JP3161825B2 - 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法 - Google Patents

鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法

Info

Publication number
JP3161825B2
JP3161825B2 JP21012992A JP21012992A JP3161825B2 JP 3161825 B2 JP3161825 B2 JP 3161825B2 JP 21012992 A JP21012992 A JP 21012992A JP 21012992 A JP21012992 A JP 21012992A JP 3161825 B2 JP3161825 B2 JP 3161825B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
solution
site
organic compound
based composite
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP21012992A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0657437A (ja
Inventor
豊 島原
眞一 平野
利信 余語
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP21012992A priority Critical patent/JP3161825B2/ja
Publication of JPH0657437A publication Critical patent/JPH0657437A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3161825B2 publication Critical patent/JP3161825B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は鉛系複合ペロブスカイト
型酸化物薄膜の製造方法、特に、積層コンデンサの誘電
体材料として有用な鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄
膜の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、鉛系複合ペロブスカイト型酸化
物は、低温で焼成でき、大きな誘電率を有しているた
め、コンデンサ、特に、積層コンデンサの誘電体材料と
して注目されている。他方、最近の電子機器の小型化、
高性能化に伴い、コンデンサの小型、大容量化が要望さ
れ、その要望に応えるべくコンデンサ材料である誘電体
磁器の薄膜化が研究され、その薄膜化手段としてスパッ
タリングなどの物理蒸着法或いは熱分解による化学蒸着
法を採用することが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、物理蒸
着法では、成膜工程の前段階として、誘電体磁器の構成
元素の炭酸塩や酸化物を予め所定の割合で混合し、その
混合粉末を仮焼、粉砕して仮焼粉末を調製し、これを成
形した後、焼成してターゲットを用意しなければなら
ず、従って、工程が多く非常に繁雑であり、また、蒸着
のための装置が高価で、しかも、化学組成の制御が困難
なため所望の特性のものを得るのが困難であるという問
題がある。他方、化学蒸着法は、物理蒸着法のようにタ
ーゲットを調製する準備工程が不要であるが、大部分の
出発原料を気化させる必要があり、しかも、蒸着時の装
置内壁への付着が多いため、成膜効率が悪く生産性が低
いという問題があった。
【0004】これらの問題を解決する手段として、本発
明者は、特願平3ー87893号明細書にて、一般式:
ABO3、(但し、AはPbであり、Bは少なくとも一つ
の2価〜6価の金属元素を表し、その価数が4であ
る。)で表される鉛系複合ペロブスカイト型酸化物のA
サイトを構成する鉛の有機化合物若しくはその溶液を、
Bサイトを構成する金属元素の各アルコキシド溶液又は
それらの混合溶液に添加し、それらを均一に混合反応さ
せて濃縮し、この濃縮溶液を基板表面に塗布して塗布膜
を形成した後、塗布膜に含まれる有機物の加熱分解処理
を行ない、さらに焼成することを特徴とする方法、即
ち、ゾルーゲル法を提案した。
【0005】このゾルーゲル方法は、MgO或いはSrT
iO3単結晶からなる基体上にエピタキシャルで単結晶膜
を形成できるという利点があるが、基板の種類が限られ
ること、特に、金属基板では、格子定数の不整合及び化
学結合の相異等から低誘電率相であるパイロクロアも生
成されるという問題があることが明らかとなった。
【0006】従って、本発明は、前記ゾルーゲル法の利
点を損なうことなく、鉛系複合ペロブスカイト型酸化物
薄膜を任意の基板上に、かつ、工業的に製造することが
できるようにすることを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するための手段として、一般式:ABO3、(式中、A
はPbで、Bは少なくとも一種の2〜6価の金属元素を
表し、その価数の合計が4価である。)で表される鉛系
複合ペロブスカイト型酸化物のAサイトの構成元素であ
る鉛を含有する鉛含有有機化合物若しくはその溶液を、
Bサイトの構成元素である金属元素を含有するBサイト
金属含有有機化合物の少なくとも一種を溶解した溶液に
添加し、それらを均一に混合反応させた後、濃縮し、得
られた濃縮液を基板表面に塗布して塗布膜を形成し、該
塗布膜に含まれる有機化合物を熱分解処理した後、熱処
理して鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜を製造する
方法において、前記溶液中に結晶核種として酸化物粉末
を10mol%以下添加するようにしたものである。
【0008】前記一般式で表される鉛系複合ペロブスカ
イト型酸化物には、例えば、Pb(Mg1/3Nb2/3)O3、P
b(Mg2/3Nb1/3)O3、Pb(Fe2/31/3)O3、Pb(Fe
1/21 /2)O3、Pb(Fe1/2Nb1/2)O3、Pb(Mn1/3Nb
2/3)O3、Pb(Mg1/32/3)O3、Pb(Mg1/22/3)
3、Pb(Mg1/3Ta2/3)O3、Pb(Ni1/3Nb2/3)O3
Pb(Ni1/3Ta2/3)O3、Pb(Mn2/31/3)O3、Pb(Mn
1/21/2)O3、Pb(Co1/3Nb2/3)O3、Pb(Co1/2
1/2)O3、Pb(Mn1/3Ta2/3)O3、Pb(Zn1/3Nb2/3)O
3、Pb(Mn1/3Sb2/3)O3、Pb(In1/2Nb1/2)O3など
の他、これらを2種以上含む多成分系若しくは複合系な
どが含まれる。
【0009】前記鉛含有有機化合物としては、鉛のアル
コキシド、ビスアセチルアセトナト錯塩及び有機酸塩な
どが代表的なものとして挙げられ、これらは単独で又は
2種以上を組み合わせて使用できる。鉛の有機酸塩とし
ては、カルボン酸塩が代表的なものとして挙げられ、炭
素数15以下、好ましくは8以下のものが好適であり、
例えば、酢酸鉛 (無水塩)、酢酸鉛 (三水塩)、四酢酸
鉛 (無水塩)などが挙げられる。この鉛含有有機化合物
は、そのまま後述のBサイト金属含有有機化合物の溶液
に添加しても良く、また、Bサイト金属含有有機化合物
を溶解するのに使用する溶媒と同じ溶媒に溶解させて溶
液となし、その溶液をBサイト金属含有有機化合物溶液
と混合するようにしても良い。
【0010】前記Bサイトの構成元素の代表的なものと
しては、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、錫(Sn)、
マンガン(Mn)、マグネシウム(Mg)、ニオブ(Nb)、鉄
(Fe)、タングステン(W)、コバルト(Co)などが有り、
Bサイトを構成するこれらの金属元素を含む有機化合
物、即ち、Bサイト金属含有有機化合物としては、Bサ
イト金属元素のアルコキシド、有機酸塩及びビスアセチ
ルアセトナト錯塩などが代表的なものとして挙げられ、
これらは単独で又は2種以上を組み合わせて使用でき
る。Bサイト金属元素の有機酸塩の代表的なものとして
は、酢酸塩などをはじめとするカルボン酸塩があるが、
これらは炭素数15以下、好ましくは8以下のものが好
適である。
【0011】鉛アルコキシド及びBサイト金属のアルコ
キシドとしては、任意のものが使用できるが、アルコキ
シ基の炭素数が15以下、好ましくは、8以下のものが
望ましい。代表的なものとしては、チタンのアルコキシ
ドを例にすると、チタンエトキシド(Ti(OC25)4)チ
タンイソブトキシド(Ti(OC49)4)、チタンイソプロ
ポキシド(Ti(OC37)4)、ジブトキシ−ジトリエタノ
ール−アミネートチタン、ジブトキシ−ジ (2− (ヒド
ロキシエチルアミノ)エトキシ)チタン(Ti(C49O)
2・ [N(C24OH)2・(C24O)2])などが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。
【0012】前記結晶核種としての酸化物としては、ペ
ロブスカイト型酸化物、例えば、Pb(Mg1/3Nb2/3)O
3、PbTiO3、Pb(Ti1/2Zr1/2)O3、BaTiO3、Sr
TiO3、及びBサイト構成元素の酸化物、例えば、Mg
O、MgNb26などが挙げられる。この酸化物は10mo
l%以下、好ましくは、0.01〜10mol%添加するの
が好適である。
【0013】また、前記塗布膜に含まれる有機化合物の
熱分解処理は、その昇温過程から最高温度域の途中まで
酸素、オゾン又はそれらと水蒸気との混合流中で行なう
のが好適である。さらに、焼成方法としては、室温から
急速に昇温して400〜1000℃で30分〜1時間保
持し、ついで室温まで急冷することにより行なう方法が
好適である。
【0014】
【作用】Mg、NbなどのBサイト構成元素の各アルコ
キシド溶液を調製し、これらを混合してBサイト金属含
有有機化合物の溶液を作り、これに鉛含有有機化合物若
しくはその溶液を添加若しくは混合し、その溶液を均一
に混合することにより複合アルコキシド溶液が得られ
る。この際、その反応系中にペロブスカイトの結晶化を
促進する酸化物粉末を添加すると、該酸化物粉末が均一
に分散された複合アルコキシド溶液が得られる。この複
合アルコキシド溶液を濃縮して薄膜形成に適した粘度の
溶液とし、この溶液をディッピング法あるいはコーティ
ング法などの適当な手段により基板に塗布して塗布膜を
形成し、該塗布膜に含まれる有機化合物の加熱分解した
後、焼成すると、前記酸化物粉末がペロブスカイトの結
晶化を促進する結晶核種として機能し、基板に影響され
ることなく鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜が形成
される。この結晶核種として機能する酸化物粉末は、通
常、0.01〜10mol%添加されるが、これは0.0
1mol%未満ではその効果が得られず、10mol%を越え
ると、添加効果が飽和してしまうからであり、その添加
量を増減することにより、薄膜の誘電体特性を改善する
ことができる。
【0015】次に、強誘電性セラミックスである組成式
Pb{ (Mg1/3Nb2/3)1-yTiy}O3で示される酸化物薄
膜を基板表面に形成する例について説明する。
【0016】
【実施例1】出発原料として、無水酢酸鉛(Pb(OCO
CH32)と、マグネシウムメトキシド(Mg(OC
32)、ニオブエトキシド(Nb(OC255)およびチ
タンエトキシド(Ti(OC254)を用い、まず、乾燥
2雰囲気中でNb(OC255とTi(OC254をエ
タノールに溶解し、この溶液にMg(OCH32のメタノ
ール溶液を混合し、80℃で還流した後、これに酢酸鉛
及びアセチルアセトンを加えて混合し、再び80℃で還
流して均一溶液を得た。なお、均一溶液は、前記組成式
においてy=0.1となるように調製した。
【0017】前記溶液の一部に水を加え、加水分解して
ゲルを形成した後、150℃で乾燥させ、大気中400
℃で仮焼した後、更に900℃で焼成し、粉砕して酸化
物微粉末を調製した。残余の均一溶液の一部に、この酸
化物微粉末を結晶核種として2mol%添加して分散さ
せ、80℃で還流した。この酸化物微粉末を含む均一溶
液を前駆体溶液濃度として約0.2mol/lになるまで濃
縮して塗膜形成用濃縮液を調製した。
【0018】次いで、基板として白金基板を用い、該基
板を上記塗膜形成用濃縮液に浸漬し、ディップコーティ
ング法により基板表面に塗膜を形成した。塗膜を形成し
た基板を300℃で1時間、酸素・水蒸気混合流中で処
理し、塗膜に含まれる有機化合物を加熱分解して除去し
た。なお、処理温度を300℃としたのは、上記混合溶
液を300℃で1時間保持することにより、残余の有機
化合物の除去が完全に完了することが熱分析の結果から
判明したことによる。この加熱分解は、室温から5℃/
分の速度で昇温させ、炉内温度が100℃に達した時点
から炉内に酸素・水蒸気混合気流を導入して300℃に
達するまで加熱を続行し、300℃に達してからは該温
度に維持してそのまま30分間保持した後、酸素・水蒸
気混合気流の供給を停止し、更にそのまま30分間乾燥
酸素気流中に保持し、次いで10℃/分の速度で室温ま
で冷却した。
【0019】前記有機化合物の加熱分解処理を行なった
後、室温から900℃まで急加熱し、該温度で1時間保
持した後、室温まで急冷して焼成を行い、鉛系複合ペロ
ブスカイト型酸化物薄膜を得た。
【0020】比較のため、前記方法において酸化物微粉
末の調製及び添加工程を省いた以外は、全く同様にして
塗膜形成用濃縮液を調製し、鉛系複合ペロブスカイト型
酸化物薄膜を得た。
【0021】得られた各酸化物薄膜のX線回折チャート
を図1に示す。図1の結果から、本発明方法ではペロブ
スカイト相の単相で生成されているのに対して、比較例
のものでは白金基板上にパイロクロア相が生成されてい
ることが判る。
【0022】
【実施例2】出発原料として、無水酢酸鉛(Pb(OCO
CH32)と、マグネシウムメトキシド(Mg(OC
32)、ニオブエトキシド(Nb(OC255)およびチ
タンエトキシド(Ti(OC254)を用い、まず、乾燥
2雰囲気中でNb(OC255とTi(OC254をエ
タノールに溶解し、この溶液にMg(OCH32のメタノ
ール溶液を混合して80℃で還流し、これに酢酸鉛及び
アセチルアセトンを加えて混合し、再び80℃で還流し
た。なお、均一溶液は、前記組成式においてy=0.05
となるように調製した。
【0023】得られた均一溶液に、平均粒径0.1μm
のBaTiO3の微粉末を1mol%添加して分散させ、80
℃で還流した後、濃縮して塗膜形成用濃縮液を調製し
た。次いで、基板として白金基板を用い、実施例1と同
様にして約0.3μm厚の鉛系複合ペロブスカイト型酸
化物薄膜を得た。
【0024】比較のため、前記方法においてBaTiO3
微粉末の添加工程を省いた以外は、全く同様にして塗膜
形成用濃縮液を調製し、鉛系複合ペロブスカイト型酸化
物薄膜を得た。
【0025】得られた各酸化物薄膜のX線回折チャート
を図2に示す。図2の結果から、本発明方法ではペロブ
スカイト相の単相で生成されているのに対して、比較例
のものでは白金基板上にパイロクロア相が生成されてい
ることが判る。
【0026】
【発明の効果】本発明の方法によれば、基板の性質に左
右されることなく鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜
を製造でき、しかも、低温で焼成できるのでモル比のズ
レのない所望の組成のものが得られ、薄膜形成手段とし
てディッピング法やコーティング法など量産性に優れた
方法を採用できるので所望の電気的特性を有する鉛系複
合ペロブスカイト型酸化物薄膜を工業的に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明方法及び従来法により製造された鉛系
複合ペロブスカイト型酸化物薄膜のX線回折チャートを
示す図、
【図2】 本発明方法及び従来法により製造された鉛系
複合ペロブスカイト型酸化物薄膜のX線回折チャートを
示す図である。
フロントページの続き (72)発明者 余語 利信 愛知県名古屋市天白区平針1−1406 三 旺マンション原駅前102号 (56)参考文献 特開 平4−242005(JP,A) 第35回人工鉱物討論会講演要旨集 13 −14頁 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 18/00 - 18/54 H01G 4/12 358

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式:ABO3、(式中、AはPbで、
    Bは少なくとも一種の2〜6価の金属元素を表し、その
    価数の合計が4価である。)で表される鉛系複合ペロブ
    スカイト型酸化物のAサイトの構成元素である鉛を含有
    する鉛含有有機化合物若しくはその溶液を、Bサイトの
    構成元素である金属元素を含有するBサイト金属含有有
    機化合物の少なくとも一種を溶解した溶液に添加し、そ
    れらを均一に混合反応させた後、濃縮し、得られた濃縮
    液を基板表面に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜に含
    まれる有機化合物を熱分解処理した後、熱処理して鉛系
    複合ペロブスカイト型酸化物薄膜を製造する方法におい
    て、前記溶液中に結晶核種として酸化物粉末を10mol
    %以下添加することを特徴とする鉛系複合ペロブスカイ
    ト型酸化物薄膜の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記酸化物粉末が一般式:ABO3、(式
    中、AはPb、Ba、Sr及びCaからなる群から選ばれた
    少なくとも一種の元素、Bは少なくとも一種の2〜6価
    の金属元素を表し、その価数の合計が4価である。)で
    表されるペロブスカイト型酸化物及びBサイトを構成す
    る金属元素の酸化物からなる群から選ばれた少なくとも
    一種である請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記鉛含有有機化合物が鉛のアルコキシ
    ド、有機酸塩及びビスアセチルアセトナト錯塩からなる
    群から選ばれた少なくとも一種である請求項1又は2に
    記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記Bサイト金属含有有機化合物がBサ
    イト金属元素のアルコキシド、有機酸塩及びビスアセチ
    ルアセトナト錯塩からなる群から選ばれた少なくとも一
    種である請求項1〜3のいづれか一項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記有機化合物の熱分解処理を、その昇
    温過程から最高温度域の途中まで酸素、オゾン又はそれ
    らと水蒸気との混合気流中で行なう請求項1〜4のいづ
    れか一項に記載の方法。
JP21012992A 1992-08-06 1992-08-06 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法 Expired - Lifetime JP3161825B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21012992A JP3161825B2 (ja) 1992-08-06 1992-08-06 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21012992A JP3161825B2 (ja) 1992-08-06 1992-08-06 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0657437A JPH0657437A (ja) 1994-03-01
JP3161825B2 true JP3161825B2 (ja) 2001-04-25

Family

ID=16584273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21012992A Expired - Lifetime JP3161825B2 (ja) 1992-08-06 1992-08-06 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3161825B2 (ja)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
第35回人工鉱物討論会講演要旨集 13−14頁

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0657437A (ja) 1994-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5299620B2 (ja) セラミックス、ならびに誘電体キャパシタ、半導体装置、アクチュエータ、光変調器、及び超音波センサ
US6485779B1 (en) Solution for forming ferroelectric film and method for forming ferroelectric film
JP5208758B2 (ja) レリーフ特性を有する基板の形状に適合する酸化物セラミックに基づく塗膜製造プロセス
JP2003002647A (ja) Plzt強誘電体薄膜、その形成用組成物及び形成方法
JP2018157182A (ja) 圧電体膜形成用液組成物の製造方法及びこの液組成物を用いて圧電体膜を形成する方法
Hong et al. Preparation of Pb (Mg13Nb23) O3 powder using a citrate-gel derived columbite MgNb2O6 precursor and its dielectric properties
JP3161825B2 (ja) 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法
JP3040004B2 (ja) 鉛系複合ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法
EP0877100B1 (en) Process for fabricating solid-solution of layered perovskite materials
JP2996776B2 (ja) チタン酸ジルコン酸鉛の製造方法
JP3026871B2 (ja) ニオブ酸タンタル酸カリウム薄膜の製造方法
JP2003002650A (ja) Sbt強誘電体薄膜、その形成用組成物及び形成方法
JPH05298920A (ja) 高誘電体薄膜
JP7155730B2 (ja) 圧電体膜形成用液組成物及びこの液組成物を用いて圧電体膜を形成する方法
JP4058843B2 (ja) セラミックコンデンサおよびその製造方法
JPH0414516B2 (ja)
JP2003002649A (ja) Blt強誘電体薄膜、その形成用組成物及び形成方法
JPH0419911A (ja) 強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法および強誘電体薄膜の製造方法
JP2955293B2 (ja) 誘電体薄膜の製造方法
JP3013411B2 (ja) 強誘電体薄膜の製造方法
JP3168299B2 (ja) 誘電体薄膜及びその製造方法
JPH06206725A (ja) 鉛系ペロブスカイト型酸化物薄膜の製造方法
JP4407103B2 (ja) 耐疲労特性に優れた強誘電体薄膜とその形成用組成物
Paik et al. Effect of processing conditions on hysteresis behavior of sol-gel derived Sm and Mn modified PbTiO3 thin films
JPH03285864A (ja) 誘電体薄膜

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090223

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090223

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100223

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110223

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120223

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223

Year of fee payment: 12