、冷間圧延時に導
入される歪の回復などを考慮すると、20秒以上とするこ
とが好ましい。
【００２０】さらに図５に、この発明法に従い圧下率：
５％で２次冷延したのち、 880℃，の最終焼鈍を施した
ときの残留磁化Hcについて調べた結果を示したが、圧下
なしの場合に比較してHcは格段に低減している。
５％で２次冷延したのち、 880℃，の最終焼鈍を施した
ときの残留磁化Hcについて調べた結果を示したが、圧下
なしの場合に比較してHcは格段に低減している。
【００２１】
【実施例】実施例１ Ｃ：0.0018％, Si：0.04％, Mn：0.17％, Ｐ：0.010
％, Ｓ：0.007 ％, Al：0.008 ％, Ｏ：0.01％及びＮ：
0.0019％を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組
成になるスラブに、熱間圧延ついで冷間圧延を施したの
ち、 880℃で再結晶焼鈍を施した。ついで表１に示す条
件で２次冷延を施して、それぞれ 1.2mm, 1.6mm, 3,0mm
及び 6.0mmの板厚に仕上げたのち、同じく表１に示す条
件で最終焼鈍を施した。かくして得られた各鉄板の結晶
粒度並びに残留磁化及び最大透磁率について調べた結果
を、表１に示す。なお表１には、比較のため、Ｃを0.00
43％と多量に含有するスラブ（比較材Ａ）及びAlを0.08
％と多量に含有するスラブ（比較材Ｂ）について同様の
処理を施した場合についての調査結果についても併記す
る。
％, Ｓ：0.007 ％, Al：0.008 ％, Ｏ：0.01％及びＮ：
0.0019％を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組
成になるスラブに、熱間圧延ついで冷間圧延を施したの
ち、 880℃で再結晶焼鈍を施した。ついで表１に示す条
件で２次冷延を施して、それぞれ 1.2mm, 1.6mm, 3,0mm
及び 6.0mmの板厚に仕上げたのち、同じく表１に示す条
件で最終焼鈍を施した。かくして得られた各鉄板の結晶
粒度並びに残留磁化及び最大透磁率について調べた結果
を、表１に示す。なお表１には、比較のため、Ｃを0.00
43％と多量に含有するスラブ（比較材Ａ）及びAlを0.08
％と多量に含有するスラブ（比較材Ｂ）について同様の
処理を施した場合についての調査結果についても併記す
る。
【００２２】
【表１】
【００２３】表１より明らかなように、発明材に対し
て、適正範囲の圧下率で２次冷延し、ついで適正温度で
最終焼鈍を施すことによって、粒度番号−７〜２の大き
さの結晶粒をもち、良好な磁束密度の鉄板が得られてい
る。これに対し、２次冷延の圧下率及び／又はその後の
焼鈍温度か適正範囲を外れた場合は、結晶粒径が適正範
囲を逸脱するため、十分な軟磁特性は得られていない。
また比較材Ａに対して、適正範囲の２次冷延及び最終焼
鈍を実施しても、良好な軟磁特性は得られていない。こ
れは、Ｃを多量に含有しているためである。比較材Ｂに
ついても同様の理由により、十分な軟磁特性が得られて
いない。
て、適正範囲の圧下率で２次冷延し、ついで適正温度で
最終焼鈍を施すことによって、粒度番号−７〜２の大き
さの結晶粒をもち、良好な磁束密度の鉄板が得られてい
る。これに対し、２次冷延の圧下率及び／又はその後の
焼鈍温度か適正範囲を外れた場合は、結晶粒径が適正範
囲を逸脱するため、十分な軟磁特性は得られていない。
また比較材Ａに対して、適正範囲の２次冷延及び最終焼
鈍を実施しても、良好な軟磁特性は得られていない。こ
れは、Ｃを多量に含有しているためである。比較材Ｂに
ついても同様の理由により、十分な軟磁特性が得られて
いない。
【００２４】実施例２ 実施例１と同一の成分組成になるスラブを、同じく実施
例１と同様にして再結晶焼鈍まで施したのち、表２に示
す条件で２次冷延及び最終焼鈍を施した。かくして得ら
れた各鉄板の結晶粒度並びに残留磁化及び最大透磁率に
ついて調べた結果を、表２に示す。なお表２には、比較
のため、Ｃを0.0043％と多量に含有するスラブ、及びAl
を0.08％と多量に含有するスラブについて同様の処理を
施した場合についての調査結果についても併記する。
例１と同様にして再結晶焼鈍まで施したのち、表２に示
す条件で２次冷延及び最終焼鈍を施した。かくして得ら
れた各鉄板の結晶粒度並びに残留磁化及び最大透磁率に
ついて調べた結果を、表２に示す。なお表２には、比較
のため、Ｃを0.0043％と多量に含有するスラブ、及びAl
を0.08％と多量に含有するスラブについて同様の処理を
施した場合についての調査結果についても併記する。
【００２５】
【表２】
【００２６】表２より明らかなように、発明材におい
て、結晶粒度番号が−７〜２の適正範囲の場合には良好
な軟磁特性が得られているが、適正範囲を逸脱した場合
には軟磁特性は好ましくい。これに対し、比較材Ａ，Ｂ
はそれぞれ、結晶粒度番号が適正範囲内であっても、Ｃ
やAlを多量に含有しているため良好な軟磁特性は得られ
ていない。このように、成分組成が適正範囲から逸脱し
ている場合には、たとえ結晶粒径が適合していても、良
好な軟磁特性は得られなかった。
て、結晶粒度番号が−７〜２の適正範囲の場合には良好
な軟磁特性が得られているが、適正範囲を逸脱した場合
には軟磁特性は好ましくい。これに対し、比較材Ａ，Ｂ
はそれぞれ、結晶粒度番号が適正範囲内であっても、Ｃ
やAlを多量に含有しているため良好な軟磁特性は得られ
ていない。このように、成分組成が適正範囲から逸脱し
ている場合には、たとえ結晶粒径が適合していても、良
好な軟磁特性は得られなかった。
【００２７】
【発明の効果】かくしてこの発明によれば、工場的規模
での大量生産の下でも、保磁力が著しく低く、しかも高
い透磁率を有する軟磁性鉄板を安定して得ることができ
る。
での大量生産の下でも、保磁力が著しく低く、しかも高
い透磁率を有する軟磁性鉄板を安定して得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】鉄板の残留磁化 Hc に及ぼすＣ含有量と結晶粒
度との関係を示したグラフである。
度との関係を示したグラフである。
【図２】鉄板の残留磁化 Hc に及ぼす（Ｐ＋Ｓ）の影響
を、Ｃ含有量との関係で示したグラフである。
を、Ｃ含有量との関係で示したグラフである。
【図３】鉄板の残留磁化 Hc 及び最大透磁率μmax に及
ぼす２次冷延における圧下率の影響を、最終焼鈍温度と
の関係で示したグラフである。
ぼす２次冷延における圧下率の影響を、最終焼鈍温度と
の関係で示したグラフである。
【図４】鉄板の残留磁化 Hc 及び最大透磁率μmax に及
ぼす最終焼鈍における焼鈍温度の影響を、それに先立つ
２次冷延における圧下率との関係で示したグラフであ
る。
ぼす最終焼鈍における焼鈍温度の影響を、それに先立つ
２次冷延における圧下率との関係で示したグラフであ
る。
【図５】この発明に従う適正条件で２次冷延及び最終焼
鈍を施して得られた鉄板の残留磁化の値を、Ｃ含有量と
の関係で示したグラフである。
鈍を施して得られた鉄板の残留磁化の値を、Ｃ含有量と
の関係で示したグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 一弘 千葉県千葉市川崎町１番地 川崎製鉄株 式会社 技術研究本部内 (56)参考文献 特開 昭60−96749（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−17014（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−61029（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−243715（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−9665（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−280921（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−78742（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−94046（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C22C 38/00 - 38/60 C21D 8/12
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｃ：0.003 wt％以下（但し 0.003wt％は除く）、 Si：0.05wt％以下、 Mn：0.05〜0.3 wt％、 Al：0.05wt％以下、 Ｐ＋Ｓ：0.03wt％以下、 Ｏ：0.015 wt％以下、 Ｎ：0.005 wt％以下 を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成にな
り、フェライト粒の大きさが結晶粒度番号で２以下、−
７以上で、かつ板厚が１〜６mmであることを特徴とする
磁気特性の優れた軟磁性鉄板。 - 【請求項２】 Ｃ：0.003 wt％以下（但し 0.003wt％は除く）、 Si：0.05wt％以下、 Mn：0.05〜0.3 wt％、 Al：0.05wt％以下、 Ｐ＋Ｓ：0.03wt％以下、 Ｏ：0.015 wt％以下、 Ｎ：0.005 wt％以下 を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる
スラブを、熱間圧延し、ついで所定の厚みに冷間圧延し
た後、再結晶焼鈍を施し、その後 0.5〜30％の圧下率で
２次冷延を施して１〜６mmの板厚とした後、 800〜900
℃の温度範囲で最終焼鈍を施すことを特徴とする磁気特
性の優れた軟磁性鉄板の製造方法。
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