JP3160105B2

JP3160105B2 - プシコフラノース及びプシコピラノース誘導体

Info

Publication number: JP3160105B2
Application number: JP35230192A
Authority: JP
Inventors: 孜郎寺島; 加藤　　正; 美代子松本
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1992-12-11
Filing date: 1992-12-11
Publication date: 2001-04-23
Anticipated expiration: 2016-04-23
Also published as: HK1017815A1; GR3034104T3; EP0673947A1; WO1994013685A1; EP0673947A4; PT673947E; DE69329038T2; EP0673947B1; DE69329038D1; DK0673947T3; ES2150479T3; JPH06172376A; ATE194622T1

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、次の式

【０００２】

【化１５】

【０００３】で表される強力な除草活性物質ヒダントサ
イジンの新規製造法における鍵合成中間体に関する。

【０００４】

【従来の技術】放線菌の代謝産物として得られる上記式
［I］で表されるヒダントサイジンは、優れた植物体内
への移行性を有し、単子葉、双子葉の一年生のみならず
多年生雑草に対しても強力な殺草活性及び生育抑制活性
を有している。また、ヒダントサイジンは、動物、魚類
及び微生物に対して際だった安全性を示し、しかも、土
壌中での分解性も高く、環境上望ましい性質を有してお
り、優れた除草剤としての用途が期待される化合物であ
る。ヒダントサイジンを工業的に製造しようとする場
合、放線菌の代謝産物からの抽出で行うことは、夾雑す
るアミノ酸、核酸等からの分離にカラムクロマトグラフ
ィー等を繰返し使用することが不可欠で多大の困難を伴
うと考えられる［Ｍ．Ｎａｋａｊｉｍａｅｔａ
ｌ．，Ｊ．Ａｎｔｉｂｉｏｔ．，４４，２９３
（１９９１）．］。従って、酒石酸誘導体とヒダント
イン誘導体を出発物質に用い、スピロ環閉環反応を応用
した合成［Ｓ．Ｍｉｏｅｔａｌ．，Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ，４７，２１１１，２１２１（１９９
１）及び特開平２−８５２８７号．］、Ｄ−フルクト
ースから得たＤ−プシコース誘導体のＮ−グリコシル化
反応を用いる合成法［Ｓ．Ｍｉｏｅｔａｌ．，Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４７，２１３３（１９９
１）．］、Ｄ−リボース誘導体を出発物質に用い、ヒ
ダントイン形成反応を応用した合成法［Ｓ．Ｍｉｒｚ
ａ，ドイツ公開特許公報ＤＥ４１２９７２８Ａ１
（１９９１）．］が、従来ヒダントサイジンの合成法と
して報告されている。しかしながら、の方法では四酸
化オスミウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、の
方法では、トリメチルシリルアジド、の方法では、無
水トリフルオロメタンスルホン酸、四酸化オスミウム
等、高価でしかも毒性の高い試薬が多数使用されてお
り、これらの合成法によってヒダントサイジンを工業的
に製造することは多大の困難を伴っていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、優れた
除草活性物質であるヒダントサイジンの工業的製造法の
開発を目指して鋭意検討した結果、本発明の化合物であ
るＤ−プシコフラノース誘導体及びＤ−プシコピラノー
ス誘導体が極めて有用な鍵製造中間体であることを見い
だし、本発明を完成した。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、次の一般式

【０００７】

【化１６】

【０００８】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、及びＲ⁴は同一ま
たは異なって、水素原子または水酸基の保護基を表し、
Ｘは保護されていてもよい、ヒドロキシメチル基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、またはアロファノイル基
を表す）で表されるＤ−プシコフラノース誘導体、及び
次の一般式

【０００９】

【化１７】

【００１０】（式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸は同一ま
たは異なって、水素原子または水酸基の保護基を表し、
Ｘは保護されていてもよい、ヒドロキシメチル基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、またはアロファノイル基
を表す）で表されるＤ−プシコピラノース誘導体に関す
る。

【００１１】水酸基の保護基としては、ベンジル基、ｐ
−メトキシベンジル基、２，４−ジメトキシベンジル
基、ｐ−クロロベンジル基、ｍ−ブロモベンジル基、ｐ
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−ｐ−アニ
シルメチル基、トリチル基等のアリールメチル基；トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリル基；メ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基、２−
メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、
メチルチオメチル基、２，２，２−トリクロロエトキシ
メチル基、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチル基等
のアルキル基；ホルミル基、アセチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキ
シベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアシル基な
どを例示することができる。

【００１２】また、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁵とＲ⁶、あるいはＲ⁶
とＲ⁷は互いに隣接する二つの水酸基の保護基が一体と
なって、一般式

【００１３】

【化１８】

【００１４】（式中、Ｒ²'とＲ³'は同一または異なっ
て、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状ア
ルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、また、一体となって環を形成してもよい）で表され
るアルキリデンもしくはアリールメチリデン基を表すこ
ともでき、このような例として、イソプロピリデン基、
１−メチルプロピリデン基、１−メチルブチリデン基、
シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等のアル
キリデン基；及びベンジリデン基、ｐ−メトキシベンジ
リデン基、ｐ−クロロベンジリデン基、１−メチルベン
ジリデン基、１−エチルベンジリデン基、ジフェニルメ
チリデン基等のアリールメチリデン基などを挙げること
ができる。

【００１５】なお、上記一般式［II］中、Ｒ²及びＲ³が
水酸基の保護基である場合、Ｒ²とＲ³は一体となって、
上記一般式［IV］で表されるアルキリデンもしくはアリ
ールメチリデン基を表すことが好ましい。

【００１６】保護されたヒドロキシメチル基とは、その
水酸基が上記のアリールメチル基、シリル基、アルキル
基、アシル基などの水酸基の保護基で置換されたものを
いい、保護されたカルボキシル基とは、低級アルキル基
もしくはシリル基等でエステル化されたカルボキシル基
あるいはアルカリ金属塩もしくはアミン等で中和された
カルボキシル基を意味し、さらに保護されたカルバモイ
ル基もしくはアロファノイル基とは、その窒素原子が上
記の水酸基の保護基と同様のアリールメチル基、シリル
基、アルキル基、アシル基などで置換されたものを意味
する。

【００１７】炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基等を例示することができる。また、置換もしく
は無置換のアリール基としては、フェニル基、ｐ−トリ
ル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｍ−クロロフェニル
基、ナフチル基、フリル基、チエニル基等を例示するこ
とができる。

【００１８】前記一般式［II］及び［III］で表される
プシコフラノース及びプシコピラノース誘導体は、それ
ぞれ、下記の合成工程により製造することができる。

【００１９】

【化１９】

【００２０】

【化２０】

【００２１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、
Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ²'、及びＲ³'は上記と同じである）。

【００２２】

【第１工程】本工程は、式［V］で表される１，２：
４，５−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピ
ラノースを酸触媒存在下アセタール誘導体と反応し、一
般式［VI］で表される１，２−位の水酸基がイソプロピ
リデン基で、また、３，４−位の水酸基がアルキリデン
基もしくはアリールメチリデン基で保護されたＤ−プシ
コフラノース誘導体を製造するものである。本工程に用
いられる式［V］で表される１，２：４，５−ジ−Ｏ−
イソプロピリデン−Ｄ−プシコピラノースは文献記載の
方法によりＤ−フルクトースから製造できる化合物であ
る［Ｓ．Ｍｉｏｅｔａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ，４７，２１３３（１９９１）．］。

【００２３】本工程に用いられるアセタール誘導体とし
ては、２，２−ジメトキシプロパン、２，２−ジエトキ
シプロパン、２，２−ジプロポキシプロパン、２，２−
ジメトキシプロパン、２，２−ジエトキシブタン、３，
３−ジメトキシペンタン、３，３−ジエトキシペンタ
ン、１，１−ジメトキシシクロペンタン、１，１−ジエ
トキシシクロペンタン、１，１−ジメトキシシクロヘキ
サン、１，１−ジエトキシシクロヘキサン、ベンズアル
デヒドジメチルアセタール、ベンズアルデヒドジエチル
アセタール、ｐ−メトキシベンズアルデヒドジメチルア
セタール、ｐ−クロロベンズアルデヒドジメチルアセタ
ール、ベンゾフェノンジメチルアセタール、アセトフェ
ノンジメチルアセタール、プロピオフェノンジメチルア
セタール等が例示されるが、好適には２，２−ジメトキ
シプロパンが用いられる。本工程に用いられる酸触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、
臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエ
ンスルホナート等が例示されるが、好適には過塩素酸が
用いられる。

【００２４】反応は溶媒中で行われ、用いられる溶媒と
しては反応に関与しないものであれば如何なるものも使
用できるが、好適には、アセトン、２−ブタノン、３−
ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の
ケトン系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶媒が用いられ、さらに好適には、用いられるアセター
ル誘導体に対応するケトン系溶媒が用いられる。反応は
−２０℃から５０℃で円滑に進行する。

【００２５】

【第２工程】本工程は一般式［VI］で表される１、２位
及び３、４位の水酸基が保護されたＤ−プシコフラノー
ス誘導体の６位水酸基に保護基を導入し、一般式［VI
I］で表される１，２，３，４，６位の水酸基がすべて
保護されたＤ−プシコフラノース誘導体を製造するもの
である。

【００２６】本工程において導入される水酸基の保護基
としては、次の第３工程から第６工程まで安定に存在
し、後述する第１３工程において、化合物の他の部位を
損なうことなく簡便に除去できるものが選択される。こ
のような要件を満たす水酸基の保護基としては、ベンジ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、２，４−ジメトキシベ
ンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ブロモベンジル
基、ｐ−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−ｐ
−アニシルメチル基、トリチル基等のアリールメチル
基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプ
ロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリ
ル基；メチル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル
基、２−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメ
チル基、メチルチオメチル基、２，２，２−トリクロロ
エトキシメチル基、２−（トリメチルシリル）エトキシ
メチル基、テトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチ
ル基等のアルキル基；ホルミル基、アセチル基、トリフ
ルオロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−
メトキシベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアシ
ル基が例示されるが、好適にはアリールメチル基が用い
られ、さらに好適にはベンジル基が用いられる。これら
の水酸基の保護基の導入は公知の方法［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅ
ｅｎ， ”ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎ
ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ” ＡＷｉｌ
ｅｙ−ＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｃａｔｉ
ｏｎ，ＮｅｗＹｏｒｋ，１９８１，ｐｐ１０−
７２］によって行われる。

【００２７】

【第３工程】本工程は一般式［VII］で表される１、２
位の水酸基がイソプロピリデン基で保護されたＤ−プシ
コフラノース誘導体を酸触媒存在下アルコールと反応さ
せ、１，２位のイソプロピリデン基のみを選択的に除去
すると共に、２位水酸基に用いたアルコールのアルキル
残基が保護基として導入された本発明の化合物である一
般式［IIa］で表されるヒドロキシメチル基を有するＤ
−プシコフラノース誘導体を製造するものである。

【００２８】本工程に用いられるアルコールとしては、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、イソブタノール、シクロペンタノー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ｐ−メ
トキシベンジルアルコール、ｐ−クロロベンジルアルコ
ール、ジフェニルメタノール等が例示されるが、好適に
はベンジルアルコールが用いられる。本工程に用いられ
る酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ
化水素酸、臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウム
ｐ−トルエンスルホナート等が例示されるが、好適には
塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸等が用いられる。

【００２９】反応は溶媒中で行われ、用いられる溶媒と
しては反応に関与しないものであれば如何なるものも使
用できるが、好適には、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノ
ール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、ペンタン等の炭化水素系溶媒、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられ、さら
に好適には、反応するアルコールが溶媒と兼用して大過
剰に用いられる。反応は、−２０℃から５０℃で円滑に
進行する。

【００３０】

【第４工程】本工程は一般式［IIa］で表されるＤ−プ
シコフラノース誘導体のヒドロキシメチル基を酸化し、
一般式［IIb］で表されるカルボキシル基を有するＤ−
プシコフラノース誘導体を製造するものである。ヒドロ
キシメチル基のカルボキシル基への酸化は、三酸化クロ
ム−硫酸を用いる酸化、ピリジニウムクロマートを用い
る酸化、白金触媒を用いる酸化により一気に行われうる
が、ヒドロキシメチル基を一旦アルデヒド基に酸化し、
ついで、アルデヒド基をカルボキシル基に酸化する２段
階の酸化によってより好適に行われる。ヒドロキシメチ
ル基のアルデヒド基への酸化は、塩化オキサリル−ジメ
チルスルホキシド−トリエチルアミンを用いる酸化、三
酸化硫黄ピリジンコンプレックス−ジメチルスルホキシ
ド−トリエチルアミンを用いる酸化、三酸化クロムピリ
ジンコンプレックスを用いる酸化、無水酢酸−ジメチル
スルホキシドを用いる酸化、ピリジニウムクロロクロマ
ートを用いる酸化など、ヒドロキシメチル基をアルデヒ
ド基に酸化するのに通常用いられる方法が例示される
が、好適には塩化オキサリル−ジメチルスルホキシド−
トリエチルアミンを用いる酸化が選択される。

【００３１】引続いて行われるアルデヒド基のカルボキ
シル基への酸化は、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素
ナトリウム二水和物を用いる酸化、三酸化クロム−硫酸
を用いる酸化、ピリジニウムクロマートを用いる酸化、
白金触媒を用いる空気酸化などアルデヒド基をカルボキ
シル基に酸化するのに通常用いられる方法が例示される
が、好適には、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素ナト
リウム二水和物を用いる酸化が選択される。反応は溶媒
中で行われ、用いられる溶媒としては反応に関与しない
ものであれば如何なるものも使用できるが、ヒドロキシ
メチル基をカルボキシル基に一気に酸化する場合には、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジク
ロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒などが用いられ、ヒドロキ
シメチル基をアルデヒド基を経由してカルボキシル基に
２段階で酸化する場合には、第一段階の酸化はアセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジクロロメ
タン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒などが用いられ、第二段階の酸化
は上記の溶媒に加えて、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ｔ−ブタノール、
水が単一溶媒または混合溶媒として用いられる。酸化反
応はいずれも−２０℃から５０℃で円滑に進行する。

【００３２】

【第５工程】本工程は一般式［IIb］で表されるカルボ
キシル基を有するＤ−プシコフラノース誘導体のカルボ
キシル基をカルバモイル基に変換し、本発明の化合物で
ある一般式［IIc］で表されるカルバモイル基を有する
Ｄ−プシコフラノース誘導体を製造するものである。

【００３３】本工程は、カルボキシル基を塩化チオニ
ル、三塩化リン、五塩化リン等によりカルボン酸塩化
物；塩化メトキシカルボニル、塩化エトキシカルボニ
ル、塩化イソプロポキシカルボニル等とトリエチルアミ
ン、ピリジン等の３級のアミンによりカルボン酸炭酸半
エステル混合酸無水物；カルボニルジイミダゾール等に
よりカルボン酸活性アミド等に導いた後、アンモニアを
反応させることによって行われるが、好適には、塩化イ
ソプロポキシカルボニルとトリエチルアミンによって得
られるカルボン酸炭酸半イソプロピルエステル混合酸無
水物を経て行われる。カルボン酸の活性化とそれに引き
続いて行われるアミド化は、溶媒中で行われ、用いられ
る溶媒としては反応に関与しないものであれば如何なる
ものも使用できるが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられる。
カルボン酸の活性化とそれに続いて行われるアミド化は
−５０℃から５０℃で円滑に進行する。

【００３４】

【第６工程】本工程は一般式［IIc］で表されるカルバ
モイル基を有するＤ−プシコフラノース誘導体から、一
般式［IId］で表されるアロファノイル基を有するＤ−
プシコフラノースを製造するものである。

【００３５】本工程は、カルバモイル基を有するフラノ
ース誘導体を塩化オキサリル、臭化オキサリル等のハロ
ゲン化オキサリルと反応して、アシルイソシアナート誘
導体に変換後、アンモニアを反応させることによって行
われる。アシルイソシアナート誘導体の製造は、好適に
は塩化オキサリルを用いて行われる。アシルイソシアナ
ート誘導体の製造とそれに続くアロファノイル基を有す
るＤ−プシコフラノース誘導体の製造は、溶媒中で行わ
れ、用いられる溶媒としては反応に関与しないものであ
れば如何なるものも使用できるが、好適にはジクロロメ
タン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられる。アシ
ルイソシアナート誘導体の製造は，−２０℃から１２０
℃で、また、アロファノイル基を有するＤ−プシコフラ
ノース誘導体の製造は−２０℃から５０℃で円滑に進行
する。

【００３６】

【第７工程】本工程は、式［V］で表される１，２：
４，５−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピ
ラノースの４、５位のイソプロピリデン基を選択的に除
去して、式［VIII］で表される、１，２−Ｏ−イソプロ
ピリデン−β−Ｄ−プシコピラノースを製造するもので
ある。

【００３７】本工程に用いられる式［V］で表される
１，２：４，５−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−
プシコピラノースはＤ−フルクトースから文献記載の方
法によって製造できる化合物である。［Ｓ．Ｍｉｏ
ｅｔａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４７，
２１３３（１９９１）］。

【００３８】４、５位のイソプロピリデン基の選択的な
除去は、酸触媒を用いて行われる。用いられる酸触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、
臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエ
ンスルホナート等が例示されるが、好適にはｐ−トルエ
ンスルホン酸が用いられる。反応は溶媒中で行われ、用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒が好
適に用いられる。反応は−２０℃から５０℃で円滑に進
行する。

【００３９】

【第８工程】本工程は、式［VIII］で表される１，２−
Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピラノースの
３，４，５位の水酸基に同一または異なる保護基を導入
し、一般式［IX］で表される、１，２，３，４，５位の
水酸基が保護されたＤ−プシコピラノース誘導体を製造
するものである。

【００４０】本工程で導入される同一または異なる水酸
基の保護基としては、第９工程から第１２工程まで安定
に存在し、次の第１４工程において化合物の他の部位を
損なうことなく除去できるものが選択される。このよう
な条件を満たす水酸基の保護基としては、ベンジル基、
ｐ−メトキシベンジル基、２，４−ジメトキシベンジル
基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ブロモベンジル基、ｐ
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−ｐ−アニ
シルメチル基、トリチル基等のアリールメチル基；トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリル基；メ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基、２−
メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、
メチルチオメチル基、２，２，２−トリクロロエトキシ
メチル基、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチル基等
のアルキル基；ホルミル基、アセチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキ
シベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアシル基；
イソプロピリデン基、ジエチルメチリデン基、シクロペ
ンチリデン基、シクロヘキシリデン基、ベンジリデン
基、ジフェニルメチリデン基等のアルキリデン基及びア
リールメチリデン基等が例示されるが、好適にはアリー
ルメチル基が、さらに好適にはベンジル基が用いられ
る。これらの保護基は公知の方法［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅ
ｎ， ”ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎ
ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ” ＡＷｉｌｅ
ｙ−ＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｃａｔｉｏ
ｎ，ＮｅｗＹｏｒｋ，１９８１，ｐｐ１０−８
６］に従い一気に、あるいは、段階的に導入される。

【００４１】

【第９工程】本工程は、一般式［IX］で表される１、２
位の水酸基がイソプロピリデン基で保護されたＤ−プシ
コピラノースを酸触媒存在下アルコールと反応させ、
１、２位のイソプロピリデン基のみを選択的に除去する
と共に、２位水酸基に用いたアルコールのアルキル残基
が保護基として導入された本発明の化合物である一般式
［IIIa］で表されるヒドロキシメチル基を有するＤ−プ
シコピラノース誘導体を製造するものである。

【００４２】本工程は第３工程と全く同様に行われる
が、好適には、アルコールとしてベンジルアルコール
が、また、酸触媒として塩酸が用いられる。

【００４３】

【第１０工程】本工程は一般式［IIIa］で表されるＤ−
プシコピラノース誘導体の１位に存在する１級アルコー
ルを酸化し、一般式［IIIb］で表されるカルボキシル基
を有するＤ−プシコピラノース誘導体を製造するもので
ある。

【００４４】本工程は、第４工程と全く同様にして行わ
れる。好適に行われる２段階の酸化において、塩化オキ
サリル−ジメチルスルホキシド−トリエチルアミンを用
いる酸化がヒドロキシメチル基のアルデヒド基への酸化
に、また、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素ナトリウ
ム二水和物を用いる酸化がアルデヒド基のカルボキシル
基への酸化において好適に用いられる。

【００４５】

【第１１工程】本工程は、一般式［IIIb］で表されるカ
ルボキシル基を有するＤ−プシコピラノース誘導体のカ
ルボキシル基をカルバモイル基に変換し、本発明の化合
物である一般式［IIIc］で表されるカルバモイル基を有
するＤ−プシコピラノース誘導体を製造するものであ
る。

【００４６】本工程は第５工程と全く同様にして行われ
る。カルボン酸の活性化はカルボン酸炭酸半イソプロピ
ルエステル混合酸無水物を経て好適に行われる。

【００４７】

【第１２工程】本工程は一般式［IIIc］で表されるカル
バモイル基を有するＤ−プシコピラノース誘導体から本
発明の化合物である一般式［IIId］で表されるアロファ
ノイル基を有するＤ−プシコピラノース誘導体を製造す
るものである。

【００４８】本工程は、第６工程と全く同様にして行わ
れる。アシルイソシアナート誘導体の製造は、好適に
は、塩化オキサリルを用いて行われる。

【００４９】上記の各工程において得られる、一般式
［IIa］〜［IId］及び一般式［IIIa］〜［IIId］で表さ
れる本発明の化合物はいずれも、公知の方法に従い水酸
基の保護基を除去したり、あるいは水酸基の保護基を他
の水酸基の保護基と交換することが可能である。

【００５０】以上のようにして製造された一般式［II
d］及び［IIId］で表されるアロファノイル基を有する
Ｄ−プシコフラノース誘導体及びＤ−プシコピラノース
誘導体は下記の合成工程により、式［I］で表される除
草活性物質ヒダントサイジン及び式［XI］で表される５
−エピ−ヒダントサイジンに誘導される。

【００５１】

【化２１】

【００５２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²'、Ｒ³'、Ｒ⁴、Ｒ⁵、
Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸は上記と同じである）。

【００５３】すなわち、保護基を除去することにより、
まず、式［IIe］で表される保護基を有しないＤ−プシ
コフラノース誘導体、式［IIIe］で表される保護基を有
しないＤ−プシコピラノース誘導体、及び式［X］で表
されるヒダントイン誘導体の混合物に誘導され、次い
で、この混合物を酸触媒で処理することにより、式
［I］で表される除草活性物質ヒダントサイジンと、式
［XI］で表される５−エピ−ヒダントサイジンの混合物
に容易に誘導される。上記の混合物は、長時間放置する
ことにより最終的には式［X］で表されるヒダントイン
誘導体へと収斂する。この［X］も同様に、酸触媒処理
により、式［I］で表される除草活性物質ヒダントサイ
ジンと、式［XI］で表される５−エピ−ヒダントサイジ
ンの混合物を与える。

【００５４】

【第１３工程】本工程は一般式［IId］で表されるアロ
ファノイル基を有するＤ−プシコフラノース誘導体の水
酸基の保護基を除去し、式［IIe］及び［IIIe］で表さ
れるアロファノイル基を有するＤ−プシコフラノース誘
導体及びＤ−プシコピラノース誘導体、並びに式［X］
で表される保護基を有しないヒダントイン誘導体の混合
物を製造するものである。

【００５５】保護基の除去は用いられる保護基に適合し
た公知の方法［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎ， ”Ｐｒｏｔｅｃ
ｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ” ＡＷｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅＰｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，ＮｅｗＹｏｒ
ｋ，１９８１，ｐｐ１０−８６］に従って一気にあ
るいは段階的に行われる。

【００５６】一般式［IId］で表される、アロファノイ
ル基を有するＤ−プシコフラノース誘導体のリボフラノ
ース部分の２，３位の水酸基の保護基（Ｒ²'Ｒ³'ＣＨ
＜）がイソプロピリデン基で、１，５位の水酸基の保護
基（Ｒ¹及びＲ⁴）がベンジル基の場合、イソプロピリデ
ン基の除去は塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸など
を酸触媒として、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール等のアルコール溶媒中で行われ、
中間体として一般式

【００５７】

【化２２】

【００５８】で表されるＤ−プシコフラノース誘導体を
単離し得る。この化合物からのベンジル基の除去は、炭
素に担持したパラジウム（パラジウム−炭素）等を触媒
として、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール等のアルコール溶媒中、加水素分解によっ
て行われる。もちろん、一般式［IIf］で表されるプシ
コフラノース誘導体は単離することなく、次のベンジル
基の除去を行うこともできる。

【００５９】

【第１４工程】本工程は一般式［IIId］で表されるアロ
ファノイル基を有するＤ−プシコピラノース誘導体の水
酸基の保護基を除去し、式［IIe］及び［IIIe］で表さ
れる保護基を有しないＤ−プシコフラノース誘導体及び
Ｄ−プシコピノラース誘導体と、式［X］で表される保
護基を有しないヒダントイン誘導体の混合物を製造する
ものである。

【００６０】保護基の除去は用いられる保護基に適合し
た公知の方法［Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎ， ”Ｐｒｏｔｅｃ
ｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ” ＡＷｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅＰｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，ＮｅｗＹｏｒ
ｋ，１９８１，ｐｐ１０−８６］に従って一気にあ
るいは段階的に行われる。

【００６１】一般式［IIId］で表されるアロファノイル
基を有するＤ−プシコピラノース誘導体のリボピラノー
ス部分の１、２、３、４位の水酸基の保護基が全てベン
ジル基の場合、その除去は炭素に担持したパラジウム
（パラジウム−炭素）等を触媒として、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコ
ール溶媒中、加水素分解によって行われる。

【００６２】

【第１５工程】本工程は式［IIe］及び［IIIe］で表さ
れる保護基を有しないＤ−プシコフラノース誘導体及び
Ｄ−プシコピラノース誘導体、並びに式［X］で表され
る保護基を有しないヒダントイン誘導体の混合物を酸触
媒で処理し、式［I］で表される除草活性物質ヒダント
サイジンと、式［XI］で表される５−エピ−ヒダントサ
イジンの混合物を製造するものである。

【００６３】本工程に用いられる酸触媒としては、塩
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、臭化水素
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、
フルオロスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホ
ナート等及び、Ｄｏｗｅｘ５０Ｘ、Ａｍｂｅｒｌｉｔ
ｅＩＲ−１２０等の強酸性イオン交換樹脂等が例示され
るが、好適には、強酸性イオン交換樹脂であるＤｏｗｅ
ｘ５０Ｘが用いられる。反応は溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては反応に関与しないものであれば如何
なるものも使用できるが、好適には水、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコ
ール系溶媒あるいは、これらのアルコール系溶媒と水と
の混合溶媒が用いられる。反応は０℃から５０℃で円滑
に進行する。

【００６４】本工程で得られる式［I］で表される除草
活性物質ヒダントサイジンと、式［XI］で表される５−
エピ−ヒダントサイジンの分離は、反応で得られる両者
の混合物をピリジン中過剰量の無水酢酸と処理して、そ
れぞれをテトラアセタートに導き、テトラアセタートの
混合物を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー等で
分離することによって行うことができる。また、分離さ
れたそれぞれのテトラアセタートをメタノール中アンモ
ニアまたはヒドラジンで処理すると、式［I］で表され
るヒダントサイジンと、式［XI］で表される５−エピ−
ヒダントサイジンを純品として得ることができる。

【００６５】以下、実施例、参考例によって本発明を詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
いことは言うまでもない。

【００６６】

【実施例】［参考例１］

【００６７】

【化２３】

【００６８】１，２：４，５−ジ−Ｏ−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−プシコピラノース（１４１ｇ，０．５４ｍ
ｏｌ）のアセトン溶液（１．４ｌ）に２，２−ジメトキ
シプロパン（３３．６ｍｌ，０．２７ｍｏｌ）を加え、
０℃とした後、過塩素酸（７０％水溶液）（５ｍｌ）を
加えた。４時間攪拌したのち、濃アンモニア水で反応溶
液を中和することにより反応を停止した。溶媒を減圧下
濃縮し、得られた残渣を水とエーテルで分配したのち、
水層をエーテルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したの
ち、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８５／１
５）にて精製することにより、１，２：３，４−ジ−Ｏ
−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコフラノースを白色
固体（９９．０ｇ，０．３８ｍｏｌ，７０％）として得
た。

【００６９】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.41 (3H, s, Me) 1.45 (3H, s, Me) 1.51 (3H, s, Me) 3.64 (1H, dd, J=3.5, 12.5Hz, H-6) 3.77 (1H, dd, J=2.4, 12.5Hz, H-6) 4.07 (1H, d, J=9.8Hz, H-1) 4.28-4.34 (1H, m, H-5) 4.34 (1H, d, J=9.8Hz, H-1) 4.65 (1H, d, J=5.9Hz, H-3) 4.92 (1H, dd, J=1.0, 5.9Hz, H-4)

【００７０】［参考例２］

【化２４】１，２：３，４−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−
プシコフラノース（９０．７ｇ，０．３５ｍｏｌ）と塩
化ベンジル（１６０ｍｌ）の混合物に、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム（４．７６ｇ，０．０２１ｍｏ
ｌ）と、水酸化ナトリウム（１３９ｇ，３．５ｍｏｌ）
の水溶液（２７２ｍｌ）を加え、１００℃で２時間激し
く攪拌した。反応混合物を水とエーテルで分配し、水層
をエーテルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したのち、
減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル＝９５／５のちに
ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）にて精製することによ
り、６−Ｏ−ベンジル−１，２：３，４−ジ−Ｏ−イソ
プロピリデン−β−Ｄ−プシコフラノースを淡黄色油状
物質（１１３ｇ，９２％）として得た。¹ H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 1.32 (3H, s, Me) 1.37 (3H, s, Me) 1.43 (3H, s, Me) 1.44 (3H, s, Me) 3.52 (1H, dd, J=8.2, 9.8Hz, H-6) 3.59 (1H, dd, J=6.3, 9.8Hz, H-6) 4.04 (1H, d, J=9.6Hz, H-1) 4.29 (1H, d, J=9.6Hz, H-1) 4.27-4.35 (1H, m, H-5) 4.52-4.65 (3H, m, -CH ₂Ph, H-3) 4.76 (1H, dd, J=1.0, 5.9, H-4) 7.27-7.42 (5H, m)

【００７１】［実施例１］

【００７２】

【化２５】

【００７３】６−Ｏ−ベンジル−１，２：３，４−ジ−
Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコフラノース（３
９．５ｇ，０．１１ｍｏｌ）のベンジルアルコール溶液
（３５０ｍｌ）に室温でトリフルオロメタンスルホン酸
（２ｍｌ）をゆっくり滴下した。２時間攪拌した後、濃
アンモニア水で中和することにより反応を停止し、減圧
下ベンジルアルコールを留去した。残渣を酢酸エチルと
水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過したのち、減圧下溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢
酸エチル＝８／２）で精製することにより、ベンジル
＝６−Ｏ−ベンジル−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−
β−Ｄ−プシコフラノシドを淡黄色油状物質（２７．９
ｇ，６２％）として得た。

【００７４】[α] _D ²⁰ -29.8゜(c 1.55, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3520, 2950, 1450, 1390, 1370, 1220, 1180, 1140, 11
10¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.53 (3H, s, Me) 1.95 (1H, br, OH) 3.47 (1H, dd, J=9.6, 7.3Hz, H-6) 3.52 (1H, dd, J=9.6, 7.1Hz, H-6) 3.82-3.94 (2H, m, H-1) 4.42 (1H, ddd, J=7.3, 7.1, 1.4Hz, H-5) 4.44 (1H, d, J=12.1Hz, -CH ₂Ph) 4.49 (1H, d, J=12.1Hz, -CH ₂Ph) 4.54 (1H, d, J=11.8Hz, -CH ₂Ph) 4.61 (1H, d, J=11.8Hz, -CH ₂Ph) 4.68 (1H, d, J=6.1Hz, H-3) 4.72 (1H, dd, J=6.1, 1.4Hz, H-4) 7.25-7.36 (10H, m) HRMS (m/z) M⁺-CH₂OH (C₂₂H₂₅O₅) 測定値 369.1679 計算値 369.1690

【００７５】［実施例２］

【００７６】

【化２６】

【００７７】６−Ｏ−ベンジル−１，２：３，４−ジ−
Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピラノース（２
５．３ｍｇ，０．０７２ｍｍｏｌ）のメタノール溶液
（０．７５ｍｌ）に、２５℃で塩化水素を飽和させたメ
タノール（４３％塩化水素メタノール溶液：０．２５ｍ
ｌ）を０℃で加えた。室温で２５分間攪拌したのち、氷
−飽和炭酸水素ナトリウム水溶液−酢酸エチルの混合溶
液中に注ぐことによって反応を停止した。反応混合物を
酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出した
のち、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸
エチル＝５５／４５）で精製することにより、メチル＝
６−Ｏ−ベンジル−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−β
−Ｄ−プシコフラノシドを無色油状物質（１２．５ｍ
ｇ，５３％）として得た。

【００７８】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.51 (3H, s, Me) 1.97 (1H, brt, J=6.6Hz, OH) 3.23 (3H, s, OMe) 3.48 (1H, dd, J=7.4, 9.6Hz, H-6) 3.55 (1H, dd, J=7.0, 9.6Hz, H-6) 3.77 (1H, brdd, J=6.9, 12.2Hz, H-1) 3.85 (1H, brdd, J=5.9, 12.2Hz, H-1) 4.38 (1H, ddd, J=1.4, 7.0, 7.4Hz, H-5) 4.56 (1H, d, J=6.0Hz, H-3) 4.57 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.71 (1H, dd, J=1.4, 6.0Hz, H-4) 7.28-7.38 (5H, m, Ar-H)

【００７９】［実施例３］

【００８０】

【化２７】

【００８１】塩化オキサリル（１５．２ｍｌ，０．１７
ｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１５０ｍｌ）に、−７８
℃でジメチスルホキシド（２４．７ｍｌ，０．３５ｍｏ
ｌ）を滴下した。１０分間攪拌した後、ベンジル＝６−
Ｏ−ベンジル−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ
−プシコピラノシド（２７．９ｇ，０．０７０ｍｏｌ）
の塩化メチレン溶液（５０ｍｌ）を加え、さらに２０分
間攪拌した。次にトリエチルアミン（６７．９ｍｌ，
０．４９ｍｏｌ）を加え、４５分かけて０℃まで昇温し
た後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぐことにより
反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水で分配
し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせ
て飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮することによって２，６−ジ−Ｏ−ベンジ
ル−１−ジデヒドロ−３，４−イソプロピリデン−β−
Ｄ−プシコフラノースを粗生成物として得た。次に、
２，６−ジ−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒドロ−３，４−
イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコフラノースをｔ−ブ
タノール溶液（３００ｍｌ）と水（９０ｍｌ）の混合溶
媒に溶解し、２−メチル−２−ブテン（３６．９ｍｌ，
０．３５ｍｏｌ）と、リン酸二水素ナトリウム二水和物
（４３．６ｇ，０．２８ｍｏｌ）を加え、よく攪拌しな
がら亜塩素酸ナトリウム（２５．３ｇ，０．２８ｍｏ
ｌ）を少しづつ加えた。室温で１時間攪拌した後、減圧
下ｔ−ブタノールを１／３程度の溶媒量になるまで濃縮
し、エーテルと水で分配した。水層をエーテルで抽出
し、有機層を合わせて２％塩酸、飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮するこ
とにより粗製の１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−カ
ルボキシ−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−リボフラノースを白色固体（３０．０ｇ、
定量的収率）として得た。

【００８２】¹H NMR(400MHz, CD₃OD) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.50 (3H, s, Me) 3.47-3.55 (1H, brd, H-5) 3.55-3.62 (1H, brd, H-5) 4.40-4.92 (7H, m, H-2, H-3, H-4, -CH ₂Ph) 7.25-7.38 (10H, Ar-H)

【００８３】このカルボン酸は各種溶媒への溶解性が低
く、プロトンＮＭＲスペクトルの解析が難しいため、さ
らにメチルエステルへと変換することにより構造を確認
した。すなわち、１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−
カルボキシ−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリ
デン−β−Ｄ−リボフラノース（１８．０ｍｇ，０．０
１５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２ｍｌ）に、濃塩酸
を１滴加え、５０℃で２４時間攪拌した。濃アンモニア
水を加え中和することにより反応を停止し、減圧濃縮し
た。残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
（ヘキサン／酢酸エチル＝３／７）で精製することによ
り、１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−メトキシカル
ボニル−１−デヒドロ−β−Ｄ−リボフラノース（１
１．４ｍｇ，６８％）を得た。

【００８４】[α] _D ²⁰ -46.7゜(c 1.02, CHCl₃)¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 2.65 (1H, brd, J=8.7Hz, OH-3) 3.40 (1H, brd, J=3.5Hz, OH-2) 3.66 (1H, dd, J=4.8, J=10.3Hz, H-5) 3.70 (1H, dd, J=4.7, J=10.3Hz, H-5) 3.80 (3H, s, COOMe) 4.30 (1H, brdd, J=3.5, 4.6Hz, H-2) 4.34 (1H, ddd, J=4.7, 4.8, 7.0Hz, H-4) 4.38 (1H, d, J=11.2Hz, -CH ₂Ph) 4.68 (1H, brddd, J=4.6, 7.0, 8.7Hz, H-3) 4.56 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.69 (1H, d, J=11.2Hz, -CH ₂Ph) 7.33-7.20 (10H, m, Ar-H)

【００８５】［実施例４］

【００８６】

【化２８】

【００８７】塩化オキサリル（４４．９μｌ，０．５２
ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２ｍｌ）に、−７８℃
でジメチスルホキシド（７２．９μｌ，１．０ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。１５分間攪拌した後、メチル＝６−Ｏ
−ベンジル−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−
プシコフラノシド（４１．７ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）
の塩化メチレン溶液（２ｍｌ）を加え、さらに１５分間
攪拌した。次にトリエチルアミン（０．１７９ｍｌ，
１．３ｍｏｌ）を加え、２時間かけて０℃まで昇温した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぐことにより反
応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水で分配し、
水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽
和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧濃縮することによって６−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒ
ドロ−３，４−イソプロピリデン−２−Ｏ−メチル−β
−Ｄ−プシコフラノースを粗生成物として得た。次に、
６−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒドロ−３，４−イソプロ
ピリデン−２−Ｏ−メチル−β−Ｄ−プシコフラノース
のｔ−ブタノール溶液（１ｍｌ）に２−メチル−２−ブ
テン（６８．０μｌ，０．６４ｍｍｏｌ）を加え、さら
に、リン酸二水素ナトリウム二水和物（１７．５ｍｇ，
０．１９ｍｍｏｌ）、及び亜塩素酸ナトリウム（３０．
１ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）の水溶液（０．４ｍｌ）を
加えた。室温で３０分間攪拌した後、エーテルと水で分
配した。水層をエーテルで抽出し、有機層を合わせて２
％塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮することにより粗製の５−Ｏ−
ベンジル−１−α−カルボキシ−１−デヒドロ−２，３
−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｏ−メチル−β−Ｄ−リ
ボフラノースを無色油状物質（４４．７ｍｇ，定量的収
率）として得た。

【００８８】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 1.28 (3H, brs, Me) 1.46 (3H, brs, Me) 3.18 (3H, brs, OMe) 3.46-3.68 (2H, br, H-5) 4.50-4.84 (5H, br, H-2,3,4, -CH ₂Ph) 7.28-7.42 (5H, m, Ar-H)

【００８９】［実施例５］

【００９０】

【化２９】

【００９１】１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−カル
ボキシ−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデン
−β−Ｄ−リボフラノース（３０．０ｇ，０．０７０ｍ
ｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３５０ｍｌ）に、ト
リエチルアミン（３８．８ｍｌ，０．２８ｍｏｌ）を加
え０℃に冷却し、塩化イソプロポキシカルボニル（２
４．４ｍｌ，０．２１ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。０
℃で３０分、室温で３０分攪拌し、原料の消失を確認し
た後、０℃でアンモニアガスを吹き込み、さらに室温で
３０分攪拌した。減圧下テトラヒドロフランを１／３程
度の溶媒量になるまで濃縮し、塩化メチレンと水で分配
した。水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて
飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。濾過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４５／５５）で精
製することにより、１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α
−カルバモイル−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロ
ピリデン−β−Ｄ−リボフラノースを白色針状晶（２
６．５ｇ，ベンジル＝６−Ｏ−ベンジル−３，４−Ｏ−
イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピラノシドからの収
率９２％）として得た。

【００９２】m.p. 145-146゜ [α] _D ²⁰ -37.4゜(c 1.23, CHCl₃) IR (KBr, cm^-1) 3480, 3280, 2970, 1720, 1690, 1670, 1460, 1380, 12
50,1220, 1100¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 1.29 (3H, s, Me) 1.49 (3H, s, Me) 3.48 (1H, dd, J=9.7, 7.0Hz, H-5) 3.55 (1H, dd, J=9.7, 7.7Hz, H-5) 4.43 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.48 (1H, d, J=10.7Hz, -CH ₂Ph) 4.50 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.54 (1H, d, J=10.7Hz, -CH ₂Ph) 4.56 (1H, ddd, J=7.7, 7.0, 1.2Hz, H-4) 4.68 (1H, dd, J=5.8, 1.2Hz, H-3) 4.83 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) 5.83 (1H, brs, >NH) 6.73 (1H, brs, >NH) 7.26-7.36 (10H, m, Ar-H) HRMS (m/z) M⁺-Me (C₂₂H₂₄N₁O₆) 測定値 398.1602 計算値 398.1602

【００９３】［実施例６］

【００９４】

【化３０】

【００９５】５−Ｏ−ベンジル−１−α−カルボキシ−
１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｏ
−メチル−β−Ｄ−リボフラノース（４４．７ｍｇ，
０．１３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２ｍ
ｌ）に、トリエチルアミン（３５．９μｌ，０．２６ｍ
ｍｏｌ）を加え０℃に冷却し、塩化イソプロポキシカル
ボニル（１８．３μｌ，０．４２ｍｏｌ）をゆっくり滴
下した。０℃で３０分、室温で３０分攪拌し、原料の消
失を確認した後、０℃でアンモニアガスを吹き込み、さ
らに室温で３０分攪拌した。塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて希
塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄したのち、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、残渣を分取用
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エ
チル＝３／７）で精製することにより、５−Ｏ−ベンジ
ル−１−α−カルバモイル−１−デヒドロ−２，３−Ｏ
−イソプロピリデン−１−Ｏ−メチル−β−Ｄ−リボフ
ラノースを無色油状物質（３３．７ｍｇ，メチル＝６−
Ｏ−ベンジル−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ
−プシコピラノシドからの収率７８％）として得た。

【００９６】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 1.29 (3H, s, Me) 1.47 (3H, s, Me) 3.23 (3H, s, OMe) 3.51 (1H, dd, J=9.7, 7.0Hz, H-5) 3.58 (1H, dd, J=9.7, 7.7Hz, H-5) 4.53 (1H, ddd, J=7.7, 7.0, 0.9Hz, H-4) 4.57 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.68 (1H, dd, J=5.9, 0.9Hz, H-3) 4.73 (1H, d, J=5.9Hz, H-2) 5.67 (1H, brs, >NH) 6.65 (1H, brs, >NH) 7.29-7.38 (5H, m, Ar-H)

【００９７】［実施例７］

【００９８】

【化３１】

【００９９】１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−カル
バモイル−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−リボフラノース（１７．３ｇ，４２ｍｍｏ
ｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液（５００ｍｌ）に、
室温で塩化オキサリル（７．３１ｍｌ，８４ｍｍｏｌ）
を加え、３０分間攪拌した。さらに、９０℃で２時間攪
拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、アンモニアガス
を吹き込みながら３０分間攪拌した。反応混合物を塩化
メチレンと水で分配し、水層を塩化メチレンで抽出した
のち、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、次いで減圧濃縮した後
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸
エチル＝１／１）で精製し、１，５−ジ−Ｏ−ベンジル
−１−α−アロファノイル−１−デヒドロ−２，３−Ｏ
−イソプロピリデン−β−Ｄ−リボフラノースを無色油
状物質（１６．６ｇ，８７％）として得た。

【０１００】[α] _D ²⁰ -68.1゜(c 1.06, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3450, 3050, 1730, 1580, 1480, 1460, 1380, 1220, 11
00¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 1.28 (3H, s, Me) 1.47 (3H, s, Me) 3.48 (1H, dd, J=9.8, 7.2Hz, H-5) 3.56 (1H, dd, J=9.8, 7.3Hz, H-5) 4.38 (1H, d, J=10.8Hz, -CH ₂Ph) 4.46 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.51 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.54 (1H, d, J=10.8Hz, -CH ₂Ph) 4.63 (1H, ddd, J=7.3, 7.2, 1.0Hz, H-4) 4.72 (1H, dd, J=5.8, 1.0Hz, H-3) 4.81 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) 5.39 (1H, brs, >NH) 7.26-7.36 (10H, m, Ar-H) 8.05 (1H, brs, >NH) 8.64 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M⁺-CH₃ (C₂₃H₂₅N₂O₇) 測定値 441.1661 計算値 441.1660 CIMS (m/z) 457 (M⁺+1)

【０１０１】［実施例８］

【０１０２】

【化３２】

【０１０３】５−Ｏ−ベンジル−１−α−カルバモイル
−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−１−
Ｏ−メチル−β−Ｄ−リボフラノース（３３．７ｍｇ，
０．１０ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液（２
ｍｌ）に、室温で塩化オキサリル（１７．５μｌ，０．
２０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。９０℃で
３．５時間攪拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、さ
らに、塩化オキサリル（８．７μｌ，０．１０ｍｍｏ
ｌ）を加え９０℃で１．５時間攪拌した。再度、反応溶
液を室温まで冷却後、アンモニアガスを吹き込み３０分
間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配し、
水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わせて
飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／６）で精製し、
５−Ｏ−ベンジル−１−α−アロファノイル−１−デヒ
ドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｏ−メチル
−β−Ｄ−リボフラノースを無色油状物質（３１．４ｍ
ｇ，８３％）として得た。

【０１０４】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 1.28 (3H, s, Me) 1.46 (3H, s, Me) 3.20 (3H, s, OMe) 3.51 (1H, dd, J=9.7, 7.1Hz, H-5) 3.58 (1H, dd, J=9.7, 7.1Hz, H-5) 4.52-4.67 (3H, m) 4.72 (2H, AB) 5.59 (1H, brs, >NH) 7.29-7.40 (5H, m, Ar-H) 8.04 (1H, brs, >NH) 8.61 (1H, brs, >NH)

【０１０５】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 3.17 (3H, s, OMe) 3.47-3.73 (3H, m, H-5, OH) 4.12-4.45 (4H, m, H-2,3,4, OH) 4.57 (2H, AB, -CH ₂Ph) 5.95 (1H, brs, >NH) 7.27-7.38 (5H, m, Ar-H) 8.04 (1H, brs, >NH) 9.00 (1H, brs, >NH)

【０１０６】［参考例３］

【０１０７】

【化３３】

【０１０８】１，２：４，５−ジ−Ｏ−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−プシコピラノース（８．０３ｇ，３１ｍｍ
ｏｌ）のメタノール溶液（２０ｍｌ）に、室温でｐ−ト
ルエンスルホン酸（２９４ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加
え１時間攪拌すると、反応が進行するにしたがって生成
物が沈殿してきた。原料の消失を確認した後、濃アンモ
ニア水で中和することにより反応を停止し、沈殿物を濾
過することによって１，２−Ｏ−イソプロピリデン−β
−Ｄ−プシコピラノースを白色雲母状晶（５．８３ｇ，
８６％）として得た。

【０１０９】m.p. 174-176゜ [α] _D ²⁰ -111゜(c 0.83, H₂O) IR (KBr, cm^-1) 3430, 3330, 2950, 1075¹ H NMR(400MHz, D₂O) δ 1.42 (3H, s, Me) 1.52 (3H, s, Me) 3.78-3.85 (2H, m) 3.92-3.99 (3H, m) 4.13 (1H, d, J=9.9Hz, H-6) 4.17 (1H, d, J=9.9Hz, H-6) 元素分析 C₉H₁₆O₆ 測定値 C, 48.82; H, 7.18 計算値 C, 49.09; H, 7.32

【０１１０】［参考例４］

【０１１１】

【化３４】

【０１１２】１，２−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−
プシコピラノース（１．９０ｇ，８．６ｍｍｏｌ）を塩
化ベンジル（１６ｍｌ）に懸濁し、細かく砕いた水酸化
カリウム（９．２５ｇ，１７ｍｍｏｌ）を加え、１３０
℃で３時間激しく攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し
たのち、クロロホルムと水で分配し、水層をクロロホル
ムで抽出した。有機層を合わせて、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減
圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン／酢酸エチル＝９５／５後に７／３）で精製し、
３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−１，２−Ｏ−イソプ
ロピリデン−β−Ｄ−プシコピラノースを無色油状物質
（４．２３ｇ，１００％）として得た。

【０１１３】[α] _D ²⁰ +1゜(c 7.78, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3000, 2900, 1530, 1475, 1395, 1225, 1070¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 1.38 (3H, s, Me) 1.51 (3H, s, Me) 3.52 (1H, dt, J=2.4, 7.1Hz, H-5) 3.55 (1H, d, J=2.4Hz, H-3) 3.81 (2H, d, J=7.1Hz, H-6) 4.03 (1H, t, J=2.4Hz, H-4) 4.17 (1H, d, J=9.9Hz, H-1) 4.21 (1H, d, J=9.9Hz, H-1) 4.52 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.68 (1H, d, J=11.9Hz, -CH ₂Ph) 4.75 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.79 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.82 (1H, d, J=11.9Hz, -CH ₂Ph) 7.26-7.39 (15, m, Ar-H) HRMS (m/z) M⁺ (C₃₀H₃₄O₆) 測定値 490.2331 計算値 490.2352

【０１１４】［実施例９］

【０１１５】

【化３５】

【０１１６】３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−１，２
−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピラノース
（２１０ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ）のベンジルアルコー
ル溶液（２ｍｌ）に、塩化水素を０℃で飽和させたベン
ジルアルコール（２ｍｌ）を０℃で加えた。室温で１５
分間攪拌したのち、０℃でアンモニアガスを吹き込むこ
とによって反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと
水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過後減圧濃縮した。さらに、クーゲルロー
ル蒸留装置を用いてベンジルアルコールを減圧留去し、
残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ヘキ
サン／酢酸エチル＝６５／３５）で精製することによ
り、ベンジル＝３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−
プシコピラノシドを無色油状物質（７１．７ｍｇ，３１
％）として得た。

【０１１７】[α] _D ²⁰ -80.2゜(c 1.34, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3500, 3050, 2900, 1450, 1130, 1060¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 1.59 (1H, dd, J=8.3, 5.0Hz, -OH) 3.63 (1H, dd, J=12.3, 2.3Hz, H-6) 3.71-3.77 (2H, m, H-1, H-5) 3.93 (1H, dd, J=3.0, 1.0Hz, H-3) 3.97 (1H, dd, J=12.3, 2.7Hz, H-6) 4.00 (1H, t, J=3.1Hz, H-4) 4.06 (1H, dd, J=12.2, 8.3Hz, H-1) 4.53 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.58 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.59 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.61 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.73 (1H, d, J=12.6Hz, -CH ₂Ph) 4.83 (1H, d, J=11.7Hz, -CH ₂Ph) 4.85 (1H, d, J=12.6Hz, -CH ₂Ph) 5.00 (1H, d, J=11.7Hz, -CH ₂Ph) 7.23-7.43 (20H, m) HRMS (m/z) M⁺-CH₂OH (C₃₃H₃₃O₅) 測定値 509.2326 計算値 509.2326

【０１１８】［実施例１０］

【０１１９】

【化３６】

【０１２０】３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−１，２
−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−プシコピラノース
（１．７７ｇ，３．６ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５
ｍｌ）に、塩化水素を２５℃で飽和させたメタノール
（４３％塩化水素メタノール溶液：５ｍｌ）を０℃で加
えた。室温で３０分間攪拌したのち、氷−飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液−酢酸エチルの混合溶液中に注ぐこと
によって反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水
で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を
合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５５／
４５）で精製することにより、メチル＝３，４，５−ト
リ−Ｏ−ベンジル−α，β−Ｄ−プシコピラノシドを無
色油状物質（１．５６ｇ，９３％）として得た。

【０１２１】¹H NMR(90MHz, CDCl₃) δ 7.15-7.64 (15H, m, Ar-H) 4.47-4.99 (6H, m, -CH ₂Ph) 3.39-4.13 (7H, m, H-1,3,4,5,6) 3.23 (3H, s, OMe)

【０１２２】［実施例１１］

【０１２３】

【化３７】

【０１２４】塩化オキサリル（０．１７３ｍｌ，２．０
ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２ｍｌ）に、−７８℃
でジメチルスルホキシド（０．２８０ｍｌ，４．０ｍｍ
ｏｌ）を滴下し、１０分間攪拌した。ベンジル＝３，
４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−プシコピラノシド
（２６７ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液
（３ｍｌ）を加え２５分間攪拌したのち、さらに、トリ
エチルアミン（０．６８７ｍｌ，４．９ｍｍｏｌ）を加
え１時間かけて室温まで昇温した。飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を注ぐことにより反応を停止し、反応混合物
を酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより２，３，
４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒドロ−Ｄ−
プシコピラノースを粗生成物として得た。次に２，３，
４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒドロ−Ｄ−
プシコピラノースのｔ−ブタノール溶液（２．５ｍｌ）
に、２−メチル−２−ブテン（０．５２２ｍｌ，４．９
ｍｍｏｌ）を加え、これに亜塩素酸ナトリウム（１３４
ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）と、リン酸二水素ナトリウム二
水和物（２３１ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）の水溶液（１ｍ
ｌ）を滴下した。室温で１時間攪拌した後、反応混合物
をエーテルと水で分配し、水層をエーテルで抽出した。
有機層を合わせて、２％塩酸水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、減圧濃
縮することにより粗製の１，２，３，４−テトラ−Ｏ−
ベンジル−１−カルボキシ−１−デヒドロ−Ｄ−リボピ
ラノースを無色固体（２９５ｍｇ，定量的収率）として
得た。

【０１２５】¹H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.38-3.50 (1H, br) 3.58-3.64 (1H, br) 3.67-3.75 (1H, br) 3.78-4.02 (1H, br) 4.17 (1H, brd) 4.30 (2H, brs, -CH ₂Ph) 4.59-4.90 (6H, m, -CH ₂Ph)

【０１２６】［実施例１２］

【０１２７】

【化３８】

【０１２８】メチル＝３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル
−α，β−Ｄ−プシコピラノシド（２５５ｍｇ，０．５
５ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド溶液（２ｍｌ）
に、トリメチルアミン（０．８ｍｌ）と三酸化硫黄ピリ
ジンコンプレックス（９５．９ｍｇ，０．６０ｍｍｏ
ｌ）を０℃で順次加え、室温で攪拌した。４０分後、及
び１．５時間後に、それぞれ先程と同量の三酸化硫黄ピ
リジンコンプレックスを加え、原料が消失するまで攪拌
した（４時間）。エーテルで反応溶液を希釈し、氷冷
下、水を注ぐことにより反応を停止した。反応混合物を
エーテルと水で分配し、水層をエーテルで抽出した。有
機層を合わせて塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより粗製の
３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒドロ−２
−Ｏ−メチル−α，β−Ｄ−プシコピラノースを得た。
得られた３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−１−ジデヒ
ドロ−２−Ｏ−メチル−α，β−Ｄ−プシコピラノース
のｔ−ブタノール溶液（４ｍｌ）に、２−メチル−２−
ブテン（０．２９０ｍｌ，２．７ｍｍｏｌ）を加え、こ
れに亜塩素酸ナトリウム（７４．４ｍｇ，０．８２ｍｍ
ｏｌ）と、リン酸二水素ナトリウム二水和物（１２８ｍ
ｇ，０．８２ｍｍｏｌ）の水溶液（１．６ｍｌ）を滴下
した。室温で２０分攪拌した後、反応混合物をエーテル
と水で分配し、水層をエーテルで抽出した。有機層を合
わせて、２％塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。減圧濃縮するこ
とにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層クロマト
グラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）で精
製し、２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−１−カルボキ
シ−１−デヒドロ−１−Ｏ−メチル−α，β−Ｄ−リボ
ピラノースを白色固体（２２２ｍｇ，２段階８５％）と
して得た。

【０１２９】IR (neat, cm^-1) 1630, 1100, 1050¹ H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 7.05-7.40 (15H, m, Ar-H) 4.60-4.90 (4H, br, -CH ₂Ph) 4.25-4.35 (2H, br, -CH ₂Ph) 4.15-4.20 (1H, br) 3.80-4.05 (1H, br) 3.35-3.75 (3H, br) 3.05 (3H, brs, OMe) CI-MS (m/z) 497 (M⁺+H) 447 (M⁺-OMe) 433 (M⁺-COOH)

【０１３０】このカルボン酸は各種溶媒への溶解性が低
く、プロトンＮＭＲスペクトルの解析が難しいため、さ
らにメチルエステルへと変換することにより構造を確認
した。すなわち、２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−１
−カルボキシ−１−デヒドロ−１−Ｏ−メチル−α，β
−Ｄ−リボピラノース（２３．１ｍｇ，０．０４８ｍｍ
ｏｌ）のメタノール溶液（２ｍｌ）に、濃塩酸を１滴加
え、９０℃で２４時間攪拌した。濃アンモニア水を加え
中和することにより反応を停止し、減圧濃縮した。残渣
を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ヘキサン
／酢酸エチル＝６／４）で精製することにより、２，
３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−１−メトキシカルボニル
−１−デヒドロ−１−Ｏ−メチル−Ｄ−リボピラノース
を得た。

【０１３１】低極性成績体（３．５ｍｇ，１５％）、¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.42 (3H, s, OMe) 3.53 (1H, d, J=3.0Hz, H-2) 3.57 (1H, ddd, J=2.7, 4.8, 10.8Hz, H-4) 3.63 (1H, s, COOMe) 3.70 (1H, ddd, J=0.9, 4.8, 10.8Hz, H-5) 3.98 (1H, dd, J=10.4, 10.8Hz, H-5) 4.17 (1H, dd, J=2.7, 3.0Hz, H-3) 4.32 (1H, d, J=12.3Hz, -CH ₂Ph) 4.51 (1H, d, J=12.3Hz, -CH ₂Ph) 4.52 (1H, d, J=12.1Hz, -CH ₂Ph) 4.56 (1H, d, J=12.1Hz, -CH ₂Ph) 4.85 (1H, d, J=12.4Hz, -CH ₂Ph) 4.92 (1H, d, J=12.4Hz, -CH ₂Ph) 7.19-7.49 (15H, m, Ar-H) 高極性成績体（１２．０ｍｇ，０．０２４ｍｍｏｌ，５
１％）¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.20 (3H, s, OMe) 3.62 (1H, dd, J=2.0, 12.5Hz, H-5) 3.71 (3H, s, COOMe) 3.76 (1H, td, J=2.0, 3.3Hz, H-4) 3.85 (1H, t, J=3.3Hz, H-3) 4.13 (1H, d, J=3.3Hz, H-2) 4.15 (1H, dd, J=2.0, 12.5Hz, H-5) 4.57 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.68 (1H, d, J=11.6Hz, -CH ₂Ph) 4.69 (1H, d, J=12.6Hz, -CH ₂Ph) 4.85 (1H, d, J=12.6Hz, -CH ₂Ph) 5.00 (1H, d, J=11.6Hz, -CH ₂Ph) 7.18-7.41 (15H, m, Ar-H)

【０１３２】［実施例１３］

【０１３３】

【化３９】

【０１３４】１，２，３，４−テトラ−Ｏ−ベンジル−
１−カルボキシ−１−デヒドロ−Ｄ−リボピラノースの
（２９５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン溶
液（２ｍｌ）に、トリエチルアミン（０．２７５ｍｌ，
２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃に冷却し、塩化イソプロポ
キシカルボニル（２４．４ｍｌ，０．２１ｍｏｌ）をゆ
っくり滴下した。０℃で１時間１５分、室温で４５分攪
拌し、原料の消失を確認した後、０℃でアンモニアガス
を吹き込み、さらに室温で３０分攪拌した。塩化メチレ
ンと水で分配後、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝６／
４）で精製することにより、１，２，３，４−テトラ−
Ｏ−ベンジル−１−カルバモイル−１−デヒドロ−Ｄ−
リボピラノースを無色油状物質（２３３ｍｇ，ベンジル
＝３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−プシコピラノ
シドからの収率８５％）として得た。

【０１３５】[α] _D ²⁰ -5.25゜(c 1.10, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3500, 3380, 3060, 2900, 1710, 1590, 1510, 1460, 13
90 1370, 1230, 1145, 1070¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.68 (1H, dd, J=12.3, 2.0Hz, H-6) 3.73-3.76 (1H, m, H-5) 3.90 (1H, t, J=3.2Hz, H-4) 4.03 (1H, dd, J=12.3, 1.8Hz, H-6) 4.29 (1H, dd, J=3.0, 1.0Hz, H-3) 4.44 (1H, d, J=11.2Hz, -CH ₂Ph) 4.51 (1H, d, J=11.2Hz, -CH ₂Ph) 4.54 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.60 (1H, d, J=12.0Hz, -CH ₂Ph) 4.74 (1H, d, J=11.1Hz, -CH ₂Ph) 4.80 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.93 (1H, d, J=11.1Hz, -CH ₂Ph) 5.60 (1H, brd, J=2.3Hz, >NH) 6.90 (1H, brd, J=2.3Hz, >NH) 7.21-7.41 (20H, m) HRMS (m/z) M⁺-Bn (C₂₇H₂₈N₁O₆) 測定値 462.1921 計算値 462.1915

【０１３６】［実施例１４］

【０１３７】

【化４０】

【０１３８】２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−１−カ
ルボキシ−１−デヒドロ−１−Ｏ−メチル−α，β−Ｄ
−リボピラノース（３４．３ｍｇ，０．０７２ｍｍｏ
ｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２ｍｌ）に、トリエチ
ルアミン（２０．０μｌ，０．１４ｍｍｏｌ）を加え０
℃に冷却し、塩化イソプロポキシカルボニル（１０．２
μｌ，０．０７９ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。０℃
で１時間攪拌し、原料の消失を確認した後、その温度で
アンモニアガスを吹き込み、さらに室温で３０分攪拌し
た。塩化メチレンと水で分配後、水層を塩化メチレンで
抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄したのち、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、
分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／
酢酸エチル＝２／８）で精製することにより、２，３，
４−トリ−Ｏ−ベンジル−１−カルバモイル−１−デヒ
ドロ−１−Ｏ−メチル−α，β−Ｄ−リボピラノースを
得た。（収率はいずれもメチル＝３，４，５−トリ−Ｏ
−ベンジル−α，β−Ｄ−プシコピラノシドからの総収
率）低極性成績体（２２．９ｍｇ，６７％）¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.22 (3H, s, OMe) 3.66 (1H, dd, J=12.3, 2.0Hz, H-5) 3.76 (1H, ddd, J=3.2, 2.0, 1.8Hz, H-4) 3.85 (1H, dd, J=3.2, 3.1Hz, H-3) 4.01 (1H, dd, J=12.3, 1.8Hz, H-5) 4.19 (1H, dd, J=3.1, 1.0Hz, H-2) 4.54 (1H, d, J=12.2Hz, -CH ₂Ph) 4.60 (1H, d, J=12.2Hz, -CH ₂Ph) 4.71 (1H, d, J=11.1Hz, -CH ₂Ph) 4.79 (1H, d, J=12.5Hz, -CH ₂Ph) 4.83 (1H, d, J=12.5Hz, -CH ₂Ph) 4.90 (1H, d, J=11.1Hz, -CH ₂Ph) 5.61 (1H, brs, >NH) 6.95 (1H, brs, >NH) 7.20-7.40 (15H, m, Ar-H) 高極性成績体（４．６ｍｇ，１３％）¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.33 (3H, s, OMe) 3.44 (1H, d, J=3.3Hz, H-2) 3.58 (1H, ddd, J=10.8, 4.7, 2.6Hz, H-4) 3.77 (1H, ddd, J=10.3, 4.7, 1.0Hz, H-5) 3.99 (1H, dd, J=10.3, 10.8Hz, H-5) 4.14 (1H, dd, J=3.3, 2.6Hz, H-3) 4.42 (1H, d, J=11.6Hz, -CH ₂Ph) 4.53 (1H, d, J=11.6Hz, -CH ₂Ph) 4.53 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.88 (2H, AB, -CH ₂Ph) 5.58 (1H, brs, >NH) 6.62 (1H, brs, >NH) 7.19-7.39 (15H, m, Ar-H)

【０１３９】［実施例１５］

【０１４０】

【化４１】

【０１４１】１，２，３，４−テトラ−Ｏ−ベンジル−
１−カルバモイル−１−デヒドロ−Ｄ−リボピラノース
（１２１ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロ
エタン溶液（５ｍｌ）に、室温で塩化オキサリル（６
７．５μｌ，０．７７ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌
した。さらに、８５℃で２時間攪拌した後、反応溶液を
室温まで冷却し、アンモニアガスを吹き込みながら３０
分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わ
せて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（四塩化炭素／エーテル＝３／７）で精製
し、１，２，３，４−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−アロ
ファノイル−１−デヒドロ−Ｄ−リボピラノースを無色
油状物質（１６．６ｇ，８７％）として得た。

【０１４２】[α] _D ²⁰ -20.0゜(c 1.99, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3450, 3050, 1735, 1600, 1480, 1390, 1250, 1160, 11
30, 1080¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 3.69 (1H, dd, J=12.3, 2.2Hz, H-5) 3.74-3.78 (1H, br, H-4) 3.89 (1H, t, J=3.1Hz, H-3) 4.10 (1H, dd, J=12.3, 2.4Hz, H-5) 4.17 (1H, dd, J=2.8, 1.0Hz, H-2) 4.38 (1H, d, J=11.2Hz, -CH ₂Ph) 4.46 (1H, d, J=11.2Hz, -CH ₂Ph) 4.59 (2H, s, -CH ₂Ph) 4.66 (1H, d, J=11.4Hz, -CH ₂Ph) 4.73 (1H, d, J=12.5Hz, -CH ₂Ph) 4.77 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.95 (1H, d, J=11.4Hz, -CH 2Ph) 5.19 (1H, brs, >NH) 7.21-7.36 (20H, m, Ar-H) 8.00 (1H, brs, >NH) 8.82 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M⁺-Bn (C₂₈H₂₉N₂O₇) 測定値 505.1990 計算値 505.1973

【０１４３】［実施例１６］

【０１４４】

【化４２】

【０１４５】２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−１−カ
ルバモイル−１−デヒドロ−１−Ｏ−メチル−α（β）
−Ｄ−リボピラノース（低極性化合物）（４６．５ｍ
ｇ，０．０９８ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶
液（２ｍｌ）に、室温で塩化オキサリル（１７．０μ
ｌ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。９
０℃で１．５時間攪拌した後、反応溶液を室温まで冷却
し、さらに、塩化オキサリル（８．５μｌ，０．０９８
ｍｍｏｌ）を加え９０℃で３０分間攪拌した。再度、反
応溶液を室温まで冷却後、アンモニアガスを吹き込み３
０分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わ
せて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／７）で精製
し、２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−１−アロファノ
イル−１−デヒドロ−１−Ｏ−メチル−α（β）−Ｄ−
リボピラノースを無色油状物質（４２．２ｍｇ，８３
％）として得た。

【０１４６】¹H NMR(200MHz, CDCl₃) δ 3.19 (3H, s, OMe) 3.66 (1H, dd, J=12.3, 2.1Hz, H-5) 3.71-3.79 (1H, m, H-4) 3.84 (1H, dd, J=3.2, 3.0Hz, H-3) 4.09 (1H, dd, J=12.3, 2.2Hz, H-5) 4.10 (1H, dd, J=3.0, 0.9Hz, H-2) 4.57-4.78 (5H, m, -CH ₂Ph) 4.94 (1H, d, J=11.4Hz, -CH ₂Ph) 5.17 (1H, brs, >NH) 7.14-7.40 (15H, m, Ar-H) 8.00 (1H, brs, >NH) 8.76 (1H, brs, >NH)

【０１４７】［実施例１７］

【０１４８】

【化４３】

【０１４９】５−Ｏ−ベンジル−１−α−アロファノイ
ル−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−１
−Ｏ−メチル−β−Ｄ−リボフラノース（１０．０ｍ
ｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２ｍｌ）
に濃塩酸を一滴加え、６０℃で１．５時間加熱攪拌し
た。濃アンモニア水で中和することによって反応を停止
し、減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配し、水
層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽和
食塩水で洗浄した。濾過後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
（クロロホルム／メタノール＝９／１）で精製し、５−
Ｏ−ベンジル−１−α−アロファノイル−１−デヒドロ
−１−Ｏ−メチル−β−Ｄ−リボフラノースを無色油状
物質（７．９ｍｇ，８９％）として得た。

【０１５０】［実施例１８］

【０１５１】

【化４４】

【０１５２】１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−アロ
ファノイル−１−デヒドロ−２，３−Ｏ−イソプロピリ
デン−β−Ｄ−リボフラノース（１５．８ｇ，３５ｍｍ
ｏｌ）のエタノール溶液（２００ｍｌ）に濃塩酸（２ｍ
ｌ）と水（２ｍｌ）を加え、生成するアセトンを留去し
ながら９０℃で２時間加熱攪拌した。さらに、水（２ｍ
ｌ）を加え１．５時間攪拌し、再度、水（５ｍｌ）を加
え１．５時間攪拌した。原料の消失を確認した後、濃ア
ンモニア水で中和することによって反応を停止し、減圧
濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸
エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽和食塩水で
洗浄した。濾過後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢
酸エチル＝１／１後にクロロホルム／メタノール＝９／
１）で精製し、１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−ア
ロファノイル−１−デヒドロ−β−Ｄ−リボフラノース
を無色油状物質（１１．４ｇ，７９％）として得た。

【０１５３】[α] _D ²⁰ -40.7゜(c 0.67, CHCl₃:MeOH=
1:1) IR (KBr, cm^-1) 3440, 3370, 1730, 1685, 1610, 1460, 1420, 1100¹ H NMR(400MHz, CD₃OD) δ 3.57 (1H, dd, J=10.8, 5.9Hz, H-5) 3.80 (1H, dd, J=10.8, 2.3Hz, H-5) 4.09 (1H, d, J=4.2Hz, H-2) 4.25 (1H, d, J=10.8Hz, -CH ₂Ph) 4.32 (1H, dd, J=8.3, 4.2Hz, H-3) 4.38 (1H, ddd, J=8.3, 5.9, 2.3Hz, H-4) 4.53-4.63 (3H, m, -CH ₂Ph) 7.19-7.38 (10H, m, Ar-H) HRMS (m/z) M⁺-CONHCONH₂ (C₁₉H₂₁O₅) 測定値 329.1414 計算値 329.1388 CIMS (m/z) 417 (M⁺+1)

【０１５４】１，５−ジ−Ｏ−ベンジル−１−α−アロ
ファノイル−１−デヒドロ−β−Ｄ−リボフラノース
（１．００ｇ，２．４ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（２
０ｍｌ）に、１０％パラジウム炭素（１００ｍｇ）を加
え、３気圧の水素雰囲気下、１０時間攪拌した。セライ
ト濾過後、減圧下濃縮することにより１−アロファノイ
ル−１−デヒドロ−α，β−Ｄ−リボフラノース、１−
アロファノイル−１−デヒドロ−α，β−Ｄ−リボピラ
ノース、（４種異性体混合物として）¹³ C NMR(100MHz, D₂O) δ 174.7（２種）, 174.0, 173.6 あわせて１Ｃ(-NHCONH₂) 157.8（４種）(-CONHCONH₂) 106.8, 103.5, 99.8, 99.5 あわせて１Ｃ（アノマー
位）及び［５ＲＳ，１’Ｒ，２’Ｒ，３’Ｒ］−５−ヒドロ
キシ−５−（１’，２’，３’，４’−テトラヒドロキ
シ）ブチルヒダントイン¹³ C NMR(100MHz, D₂O) δ 178.9(C-2), 161.0(C-4), 90.6(C-5), 75.7, 74.8, 72.
8, 65.1(C-4')¹³ C NMR(100MHz, D₂O) δ 178.5(C-2), 161.0(C-4), 88.9(C-5), 76.0, 75.4, 74.
2, 64.5(C-4') の混合物（５７０ｍｇ，定量的）を粗生成物として得た
〔各化合物における異性体比リボース誘導体６：４：
３：２、ヒダントイン誘導体６：３（それぞれ順不
同）〕。この混合物は、長時間放置することにより最終
的には［５ＲＳ，１’Ｒ，２’Ｒ，３’Ｒ］−５−ヒド
ロキシ−５−（１’，２’，３’，４’−テトラヒドロ
キシブチル）ヒダントインの平衡混合物（異性体比３：
１、順不同）へと収斂した。

【０１５５】［実施例１９］

【０１５６】

【化４５】

【０１５７】１，２，３，４−テトラ−Ｏ−ベンジル−
１−アロファノイル−１−デヒドロリボピラノース（１
０．０ｍｇ，０．０１７ｍｍｏｌ）のエタノール溶液
（１ｍｌ）に、１０％パラジウム炭素（１０ｍｇ）を加
え、３気圧の水素雰囲気下、２時間攪拌した。セライト
濾過後、減圧下濃縮することにより１−アロファノイル
−１−デヒドロ−α，β−Ｄ−リボフラノース、１−ア
ロファノイル−１−デヒドロ−α，β−Ｄ−リボピラノ
ース、［５ＲＳ，１’Ｒ，２’Ｒ，３’Ｒ］−５−ヒド
ロキシ−５−（１’，２’，３’，４’−テトラヒドロ
キシブチル）ヒダントインの平衡混合物（４．３ｍｇ，
定量的）を粗生成物として得た（異性体比リボース誘導
体６：４：３：２、ヒダントイン誘導体６：３、それぞ
れ順不同）。この化合物は、長時間放置することにより
最終的には［５ＲＳ，１’Ｒ，２’Ｒ，３’Ｒ］−５−
ヒドロキシ−５−（１’，２’，３’，４’−テトラヒ
ドロキシブチル）ヒダントインの平衡混合物（異性体比
３：１、順不同）へと収斂した。生成物のスペクトルデ
ータは実施例１８のものと同じであった。

【０１５８】［参考例５］

【０１５９】

【化４６】

【０１６０】１−アロファノイル−１−デヒドロ−α，
β−Ｄ−リボフラノース、１−アロファノイル−１−デ
ヒドロ−α，β−Ｄ−リボピラノース、［５ＲＳ，１’
Ｒ，２’Ｒ，３’Ｒ］−５−ヒドロキシ−５−（１’，
２’，３’，４’−テトラヒドロキシブチル）ヒダント
インの混合物（リボース誘導体６：４：３：２、ヒダン
トイン誘導体６：３、それぞれ順位不同）（５７．３ｍ
ｇ，０．２４ｍｍｏｌ）をメタノールと水の混合溶媒
（２：１，６ｍｌ）に溶解し、Ｄｏｗｅｘ５０Ｘ
（１．５ｍｌ）を加え６０℃で１８時間、さらに８０℃
で２時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Ｄｏｗｅ
ｘ５０Ｘを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式［I］で表される［２Ｒ，３Ｓ，４
Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジヒドロキシ−２−ヒドロキシメ
チル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］ノ
ナン−７，９−ジオン（ヒダントサイジン）及び、式
［XI］で表される［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−３，４
−ジヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル−１−オキサ−
６，８−ジアザスピロ［４．４］ノナン−７，９−ジオ
ンを含む粗生成物（４８．６ｍｇ，粗収率９２％）を得
た。この混合物のピリジン溶液（２ｍｌ）に無水酢酸
（５１８ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）と触媒量の４−ジメ
チルアミノピリジンを加え、３０分間攪拌した。反応溶
液に水を加えることにより反応を停止し、酢酸エチルと
水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出した。有機
層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮すること
により得られる残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（ベンゼン／酢酸エチル＝１／１）で精製する
ことにより、［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジ
アセトキシ−２−アセトキシメチル−６−Ｎ−アセチル
−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］ノナン
−７，９−ジオン（９．６ｍｇ，１０．２％）、

【０１６１】[α] _D ²⁰ +98.4゜(c 1.18, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3250, 1815, 1760, 1380, 1310, 1240, 1110, 1050, 76
0¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 2.06 (3H, s, OAc) 2.10 (3H, s, OAc) 2.14 (3H, s, OAc) 2.57 (3H, s, NAc) 4.17 (1H, dd, J=12.4, 5.9Hz, CH ₂OAc) 4.58 (1H, dd, J=12.4, 2.7Hz, CH ₂OAc) 4.62 (1H, ddd, J=8.6, 5.9, 2.7Hz, H-2) 5.46 (1H, dd, J=7.2, 8.6Hz, H-3) 5.69 (1H, d, J=7.2Hz, H-4) 7.49 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M⁺ (C₁₅H₁₈N₂O₁₀) 測定値 387.1058 計算値 387.1037

【０１６２】［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−３，４−ジ
アセトキシ−２−アセトキシメチル−６−Ｎ−アセチル
−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］ノナン
−７，９−ジオン（１８．１ｍｇ，１９．３％）、 [α] _D ²⁰ +103゜(c 0.924, CHCl₃) IR (neat, cm^-1) 3250, 1815, 1760, 1380, 1310, 1240, 1125, 1095, 10
50, 760¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 2.05 (3H, s, OAc) 2.14 (3H, s, OAc) 2.16 (3H, s, OAc) 2.54 (3H, s, NAc) 4.05 (1H, dd, J=12.4, 4.1Hz, CH ₂OAc) 4.67 (1H, dd, J=12.4, 2.7Hz, CH ₂OAc) 4.97 (1H, ddd, J=6.8, 4.1, 2.7Hz, H-2) 5.33 (1H, dd, J=8.6, 6.8Hz, H-3) 5.44 (1H, d, J=8.7Hz, H-4) 7.58 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M⁺ (C₁₅H₁₈N₂O₁₀) 測定値 387.1022 計算値 387.1037

【０１６３】及び［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−３，４
−ジアセトキシ−２−アセトキシメチル−１−オキサ−
６，８−ジアザスピロ［４．４］ノナン−７，９−ジオ
ン（１６．２ｍｇ，１９．４％）、¹ H NMR(400MHz, CDCl₃) δ 2.12 (3H, s, OAc) 2.15 (3H, s, OAc) 2.16 (3H, s, OAc) 4.11 (1H, dd, J=13.5, 5.9Hz, CH ₂OAc) 4.41-4.47 (2H, m, H-2, CH ₂OAc) 5.44 (1H, d, J=5.0Hz, H-4) 5.54 (1H, dd, J=5.0, 2.7Hz, H-3) 6.69 (1H, brs, >NH-6) 8.14 (1H, brs, >NH-8) HRMS (m/z) M⁺+1 (C₁₃H₁₇N₂O₉) 測定値 345.0932 計算値 345.0932 を得た。

【０１６４】これらのメタノール溶液に、それぞれアン
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をＤｉａｉｏｎＣＨＰ２０
Ｐで精製することにより、式［I］で表される［２Ｒ，
３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジヒドロキシ−２−ヒド
ロキシメチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ
［４．４］ノナン−７，９−ジオン（［２Ｒ，３Ｓ，４
Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジアセトキシ−２−アセトキシメ
チル−６−Ｎ−アセチル−１−オキサ−６，８−ジアザ
スピロ［４．４］ノナン−７，９−ジオンから５．０ｍ
ｇ、９２％）、及び式[XI］で表される［２Ｒ，３Ｓ，
４Ｒ，５Ｒ］−３，４−ジヒドロキシ−２−ヒドロキシ
メチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］
ノナン−７，９−ジオン（［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］
−３，４−ジアセトキシ−２−アセトキシメチル−６−
Ｎ−アセチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ
［４．４］ノナン−７，９−ジオンから７．２ｍｇ、５
５％、［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−３，４−ジアセト
キシ−２−アセトキシメチル−１−オキサ−６，８−ジ
アザスピロ［４．４］ノナン−７，９−ジオンから８．
５ｍｇ、８３％）を得た。これらのスペクトルデータ
は、文献値（Ｓ．Ｍｉｏｅｔａｌ．，Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ，４７，２１３３，２１４５（１
９９１）．）と一致した。

【０１６５】［I］ ¹H NMR(200MHz, D₂O) δ 3.58 (1H, dd, J=4.4, 12.7Hz, H-5) 3.69 (1H, dd, J=3.2, 12.7Hz, H-5) 4.12 (1H, dd, J=4.0, 5.8Hz, H-3) 4.20-4.30 (1H, m, H-4) 4.30 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) ［XI］¹H NMR(400MHz, CD₃OD) δ 3.60 (1H, dd, J=5.2, 12.1Hz, -CH ₂OH) 3.67 (1H, dd, J=4.3, 12.1Hz, -CH ₂OH) 4.09 (1H, ddd, J=3.3, 4.3, 5.2Hz, H-2) 4.17 (1H, dd, J=3.2, 4.9Hz, H-3) 4.26 (1H, d, J=4.9Hz, H-4)

【０１６６】［参考例６］

【０１６７】

【化４７】

【０１６８】［５ＲＳ，１’Ｒ，２’Ｒ，３’Ｒ］−５
−ヒドロキシ−５−（１’，２’，３’，４’−テトラ
ヒドロキシブチル）ヒダントインの平衡混合物（異性体
比３：１、順不同）（１０１ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ）
をメタノールと水の混合溶媒（２：１，６ｍｌ）に溶解
し、Ｄｏｗｅｘ５０Ｘ（３．５ｍｌ）を加え４５℃で
１５時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Ｄｏｗｅ
ｘ５０Ｘを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式［I］で表される［２Ｒ，３Ｓ，４
Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジヒドロキシ−２−ヒドロキシメ
チル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］ノ
ナン−７，９−ジオン（ヒダントサイジン）及び、式
［XI］で表される［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−３，４
−ジヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル−１−オキサ−
６，８−ジアザスピロ［４．４］ノナン−７，９−ジオ
ンの混合物（１：４）を粗生成物（９８．０ｍｇ，定量
的）として得た。この混合物のピリジン溶液（５ｍｌ）
に無水酢酸（５１８ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）と触媒量
の４−ジメチルアミノピリジンを加え、３０分間攪拌し
た。反応溶液に水を加えることにより反応を停止し、酢
酸エチルと水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出
した。有機層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃
縮することにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層
クロマトグラフィー（ベンゼン／酢酸エチル＝１／１）
で精製することにより、［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ］−
３，４−ジアセトキシ−２−アセトキシメチル−６−Ｎ
−アセチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．
４］ノナン−７，９−ジオン（２０．２ｍｇ、１２
％）、及び［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−３，４−ジア
セトキシ−２−アセトキシメチル−６−Ｎ−アセチル−
１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］ノナン−
７，９−ジオン（１２．５ｍｇ、８．５％）を得た。
生成物のスペクトルデータは参考例５と同じであった。

【０１６９】これらのメタノール溶液に、それぞれアン
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をＤｉａｉｏｎＣＨＰ２０
Ｐで精製することにより、式［I］で表される［２Ｒ，
３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジヒドロキシ−２−ヒド
ロキシメチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ
［４．４］ノナン−７，９−ジオン（［２Ｒ，３Ｓ，４
Ｒ，５Ｓ］−３，４−ジアセトキシ−２−アセトキシメ
チル−６−Ｎ−アセチル−１−オキサ−６，８−ジアザ
スピロ［４．４］ノナン−７，９−ジオンから５．５ｍ
ｇ、４８％）、及び式［XI］で表される［２Ｒ，３Ｓ，
４Ｒ，５Ｒ］−３，４−ジヒドロキシ−２−ヒドロキシ
メチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ［４．４］
ノナン−７，９−ジオン（［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］
−３，４−ジアセトキシ−２−アセトキシメチル−６−
Ｎ−アセチル−１−オキサ−６，８−ジアザスピロ
［４．４］ノナン−７，９−ジオンから６．２ｍｇ、７
８％）を得た。生成物のスペクトルデータは参考例５と
同じであった。

フロントページの続き (56)参考文献特開平４−154761（ＪＰ，Ａ) ＣａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅＲｅｓｅａｒｃｈ，Ｖｏｌ．36（1974）ｐ．111 −120 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ. 47，Ｎｏ．12／13（1991）ｐ．2133− 2144 (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07H 7/02 033 C07H 9/04 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】次の一般式【化１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、及びＲ⁴は同一または異なっ
て、水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｘは保護さ
れていてもよい、カルボキシル基、カルバモイル基、ま
たはアロファノイル基を表す）で表されるＤ−プシコフ
ラノース誘導体。
【請求項２】Ｒ²とＲ³が一体となって、次の一般式【化２】（式中、Ｒ²'とＲ³'は同一または異なって、水素原子、
炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、また
は置換もしくは無置換のアリール基を表し、また、一体
となって環を形成してもよい）で表されるアルキリデン
もしくはアリールメチリデン基を表すことを特徴とす
る、請求項１に記載のＤ−プシコフラノース誘導体。
【請求項３】次の一般式【化３】（式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸は同一または異なっ
て、水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｘは保護さ
れていてもよい、カルボキシル基、カルバモイル基、ま
たはアロファノイル基を表す）で表されるＤ−プシコピ
ラノース誘導体。
【請求項４】一般式【化４】（式中、Ｒ¹及びＲ⁴は同一または異なって、水素原子ま
たは水酸基の保護基を表し、Ｒ²'及びＲ³'は同一または
異なって、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分
岐状アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール
基を表し、また、一体となって環を形成してもよい）で
表されるカルバモイル基を有するＤ−プシコフラノース
誘導体をハロゲン化オキサリルと反応後、アンモニアを
反応させることによって、一般式【化５】（式中、Ｒ¹、Ｒ²'、Ｒ³'、及びＲ⁴は前記と同意義を表
す）で表されるアロファノイル基を有するＤ−プシコフ
ラノースを製造する方法。
【請求項５】一般式【化６】（式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸は同一または異なっ
て、水素原子または水酸基の保護基を表す）で表される
カルバモイル基を有するＤ−プシコピラノース誘導体を
ハロゲン化オキサリルと反応後、アンモニアを反応させ
ることによって、一般式【化７】（式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸は前記と同意義を表
す）で表されるアロファノイル基を有するＤ−プシコピ
ラノース誘導体を製造する方法。
【請求項６】一般式【化８】（式中、Ｒ¹及びＲ⁴は同一または異なって、水素原子ま
たは水酸基の保護基を表し、Ｒ²'及びＲ³'は同一または
異なって、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分
岐状アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール
基を表し、また、一体となって環を形成してもよい）で
表されるアロファノイル基を有するＤ−プシコフラノー
ス誘導体の水酸基の保護基を除去し、式【化９】で表されるアロファノイル基を有するＤ−プシコフラノ
ース誘導体、Ｄ−プシコピラノース誘導体及び保護基を
有しないヒダントイン誘導体の混合物を製造する方法。
【請求項７】一般式【化１０】（式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸は同一または異なっ
て、水素原子または水酸基の保護基を表す）で表される
アロファノイル基を有するＤ−プシコピラノース誘導体
の水酸基の保護基を除去し、式【化１１】で表されるアロファノイル基を有するＤ−プシコフラノ
ース誘導体、Ｄ−プシコピラノース誘導体及び保護基を
有しないヒダントイン誘導体の混合物を製造する方法。
【請求項８】式【化１２】で表されるアロファノイル基を有するＤ−プシコフラノ
ース誘導体、Ｄ−プシコピラノース誘導体及び保護基を
有しないヒダントイン誘導体の混合物を酸触媒で処理
し、式【化１３】で表される除草活性物質ヒダントサイジンと、式【化１４】で表される５−エピ−ヒダントサイジンの混合物を製造
する方法。