JPH06172376A - プシコフラノース及びプシコピラノース誘導体 - Google Patents
プシコフラノース及びプシコピラノース誘導体Info
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- JPH06172376A JPH06172376A JP4352301A JP35230192A JPH06172376A JP H06172376 A JPH06172376 A JP H06172376A JP 4352301 A JP4352301 A JP 4352301A JP 35230192 A JP35230192 A JP 35230192A JP H06172376 A JPH06172376 A JP H06172376A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H7/00—Compounds containing non-saccharide radicals linked to saccharide radicals by a carbon-to-carbon bond
- C07H7/02—Acyclic radicals
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 強力な除草活性物質ヒダントサイジンの新規
合成法の開発。 【構成】 次の一般式 【化1】 (式中、R1〜R8は同一または異なって、水素原子また
は水酸基の保護基を表し、Xは保護されていてもよい、
ヒドロキシメチル基、カルボキシル基、カルバモイル
基、またはアロファノイル基を表す)で表されるD−プ
シコフラノース及びD−プシコピラノース誘導体。 【効果】 上記の化合物は、いずれもヒダントサイジン
の新規合成法における鍵合成中間体として有用。
合成法の開発。 【構成】 次の一般式 【化1】 (式中、R1〜R8は同一または異なって、水素原子また
は水酸基の保護基を表し、Xは保護されていてもよい、
ヒドロキシメチル基、カルボキシル基、カルバモイル
基、またはアロファノイル基を表す)で表されるD−プ
シコフラノース及びD−プシコピラノース誘導体。 【効果】 上記の化合物は、いずれもヒダントサイジン
の新規合成法における鍵合成中間体として有用。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、次の式
【0002】
【化4】
【0003】で表される強力な除草活性物質ヒダントサ
イジンの新規製造法における鍵合成中間体に関する。
イジンの新規製造法における鍵合成中間体に関する。
【0004】
【従来の技術】放線菌の代謝産物として得られる上記式
[I]で表されるヒダントサイジンは、優れた植物体内
への移行性を有し、単子葉、双子葉の一年生のみならず
多年生雑草に対しても強力な殺草活性及び生育抑制活性
を有している。また、ヒダントサイジンは、動物、魚類
及び微生物に対して際だった安全性を示し、しかも、土
壌中での分解性も高く、環境上望ましい性質を有してお
り、優れた除草剤としての用途が期待される化合物であ
る。ヒダントサイジンを工業的に製造しようとする場
合、放線菌の代謝産物からの抽出で行うことは、夾雑す
るアミノ酸、核酸等からの分離にカラムクロマトグラフ
ィー等を繰返し使用することが不可欠で多大の困難を伴
うと考えられる[M.Nakajima et a
l., J.Antibiot., 44, 293
(1991).]。従って、酒石酸誘導体とヒダント
イン誘導体を出発物質に用い、スピロ環閉環反応を応用
した合成[S.Mio et al., Tetrah
edron, 47, 2111,2121(199
1)及び特開平2−85287号.]、D−フルクト
ースから得たD−プシコース誘導体のN−グリコシル化
反応を用いる合成法[S. Mio et al.,T
etrahedron, 47, 2133(199
1).]、D−リボース誘導体を出発物質に用い、ヒ
ダントイン形成反応を応用した合成法[S. Mirz
a,ドイツ公開特許公報 DE 4129728A1
(1991).]が、従来ヒダントサイジンの合成法と
して報告されている。しかしながら、の方法では四酸
化オスミウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、の
方法では、トリメチルシリルアジド、の方法では、無
水トリフルオロメタンスルホン酸、四酸化オスミウム
等、高価でしかも毒性の高い試薬が多数使用されてお
り、これらの合成法によってヒダントサイジンを工業的
に製造することは多大の困難を伴っていた。
[I]で表されるヒダントサイジンは、優れた植物体内
への移行性を有し、単子葉、双子葉の一年生のみならず
多年生雑草に対しても強力な殺草活性及び生育抑制活性
を有している。また、ヒダントサイジンは、動物、魚類
及び微生物に対して際だった安全性を示し、しかも、土
壌中での分解性も高く、環境上望ましい性質を有してお
り、優れた除草剤としての用途が期待される化合物であ
る。ヒダントサイジンを工業的に製造しようとする場
合、放線菌の代謝産物からの抽出で行うことは、夾雑す
るアミノ酸、核酸等からの分離にカラムクロマトグラフ
ィー等を繰返し使用することが不可欠で多大の困難を伴
うと考えられる[M.Nakajima et a
l., J.Antibiot., 44, 293
(1991).]。従って、酒石酸誘導体とヒダント
イン誘導体を出発物質に用い、スピロ環閉環反応を応用
した合成[S.Mio et al., Tetrah
edron, 47, 2111,2121(199
1)及び特開平2−85287号.]、D−フルクト
ースから得たD−プシコース誘導体のN−グリコシル化
反応を用いる合成法[S. Mio et al.,T
etrahedron, 47, 2133(199
1).]、D−リボース誘導体を出発物質に用い、ヒ
ダントイン形成反応を応用した合成法[S. Mirz
a,ドイツ公開特許公報 DE 4129728A1
(1991).]が、従来ヒダントサイジンの合成法と
して報告されている。しかしながら、の方法では四酸
化オスミウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、の
方法では、トリメチルシリルアジド、の方法では、無
水トリフルオロメタンスルホン酸、四酸化オスミウム
等、高価でしかも毒性の高い試薬が多数使用されてお
り、これらの合成法によってヒダントサイジンを工業的
に製造することは多大の困難を伴っていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、優れた
除草活性物質であるヒダントサイジンの工業的製造法の
開発を目指して鋭意検討した結果、本発明の化合物であ
るD−プシコフラノース誘導体及びD−プシコピラノー
ス誘導体が極めて有用な鍵製造中間体であることを見い
だし、本発明を完成した。
除草活性物質であるヒダントサイジンの工業的製造法の
開発を目指して鋭意検討した結果、本発明の化合物であ
るD−プシコフラノース誘導体及びD−プシコピラノー
ス誘導体が極めて有用な鍵製造中間体であることを見い
だし、本発明を完成した。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、次の一般式
【0007】
【化5】
【0008】(式中、R1、R2、R3、及びR4は同一ま
たは異なって、水素原子または水酸基の保護基を表し、
Xは保護されていてもよい、ヒドロキシメチル基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、またはアロファノイル基
を表す)で表されるD−プシコフラノース誘導体、及び
次の一般式
たは異なって、水素原子または水酸基の保護基を表し、
Xは保護されていてもよい、ヒドロキシメチル基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、またはアロファノイル基
を表す)で表されるD−プシコフラノース誘導体、及び
次の一般式
【0009】
【化6】
【0010】(式中、R5、R6、R7 、及びR8 は同一
または異なって、水素原子または水酸基の保護基を表
し、Xは保護されていてもよい、ヒドロキシメチル基、
カルボキシル基、カルバモイル基、またはアロファノイ
ル基を表す)で表されるD−プシコピラノース誘導体に
関する。
または異なって、水素原子または水酸基の保護基を表
し、Xは保護されていてもよい、ヒドロキシメチル基、
カルボキシル基、カルバモイル基、またはアロファノイ
ル基を表す)で表されるD−プシコピラノース誘導体に
関する。
【0011】水酸基の保護基としては、ベンジル基、p
−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル
基、p−クロロベンジル基、m−ブロモベンジル基、p
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−p−アニ
シルメチル基、トリチル基等のアリールメチル基;トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル基;メ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基、2−
メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、
メチルチオメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル基、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基等
のアルキル基;ホルミル基、アセチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、p−メトキ
シベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のアシル基な
どを例示することができる。
−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル
基、p−クロロベンジル基、m−ブロモベンジル基、p
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−p−アニ
シルメチル基、トリチル基等のアリールメチル基;トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル基;メ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基、2−
メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、
メチルチオメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル基、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基等
のアルキル基;ホルミル基、アセチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、p−メトキ
シベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のアシル基な
どを例示することができる。
【0012】また、R2とR3、R5とR6、あるいはR6
とR7は互いに隣接する二つの水酸基の保護基が一体と
なって、一般式
とR7は互いに隣接する二つの水酸基の保護基が一体と
なって、一般式
【0013】
【化7】
【0014】(式中、R2’とR3’は同一または異なっ
て、水素原子、炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状ア
ルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、また、一体となって環を形成してもよい)で表され
るアルキリデンもしくはアリールメチリデン基を表すこ
ともでき、このような例として、イソプロピリデン基、
1−メチルプロピリデン基、1−メチルブチリデン基、
シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等のアル
キリデン基;及びベンジリデン基、p−メトキシベンジ
リデン基、p−クロロベンジリデン基、1−メチルベン
ジリデン基、1−エチルベンジリデン基、ジフェニルメ
チリデン基等のアリールメチリデン基などを挙げること
ができる。
て、水素原子、炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状ア
ルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、また、一体となって環を形成してもよい)で表され
るアルキリデンもしくはアリールメチリデン基を表すこ
ともでき、このような例として、イソプロピリデン基、
1−メチルプロピリデン基、1−メチルブチリデン基、
シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等のアル
キリデン基;及びベンジリデン基、p−メトキシベンジ
リデン基、p−クロロベンジリデン基、1−メチルベン
ジリデン基、1−エチルベンジリデン基、ジフェニルメ
チリデン基等のアリールメチリデン基などを挙げること
ができる。
【0015】なお、上記一般式[II]中、R2及びR3が
水酸基の保護基である場合、R2とR3は一体となって、
上記一般式[IV]で表されるアルキリデンもしくはアリ
ールメチリデン基を表すことが好ましい。
水酸基の保護基である場合、R2とR3は一体となって、
上記一般式[IV]で表されるアルキリデンもしくはアリ
ールメチリデン基を表すことが好ましい。
【0016】保護されたヒドロキシメチル基とは、その
水酸基が上記のアリールメチル基、シリル基、アルキル
基、アシル基などの水酸基の保護基で置換されたものを
いい、保護されたカルボキシル基とは、低級アルキル基
もしくはシリル基等でエステル化されたカルボキシル基
あるいはアルカリ金属塩もしくはアミン等で中和された
カルボキシル基を意味し、さらに保護されたカルバモイ
ル基もしくはアロファノイル基とは、その窒素原子が上
記の水酸基の保護基と同様のアリールメチル基、シリル
基、アルキル基、アシル基などで置換されたものを意味
する。
水酸基が上記のアリールメチル基、シリル基、アルキル
基、アシル基などの水酸基の保護基で置換されたものを
いい、保護されたカルボキシル基とは、低級アルキル基
もしくはシリル基等でエステル化されたカルボキシル基
あるいはアルカリ金属塩もしくはアミン等で中和された
カルボキシル基を意味し、さらに保護されたカルバモイ
ル基もしくはアロファノイル基とは、その窒素原子が上
記の水酸基の保護基と同様のアリールメチル基、シリル
基、アルキル基、アシル基などで置換されたものを意味
する。
【0017】炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基等を例示することができる。また、置換もしく
は無置換のアリール基としては、フェニル基、p−トリ
ル基、p−メトキシフェニル基、m−クロロフェニル
基、ナフチル基、フリル基、チエニル基等を例示するこ
とができる。
キル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基等を例示することができる。また、置換もしく
は無置換のアリール基としては、フェニル基、p−トリ
ル基、p−メトキシフェニル基、m−クロロフェニル
基、ナフチル基、フリル基、チエニル基等を例示するこ
とができる。
【0018】前記一般式[II]及び[III]で表される
プシコフラノース及びプシコピラノース誘導体は、それ
ぞれ、下記の合成工程により製造することができる。
プシコフラノース及びプシコピラノース誘導体は、それ
ぞれ、下記の合成工程により製造することができる。
【0019】
【化8】
【0020】
【化9】
【0021】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、
R7、R8、R2’、及びR3’は上記と同じである)。
R7、R8、R2’、及びR3’は上記と同じである)。
【0022】
【第1工程】本工程は、式[V]で表される1,2:
4,5−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピ
ラノースを酸触媒存在下アセタール誘導体と反応し、一
般式[VI]で表される1,2−位の水酸基がイソプロピ
リデン基で、また、3,4−位の水酸基がアルキリデン
基もしくはアリールメチリデン基で保護されたD−プシ
コフラノース誘導体を製造するものである。本工程に用
いられる式[V]で表される1,2:4,5−ジ−O−
イソプロピリデン−D−プシコピラノースは文献記載の
方法によりD−フルクトースから製造できる化合物であ
る[S. Mioet al., Tetrahedr
on, 47, 2133(1991).]。
4,5−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピ
ラノースを酸触媒存在下アセタール誘導体と反応し、一
般式[VI]で表される1,2−位の水酸基がイソプロピ
リデン基で、また、3,4−位の水酸基がアルキリデン
基もしくはアリールメチリデン基で保護されたD−プシ
コフラノース誘導体を製造するものである。本工程に用
いられる式[V]で表される1,2:4,5−ジ−O−
イソプロピリデン−D−プシコピラノースは文献記載の
方法によりD−フルクトースから製造できる化合物であ
る[S. Mioet al., Tetrahedr
on, 47, 2133(1991).]。
【0023】本工程に用いられるアセタール誘導体とし
ては、2,2−ジメトキシプロパン、2,2−ジエトキ
シプロパン、2,2−ジプロポキシプロパン、2,2−
ジメトキシプロパン、2,2−ジエトキシブタン、3,
3−ジメトキシペンタン、3,3−ジエトキシペンタ
ン、1,1−ジメトキシシクロペンタン、1,1−ジエ
トキシシクロペンタン、1,1−ジメトキシシクロヘキ
サン、1,1−ジエトキシシクロヘキサン、ベンズアル
デヒドジメチルアセタール、ベンズアルデヒドジエチル
アセタール、p−メトキシベンズアルデヒドジメチルア
セタール、p−クロロベンズアルデヒドジメチルアセタ
ール、ベンゾフェノンジメチルアセタール、アセトフェ
ノンジメチルアセタール、プロピオフェノンジメチルア
セタール等が例示されるが、好適には2,2−ジメトキ
シプロパンが用いられる。本工程に用いられる酸触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、
臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウムp−トルエ
ンスルホナート等が例示されるが、好適には過塩素酸が
用いられる。
ては、2,2−ジメトキシプロパン、2,2−ジエトキ
シプロパン、2,2−ジプロポキシプロパン、2,2−
ジメトキシプロパン、2,2−ジエトキシブタン、3,
3−ジメトキシペンタン、3,3−ジエトキシペンタ
ン、1,1−ジメトキシシクロペンタン、1,1−ジエ
トキシシクロペンタン、1,1−ジメトキシシクロヘキ
サン、1,1−ジエトキシシクロヘキサン、ベンズアル
デヒドジメチルアセタール、ベンズアルデヒドジエチル
アセタール、p−メトキシベンズアルデヒドジメチルア
セタール、p−クロロベンズアルデヒドジメチルアセタ
ール、ベンゾフェノンジメチルアセタール、アセトフェ
ノンジメチルアセタール、プロピオフェノンジメチルア
セタール等が例示されるが、好適には2,2−ジメトキ
シプロパンが用いられる。本工程に用いられる酸触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、
臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウムp−トルエ
ンスルホナート等が例示されるが、好適には過塩素酸が
用いられる。
【0024】反応は溶媒中で行われ、用いられる溶媒と
しては反応に関与しないものであれば如何なるものも使
用できるが、好適には、アセトン、2−ブタノン、3−
ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の
ケトン系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶媒が用いられ、さらに好適には、用いられるアセター
ル誘導体に対応するケトン系溶媒が用いられる。反応は
−20℃から50℃で円滑に進行する。
しては反応に関与しないものであれば如何なるものも使
用できるが、好適には、アセトン、2−ブタノン、3−
ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の
ケトン系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶媒が用いられ、さらに好適には、用いられるアセター
ル誘導体に対応するケトン系溶媒が用いられる。反応は
−20℃から50℃で円滑に進行する。
【0025】
【第2工程】本工程は一般式[VI]で表される1、2位
及び3、4位の水酸基が保護されたD−プシコフラノー
ス誘導体の6位水酸基に保護基を導入し、一般式[VI
I]で表される1,2,3,4,6位の水酸基がすべて
保護されたD−プシコフラノース誘導体を製造するもの
である。
及び3、4位の水酸基が保護されたD−プシコフラノー
ス誘導体の6位水酸基に保護基を導入し、一般式[VI
I]で表される1,2,3,4,6位の水酸基がすべて
保護されたD−プシコフラノース誘導体を製造するもの
である。
【0026】本工程において導入される水酸基の保護基
としては、次の第3工程から第6工程まで安定に存在
し、後述する第13工程において、化合物の他の部位を
損なうことなく簡便に除去できるものが選択される。こ
のような要件を満たす水酸基の保護基としては、ベンジ
ル基、p−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベ
ンジル基、p−クロロベンジル基、p−ブロモベンジル
基、p−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−p
−アニシルメチル基、トリチル基等のアリールメチル
基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプ
ロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリ
ル基;メチル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル
基、2−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメ
チル基、メチルチオメチル基、2,2,2−トリクロロ
エトキシメチル基、2−(トリメチルシリル)エトキシ
メチル基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチ
ル基等のアルキル基;ホルミル基、アセチル基、トリフ
ルオロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、p−
メトキシベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のアシ
ル基が例示されるが、好適にはアリールメチル基が用い
られ、さらに好適にはベンジル基が用いられる。これら
の水酸基の保護基の導入は公知の方法[T.W.Gre
en, ”Protective Groups in
Organic Synthesis” A Wil
ey−Interscience Publicati
on, New York, 1981, pp10−
72]によって行われる。
としては、次の第3工程から第6工程まで安定に存在
し、後述する第13工程において、化合物の他の部位を
損なうことなく簡便に除去できるものが選択される。こ
のような要件を満たす水酸基の保護基としては、ベンジ
ル基、p−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベ
ンジル基、p−クロロベンジル基、p−ブロモベンジル
基、p−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−p
−アニシルメチル基、トリチル基等のアリールメチル
基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプ
ロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリ
ル基;メチル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル
基、2−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメ
チル基、メチルチオメチル基、2,2,2−トリクロロ
エトキシメチル基、2−(トリメチルシリル)エトキシ
メチル基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチ
ル基等のアルキル基;ホルミル基、アセチル基、トリフ
ルオロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、p−
メトキシベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のアシ
ル基が例示されるが、好適にはアリールメチル基が用い
られ、さらに好適にはベンジル基が用いられる。これら
の水酸基の保護基の導入は公知の方法[T.W.Gre
en, ”Protective Groups in
Organic Synthesis” A Wil
ey−Interscience Publicati
on, New York, 1981, pp10−
72]によって行われる。
【0027】
【第3工程】本工程は一般式[VII]で表される1、2
位の水酸基がイソプロピリデン基で保護されたD−プシ
コフラノース誘導体を酸触媒存在下アルコールと反応さ
せ、1,2位のイソプロピリデン基のみを選択的に除去
すると共に、2位水酸基に用いたアルコールのアルキル
残基が保護基として導入された本発明の化合物である一
般式[IIa]で表されるヒドロキシメチル基を有するD
−プシコフラノース誘導体を製造するものである。
位の水酸基がイソプロピリデン基で保護されたD−プシ
コフラノース誘導体を酸触媒存在下アルコールと反応さ
せ、1,2位のイソプロピリデン基のみを選択的に除去
すると共に、2位水酸基に用いたアルコールのアルキル
残基が保護基として導入された本発明の化合物である一
般式[IIa]で表されるヒドロキシメチル基を有するD
−プシコフラノース誘導体を製造するものである。
【0028】本工程に用いられるアルコールとしては、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、イソブタノール、シクロペンタノー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、p−メ
トキシベンジルアルコール、p−クロロベンジルアルコ
ール、ジフェニルメタノール等が例示されるが、好適に
はベンジルアルコールが用いられる。本工程に用いられ
る酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ
化水素酸、臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウム
p−トルエンスルホナート等が例示されるが、好適には
塩酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸等が用いられる。
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、イソブタノール、シクロペンタノー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、p−メ
トキシベンジルアルコール、p−クロロベンジルアルコ
ール、ジフェニルメタノール等が例示されるが、好適に
はベンジルアルコールが用いられる。本工程に用いられ
る酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ
化水素酸、臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウム
p−トルエンスルホナート等が例示されるが、好適には
塩酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸等が用いられる。
【0029】反応は溶媒中で行われ、用いられる溶媒と
しては反応に関与しないものであれば如何なるものも使
用できるが、好適には、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノ
ール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、ペンタン等の炭化水素系溶媒、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられ、さら
に好適には、反応するアルコールが溶媒と兼用して大過
剰に用いられる。反応は、−20℃から50℃で円滑に
進行する。
しては反応に関与しないものであれば如何なるものも使
用できるが、好適には、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノ
ール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、ペンタン等の炭化水素系溶媒、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられ、さら
に好適には、反応するアルコールが溶媒と兼用して大過
剰に用いられる。反応は、−20℃から50℃で円滑に
進行する。
【0030】
【第4工程】本工程は一般式[IIa]で表されるD−プ
シコフラノース誘導体のヒドロキシメチル基を酸化し、
一般式[IIb]で表されるカルボキシル基を有するD−
プシコフラノース誘導体を製造するものである。ヒドロ
キシメチル基のカルボキシル基への酸化は、三酸化クロ
ム−硫酸を用いる酸化、ピリジニウムクロマートを用い
る酸化、白金触媒を用いる酸化により一気に行われうる
が、ヒドロキシメチル基を一旦アルデヒド基に酸化し、
ついで、アルデヒド基をカルボキシル基に酸化する2段
階の酸化によってより好適に行われる。ヒドロキシメチ
ル基のアルデヒド基への酸化は、塩化オキサリル−ジメ
チルスルホキシド−トリエチルアミンを用いる酸化、三
酸化硫黄ピリジンコンプレックス−ジメチルスルホキシ
ド−トリエチルアミンを用いる酸化、三酸化クロムピリ
ジンコンプレックスを用いる酸化、無水酢酸−ジメチル
スルホキシドを用いる酸化、ピリジニウムクロロクロマ
ートを用いる酸化など、ヒドロキシメチル基をアルデヒ
ド基に酸化するのに通常用いられる方法が例示される
が、好適には塩化オキサリル−ジメチルスルホキシド−
トリエチルアミンを用いる酸化が選択される。
シコフラノース誘導体のヒドロキシメチル基を酸化し、
一般式[IIb]で表されるカルボキシル基を有するD−
プシコフラノース誘導体を製造するものである。ヒドロ
キシメチル基のカルボキシル基への酸化は、三酸化クロ
ム−硫酸を用いる酸化、ピリジニウムクロマートを用い
る酸化、白金触媒を用いる酸化により一気に行われうる
が、ヒドロキシメチル基を一旦アルデヒド基に酸化し、
ついで、アルデヒド基をカルボキシル基に酸化する2段
階の酸化によってより好適に行われる。ヒドロキシメチ
ル基のアルデヒド基への酸化は、塩化オキサリル−ジメ
チルスルホキシド−トリエチルアミンを用いる酸化、三
酸化硫黄ピリジンコンプレックス−ジメチルスルホキシ
ド−トリエチルアミンを用いる酸化、三酸化クロムピリ
ジンコンプレックスを用いる酸化、無水酢酸−ジメチル
スルホキシドを用いる酸化、ピリジニウムクロロクロマ
ートを用いる酸化など、ヒドロキシメチル基をアルデヒ
ド基に酸化するのに通常用いられる方法が例示される
が、好適には塩化オキサリル−ジメチルスルホキシド−
トリエチルアミンを用いる酸化が選択される。
【0031】引続いて行われるアルデヒド基のカルボキ
シル基への酸化は、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素
ナトリウム二水和物を用いる酸化、三酸化クロム−硫酸
を用いる酸化、ピリジニウムクロマートを用いる酸化、
白金触媒を用いる空気酸化などアルデヒド基をカルボキ
シル基に酸化するのに通常用いられる方法が例示される
が、好適には、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素ナト
リウム二水和物を用いる酸化が選択される。反応は溶媒
中で行われ、用いられる溶媒としては反応に関与しない
ものであれば如何なるものも使用できるが、ヒドロキシ
メチル基をカルボキシル基に一気に酸化する場合には、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジク
ロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒などが用いられ、ヒドロキ
シメチル基をアルデヒド基を経由してカルボキシル基に
2段階で酸化する場合には、第一段階の酸化はアセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジクロロメ
タン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒などが用いられ、第二段階の酸化
は上記の溶媒に加えて、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、t−ブタノール、
水が単一溶媒または混合溶媒として用いられる。酸化反
応はいずれも−20℃から50℃で円滑に進行する。
シル基への酸化は、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素
ナトリウム二水和物を用いる酸化、三酸化クロム−硫酸
を用いる酸化、ピリジニウムクロマートを用いる酸化、
白金触媒を用いる空気酸化などアルデヒド基をカルボキ
シル基に酸化するのに通常用いられる方法が例示される
が、好適には、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素ナト
リウム二水和物を用いる酸化が選択される。反応は溶媒
中で行われ、用いられる溶媒としては反応に関与しない
ものであれば如何なるものも使用できるが、ヒドロキシ
メチル基をカルボキシル基に一気に酸化する場合には、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジク
ロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒などが用いられ、ヒドロキ
シメチル基をアルデヒド基を経由してカルボキシル基に
2段階で酸化する場合には、第一段階の酸化はアセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジクロロメ
タン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒などが用いられ、第二段階の酸化
は上記の溶媒に加えて、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、t−ブタノール、
水が単一溶媒または混合溶媒として用いられる。酸化反
応はいずれも−20℃から50℃で円滑に進行する。
【0032】
【第5工程】本工程は一般式[IIb]で表されるカルボ
キシル基を有するD−プシコフラノース誘導体のカルボ
キシル基をカルバモイル基に変換し、本発明の化合物で
ある一般式[IIc]で表されるカルバモイル基を有する
D−プシコフラノース誘導体を製造するものである。
キシル基を有するD−プシコフラノース誘導体のカルボ
キシル基をカルバモイル基に変換し、本発明の化合物で
ある一般式[IIc]で表されるカルバモイル基を有する
D−プシコフラノース誘導体を製造するものである。
【0033】本工程は、カルボキシル基を塩化チオニ
ル、三塩化リン、五塩化リン等によりカルボン酸塩化
物;塩化メトキシカルボニル、塩化エトキシカルボニ
ル、塩化イソプロポキシカルボニル等とトリエチルアミ
ン、ピリジン等の3級のアミンによりカルボン酸炭酸半
エステル混合酸無水物;カルボニルジイミダゾール等に
よりカルボン酸活性アミド等に導いた後、アンモニアを
反応させることによって行われるが、好適には、塩化イ
ソプロポキシカルボニルとトリエチルアミンによって得
られるカルボン酸炭酸半イソプロピルエステル混合酸無
水物を経て行われる。カルボン酸の活性化とそれに引き
続いて行われるアミド化は、溶媒中で行われ、用いられ
る溶媒としては反応に関与しないものであれば如何なる
ものも使用できるが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられる。
カルボン酸の活性化とそれに続いて行われるアミド化は
−50℃から50℃で円滑に進行する。
ル、三塩化リン、五塩化リン等によりカルボン酸塩化
物;塩化メトキシカルボニル、塩化エトキシカルボニ
ル、塩化イソプロポキシカルボニル等とトリエチルアミ
ン、ピリジン等の3級のアミンによりカルボン酸炭酸半
エステル混合酸無水物;カルボニルジイミダゾール等に
よりカルボン酸活性アミド等に導いた後、アンモニアを
反応させることによって行われるが、好適には、塩化イ
ソプロポキシカルボニルとトリエチルアミンによって得
られるカルボン酸炭酸半イソプロピルエステル混合酸無
水物を経て行われる。カルボン酸の活性化とそれに引き
続いて行われるアミド化は、溶媒中で行われ、用いられ
る溶媒としては反応に関与しないものであれば如何なる
ものも使用できるが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられる。
カルボン酸の活性化とそれに続いて行われるアミド化は
−50℃から50℃で円滑に進行する。
【0034】
【第6工程】本工程は一般式[IIc]で表されるカルバ
モイル基を有するD−プシコフラノース誘導体から、一
般式[IId]で表されるアロファノイル基を有するD−
プシコフラノースを製造するものである。
モイル基を有するD−プシコフラノース誘導体から、一
般式[IId]で表されるアロファノイル基を有するD−
プシコフラノースを製造するものである。
【0035】本工程は、カルバモイル基を有するフラノ
ース誘導体を塩化オキサリル、臭化オキサリル等のハロ
ゲン化オキサリルと反応して、アシルイソシアナート誘
導体に変換後、アンモニアを反応させることによって行
われる。アシルイソシアナート誘導体の製造は、好適に
は塩化オキサリルを用いて行われる。アシルイソシアナ
ート誘導体の製造とそれに続くアロファノイル基を有す
るD−プシコフラノース誘導体の製造は、溶媒中で行わ
れ、用いられる溶媒としては反応に関与しないものであ
れば如何なるものも使用できるが、好適にはジクロロメ
タン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられる。アシ
ルイソシアナート誘導体の製造は,−20℃から120
℃で、また、アロファノイル基を有するD−プシコフラ
ノース誘導体の製造は−20℃から50℃で円滑に進行
する。
ース誘導体を塩化オキサリル、臭化オキサリル等のハロ
ゲン化オキサリルと反応して、アシルイソシアナート誘
導体に変換後、アンモニアを反応させることによって行
われる。アシルイソシアナート誘導体の製造は、好適に
は塩化オキサリルを用いて行われる。アシルイソシアナ
ート誘導体の製造とそれに続くアロファノイル基を有す
るD−プシコフラノース誘導体の製造は、溶媒中で行わ
れ、用いられる溶媒としては反応に関与しないものであ
れば如何なるものも使用できるが、好適にはジクロロメ
タン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が用いられる。アシ
ルイソシアナート誘導体の製造は,−20℃から120
℃で、また、アロファノイル基を有するD−プシコフラ
ノース誘導体の製造は−20℃から50℃で円滑に進行
する。
【0036】
【第7工程】本工程は、式[V]で表される1,2:
4,5−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピ
ラノースの4、5位のイソプロピリデン基を選択的に除
去して、式[VIII]で表される、1,2−O−イソプロ
ピリデン−β−D−プシコピラノースを製造するもので
ある。
4,5−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピ
ラノースの4、5位のイソプロピリデン基を選択的に除
去して、式[VIII]で表される、1,2−O−イソプロ
ピリデン−β−D−プシコピラノースを製造するもので
ある。
【0037】本工程に用いられる式[V]で表される
1,2:4,5−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−
プシコピラノースはD−フルクトースから文献記載の方
法によって製造できる化合物である。[S. Mio
et al., Tetrahedron, 47,
2133(1991)]。
1,2:4,5−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−
プシコピラノースはD−フルクトースから文献記載の方
法によって製造できる化合物である。[S. Mio
et al., Tetrahedron, 47,
2133(1991)]。
【0038】4、5位のイソプロピリデン基の選択的な
除去は、酸触媒を用いて行われる。用いられる酸触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、
臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウムp−トルエ
ンスルホナート等が例示されるが、好適にはp−トルエ
ンスルホン酸が用いられる。反応は溶媒中で行われ、用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒が好
適に用いられる。反応は−20℃から50℃で円滑に進
行する。
除去は、酸触媒を用いて行われる。用いられる酸触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、
臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、フルオロスルホン酸、ピリジニウムp−トルエ
ンスルホナート等が例示されるが、好適にはp−トルエ
ンスルホン酸が用いられる。反応は溶媒中で行われ、用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒が好
適に用いられる。反応は−20℃から50℃で円滑に進
行する。
【0039】
【第8工程】本工程は、式[VIII]で表される1,2−
O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノースの
3,4,5位の水酸基に同一または異なる保護基を導入
し、一般式[IX]で表される、1,2,3,4,5位の
水酸基が保護されたD−プシコピラノース誘導体を製造
するものである。
O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノースの
3,4,5位の水酸基に同一または異なる保護基を導入
し、一般式[IX]で表される、1,2,3,4,5位の
水酸基が保護されたD−プシコピラノース誘導体を製造
するものである。
【0040】本工程で導入される同一または異なる水酸
基の保護基としては、第9工程から第12工程まで安定
に存在し、次の第14工程において化合物の他の部位を
損なうことなく除去できるものが選択される。このよう
な条件を満たす水酸基の保護基としては、ベンジル基、
p−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル
基、p−クロロベンジル基、p−ブロモベンジル基、p
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−p−アニ
シルメチル基、トリチル基等のアリールメチル基;トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル基;メ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基、2−
メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、
メチルチオメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル基、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基等
のアルキル基;ホルミル基、アセチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、p−メトキ
シベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のアシル基;
イソプロピリデン基、ジエチルメチリデン基、シクロペ
ンチリデン基、シクロヘキシリデン基、ベンジリデン
基、ジフェニルメチリデン基等のアルキリデン基及びア
リールメチリデン基等が例示されるが、好適にはアリー
ルメチル基が、さらに好適にはベンジル基が用いられ
る。これらの保護基は公知の方法[T.W.Gree
n, ”Protective Groups in
Organic Synthesis” A Wile
y−Interscience Publicatio
n, New York, 1981, pp10−8
6]に従い一気に、あるいは、段階的に導入される。
基の保護基としては、第9工程から第12工程まで安定
に存在し、次の第14工程において化合物の他の部位を
損なうことなく除去できるものが選択される。このよう
な条件を満たす水酸基の保護基としては、ベンジル基、
p−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル
基、p−クロロベンジル基、p−ブロモベンジル基、p
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ジ−p−アニ
シルメチル基、トリチル基等のアリールメチル基;トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル基;メ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基、2−
メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、
メチルチオメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル基、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基等
のアルキル基;ホルミル基、アセチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、p−メトキ
シベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のアシル基;
イソプロピリデン基、ジエチルメチリデン基、シクロペ
ンチリデン基、シクロヘキシリデン基、ベンジリデン
基、ジフェニルメチリデン基等のアルキリデン基及びア
リールメチリデン基等が例示されるが、好適にはアリー
ルメチル基が、さらに好適にはベンジル基が用いられ
る。これらの保護基は公知の方法[T.W.Gree
n, ”Protective Groups in
Organic Synthesis” A Wile
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6]に従い一気に、あるいは、段階的に導入される。
【0041】
【第9工程】本工程は、一般式[IX]で表される1、2
位の水酸基がイソプロピリデン基で保護されたD−プシ
コピラノースを酸触媒存在下アルコールと反応させ、
1、2位のイソプロピリデン基のみを選択的に除去する
と共に、2位水酸基に用いたアルコールのアルキル残基
が保護基として導入された本発明の化合物である一般式
[IIIa]で表されるヒドロキシメチル基を有するD−プ
シコピラノース誘導体を製造するものである。
位の水酸基がイソプロピリデン基で保護されたD−プシ
コピラノースを酸触媒存在下アルコールと反応させ、
1、2位のイソプロピリデン基のみを選択的に除去する
と共に、2位水酸基に用いたアルコールのアルキル残基
が保護基として導入された本発明の化合物である一般式
[IIIa]で表されるヒドロキシメチル基を有するD−プ
シコピラノース誘導体を製造するものである。
【0042】本工程は第3工程と全く同様に行われる
が、好適には、アルコールとしてベンジルアルコール
が、また、酸触媒として塩酸が用いられる。
が、好適には、アルコールとしてベンジルアルコール
が、また、酸触媒として塩酸が用いられる。
【0043】
【第10工程】本工程は一般式[IIIa]で表されるD−
プシコピラノース誘導体の1位に存在する1級アルコー
ルを酸化し、一般式[IIIb]で表されるカルボキシル基
を有するD−プシコピラノース誘導体を製造するもので
ある。
プシコピラノース誘導体の1位に存在する1級アルコー
ルを酸化し、一般式[IIIb]で表されるカルボキシル基
を有するD−プシコピラノース誘導体を製造するもので
ある。
【0044】本工程は、第4工程と全く同様にして行わ
れる。好適に行われる2段階の酸化において、塩化オキ
サリル−ジメチルスルホキシド−トリエチルアミンを用
いる酸化がヒドロキシメチル基のアルデヒド基への酸化
に、また、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素ナトリウ
ム二水和物を用いる酸化がアルデヒド基のカルボキシル
基への酸化において好適に用いられる。
れる。好適に行われる2段階の酸化において、塩化オキ
サリル−ジメチルスルホキシド−トリエチルアミンを用
いる酸化がヒドロキシメチル基のアルデヒド基への酸化
に、また、亜塩素酸ナトリウム−リン酸二水素ナトリウ
ム二水和物を用いる酸化がアルデヒド基のカルボキシル
基への酸化において好適に用いられる。
【0045】
【第11工程】本工程は、一般式[IIIb]で表されるカ
ルボキシル基を有するD−プシコピラノース誘導体のカ
ルボキシル基をカルバモイル基に変換し、本発明の化合
物である一般式[IIIc]で表されるカルバモイル基を有
するD−プシコピラノース誘導体を製造するものであ
る。
ルボキシル基を有するD−プシコピラノース誘導体のカ
ルボキシル基をカルバモイル基に変換し、本発明の化合
物である一般式[IIIc]で表されるカルバモイル基を有
するD−プシコピラノース誘導体を製造するものであ
る。
【0046】本工程は第5工程と全く同様にして行われ
る。カルボン酸の活性化はカルボン酸炭酸半イソプロピ
ルエステル混合酸無水物を経て好適に行われる。
る。カルボン酸の活性化はカルボン酸炭酸半イソプロピ
ルエステル混合酸無水物を経て好適に行われる。
【0047】
【第12工程】本工程は一般式[IIIc]で表されるカル
バモイル基を有するD−プシコピラノース誘導体から本
発明の化合物である一般式[IIId]で表されるアロファ
ノイル基を有するD−プシコピラノース誘導体を製造す
るものである。
バモイル基を有するD−プシコピラノース誘導体から本
発明の化合物である一般式[IIId]で表されるアロファ
ノイル基を有するD−プシコピラノース誘導体を製造す
るものである。
【0048】本工程は、第6工程と全く同様にして行わ
れる。アシルイソシアナート誘導体の製造は、好適に
は、塩化オキサリルを用いて行われる。
れる。アシルイソシアナート誘導体の製造は、好適に
は、塩化オキサリルを用いて行われる。
【0049】上記の各工程において得られる、一般式
[IIa]〜[IId]及び一般式[IIIa]〜[IIId]で表さ
れる本発明の化合物はいずれも、公知の方法に従い水酸
基の保護基を除去したり、あるいは水酸基の保護基を他
の水酸基の保護基と交換することが可能である。
[IIa]〜[IId]及び一般式[IIIa]〜[IIId]で表さ
れる本発明の化合物はいずれも、公知の方法に従い水酸
基の保護基を除去したり、あるいは水酸基の保護基を他
の水酸基の保護基と交換することが可能である。
【0050】以上のようにして製造された一般式[II
d]及び[IIId]で表されるアロファノイル基を有する
D−プシコフラノース誘導体及びD−プシコピラノース
誘導体は下記の合成工程により、式[I]で表される除
草活性物質ヒダントサイジン及び式[XI]で表される5
−エピ−ヒダントサイジンに誘導される。
d]及び[IIId]で表されるアロファノイル基を有する
D−プシコフラノース誘導体及びD−プシコピラノース
誘導体は下記の合成工程により、式[I]で表される除
草活性物質ヒダントサイジン及び式[XI]で表される5
−エピ−ヒダントサイジンに誘導される。
【0051】
【化10】
【0052】(式中、R1、R2’、R3’、R4、R5、
R6、R7、及びR8 は上記と同じである)。
R6、R7、及びR8 は上記と同じである)。
【0053】すなわち、保護基を除去することにより、
まず、式[IIe]で表される保護基を有しないD−プシ
コフラノース誘導体、式[IIIe]で表される保護基を有
しないD−プシコピラノース誘導体、及び式[X]で表
されるヒダントイン誘導体の混合物に誘導され、次い
で、この混合物を酸触媒で処理することにより、式
[I]で表される除草活性物質ヒダントサイジンと、式
[XI]で表される5−エピ−ヒダントサイジンの混合物
に容易に誘導される。上記の混合物は、長時間放置する
ことにより最終的には式[X]で表されるヒダントイン
誘導体へと収斂する。この[X]も同様に、酸触媒処理
により、式[I]で表される除草活性物質ヒダントサイ
ジンと、式[XI]で表される5−エピ−ヒダントサイジ
ンの混合物を与える。
まず、式[IIe]で表される保護基を有しないD−プシ
コフラノース誘導体、式[IIIe]で表される保護基を有
しないD−プシコピラノース誘導体、及び式[X]で表
されるヒダントイン誘導体の混合物に誘導され、次い
で、この混合物を酸触媒で処理することにより、式
[I]で表される除草活性物質ヒダントサイジンと、式
[XI]で表される5−エピ−ヒダントサイジンの混合物
に容易に誘導される。上記の混合物は、長時間放置する
ことにより最終的には式[X]で表されるヒダントイン
誘導体へと収斂する。この[X]も同様に、酸触媒処理
により、式[I]で表される除草活性物質ヒダントサイ
ジンと、式[XI]で表される5−エピ−ヒダントサイジ
ンの混合物を与える。
【0054】
【第13工程】本工程は一般式[IId]で表されるアロ
ファノイル基を有するD−プシコフラノース誘導体の水
酸基の保護基を除去し、式[IIe]及び[IIIe]で表さ
れるアロファノイル基を有するD−プシコフラノース誘
導体及びD−プシコピラノース誘導体、並びに式[X]
で表される保護基を有しないヒダントイン誘導体の混合
物を製造するものである。
ファノイル基を有するD−プシコフラノース誘導体の水
酸基の保護基を除去し、式[IIe]及び[IIIe]で表さ
れるアロファノイル基を有するD−プシコフラノース誘
導体及びD−プシコピラノース誘導体、並びに式[X]
で表される保護基を有しないヒダントイン誘導体の混合
物を製造するものである。
【0055】保護基の除去は用いられる保護基に適合し
た公知の方法[T.W.Green, ”Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis” A Wiley−Intersci
ence Publication, New Yor
k, 1981, pp10−86]に従って一気にあ
るいは段階的に行われる。
た公知の方法[T.W.Green, ”Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis” A Wiley−Intersci
ence Publication, New Yor
k, 1981, pp10−86]に従って一気にあ
るいは段階的に行われる。
【0056】一般式[IId]で表される、アロファノイ
ル基を有するD−プシコフラノース誘導体のリボフラノ
ース部分の2,3位の水酸基の保護基(R2’R3’CH
<)がイソプロピリデン基で、1,5位の水酸基の保護
基(R1及びR4)がベンジル基の場合、イソプロピリデ
ン基の除去は塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸など
を酸触媒として、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール等のアルコール溶媒中で行われ、
中間体として一般式
ル基を有するD−プシコフラノース誘導体のリボフラノ
ース部分の2,3位の水酸基の保護基(R2’R3’CH
<)がイソプロピリデン基で、1,5位の水酸基の保護
基(R1及びR4)がベンジル基の場合、イソプロピリデ
ン基の除去は塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸など
を酸触媒として、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール等のアルコール溶媒中で行われ、
中間体として一般式
【0057】
【化11】
【0058】で表されるD−プシコフラノース誘導体を
単離し得る。この化合物からのベンジル基の除去は、炭
素に担持したパラジウム(パラジウム−炭素)等を触媒
として、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール等のアルコール溶媒中、加水素分解によっ
て行われる。もちろん、一般式[IIf]で表されるプシ
コフラノース誘導体は単離することなく、次のベンジル
基の除去を行うこともできる。
単離し得る。この化合物からのベンジル基の除去は、炭
素に担持したパラジウム(パラジウム−炭素)等を触媒
として、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール等のアルコール溶媒中、加水素分解によっ
て行われる。もちろん、一般式[IIf]で表されるプシ
コフラノース誘導体は単離することなく、次のベンジル
基の除去を行うこともできる。
【0059】
【第14工程】本工程は一般式[IIId]で表されるアロ
ファノイル基を有するD−プシコピラノース誘導体の水
酸基の保護基を除去し、式[IIe]及び[IIIe]で表さ
れる保護基を有しないD−プシコフラノース誘導体及び
D−プシコピノラース誘導体と、式[X]で表される保
護基を有しないヒダントイン誘導体の混合物を製造する
ものである。
ファノイル基を有するD−プシコピラノース誘導体の水
酸基の保護基を除去し、式[IIe]及び[IIIe]で表さ
れる保護基を有しないD−プシコフラノース誘導体及び
D−プシコピノラース誘導体と、式[X]で表される保
護基を有しないヒダントイン誘導体の混合物を製造する
ものである。
【0060】保護基の除去は用いられる保護基に適合し
た公知の方法[T.W.Green, ”Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis” A Wiley−Intersci
ence Publication, New Yor
k, 1981, pp10−86]に従って一気にあ
るいは段階的に行われる。
た公知の方法[T.W.Green, ”Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis” A Wiley−Intersci
ence Publication, New Yor
k, 1981, pp10−86]に従って一気にあ
るいは段階的に行われる。
【0061】一般式[IIId]で表されるアロファノイル
基を有するD−プシコピラノース誘導体のリボピラノー
ス部分の1、2、3、4位の水酸基の保護基が全てベン
ジル基の場合、その除去は炭素に担持したパラジウム
(パラジウム−炭素)等を触媒として、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコ
ール溶媒中、加水素分解によって行われる。
基を有するD−プシコピラノース誘導体のリボピラノー
ス部分の1、2、3、4位の水酸基の保護基が全てベン
ジル基の場合、その除去は炭素に担持したパラジウム
(パラジウム−炭素)等を触媒として、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコ
ール溶媒中、加水素分解によって行われる。
【0062】
【第15工程】本工程は式[IIe]及び[IIIe]で表さ
れる保護基を有しないD−プシコフラノース誘導体及び
D−プシコピラノース誘導体、並びに式[X]で表され
る保護基を有しないヒダントイン誘導体の混合物を酸触
媒で処理し、式[I]で表される除草活性物質ヒダント
サイジンと、式[XI]で表される5−エピ−ヒダントサ
イジンの混合物を製造するものである。
れる保護基を有しないD−プシコフラノース誘導体及び
D−プシコピラノース誘導体、並びに式[X]で表され
る保護基を有しないヒダントイン誘導体の混合物を酸触
媒で処理し、式[I]で表される除草活性物質ヒダント
サイジンと、式[XI]で表される5−エピ−ヒダントサ
イジンの混合物を製造するものである。
【0063】本工程に用いられる酸触媒としては、塩
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、臭化水素
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、
フルオロスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホ
ナート等及び、Dowex 50X、Amberlit
eIR−120等の強酸性イオン交換樹脂等が例示され
るが、好適には、強酸性イオン交換樹脂であるDowe
x 50Xが用いられる。反応は溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては反応に関与しないものであれば如何
なるものも使用できるが、好適には水、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコ
ール系溶媒あるいは、これらのアルコール系溶媒と水と
の混合溶媒が用いられる。反応は0℃から50℃で円滑
に進行する。
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、フッ化水素酸、臭化水素
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、
フルオロスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホ
ナート等及び、Dowex 50X、Amberlit
eIR−120等の強酸性イオン交換樹脂等が例示され
るが、好適には、強酸性イオン交換樹脂であるDowe
x 50Xが用いられる。反応は溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては反応に関与しないものであれば如何
なるものも使用できるが、好適には水、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコ
ール系溶媒あるいは、これらのアルコール系溶媒と水と
の混合溶媒が用いられる。反応は0℃から50℃で円滑
に進行する。
【0064】本工程で得られる式[I]で表される除草
活性物質ヒダントサイジンと、式[XI]で表される5−
エピ−ヒダントサイジンの分離は、反応で得られる両者
の混合物をピリジン中過剰量の無水酢酸と処理して、そ
れぞれをテトラアセタートに導き、テトラアセタートの
混合物を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー等で
分離することによって行うことができる。また、分離さ
れたそれぞれのテトラアセタートをメタノール中アンモ
ニアまたはヒドラジンで処理すると、式[I]で表され
るヒダントサイジンと、式[XI]で表される5−エピ−
ヒダントサイジンを純品として得ることができる。
活性物質ヒダントサイジンと、式[XI]で表される5−
エピ−ヒダントサイジンの分離は、反応で得られる両者
の混合物をピリジン中過剰量の無水酢酸と処理して、そ
れぞれをテトラアセタートに導き、テトラアセタートの
混合物を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー等で
分離することによって行うことができる。また、分離さ
れたそれぞれのテトラアセタートをメタノール中アンモ
ニアまたはヒドラジンで処理すると、式[I]で表され
るヒダントサイジンと、式[XI]で表される5−エピ−
ヒダントサイジンを純品として得ることができる。
【0065】以下、実施例、参考例によって本発明を詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
いことは言うまでもない。
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
いことは言うまでもない。
【0066】
[参考例1]
【0067】
【化12】
【0068】1,2:4,5−ジ−O−イソプロピリデ
ン−β−D−プシコピラノース(141g,0.54m
ol)のアセトン溶液(1.4l)に2,2−ジメトキ
シプロパン(33.6ml,0.27mol)を加え、
0℃とした後、過塩素酸(70%水溶液)(5ml)を
加えた。4時間攪拌したのち、濃アンモニア水で反応溶
液を中和することにより反応を停止した。溶媒を減圧下
濃縮し、得られた残渣を水とエーテルで分配したのち、
水層をエーテルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したの
ち、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=85/1
5)にて精製することにより、1,2:3,4−ジ−O
−イソプロピリデン−β−D−プシコフラノースを白色
固体(99.0g,0.38mol,70%)として得
た。
ン−β−D−プシコピラノース(141g,0.54m
ol)のアセトン溶液(1.4l)に2,2−ジメトキ
シプロパン(33.6ml,0.27mol)を加え、
0℃とした後、過塩素酸(70%水溶液)(5ml)を
加えた。4時間攪拌したのち、濃アンモニア水で反応溶
液を中和することにより反応を停止した。溶媒を減圧下
濃縮し、得られた残渣を水とエーテルで分配したのち、
水層をエーテルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したの
ち、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=85/1
5)にて精製することにより、1,2:3,4−ジ−O
−イソプロピリデン−β−D−プシコフラノースを白色
固体(99.0g,0.38mol,70%)として得
た。
【0069】1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.41 (3H, s, Me) 1.45 (3H, s, Me) 1.51 (3H, s, Me) 3.64 (1H, dd, J=3.5, 12.5Hz, H-6) 3.77 (1H, dd, J=2.4, 12.5Hz, H-6) 4.07 (1H, d, J=9.8Hz, H-1) 4.28-4.34 (1H, m, H-5) 4.34 (1H, d, J=9.8Hz, H-1) 4.65 (1H, d, J=5.9Hz, H-3) 4.92 (1H, dd, J=1.0, 5.9Hz, H-4)
【0070】[参考例2]
【化13】 1,2:3,4−ジ−O−イソプロピリデン−β−D−
プシコフラノース(90.7g,0.35mol)と塩
化ベンジル(160ml)の混合物に、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム(4.76g,0.021mo
l)と、水酸化ナトリウム(139g,3.5mol)
の水溶液(272ml)を加え、100℃で2時間激し
く攪拌した。反応混合物を水とエーテルで分配し、水層
をエーテルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したのち、
減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン/エーテル=95/5のちに
ヘキサン/酢酸エチル=9/1)にて精製することによ
り、6−O−ベンジル−1,2:3,4−ジ−O−イソ
プロピリデン−β−D−プシコフラノースを淡黄色油状
物質(113g,92%)として得た。1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.32 (3H, s, Me) 1.37 (3H, s, Me) 1.43 (3H, s, Me) 1.44 (3H, s, Me) 3.52 (1H, dd, J=8.2, 9.8Hz, H-6) 3.59 (1H, dd, J=6.3, 9.8Hz, H-6) 4.04 (1H, d, J=9.6Hz, H-1) 4.29 (1H, d, J=9.6Hz, H-1) 4.27-4.35 (1H, m, H-5) 4.52-4.65 (3H, m, -CH 2Ph, H-3) 4.76 (1H, dd, J=1.0, 5.9, H-4) 7.27-7.42 (5H, m)
プシコフラノース(90.7g,0.35mol)と塩
化ベンジル(160ml)の混合物に、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム(4.76g,0.021mo
l)と、水酸化ナトリウム(139g,3.5mol)
の水溶液(272ml)を加え、100℃で2時間激し
く攪拌した。反応混合物を水とエーテルで分配し、水層
をエーテルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したのち、
減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン/エーテル=95/5のちに
ヘキサン/酢酸エチル=9/1)にて精製することによ
り、6−O−ベンジル−1,2:3,4−ジ−O−イソ
プロピリデン−β−D−プシコフラノースを淡黄色油状
物質(113g,92%)として得た。1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.32 (3H, s, Me) 1.37 (3H, s, Me) 1.43 (3H, s, Me) 1.44 (3H, s, Me) 3.52 (1H, dd, J=8.2, 9.8Hz, H-6) 3.59 (1H, dd, J=6.3, 9.8Hz, H-6) 4.04 (1H, d, J=9.6Hz, H-1) 4.29 (1H, d, J=9.6Hz, H-1) 4.27-4.35 (1H, m, H-5) 4.52-4.65 (3H, m, -CH 2Ph, H-3) 4.76 (1H, dd, J=1.0, 5.9, H-4) 7.27-7.42 (5H, m)
【0071】[実施例1]
【0072】
【化14】
【0073】6−O−ベンジル−1,2:3,4−ジ−
O−イソプロピリデン−β−D−プシコフラノース(3
9.5g,0.11mol)のベンジルアルコール溶液
(350ml)に室温でトリフルオロメタンスルホン酸
(2ml)をゆっくり滴下した。2時間攪拌した後、濃
アンモニア水で中和することにより反応を停止し、減圧
下ベンジルアルコールを留去した。残渣を酢酸エチルと
水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過したのち、減圧下溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢
酸エチル=8/2)で精製することにより、ベンジル=
6−O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β
−D−プシコフラノシドを淡黄色油状物質(27.9
g,62%)として得た。
O−イソプロピリデン−β−D−プシコフラノース(3
9.5g,0.11mol)のベンジルアルコール溶液
(350ml)に室温でトリフルオロメタンスルホン酸
(2ml)をゆっくり滴下した。2時間攪拌した後、濃
アンモニア水で中和することにより反応を停止し、減圧
下ベンジルアルコールを留去した。残渣を酢酸エチルと
水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過したのち、減圧下溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢
酸エチル=8/2)で精製することにより、ベンジル=
6−O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β
−D−プシコフラノシドを淡黄色油状物質(27.9
g,62%)として得た。
【0074】 [α] D 20 -29.8゜ (c 1.55, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3520, 2950, 1450, 1390, 1370, 1220, 1180, 1140, 11
101 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.53 (3H, s, Me) 1.95 (1H, br, OH) 3.47 (1H, dd, J=9.6, 7.3Hz, H-6) 3.52 (1H, dd, J=9.6, 7.1Hz, H-6) 3.82-3.94 (2H, m, H-1) 4.42 (1H, ddd, J=7.3, 7.1, 1.4Hz, H-5) 4.44 (1H, d, J=12.1Hz, -CH 2Ph) 4.49 (1H, d, J=12.1Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=11.8Hz, -CH 2Ph) 4.61 (1H, d, J=11.8Hz, -CH 2Ph) 4.68 (1H, d, J=6.1Hz, H-3) 4.72 (1H, dd, J=6.1, 1.4Hz, H-4) 7.25-7.36 (10H, m) HRMS (m/z) M+-CH2OH (C22H25O5) 測定値 369.1679 計算値 369.1690
101 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.53 (3H, s, Me) 1.95 (1H, br, OH) 3.47 (1H, dd, J=9.6, 7.3Hz, H-6) 3.52 (1H, dd, J=9.6, 7.1Hz, H-6) 3.82-3.94 (2H, m, H-1) 4.42 (1H, ddd, J=7.3, 7.1, 1.4Hz, H-5) 4.44 (1H, d, J=12.1Hz, -CH 2Ph) 4.49 (1H, d, J=12.1Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=11.8Hz, -CH 2Ph) 4.61 (1H, d, J=11.8Hz, -CH 2Ph) 4.68 (1H, d, J=6.1Hz, H-3) 4.72 (1H, dd, J=6.1, 1.4Hz, H-4) 7.25-7.36 (10H, m) HRMS (m/z) M+-CH2OH (C22H25O5) 測定値 369.1679 計算値 369.1690
【0075】[実施例2]
【0076】
【化15】
【0077】6−O−ベンジル−1,2:3,4−ジ−
O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノース(2
5.3mg,0.072mmol)のメタノール溶液
(0.75ml)に、25℃で塩化水素を飽和させたメ
タノール(43%塩化水素メタノール溶液:0.25m
l)を0℃で加えた。室温で25分間攪拌したのち、氷
−飽和炭酸水素ナトリウム水溶液−酢酸エチルの混合溶
液中に注ぐことによって反応を停止した。反応混合物を
酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出した
のち、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル=55/45)で精製することにより、メチル=
6−O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β
−D−プシコフラノシドを無色油状物質(12.5m
g,53%)として得た。
O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノース(2
5.3mg,0.072mmol)のメタノール溶液
(0.75ml)に、25℃で塩化水素を飽和させたメ
タノール(43%塩化水素メタノール溶液:0.25m
l)を0℃で加えた。室温で25分間攪拌したのち、氷
−飽和炭酸水素ナトリウム水溶液−酢酸エチルの混合溶
液中に注ぐことによって反応を停止した。反応混合物を
酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出した
のち、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル=55/45)で精製することにより、メチル=
6−O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β
−D−プシコフラノシドを無色油状物質(12.5m
g,53%)として得た。
【0078】1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.51 (3H, s, Me) 1.97 (1H, brt, J=6.6Hz, OH) 3.23 (3H, s, OMe) 3.48 (1H, dd, J=7.4, 9.6Hz, H-6) 3.55 (1H, dd, J=7.0, 9.6Hz, H-6) 3.77 (1H, brdd, J=6.9, 12.2Hz, H-1) 3.85 (1H, brdd, J=5.9, 12.2Hz, H-1) 4.38 (1H, ddd, J=1.4, 7.0, 7.4Hz, H-5) 4.56 (1H, d, J=6.0Hz, H-3) 4.57 (2H, s, -CH 2Ph) 4.71 (1H, dd, J=1.4, 6.0Hz, H-4) 7.28-7.38 (5H, m, Ar-H)
【0079】[実施例3]
【0080】
【化16】
【0081】塩化オキサリル(15.2ml,0.17
mol)の塩化メチレン溶液(150ml)に、−78
℃でジメチスルホキシド(24.7ml,0.35mo
l)を滴下した。10分間攪拌した後、ベンジル=6−
O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β−D
−プシコピラノシド(27.9g,0.070mol)
の塩化メチレン溶液(50ml)を加え、さらに20分
間攪拌した。次にトリエチルアミン(67.9ml,
0.49mol)を加え、45分かけて0℃まで昇温し
た後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぐことにより
反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水で分配
し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせ
て飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮することによって2,6−ジ−O−ベンジ
ル−1−ジデヒドロ−3,4−イソプロピリデン−β−
D−プシコフラノースを粗生成物として得た。次に、
2,6−ジ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−3,4−
イソプロピリデン−β−D−プシコフラノースをt−ブ
タノール溶液(300ml)と水(90ml)の混合溶
媒に溶解し、2−メチル−2−ブテン(36.9ml,
0.35mol)と、リン酸二水素ナトリウム二水和物
(43.6g,0.28mol)を加え、よく攪拌しな
がら亜塩素酸ナトリウム(25.3g,0.28mo
l)を少しづつ加えた。室温で1時間攪拌した後、減圧
下t−ブタノールを1/3程度の溶媒量になるまで濃縮
し、エーテルと水で分配した。水層をエーテルで抽出
し、有機層を合わせて2%塩酸、飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮するこ
とにより粗製の1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−カ
ルボキシ−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデ
ン−β−D−リボフラノースを白色固体(30.0g、
定量的収率)として得た。
mol)の塩化メチレン溶液(150ml)に、−78
℃でジメチスルホキシド(24.7ml,0.35mo
l)を滴下した。10分間攪拌した後、ベンジル=6−
O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β−D
−プシコピラノシド(27.9g,0.070mol)
の塩化メチレン溶液(50ml)を加え、さらに20分
間攪拌した。次にトリエチルアミン(67.9ml,
0.49mol)を加え、45分かけて0℃まで昇温し
た後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぐことにより
反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水で分配
し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせ
て飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮することによって2,6−ジ−O−ベンジ
ル−1−ジデヒドロ−3,4−イソプロピリデン−β−
D−プシコフラノースを粗生成物として得た。次に、
2,6−ジ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−3,4−
イソプロピリデン−β−D−プシコフラノースをt−ブ
タノール溶液(300ml)と水(90ml)の混合溶
媒に溶解し、2−メチル−2−ブテン(36.9ml,
0.35mol)と、リン酸二水素ナトリウム二水和物
(43.6g,0.28mol)を加え、よく攪拌しな
がら亜塩素酸ナトリウム(25.3g,0.28mo
l)を少しづつ加えた。室温で1時間攪拌した後、減圧
下t−ブタノールを1/3程度の溶媒量になるまで濃縮
し、エーテルと水で分配した。水層をエーテルで抽出
し、有機層を合わせて2%塩酸、飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮するこ
とにより粗製の1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−カ
ルボキシ−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデ
ン−β−D−リボフラノースを白色固体(30.0g、
定量的収率)として得た。
【0082】1 H NMR(400MHz, CD3OD) δ 1.33 (3H, s, Me) 1.50 (3H, s, Me) 3.47-3.55 (1H, brd, H-5) 3.55-3.62 (1H, brd, H-5) 4.40-4.92 (7H, m, H-2, H-3, H-4, -CH 2Ph) 7.25-7.38 (10H, Ar-H)
【0083】このカルボン酸は各種溶媒への溶解性が低
く、プロトンNMRスペクトルの解析が難しいため、さ
らにメチルエステルへと変換することにより構造を確認
した。すなわち、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−
カルボキシ−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリ
デン−β−D−リボフラノース(18.0mg,0.0
15mmol)のメタノール溶液(2ml)に、濃塩酸
を1滴加え、50℃で24時間攪拌した。濃アンモニア
水を加え中和することにより反応を停止し、減圧濃縮し
た。残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル=3/7)で精製することによ
り、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−メトキシカル
ボニル−1−デヒドロ−β−D−リボフラノース(1
1.4mg,68%)を得た。
く、プロトンNMRスペクトルの解析が難しいため、さ
らにメチルエステルへと変換することにより構造を確認
した。すなわち、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−
カルボキシ−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリ
デン−β−D−リボフラノース(18.0mg,0.0
15mmol)のメタノール溶液(2ml)に、濃塩酸
を1滴加え、50℃で24時間攪拌した。濃アンモニア
水を加え中和することにより反応を停止し、減圧濃縮し
た。残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル=3/7)で精製することによ
り、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−メトキシカル
ボニル−1−デヒドロ−β−D−リボフラノース(1
1.4mg,68%)を得た。
【0084】 [α] D 20 -46.7゜ (c 1.02, CHCl3)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.65 (1H, brd, J=8.7Hz, OH-3) 3.40 (1H, brd, J=3.5Hz, OH-2) 3.66 (1H, dd, J=4.8, J=10.3Hz, H-5) 3.70 (1H, dd, J=4.7, J=10.3Hz, H-5) 3.80 (3H, s, COOMe) 4.30 (1H, brdd, J=3.5, 4.6Hz, H-2) 4.34 (1H, ddd, J=4.7, 4.8, 7.0Hz, H-4) 4.38 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.68 (1H, brddd, J=4.6, 7.0, 8.7Hz, H-3) 4.56 (2H, s, -CH 2Ph) 4.69 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 7.33-7.20 (10H, m, Ar-H)
【0085】[実施例4]
【0086】
【化17】
【0087】塩化オキサリル(44.9μl,0.52
mmol)の塩化メチレン溶液(2ml)に、−78℃
でジメチスルホキシド(72.9μl,1.0mmo
l)を滴下した。15分間攪拌した後、メチル=6−O
−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β−D−
プシコフラノシド(41.7mg,0.13mmol)
の塩化メチレン溶液(2ml)を加え、さらに15分間
攪拌した。次にトリエチルアミン(0.179ml,
1.3mol)を加え、2時間かけて0℃まで昇温した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぐことにより反
応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水で分配し、
水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽
和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧濃縮することによって6−O−ベンジル−1−ジデヒ
ドロ−3,4−イソプロピリデン−2−O−メチル−β
−D−プシコフラノースを粗生成物として得た。次に、
6−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−3,4−イソプロ
ピリデン−2−O−メチル−β−D−プシコフラノース
のt−ブタノール溶液(1ml)に2−メチル−2−ブ
テン(68.0μl,0.64mmol)を加え、さら
に、リン酸二水素ナトリウム二水和物(17.5mg,
0.19mmol)、及び亜塩素酸ナトリウム(30.
1mg,0.19mmol)の水溶液(0.4ml)を
加えた。室温で30分間攪拌した後、エーテルと水で分
配した。水層をエーテルで抽出し、有機層を合わせて2
%塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮することにより粗製の5−O−
ベンジル−1−α−カルボキシ−1−デヒドロ−2,3
−O−イソプロピリデン−1−O−メチル−β−D−リ
ボフラノースを無色油状物質(44.7mg,定量的収
率)として得た。
mmol)の塩化メチレン溶液(2ml)に、−78℃
でジメチスルホキシド(72.9μl,1.0mmo
l)を滴下した。15分間攪拌した後、メチル=6−O
−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β−D−
プシコフラノシド(41.7mg,0.13mmol)
の塩化メチレン溶液(2ml)を加え、さらに15分間
攪拌した。次にトリエチルアミン(0.179ml,
1.3mol)を加え、2時間かけて0℃まで昇温した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぐことにより反
応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水で分配し、
水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽
和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧濃縮することによって6−O−ベンジル−1−ジデヒ
ドロ−3,4−イソプロピリデン−2−O−メチル−β
−D−プシコフラノースを粗生成物として得た。次に、
6−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−3,4−イソプロ
ピリデン−2−O−メチル−β−D−プシコフラノース
のt−ブタノール溶液(1ml)に2−メチル−2−ブ
テン(68.0μl,0.64mmol)を加え、さら
に、リン酸二水素ナトリウム二水和物(17.5mg,
0.19mmol)、及び亜塩素酸ナトリウム(30.
1mg,0.19mmol)の水溶液(0.4ml)を
加えた。室温で30分間攪拌した後、エーテルと水で分
配した。水層をエーテルで抽出し、有機層を合わせて2
%塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮することにより粗製の5−O−
ベンジル−1−α−カルボキシ−1−デヒドロ−2,3
−O−イソプロピリデン−1−O−メチル−β−D−リ
ボフラノースを無色油状物質(44.7mg,定量的収
率)として得た。
【0088】1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.28 (3H, brs, Me) 1.46 (3H, brs, Me) 3.18 (3H, brs, OMe) 3.46-3.68 (2H, br, H-5) 4.50-4.84 (5H, br, H-2,3,4, -CH 2Ph) 7.28-7.42 (5H, m, Ar-H)
【0089】[実施例5]
【0090】
【化18】
【0091】1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−カル
ボキシ−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン
−β−D−リボフラノース(30.0g,0.070m
ol)のテトラヒドロフラン溶液(350ml)に、ト
リエチルアミン(38.8ml,0.28mol)を加
え0℃に冷却し、塩化イソプロポキシカルボニル(2
4.4ml,0.21mol)をゆっくり滴下した。0
℃で30分、室温で30分攪拌し、原料の消失を確認し
た後、0℃でアンモニアガスを吹き込み、さらに室温で
30分攪拌した。減圧下テトラヒドロフランを1/3程
度の溶媒量になるまで濃縮し、塩化メチレンと水で分配
した。水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて
飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。濾過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=45/55)で精
製することにより、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α
−カルバモイル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロ
ピリデン−β−D−リボフラノースを白色針状晶(2
6.5g,ベンジル=6−O−ベンジル−3,4−O−
イソプロピリデン−β−D−プシコピラノシドからの収
率92%)として得た。
ボキシ−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン
−β−D−リボフラノース(30.0g,0.070m
ol)のテトラヒドロフラン溶液(350ml)に、ト
リエチルアミン(38.8ml,0.28mol)を加
え0℃に冷却し、塩化イソプロポキシカルボニル(2
4.4ml,0.21mol)をゆっくり滴下した。0
℃で30分、室温で30分攪拌し、原料の消失を確認し
た後、0℃でアンモニアガスを吹き込み、さらに室温で
30分攪拌した。減圧下テトラヒドロフランを1/3程
度の溶媒量になるまで濃縮し、塩化メチレンと水で分配
した。水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて
飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。濾過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=45/55)で精
製することにより、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α
−カルバモイル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロ
ピリデン−β−D−リボフラノースを白色針状晶(2
6.5g,ベンジル=6−O−ベンジル−3,4−O−
イソプロピリデン−β−D−プシコピラノシドからの収
率92%)として得た。
【0092】 m.p. 145-146゜ [α] D 20 -37.4゜ (c 1.23, CHCl3) IR (KBr, cm-1) 3480, 3280, 2970, 1720, 1690, 1670, 1460, 1380, 12
50,1220, 11001 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.29 (3H, s, Me) 1.49 (3H, s, Me) 3.48 (1H, dd, J=9.7, 7.0Hz, H-5) 3.55 (1H, dd, J=9.7, 7.7Hz, H-5) 4.43 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.48 (1H, d, J=10.7Hz, -CH 2Ph) 4.50 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=10.7Hz, -CH 2Ph) 4.56 (1H, ddd, J=7.7, 7.0, 1.2Hz, H-4) 4.68 (1H, dd, J=5.8, 1.2Hz, H-3) 4.83 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) 5.83 (1H, brs, >NH) 6.73 (1H, brs, >NH) 7.26-7.36 (10H, m, Ar-H) HRMS (m/z) M+-Me (C22H24N1O6) 測定値 398.1602 計算値 398.1602
50,1220, 11001 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.29 (3H, s, Me) 1.49 (3H, s, Me) 3.48 (1H, dd, J=9.7, 7.0Hz, H-5) 3.55 (1H, dd, J=9.7, 7.7Hz, H-5) 4.43 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.48 (1H, d, J=10.7Hz, -CH 2Ph) 4.50 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=10.7Hz, -CH 2Ph) 4.56 (1H, ddd, J=7.7, 7.0, 1.2Hz, H-4) 4.68 (1H, dd, J=5.8, 1.2Hz, H-3) 4.83 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) 5.83 (1H, brs, >NH) 6.73 (1H, brs, >NH) 7.26-7.36 (10H, m, Ar-H) HRMS (m/z) M+-Me (C22H24N1O6) 測定値 398.1602 計算値 398.1602
【0093】[実施例6]
【0094】
【化19】
【0095】5−O−ベンジル−1−α−カルボキシ−
1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1−O
−メチル−β−D−リボフラノース(44.7mg,
0.13mmol)のテトラヒドロフラン溶液(2m
l)に、トリエチルアミン(35.9μl,0.26m
mol)を加え0℃に冷却し、塩化イソプロポキシカル
ボニル(18.3μl,0.42mol)をゆっくり滴
下した。0℃で30分、室温で30分攪拌し、原料の消
失を確認した後、0℃でアンモニアガスを吹き込み、さ
らに室温で30分攪拌した。塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて希
塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄したのち、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、残渣を分取用
シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル=3/7)で精製することにより、5−O−ベンジ
ル−1−α−カルバモイル−1−デヒドロ−2,3−O
−イソプロピリデン−1−O−メチル−β−D−リボフ
ラノースを無色油状物質(33.7mg,メチル=6−
O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β−D
−プシコピラノシドからの収率78%)として得た。
1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1−O
−メチル−β−D−リボフラノース(44.7mg,
0.13mmol)のテトラヒドロフラン溶液(2m
l)に、トリエチルアミン(35.9μl,0.26m
mol)を加え0℃に冷却し、塩化イソプロポキシカル
ボニル(18.3μl,0.42mol)をゆっくり滴
下した。0℃で30分、室温で30分攪拌し、原料の消
失を確認した後、0℃でアンモニアガスを吹き込み、さ
らに室温で30分攪拌した。塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて希
塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄したのち、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、残渣を分取用
シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル=3/7)で精製することにより、5−O−ベンジ
ル−1−α−カルバモイル−1−デヒドロ−2,3−O
−イソプロピリデン−1−O−メチル−β−D−リボフ
ラノースを無色油状物質(33.7mg,メチル=6−
O−ベンジル−3,4−O−イソプロピリデン−β−D
−プシコピラノシドからの収率78%)として得た。
【0096】1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.29 (3H, s, Me) 1.47 (3H, s, Me) 3.23 (3H, s, OMe) 3.51 (1H, dd, J=9.7, 7.0Hz, H-5) 3.58 (1H, dd, J=9.7, 7.7Hz, H-5) 4.53 (1H, ddd, J=7.7, 7.0, 0.9Hz, H-4) 4.57 (2H, s, -CH 2Ph) 4.68 (1H, dd, J=5.9, 0.9Hz, H-3) 4.73 (1H, d, J=5.9Hz, H-2) 5.67 (1H, brs, >NH) 6.65 (1H, brs, >NH) 7.29-7.38 (5H, m, Ar-H)
【0097】[実施例7]
【0098】
【化20】
【0099】1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−カル
バモイル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデ
ン−β−D−リボフラノース(17.3g,42mmo
l)の1,2−ジクロロエタン溶液(500ml)に、
室温で塩化オキサリル(7.31ml,84mmol)
を加え、30分間攪拌した。さらに、90℃で2時間攪
拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、アンモニアガス
を吹き込みながら30分間攪拌した。反応混合物を塩化
メチレンと水で分配し、水層を塩化メチレンで抽出した
のち、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、次いで減圧濃縮した後
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル=1/1)で精製し、1,5−ジ−O−ベンジル
−1−α−アロファノイル−1−デヒドロ−2,3−O
−イソプロピリデン−β−D−リボフラノースを無色油
状物質(16.6g,87%)として得た。
バモイル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデ
ン−β−D−リボフラノース(17.3g,42mmo
l)の1,2−ジクロロエタン溶液(500ml)に、
室温で塩化オキサリル(7.31ml,84mmol)
を加え、30分間攪拌した。さらに、90℃で2時間攪
拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、アンモニアガス
を吹き込みながら30分間攪拌した。反応混合物を塩化
メチレンと水で分配し、水層を塩化メチレンで抽出した
のち、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、次いで減圧濃縮した後
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル=1/1)で精製し、1,5−ジ−O−ベンジル
−1−α−アロファノイル−1−デヒドロ−2,3−O
−イソプロピリデン−β−D−リボフラノースを無色油
状物質(16.6g,87%)として得た。
【0100】 [α] D 20 -68.1゜ (c 1.06, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3450, 3050, 1730, 1580, 1480, 1460, 1380, 1220, 11
001 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.28 (3H, s, Me) 1.47 (3H, s, Me) 3.48 (1H, dd, J=9.8, 7.2Hz, H-5) 3.56 (1H, dd, J=9.8, 7.3Hz, H-5) 4.38 (1H, d, J=10.8Hz, -CH 2Ph) 4.46 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.51 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=10.8Hz, -CH 2Ph) 4.63 (1H, ddd, J=7.3, 7.2, 1.0Hz, H-4) 4.72 (1H, dd, J=5.8, 1.0Hz, H-3) 4.81 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) 5.39 (1H, brs, >NH) 7.26-7.36 (10H, m, Ar-H) 8.05 (1H, brs, >NH) 8.64 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+-CH3 (C23H25N2O7) 測定値 441.1661 計算値 441.1660 CIMS (m/z) 457 (M++1)
001 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.28 (3H, s, Me) 1.47 (3H, s, Me) 3.48 (1H, dd, J=9.8, 7.2Hz, H-5) 3.56 (1H, dd, J=9.8, 7.3Hz, H-5) 4.38 (1H, d, J=10.8Hz, -CH 2Ph) 4.46 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.51 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=10.8Hz, -CH 2Ph) 4.63 (1H, ddd, J=7.3, 7.2, 1.0Hz, H-4) 4.72 (1H, dd, J=5.8, 1.0Hz, H-3) 4.81 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) 5.39 (1H, brs, >NH) 7.26-7.36 (10H, m, Ar-H) 8.05 (1H, brs, >NH) 8.64 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+-CH3 (C23H25N2O7) 測定値 441.1661 計算値 441.1660 CIMS (m/z) 457 (M++1)
【0101】[実施例8]
【0102】
【化21】
【0103】5−O−ベンジル−1−α−カルバモイル
−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1−
O−メチル−β−D−リボフラノース(33.7mg,
0.10mmol)の1,2−ジクロロエタン溶液(2
ml)に、室温で塩化オキサリル(17.5μl,0.
20mmol)を加え、30分間攪拌した。90℃で
3.5時間攪拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、さ
らに、塩化オキサリル(8.7μl,0.10mmo
l)を加え90℃で1.5時間攪拌した。再度、反応溶
液を室温まで冷却後、アンモニアガスを吹き込み30分
間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配し、
水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わせて
飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/6)で精製し、
5−O−ベンジル−1−α−アロファノイル−1−デヒ
ドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1−O−メチル
−β−D−リボフラノースを無色油状物質(31.4m
g,83%)として得た。
−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1−
O−メチル−β−D−リボフラノース(33.7mg,
0.10mmol)の1,2−ジクロロエタン溶液(2
ml)に、室温で塩化オキサリル(17.5μl,0.
20mmol)を加え、30分間攪拌した。90℃で
3.5時間攪拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、さ
らに、塩化オキサリル(8.7μl,0.10mmo
l)を加え90℃で1.5時間攪拌した。再度、反応溶
液を室温まで冷却後、アンモニアガスを吹き込み30分
間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配し、
水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わせて
飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/6)で精製し、
5−O−ベンジル−1−α−アロファノイル−1−デヒ
ドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1−O−メチル
−β−D−リボフラノースを無色油状物質(31.4m
g,83%)として得た。
【0104】1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 1.28 (3H, s, Me) 1.46 (3H, s, Me) 3.20 (3H, s, OMe) 3.51 (1H, dd, J=9.7, 7.1Hz, H-5) 3.58 (1H, dd, J=9.7, 7.1Hz, H-5) 4.52-4.67 (3H, m) 4.72 (2H, AB) 5.59 (1H, brs, >NH) 7.29-7.40 (5H, m, Ar-H) 8.04 (1H, brs, >NH) 8.61 (1H, brs, >NH)
【0105】1 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 3.17 (3H, s, OMe) 3.47-3.73 (3H, m, H-5, OH) 4.12-4.45 (4H, m, H-2,3,4, OH) 4.57 (2H, AB, -CH 2Ph) 5.95 (1H, brs, >NH) 7.27-7.38 (5H, m, Ar-H) 8.04 (1H, brs, >NH) 9.00 (1H, brs, >NH)
【0106】[参考例3]
【0107】
【化22】
【0108】1,2:4,5−ジ−O−イソプロピリデ
ン−β−D−プシコピラノース(8.03g,31mm
ol)のメタノール溶液(20ml)に、室温でp−ト
ルエンスルホン酸(294mg,1.6mmol)を加
え1時間攪拌すると、反応が進行するにしたがって生成
物が沈殿してきた。原料の消失を確認した後、濃アンモ
ニア水で中和することにより反応を停止し、沈殿物を濾
過することによって1,2−O−イソプロピリデン−β
−D−プシコピラノースを白色雲母状晶(5.83g,
86%)として得た。
ン−β−D−プシコピラノース(8.03g,31mm
ol)のメタノール溶液(20ml)に、室温でp−ト
ルエンスルホン酸(294mg,1.6mmol)を加
え1時間攪拌すると、反応が進行するにしたがって生成
物が沈殿してきた。原料の消失を確認した後、濃アンモ
ニア水で中和することにより反応を停止し、沈殿物を濾
過することによって1,2−O−イソプロピリデン−β
−D−プシコピラノースを白色雲母状晶(5.83g,
86%)として得た。
【0109】 m.p. 174-176゜ [α] D 20 -111゜ (c 0.83, H2O) IR (KBr, cm-1) 3430, 3330, 2950, 10751 H NMR(400MHz, D2O) δ 1.42 (3H, s, Me) 1.52 (3H, s, Me) 3.78-3.85 (2H, m) 3.92-3.99 (3H, m) 4.13 (1H, d, J=9.9Hz, H-6) 4.17 (1H, d, J=9.9Hz, H-6) 元素分析 C9H16O6 測定値 C, 48.82; H, 7.18 計算値 C, 49.09; H, 7.32
【0110】[参考例4]
【0111】
【化23】
【0112】1,2−O−イソプロピリデン−β−D−
プシコピラノース(1.90g,8.6mmol)を塩
化ベンジル(16ml)に懸濁し、細かく砕いた水酸化
カリウム(9.25g,17mmol)を加え、130
℃で3時間激しく攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し
たのち、クロロホルムと水で分配し、水層をクロロホル
ムで抽出した。有機層を合わせて、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減
圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン/酢酸エチル=95/5後に7/3)で精製し、
3,4,5−トリ−O−ベンジル−1,2−O−イソプ
ロピリデン−β−D−プシコピラノースを無色油状物質
(4.23g,100%)として得た。
プシコピラノース(1.90g,8.6mmol)を塩
化ベンジル(16ml)に懸濁し、細かく砕いた水酸化
カリウム(9.25g,17mmol)を加え、130
℃で3時間激しく攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し
たのち、クロロホルムと水で分配し、水層をクロロホル
ムで抽出した。有機層を合わせて、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減
圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン/酢酸エチル=95/5後に7/3)で精製し、
3,4,5−トリ−O−ベンジル−1,2−O−イソプ
ロピリデン−β−D−プシコピラノースを無色油状物質
(4.23g,100%)として得た。
【0113】 [α] D 20 +1゜ (c 7.78, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3000, 2900, 1530, 1475, 1395, 1225, 10701 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.38 (3H, s, Me) 1.51 (3H, s, Me) 3.52 (1H, dt, J=2.4, 7.1Hz, H-5) 3.55 (1H, d, J=2.4Hz, H-3) 3.81 (2H, d, J=7.1Hz, H-6) 4.03 (1H, t, J=2.4Hz, H-4) 4.17 (1H, d, J=9.9Hz, H-1) 4.21 (1H, d, J=9.9Hz, H-1) 4.52 (2H, s, -CH 2Ph) 4.68 (1H, d, J=11.9Hz, -CH 2Ph) 4.75 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.79 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.82 (1H, d, J=11.9Hz, -CH 2Ph) 7.26-7.39 (15, m, Ar-H) HRMS (m/z) M+ (C30H34O6) 測定値 490.2331 計算値 490.2352
【0114】[実施例9]
【0115】
【化24】
【0116】3,4,5−トリ−O−ベンジル−1,2
−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノース
(210mg,0.43mmol)のベンジルアルコー
ル溶液(2ml)に、塩化水素を0℃で飽和させたベン
ジルアルコール(2ml)を0℃で加えた。室温で15
分間攪拌したのち、0℃でアンモニアガスを吹き込むこ
とによって反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと
水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過後減圧濃縮した。さらに、クーゲルロー
ル蒸留装置を用いてベンジルアルコールを減圧留去し、
残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキ
サン/酢酸エチル=65/35)で精製することによ
り、ベンジル=3,4,5−トリ−O−ベンジル−D−
プシコピラノシドを無色油状物質(71.7mg,31
%)として得た。
−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノース
(210mg,0.43mmol)のベンジルアルコー
ル溶液(2ml)に、塩化水素を0℃で飽和させたベン
ジルアルコール(2ml)を0℃で加えた。室温で15
分間攪拌したのち、0℃でアンモニアガスを吹き込むこ
とによって反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと
水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過後減圧濃縮した。さらに、クーゲルロー
ル蒸留装置を用いてベンジルアルコールを減圧留去し、
残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキ
サン/酢酸エチル=65/35)で精製することによ
り、ベンジル=3,4,5−トリ−O−ベンジル−D−
プシコピラノシドを無色油状物質(71.7mg,31
%)として得た。
【0117】 [α] D 20 -80.2゜ (c 1.34, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3500, 3050, 2900, 1450, 1130, 10601 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 1.59 (1H, dd, J=8.3, 5.0Hz, -OH) 3.63 (1H, dd, J=12.3, 2.3Hz, H-6) 3.71-3.77 (2H, m, H-1, H-5) 3.93 (1H, dd, J=3.0, 1.0Hz, H-3) 3.97 (1H, dd, J=12.3, 2.7Hz, H-6) 4.00 (1H, t, J=3.1Hz, H-4) 4.06 (1H, dd, J=12.2, 8.3Hz, H-1) 4.53 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.58 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.59 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.61 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.73 (1H, d, J=12.6Hz, -CH 2Ph) 4.83 (1H, d, J=11.7Hz, -CH 2Ph) 4.85 (1H, d, J=12.6Hz, -CH 2Ph) 5.00 (1H, d, J=11.7Hz, -CH 2Ph) 7.23-7.43 (20H, m) HRMS (m/z) M+-CH2OH (C33H33O5) 測定値 509.2326 計算値 509.2326
【0118】[実施例10]
【0119】
【化25】
【0120】3,4,5−トリ−O−ベンジル−1,2
−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノース
(1.77g,3.6mmol)のメタノール溶液(5
ml)に、塩化水素を25℃で飽和させたメタノール
(43%塩化水素メタノール溶液:5ml)を0℃で加
えた。室温で30分間攪拌したのち、氷−飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液−酢酸エチルの混合溶液中に注ぐこと
によって反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水
で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を
合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=55/
45)で精製することにより、メチル=3,4,5−ト
リ−O−ベンジル−α,β−D−プシコピラノシドを無
色油状物質(1.56g,93%)として得た。
−O−イソプロピリデン−β−D−プシコピラノース
(1.77g,3.6mmol)のメタノール溶液(5
ml)に、塩化水素を25℃で飽和させたメタノール
(43%塩化水素メタノール溶液:5ml)を0℃で加
えた。室温で30分間攪拌したのち、氷−飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液−酢酸エチルの混合溶液中に注ぐこと
によって反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルと水
で分配し、水層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を
合わせて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=55/
45)で精製することにより、メチル=3,4,5−ト
リ−O−ベンジル−α,β−D−プシコピラノシドを無
色油状物質(1.56g,93%)として得た。
【0121】1 H NMR(90MHz, CDCl3) δ 7.15-7.64 (15H, m, Ar-H) 4.47-4.99 (6H, m, -CH 2Ph) 3.39-4.13 (7H, m, H-1,3,4,5,6) 3.23 (3H, s, OMe)
【0122】[実施例11]
【0123】
【化26】
【0124】塩化オキサリル(0.173ml,2.0
mmol)の塩化メチレン溶液(2ml)に、−78℃
でジメチルスルホキシド(0.280ml,4.0mm
ol)を滴下し、10分間攪拌した。ベンジル=3,
4,5−トリ−O−ベンジル−D−プシコピラノシド
(267mg,0.49mmol)の塩化メチレン溶液
(3ml)を加え25分間攪拌したのち、さらに、トリ
エチルアミン(0.687ml,4.9mmol)を加
え1時間かけて室温まで昇温した。飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を注ぐことにより反応を停止し、反応混合物
を酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより2,3,
4,5−テトラ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−D−
プシコピラノースを粗生成物として得た。次に2,3,
4,5−テトラ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−D−
プシコピラノースのt−ブタノール溶液(2.5ml)
に、2−メチル−2−ブテン(0.522ml,4.9
mmol)を加え、これに亜塩素酸ナトリウム(134
mg,1.5mmol)と、リン酸二水素ナトリウム二
水和物(231mg,1.5mmol)の水溶液(1m
l)を滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応混合物
をエーテルと水で分配し、水層をエーテルで抽出した。
有機層を合わせて、2%塩酸水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、減圧濃
縮することにより粗製の1,2,3,4−テトラ−O−
ベンジル−1−カルボキシ−1−デヒドロ−D−リボピ
ラノースを無色固体(295mg,定量的収率)として
得た。
mmol)の塩化メチレン溶液(2ml)に、−78℃
でジメチルスルホキシド(0.280ml,4.0mm
ol)を滴下し、10分間攪拌した。ベンジル=3,
4,5−トリ−O−ベンジル−D−プシコピラノシド
(267mg,0.49mmol)の塩化メチレン溶液
(3ml)を加え25分間攪拌したのち、さらに、トリ
エチルアミン(0.687ml,4.9mmol)を加
え1時間かけて室温まで昇温した。飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を注ぐことにより反応を停止し、反応混合物
を酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより2,3,
4,5−テトラ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−D−
プシコピラノースを粗生成物として得た。次に2,3,
4,5−テトラ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−D−
プシコピラノースのt−ブタノール溶液(2.5ml)
に、2−メチル−2−ブテン(0.522ml,4.9
mmol)を加え、これに亜塩素酸ナトリウム(134
mg,1.5mmol)と、リン酸二水素ナトリウム二
水和物(231mg,1.5mmol)の水溶液(1m
l)を滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応混合物
をエーテルと水で分配し、水層をエーテルで抽出した。
有機層を合わせて、2%塩酸水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、減圧濃
縮することにより粗製の1,2,3,4−テトラ−O−
ベンジル−1−カルボキシ−1−デヒドロ−D−リボピ
ラノースを無色固体(295mg,定量的収率)として
得た。
【0125】1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.38-3.50 (1H, br) 3.58-3.64 (1H, br) 3.67-3.75 (1H, br) 3.78-4.02 (1H, br) 4.17 (1H, brd) 4.30 (2H, brs, -CH 2Ph) 4.59-4.90 (6H, m, -CH 2Ph)
【0126】[実施例12]
【0127】
【化27】
【0128】メチル=3,4,5−トリ−O−ベンジル
−α,β−D−プシコピラノシド(255mg,0.5
5mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)
に、トリメチルアミン(0.8ml)と三酸化硫黄ピリ
ジンコンプレックス(95.9mg,0.60mmo
l)を0℃で順次加え、室温で攪拌した。40分後、及
び1.5時間後に、それぞれ先程と同量の三酸化硫黄ピ
リジンコンプレックスを加え、原料が消失するまで攪拌
した(4時間)。エーテルで反応溶液を希釈し、氷冷
下、水を注ぐことにより反応を停止した。反応混合物を
エーテルと水で分配し、水層をエーテルで抽出した。有
機層を合わせて塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより粗製の
3,4,5−トリ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−2
−O−メチル−α,β−D−プシコピラノースを得た。
得られた3,4,5−トリ−O−ベンジル−1−ジデヒ
ドロ−2−O−メチル−α,β−D−プシコピラノース
のt−ブタノール溶液(4ml)に、2−メチル−2−
ブテン(0.290ml,2.7mmol)を加え、こ
れに亜塩素酸ナトリウム(74.4mg,0.82mm
ol)と、リン酸二水素ナトリウム二水和物(128m
g,0.82mmol)の水溶液(1.6ml)を滴下
した。室温で20分攪拌した後、反応混合物をエーテル
と水で分配し、水層をエーテルで抽出した。有機層を合
わせて、2%塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。減圧濃縮するこ
とにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層クロマト
グラフィー(クロロホルム/メタノール=9/1)で精
製し、2,3,4−トリ−O−ベンジル−1−カルボキ
シ−1−デヒドロ−1−O−メチル−α,β−D−リボ
ピラノースを白色固体(222mg,2段階85%)と
して得た。
−α,β−D−プシコピラノシド(255mg,0.5
5mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)
に、トリメチルアミン(0.8ml)と三酸化硫黄ピリ
ジンコンプレックス(95.9mg,0.60mmo
l)を0℃で順次加え、室温で攪拌した。40分後、及
び1.5時間後に、それぞれ先程と同量の三酸化硫黄ピ
リジンコンプレックスを加え、原料が消失するまで攪拌
した(4時間)。エーテルで反応溶液を希釈し、氷冷
下、水を注ぐことにより反応を停止した。反応混合物を
エーテルと水で分配し、水層をエーテルで抽出した。有
機層を合わせて塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより粗製の
3,4,5−トリ−O−ベンジル−1−ジデヒドロ−2
−O−メチル−α,β−D−プシコピラノースを得た。
得られた3,4,5−トリ−O−ベンジル−1−ジデヒ
ドロ−2−O−メチル−α,β−D−プシコピラノース
のt−ブタノール溶液(4ml)に、2−メチル−2−
ブテン(0.290ml,2.7mmol)を加え、こ
れに亜塩素酸ナトリウム(74.4mg,0.82mm
ol)と、リン酸二水素ナトリウム二水和物(128m
g,0.82mmol)の水溶液(1.6ml)を滴下
した。室温で20分攪拌した後、反応混合物をエーテル
と水で分配し、水層をエーテルで抽出した。有機層を合
わせて、2%塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。減圧濃縮するこ
とにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層クロマト
グラフィー(クロロホルム/メタノール=9/1)で精
製し、2,3,4−トリ−O−ベンジル−1−カルボキ
シ−1−デヒドロ−1−O−メチル−α,β−D−リボ
ピラノースを白色固体(222mg,2段階85%)と
して得た。
【0129】 IR (neat, cm-1) 1630, 1100, 10501 H NMR(200MHz, CDCl3) δ 7.05-7.40 (15H, m, Ar-H) 4.60-4.90 (4H, br, -CH 2Ph) 4.25-4.35 (2H, br, -CH 2Ph) 4.15-4.20 (1H, br) 3.80-4.05 (1H, br) 3.35-3.75 (3H, br) 3.05 (3H, brs, OMe) CI-MS (m/z) 497 (M++H) 447 (M+-OMe) 433 (M+-COOH)
【0130】このカルボン酸は各種溶媒への溶解性が低
く、プロトンNMRスペクトルの解析が難しいため、さ
らにメチルエステルへと変換することにより構造を確認
した。すなわち、2,3,4−トリ−O−ベンジル−1
−カルボキシ−1−デヒドロ−1−O−メチル−α,β
−D−リボピラノース(23.1mg,0.048mm
ol)のメタノール溶液(2ml)に、濃塩酸を1滴加
え、90℃で24時間攪拌した。濃アンモニア水を加え
中和することにより反応を停止し、減圧濃縮した。残渣
を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン
/酢酸エチル=6/4)で精製することにより、2,
3,4−トリ−O−ベンジル−1−メトキシカルボニル
−1−デヒドロ−1−O−メチル−D−リボピラノース
を得た。
く、プロトンNMRスペクトルの解析が難しいため、さ
らにメチルエステルへと変換することにより構造を確認
した。すなわち、2,3,4−トリ−O−ベンジル−1
−カルボキシ−1−デヒドロ−1−O−メチル−α,β
−D−リボピラノース(23.1mg,0.048mm
ol)のメタノール溶液(2ml)に、濃塩酸を1滴加
え、90℃で24時間攪拌した。濃アンモニア水を加え
中和することにより反応を停止し、減圧濃縮した。残渣
を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン
/酢酸エチル=6/4)で精製することにより、2,
3,4−トリ−O−ベンジル−1−メトキシカルボニル
−1−デヒドロ−1−O−メチル−D−リボピラノース
を得た。
【0131】 低極性成績体 (3.5mg,15%)、1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.42 (3H, s, OMe) 3.53 (1H, d, J=3.0Hz, H-2) 3.57 (1H, ddd, J=2.7, 4.8, 10.8Hz, H-4) 3.63 (1H, s, COOMe) 3.70 (1H, ddd, J=0.9, 4.8, 10.8Hz, H-5) 3.98 (1H, dd, J=10.4, 10.8Hz, H-5) 4.17 (1H, dd, J=2.7, 3.0Hz, H-3) 4.32 (1H, d, J=12.3Hz, -CH 2Ph) 4.51 (1H, d, J=12.3Hz, -CH 2Ph) 4.52 (1H, d, J=12.1Hz, -CH 2Ph) 4.56 (1H, d, J=12.1Hz, -CH 2Ph) 4.85 (1H, d, J=12.4Hz, -CH 2Ph) 4.92 (1H, d, J=12.4Hz, -CH 2Ph) 7.19-7.49 (15H, m, Ar-H) 高極性成績体(12.0mg,0.024mmol,5
1%)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.20 (3H, s, OMe) 3.62 (1H, dd, J=2.0, 12.5Hz, H-5) 3.71 (3H, s, COOMe) 3.76 (1H, td, J=2.0, 3.3Hz, H-4) 3.85 (1H, t, J=3.3Hz, H-3) 4.13 (1H, d, J=3.3Hz, H-2) 4.15 (1H, dd, J=2.0, 12.5Hz, H-5) 4.57 (2H, s, -CH 2Ph) 4.68 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 4.69 (1H, d, J=12.6Hz, -CH 2Ph) 4.85 (1H, d, J=12.6Hz, -CH 2Ph) 5.00 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 7.18-7.41 (15H, m, Ar-H)
1%)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.20 (3H, s, OMe) 3.62 (1H, dd, J=2.0, 12.5Hz, H-5) 3.71 (3H, s, COOMe) 3.76 (1H, td, J=2.0, 3.3Hz, H-4) 3.85 (1H, t, J=3.3Hz, H-3) 4.13 (1H, d, J=3.3Hz, H-2) 4.15 (1H, dd, J=2.0, 12.5Hz, H-5) 4.57 (2H, s, -CH 2Ph) 4.68 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 4.69 (1H, d, J=12.6Hz, -CH 2Ph) 4.85 (1H, d, J=12.6Hz, -CH 2Ph) 5.00 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 7.18-7.41 (15H, m, Ar-H)
【0132】[実施例13]
【0133】
【化28】
【0134】1,2,3,4−テトラ−O−ベンジル−
1−カルボキシ−1−デヒドロ−D−リボピラノースの
(295mg,2.0mmol)テトラヒドロフラン溶
液(2ml)に、トリエチルアミン(0.275ml,
2.0mmol)を加え0℃に冷却し、塩化イソプロポ
キシカルボニル(24.4ml,0.21mol)をゆ
っくり滴下した。0℃で1時間15分、室温で45分攪
拌し、原料の消失を確認した後、0℃でアンモニアガス
を吹き込み、さらに室温で30分攪拌した。塩化メチレ
ンと水で分配後、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=6/
4)で精製することにより、1,2,3,4−テトラ−
O−ベンジル−1−カルバモイル−1−デヒドロ−D−
リボピラノースを無色油状物質(233mg,ベンジル
=3,4,5−トリ−O−ベンジル−D−プシコピラノ
シドからの収率85%)として得た。
1−カルボキシ−1−デヒドロ−D−リボピラノースの
(295mg,2.0mmol)テトラヒドロフラン溶
液(2ml)に、トリエチルアミン(0.275ml,
2.0mmol)を加え0℃に冷却し、塩化イソプロポ
キシカルボニル(24.4ml,0.21mol)をゆ
っくり滴下した。0℃で1時間15分、室温で45分攪
拌し、原料の消失を確認した後、0℃でアンモニアガス
を吹き込み、さらに室温で30分攪拌した。塩化メチレ
ンと水で分配後、水層を塩化メチレンで抽出し、有機層
を合わせて飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=6/
4)で精製することにより、1,2,3,4−テトラ−
O−ベンジル−1−カルバモイル−1−デヒドロ−D−
リボピラノースを無色油状物質(233mg,ベンジル
=3,4,5−トリ−O−ベンジル−D−プシコピラノ
シドからの収率85%)として得た。
【0135】 [α] D 20 -5.25゜ (c 1.10, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3500, 3380, 3060, 2900, 1710, 1590, 1510, 1460, 13
90 1370, 1230, 1145, 10701 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.68 (1H, dd, J=12.3, 2.0Hz, H-6) 3.73-3.76 (1H, m, H-5) 3.90 (1H, t, J=3.2Hz, H-4) 4.03 (1H, dd, J=12.3, 1.8Hz, H-6) 4.29 (1H, dd, J=3.0, 1.0Hz, H-3) 4.44 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.51 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.60 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.74 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 4.80 (2H, s, -CH 2Ph) 4.93 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 5.60 (1H, brd, J=2.3Hz, >NH) 6.90 (1H, brd, J=2.3Hz, >NH) 7.21-7.41 (20H, m) HRMS (m/z) M+-Bn (C27H28N1O6) 測定値 462.1921 計算値 462.1915
90 1370, 1230, 1145, 10701 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.68 (1H, dd, J=12.3, 2.0Hz, H-6) 3.73-3.76 (1H, m, H-5) 3.90 (1H, t, J=3.2Hz, H-4) 4.03 (1H, dd, J=12.3, 1.8Hz, H-6) 4.29 (1H, dd, J=3.0, 1.0Hz, H-3) 4.44 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.51 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.54 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.60 (1H, d, J=12.0Hz, -CH 2Ph) 4.74 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 4.80 (2H, s, -CH 2Ph) 4.93 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 5.60 (1H, brd, J=2.3Hz, >NH) 6.90 (1H, brd, J=2.3Hz, >NH) 7.21-7.41 (20H, m) HRMS (m/z) M+-Bn (C27H28N1O6) 測定値 462.1921 計算値 462.1915
【0136】[実施例14]
【0137】
【化29】
【0138】2,3,4−トリ−O−ベンジル−1−カ
ルボキシ−1−デヒドロ−1−O−メチル−α,β−D
−リボピラノース(34.3mg,0.072mmo
l)のテトラヒドロフラン溶液(2ml)に、トリエチ
ルアミン(20.0μl,0.14mmol)を加え0
℃に冷却し、塩化イソプロポキシカルボニル(10.2
μl,0.079mmol)をゆっくり滴下した。0℃
で1時間攪拌し、原料の消失を確認した後、その温度で
アンモニアガスを吹き込み、さらに室温で30分攪拌し
た。塩化メチレンと水で分配後、水層を塩化メチレンで
抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄したのち、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、
分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル=2/8)で精製することにより、2,3,
4−トリ−O−ベンジル−1−カルバモイル−1−デヒ
ドロ−1−O−メチル−α,β−D−リボピラノースを
得た。(収率はいずれもメチル=3,4,5−トリ−O
−ベンジル−α,β−D−プシコピラノシドからの総収
率) 低極性成績体(22.9mg,67%)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.22 (3H, s, OMe) 3.66 (1H, dd, J=12.3, 2.0Hz, H-5) 3.76 (1H, ddd, J=3.2, 2.0, 1.8Hz, H-4) 3.85 (1H, dd, J=3.2, 3.1Hz, H-3) 4.01 (1H, dd, J=12.3, 1.8Hz, H-5) 4.19 (1H, dd, J=3.1, 1.0Hz, H-2) 4.54 (1H, d, J=12.2Hz, -CH 2Ph) 4.60 (1H, d, J=12.2Hz, -CH 2Ph) 4.71 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 4.79 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.83 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.90 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 5.61 (1H, brs, >NH) 6.95 (1H, brs, >NH) 7.20-7.40 (15H, m, Ar-H) 高極性成績体(4.6mg,13%)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.33 (3H, s, OMe) 3.44 (1H, d, J=3.3Hz, H-2) 3.58 (1H, ddd, J=10.8, 4.7, 2.6Hz, H-4) 3.77 (1H, ddd, J=10.3, 4.7, 1.0Hz, H-5) 3.99 (1H, dd, J=10.3, 10.8Hz, H-5) 4.14 (1H, dd, J=3.3, 2.6Hz, H-3) 4.42 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 4.53 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 4.53 (2H, s, -CH 2Ph) 4.88 (2H, AB, -CH 2Ph) 5.58 (1H, brs, >NH) 6.62 (1H, brs, >NH) 7.19-7.39 (15H, m, Ar-H)
ルボキシ−1−デヒドロ−1−O−メチル−α,β−D
−リボピラノース(34.3mg,0.072mmo
l)のテトラヒドロフラン溶液(2ml)に、トリエチ
ルアミン(20.0μl,0.14mmol)を加え0
℃に冷却し、塩化イソプロポキシカルボニル(10.2
μl,0.079mmol)をゆっくり滴下した。0℃
で1時間攪拌し、原料の消失を確認した後、その温度で
アンモニアガスを吹き込み、さらに室温で30分攪拌し
た。塩化メチレンと水で分配後、水層を塩化メチレンで
抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄したのち、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、
分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル=2/8)で精製することにより、2,3,
4−トリ−O−ベンジル−1−カルバモイル−1−デヒ
ドロ−1−O−メチル−α,β−D−リボピラノースを
得た。(収率はいずれもメチル=3,4,5−トリ−O
−ベンジル−α,β−D−プシコピラノシドからの総収
率) 低極性成績体(22.9mg,67%)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.22 (3H, s, OMe) 3.66 (1H, dd, J=12.3, 2.0Hz, H-5) 3.76 (1H, ddd, J=3.2, 2.0, 1.8Hz, H-4) 3.85 (1H, dd, J=3.2, 3.1Hz, H-3) 4.01 (1H, dd, J=12.3, 1.8Hz, H-5) 4.19 (1H, dd, J=3.1, 1.0Hz, H-2) 4.54 (1H, d, J=12.2Hz, -CH 2Ph) 4.60 (1H, d, J=12.2Hz, -CH 2Ph) 4.71 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 4.79 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.83 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.90 (1H, d, J=11.1Hz, -CH 2Ph) 5.61 (1H, brs, >NH) 6.95 (1H, brs, >NH) 7.20-7.40 (15H, m, Ar-H) 高極性成績体(4.6mg,13%)1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.33 (3H, s, OMe) 3.44 (1H, d, J=3.3Hz, H-2) 3.58 (1H, ddd, J=10.8, 4.7, 2.6Hz, H-4) 3.77 (1H, ddd, J=10.3, 4.7, 1.0Hz, H-5) 3.99 (1H, dd, J=10.3, 10.8Hz, H-5) 4.14 (1H, dd, J=3.3, 2.6Hz, H-3) 4.42 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 4.53 (1H, d, J=11.6Hz, -CH 2Ph) 4.53 (2H, s, -CH 2Ph) 4.88 (2H, AB, -CH 2Ph) 5.58 (1H, brs, >NH) 6.62 (1H, brs, >NH) 7.19-7.39 (15H, m, Ar-H)
【0139】[実施例15]
【0140】
【化30】
【0141】1,2,3,4−テトラ−O−ベンジル−
1−カルバモイル−1−デヒドロ−D−リボピラノース
(121mg,0.22mmol)の1,2−ジクロロ
エタン溶液(5ml)に、室温で塩化オキサリル(6
7.5μl,0.77mmol)を加え、30分間攪拌
した。さらに、85℃で2時間攪拌した後、反応溶液を
室温まで冷却し、アンモニアガスを吹き込みながら30
分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わ
せて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(四塩化炭素/エーテル=3/7)で精製
し、1,2,3,4−テトラ−O−ベンジル−1−アロ
ファノイル−1−デヒドロ−D−リボピラノースを無色
油状物質(16.6g,87%)として得た。
1−カルバモイル−1−デヒドロ−D−リボピラノース
(121mg,0.22mmol)の1,2−ジクロロ
エタン溶液(5ml)に、室温で塩化オキサリル(6
7.5μl,0.77mmol)を加え、30分間攪拌
した。さらに、85℃で2時間攪拌した後、反応溶液を
室温まで冷却し、アンモニアガスを吹き込みながら30
分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わ
せて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(四塩化炭素/エーテル=3/7)で精製
し、1,2,3,4−テトラ−O−ベンジル−1−アロ
ファノイル−1−デヒドロ−D−リボピラノースを無色
油状物質(16.6g,87%)として得た。
【0142】 [α] D 20 -20.0゜ (c 1.99, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3450, 3050, 1735, 1600, 1480, 1390, 1250, 1160, 11
30, 10801 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.69 (1H, dd, J=12.3, 2.2Hz, H-5) 3.74-3.78 (1H, br, H-4) 3.89 (1H, t, J=3.1Hz, H-3) 4.10 (1H, dd, J=12.3, 2.4Hz, H-5) 4.17 (1H, dd, J=2.8, 1.0Hz, H-2) 4.38 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.46 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.59 (2H, s, -CH 2Ph) 4.66 (1H, d, J=11.4Hz, -CH 2Ph) 4.73 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.77 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.95 (1H, d, J=11.4Hz, -CH 2Ph) 5.19 (1H, brs, >NH) 7.21-7.36 (20H, m, Ar-H) 8.00 (1H, brs, >NH) 8.82 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+-Bn (C28H29N2O7) 測定値 505.1990 計算値 505.1973
30, 10801 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 3.69 (1H, dd, J=12.3, 2.2Hz, H-5) 3.74-3.78 (1H, br, H-4) 3.89 (1H, t, J=3.1Hz, H-3) 4.10 (1H, dd, J=12.3, 2.4Hz, H-5) 4.17 (1H, dd, J=2.8, 1.0Hz, H-2) 4.38 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.46 (1H, d, J=11.2Hz, -CH 2Ph) 4.59 (2H, s, -CH 2Ph) 4.66 (1H, d, J=11.4Hz, -CH 2Ph) 4.73 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.77 (1H, d, J=12.5Hz, -CH 2Ph) 4.95 (1H, d, J=11.4Hz, -CH 2Ph) 5.19 (1H, brs, >NH) 7.21-7.36 (20H, m, Ar-H) 8.00 (1H, brs, >NH) 8.82 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+-Bn (C28H29N2O7) 測定値 505.1990 計算値 505.1973
【0143】[実施例16]
【0144】
【化31】
【0145】2,3,4−トリ−O−ベンジル−1−カ
ルバモイル−1−デヒドロ−1−O−メチル−α(β)
−D−リボピラノース(低極性化合物)(46.5m
g,0.098mmol)の1,2−ジクロロエタン溶
液(2ml)に、室温で塩化オキサリル(17.0μ
l,0.20mmol)を加え、30分間攪拌した。9
0℃で1.5時間攪拌した後、反応溶液を室温まで冷却
し、さらに、塩化オキサリル(8.5μl,0.098
mmol)を加え90℃で30分間攪拌した。再度、反
応溶液を室温まで冷却後、アンモニアガスを吹き込み3
0分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わ
せて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/7)で精製
し、2,3,4−トリ−O−ベンジル−1−アロファノ
イル−1−デヒドロ−1−O−メチル−α(β)−D−
リボピラノースを無色油状物質(42.2mg,83
%)として得た。
ルバモイル−1−デヒドロ−1−O−メチル−α(β)
−D−リボピラノース(低極性化合物)(46.5m
g,0.098mmol)の1,2−ジクロロエタン溶
液(2ml)に、室温で塩化オキサリル(17.0μ
l,0.20mmol)を加え、30分間攪拌した。9
0℃で1.5時間攪拌した後、反応溶液を室温まで冷却
し、さらに、塩化オキサリル(8.5μl,0.098
mmol)を加え90℃で30分間攪拌した。再度、反
応溶液を室温まで冷却後、アンモニアガスを吹き込み3
0分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンと水で分配
し、水層を塩化メチレンで抽出したのち、有機層を合わ
せて飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過後、減圧濃縮し、分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/7)で精製
し、2,3,4−トリ−O−ベンジル−1−アロファノ
イル−1−デヒドロ−1−O−メチル−α(β)−D−
リボピラノースを無色油状物質(42.2mg,83
%)として得た。
【0146】1 H NMR (200MHz, CDCl3) δ 3.19 (3H, s, OMe) 3.66 (1H, dd, J=12.3, 2.1Hz, H-5) 3.71-3.79 (1H, m, H-4) 3.84 (1H, dd, J=3.2, 3.0Hz, H-3) 4.09 (1H, dd, J=12.3, 2.2Hz, H-5) 4.10 (1H, dd, J=3.0, 0.9Hz, H-2) 4.57-4.78 (5H, m, -CH 2Ph) 4.94 (1H, d, J=11.4Hz, -CH 2Ph) 5.17 (1H, brs, >NH) 7.14-7.40 (15H, m, Ar-H) 8.00 (1H, brs, >NH) 8.76 (1H, brs, >NH)
【0147】[実施例17]
【0148】
【化32】
【0149】5−O−ベンジル−1−α−アロファノイ
ル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1
−O−メチル−β−D−リボフラノース(10.0m
g,0.026mmol)のメタノール溶液(2ml)
に濃塩酸を一滴加え、60℃で1.5時間加熱攪拌し
た。濃アンモニア水で中和することによって反応を停止
し、減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配し、水
層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽和
食塩水で洗浄した。濾過後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
(クロロホルム/メタノール=9/1)で精製し、5−
O−ベンジル−1−α−アロファノイル−1−デヒドロ
−1−O−メチル−β−D−リボフラノースを無色油状
物質(7.9mg,89%)として得た。
ル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリデン−1
−O−メチル−β−D−リボフラノース(10.0m
g,0.026mmol)のメタノール溶液(2ml)
に濃塩酸を一滴加え、60℃で1.5時間加熱攪拌し
た。濃アンモニア水で中和することによって反応を停止
し、減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配し、水
層を酢酸エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽和
食塩水で洗浄した。濾過後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
(クロロホルム/メタノール=9/1)で精製し、5−
O−ベンジル−1−α−アロファノイル−1−デヒドロ
−1−O−メチル−β−D−リボフラノースを無色油状
物質(7.9mg,89%)として得た。
【0150】[実施例18]
【0151】
【化33】
【0152】1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−アロ
ファノイル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリ
デン−β−D−リボフラノース(15.8g,35mm
ol)のエタノール溶液(200ml)に濃塩酸(2m
l)と水(2ml)を加え、生成するアセトンを留去し
ながら90℃で2時間加熱攪拌した。さらに、水(2m
l)を加え1.5時間攪拌し、再度、水(5ml)を加
え1.5時間攪拌した。原料の消失を確認した後、濃ア
ンモニア水で中和することによって反応を停止し、減圧
濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸
エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽和食塩水で
洗浄した。濾過後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢
酸エチル=1/1後にクロロホルム/メタノール=9/
1)で精製し、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−ア
ロファノイル−1−デヒドロ−β−D−リボフラノース
を無色油状物質(11.4g,79%)として得た。
ファノイル−1−デヒドロ−2,3−O−イソプロピリ
デン−β−D−リボフラノース(15.8g,35mm
ol)のエタノール溶液(200ml)に濃塩酸(2m
l)と水(2ml)を加え、生成するアセトンを留去し
ながら90℃で2時間加熱攪拌した。さらに、水(2m
l)を加え1.5時間攪拌し、再度、水(5ml)を加
え1.5時間攪拌した。原料の消失を確認した後、濃ア
ンモニア水で中和することによって反応を停止し、減圧
濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配し、水層を酢酸
エチルで抽出したのち、有機層を合わせて飽和食塩水で
洗浄した。濾過後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢
酸エチル=1/1後にクロロホルム/メタノール=9/
1)で精製し、1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−ア
ロファノイル−1−デヒドロ−β−D−リボフラノース
を無色油状物質(11.4g,79%)として得た。
【0153】 [α] D 20 -40.7゜ (c 0.67, CHCl3:MeOH=1:1) IR (KBr, cm-1) 3440, 3370, 1730, 1685, 1610, 1460, 1420, 11001 H NMR(400MHz, CD3OD) δ 3.57 (1H, dd, J=10.8, 5.9Hz, H-5) 3.80 (1H, dd, J=10.8, 2.3Hz, H-5) 4.09 (1H, d, J=4.2Hz, H-2) 4.25 (1H, d, J=10.8Hz, -CH 2Ph) 4.32 (1H, dd, J=8.3, 4.2Hz, H-3) 4.38 (1H, ddd, J=8.3, 5.9, 2.3Hz, H-4) 4.53-4.63 (3H, m, -CH 2Ph) 7.19-7.38 (10H, m, Ar-H) HRMS (m/z) M+-CONHCONH2 (C19H21O5) 測定値 329.1414 計算値 329.1388 CIMS (m/z) 417 (M++1)
【0154】1,5−ジ−O−ベンジル−1−α−アロ
ファノイル−1−デヒドロ−β−D−リボフラノース
(1.00g,2.4mmol)のエタノール溶液(2
0ml)に、10%パラジウム炭素(100mg)を加
え、3気圧の水素雰囲気下、10時間攪拌した。セライ
ト濾過後、減圧下濃縮することにより1−アロファノイ
ル−1−デヒドロ−α,β−D−リボフラノース、1−
アロファノイル−1−デヒドロ−α,β−D−リボピラ
ノース、 (4種異性体混合物として)13 C NMR(100MHz, D2O) δ 174.7(2種), 174.0, 173.6 あわせて1C(-NHCON
H2) 157.8(4種)(-CONHCONH2) 106.8, 103.5, 99.8, 99.5 あわせて1C(アノマー
位) 及び[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−ヒドロ
キシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒドロキ
シ)ブチルヒダントイン13 C NMR(100MHz, D2O) δ 178.9(C-2), 161.0(C-4), 90.6(C-5), 75.7, 74.8, 72.
8, 65.1(C-4')13 C NMR(100MHz, D2O) δ 178.5(C-2), 161.0(C-4), 88.9(C-5), 76.0, 75.4, 74.
2, 64.5(C-4') の混合物(570mg,定量的)を粗生成物として得た
〔各化合物における異性体比 リボース誘導体6:4:
3:2、ヒダントイン誘導体6:3(それぞれ順不
同)〕。この混合物は、長時間放置することにより最終
的には[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−ヒド
ロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒドロ
キシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体比3:
1、順不同)へと収斂した。
ファノイル−1−デヒドロ−β−D−リボフラノース
(1.00g,2.4mmol)のエタノール溶液(2
0ml)に、10%パラジウム炭素(100mg)を加
え、3気圧の水素雰囲気下、10時間攪拌した。セライ
ト濾過後、減圧下濃縮することにより1−アロファノイ
ル−1−デヒドロ−α,β−D−リボフラノース、1−
アロファノイル−1−デヒドロ−α,β−D−リボピラ
ノース、 (4種異性体混合物として)13 C NMR(100MHz, D2O) δ 174.7(2種), 174.0, 173.6 あわせて1C(-NHCON
H2) 157.8(4種)(-CONHCONH2) 106.8, 103.5, 99.8, 99.5 あわせて1C(アノマー
位) 及び[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−ヒドロ
キシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒドロキ
シ)ブチルヒダントイン13 C NMR(100MHz, D2O) δ 178.9(C-2), 161.0(C-4), 90.6(C-5), 75.7, 74.8, 72.
8, 65.1(C-4')13 C NMR(100MHz, D2O) δ 178.5(C-2), 161.0(C-4), 88.9(C-5), 76.0, 75.4, 74.
2, 64.5(C-4') の混合物(570mg,定量的)を粗生成物として得た
〔各化合物における異性体比 リボース誘導体6:4:
3:2、ヒダントイン誘導体6:3(それぞれ順不
同)〕。この混合物は、長時間放置することにより最終
的には[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−ヒド
ロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒドロ
キシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体比3:
1、順不同)へと収斂した。
【0155】[実施例19]
【0156】
【化34】
【0157】1,2,3,4−テトラ−O−ベンジル−
1−アロファノイル−1−デヒドロリボピラノース(1
0.0mg,0.017mmol)のエタノール溶液
(1ml)に、10%パラジウム炭素(10mg)を加
え、3気圧の水素雰囲気下、2時間攪拌した。セライト
濾過後、減圧下濃縮することにより1−アロファノイル
−1−デヒドロ−α,β−D−リボフラノース、1−ア
ロファノイル−1−デヒドロ−α,β−D−リボピラノ
ース、[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−ヒド
ロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒドロ
キシブチル)ヒダントインの平衡混合物(4.3mg,
定量的)を粗生成物として得た(異性体比リボース誘導
体6:4:3:2、ヒダントイン誘導体6:3、それぞ
れ順不同)。この化合物は、長時間放置することにより
最終的には[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−
ヒドロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒ
ドロキシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体比
3:1、順不同)へと収斂した。生成物のスペクトルデ
ータは実施例18のものと同じであった。
1−アロファノイル−1−デヒドロリボピラノース(1
0.0mg,0.017mmol)のエタノール溶液
(1ml)に、10%パラジウム炭素(10mg)を加
え、3気圧の水素雰囲気下、2時間攪拌した。セライト
濾過後、減圧下濃縮することにより1−アロファノイル
−1−デヒドロ−α,β−D−リボフラノース、1−ア
ロファノイル−1−デヒドロ−α,β−D−リボピラノ
ース、[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−ヒド
ロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒドロ
キシブチル)ヒダントインの平衡混合物(4.3mg,
定量的)を粗生成物として得た(異性体比リボース誘導
体6:4:3:2、ヒダントイン誘導体6:3、それぞ
れ順不同)。この化合物は、長時間放置することにより
最終的には[5RS,1’R,2’R,3’R]−5−
ヒドロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラヒ
ドロキシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体比
3:1、順不同)へと収斂した。生成物のスペクトルデ
ータは実施例18のものと同じであった。
【0158】[参考例5]
【0159】
【化35】
【0160】1−アロファノイル−1−デヒドロ−α,
β−D−リボフラノース、1−アロファノイル−1−デ
ヒドロ−α,β−D−リボピラノース、[5RS,1’
R,2’R,3’R]−5−ヒドロキシ−5−(1’,
2’,3’,4’−テトラヒドロキシブチル)ヒダント
インの混合物(リボース誘導体6:4:3:2、ヒダン
トイン誘導体6:3、それぞれ順位不同)(57.3m
g,0.24mmol)をメタノールと水の混合溶媒
(2:1,6ml)に溶解し、Dowex 50X
(1.5ml)を加え60℃で18時間、さらに80℃
で2時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Dowe
x 50Xを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式[I]で表される[2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノ
ナン−7,9−ジオン(ヒダントサイジン)及び、式
[XI]で表される[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ンを含む粗生成物(48.6mg,粗収率92%)を得
た。この混合物のピリジン溶液(2ml)に無水酢酸
(518mg,0.48mmol)と触媒量の4−ジメ
チルアミノピリジンを加え、30分間攪拌した。反応溶
液に水を加えることにより反応を停止し、酢酸エチルと
水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出した。有機
層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮すること
により得られる残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=1/1)で精製する
ことにより、[2R,3S,4R,5S]−3,4−ジ
アセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル
−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン
−7,9−ジオン(9.6mg,10.2%)、
β−D−リボフラノース、1−アロファノイル−1−デ
ヒドロ−α,β−D−リボピラノース、[5RS,1’
R,2’R,3’R]−5−ヒドロキシ−5−(1’,
2’,3’,4’−テトラヒドロキシブチル)ヒダント
インの混合物(リボース誘導体6:4:3:2、ヒダン
トイン誘導体6:3、それぞれ順位不同)(57.3m
g,0.24mmol)をメタノールと水の混合溶媒
(2:1,6ml)に溶解し、Dowex 50X
(1.5ml)を加え60℃で18時間、さらに80℃
で2時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Dowe
x 50Xを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式[I]で表される[2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノ
ナン−7,9−ジオン(ヒダントサイジン)及び、式
[XI]で表される[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ンを含む粗生成物(48.6mg,粗収率92%)を得
た。この混合物のピリジン溶液(2ml)に無水酢酸
(518mg,0.48mmol)と触媒量の4−ジメ
チルアミノピリジンを加え、30分間攪拌した。反応溶
液に水を加えることにより反応を停止し、酢酸エチルと
水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出した。有機
層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃縮すること
により得られる残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=1/1)で精製する
ことにより、[2R,3S,4R,5S]−3,4−ジ
アセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル
−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン
−7,9−ジオン(9.6mg,10.2%)、
【0161】 [α] D 20 +98.4゜ (c 1.18, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3250, 1815, 1760, 1380, 1310, 1240, 1110, 1050, 76
01 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.06 (3H, s, OAc) 2.10 (3H, s, OAc) 2.14 (3H, s, OAc) 2.57 (3H, s, NAc) 4.17 (1H, dd, J=12.4, 5.9Hz, CH 2OAc) 4.58 (1H, dd, J=12.4, 2.7Hz, CH 2OAc) 4.62 (1H, ddd, J=8.6, 5.9, 2.7Hz, H-2) 5.46 (1H, dd, J=7.2, 8.6Hz, H-3) 5.69 (1H, d, J=7.2Hz, H-4) 7.49 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+ (C15H18N2O10) 測定値 387.1058 計算値 387.1037
01 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.06 (3H, s, OAc) 2.10 (3H, s, OAc) 2.14 (3H, s, OAc) 2.57 (3H, s, NAc) 4.17 (1H, dd, J=12.4, 5.9Hz, CH 2OAc) 4.58 (1H, dd, J=12.4, 2.7Hz, CH 2OAc) 4.62 (1H, ddd, J=8.6, 5.9, 2.7Hz, H-2) 5.46 (1H, dd, J=7.2, 8.6Hz, H-3) 5.69 (1H, d, J=7.2Hz, H-4) 7.49 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+ (C15H18N2O10) 測定値 387.1058 計算値 387.1037
【0162】[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジ
アセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル
−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン
−7,9−ジオン(18.1mg,19.3%)、 [α] D 20 +103゜ (c 0.924, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3250, 1815, 1760, 1380, 1310, 1240, 1125, 1095, 10
50, 7601 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.05 (3H, s, OAc) 2.14 (3H, s, OAc) 2.16 (3H, s, OAc) 2.54 (3H, s, NAc) 4.05 (1H, dd, J=12.4, 4.1Hz, CH 2OAc) 4.67 (1H, dd, J=12.4, 2.7Hz, CH 2OAc) 4.97 (1H, ddd, J=6.8, 4.1, 2.7Hz, H-2) 5.33 (1H, dd, J=8.6, 6.8Hz, H-3) 5.44 (1H, d, J=8.7Hz, H-4) 7.58 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+ (C15H18N2O10) 測定値 387.1022 計算値 387.1037
アセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル
−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン
−7,9−ジオン(18.1mg,19.3%)、 [α] D 20 +103゜ (c 0.924, CHCl3) IR (neat, cm-1) 3250, 1815, 1760, 1380, 1310, 1240, 1125, 1095, 10
50, 7601 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.05 (3H, s, OAc) 2.14 (3H, s, OAc) 2.16 (3H, s, OAc) 2.54 (3H, s, NAc) 4.05 (1H, dd, J=12.4, 4.1Hz, CH 2OAc) 4.67 (1H, dd, J=12.4, 2.7Hz, CH 2OAc) 4.97 (1H, ddd, J=6.8, 4.1, 2.7Hz, H-2) 5.33 (1H, dd, J=8.6, 6.8Hz, H-3) 5.44 (1H, d, J=8.7Hz, H-4) 7.58 (1H, brs, >NH) HRMS (m/z) M+ (C15H18N2O10) 測定値 387.1022 計算値 387.1037
【0163】及び[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ン(16.2mg,19.4%)、1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.12 (3H, s, OAc) 2.15 (3H, s, OAc) 2.16 (3H, s, OAc) 4.11 (1H, dd, J=13.5, 5.9Hz, CH 2OAc) 4.41-4.47 (2H, m, H-2, CH 2OAc) 5.44 (1H, d, J=5.0Hz, H-4) 5.54 (1H, dd, J=5.0, 2.7Hz, H-3) 6.69 (1H, brs, >NH-6) 8.14 (1H, brs, >NH-8) HRMS (m/z) M++1 (C13H17N2O9) 測定値 345.0932 計算値 345.0932を得た。
−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ン(16.2mg,19.4%)、1 H NMR(400MHz, CDCl3) δ 2.12 (3H, s, OAc) 2.15 (3H, s, OAc) 2.16 (3H, s, OAc) 4.11 (1H, dd, J=13.5, 5.9Hz, CH 2OAc) 4.41-4.47 (2H, m, H-2, CH 2OAc) 5.44 (1H, d, J=5.0Hz, H-4) 5.54 (1H, dd, J=5.0, 2.7Hz, H-3) 6.69 (1H, brs, >NH-6) 8.14 (1H, brs, >NH-8) HRMS (m/z) M++1 (C13H17N2O9) 測定値 345.0932 計算値 345.0932を得た。
【0164】これらのメタノール溶液に、それぞれアン
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をDiaion CHP 20
Pで精製することにより、式[I]で表される[2R,
3S,4R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒド
ロキシメチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメ
チル−6−N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザ
スピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから5.0m
g、92%)、及び式[XI]で表される[2R,3S,
4R,5R]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシ
メチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]
ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4R,5R]
−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−
N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオンから7.2mg、5
5%、[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジアセト
キシ−2−アセトキシメチル−1−オキサ−6,8−ジ
アザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから8.
5mg、83%)を得た。これらのスペクトルデータ
は、文献値(S. Mio et al., Tetr
ahedron, 47, 2133, 2145(1
991).)と一致した。
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をDiaion CHP 20
Pで精製することにより、式[I]で表される[2R,
3S,4R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒド
ロキシメチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメ
チル−6−N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザ
スピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから5.0m
g、92%)、及び式[XI]で表される[2R,3S,
4R,5R]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシ
メチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]
ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4R,5R]
−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−
N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオンから7.2mg、5
5%、[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジアセト
キシ−2−アセトキシメチル−1−オキサ−6,8−ジ
アザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから8.
5mg、83%)を得た。これらのスペクトルデータ
は、文献値(S. Mio et al., Tetr
ahedron, 47, 2133, 2145(1
991).)と一致した。
【0165】 [I] 1H NMR(200MHz, D2O) δ 3.58 (1H, dd, J=4.4, 12.7Hz, H-5) 3.69 (1H, dd, J=3.2, 12.7Hz, H-5) 4.12 (1H, dd, J=4.0, 5.8Hz, H-3) 4.20-4.30 (1H, m, H-4) 4.30 (1H, d, J=5.8Hz, H-2) [XI]1H NMR(400MHz, CD3OD) δ 3.60 (1H, dd, J=5.2, 12.1Hz, -CH 2OH) 3.67 (1H, dd, J=4.3, 12.1Hz, -CH 2OH) 4.09 (1H, ddd, J=3.3, 4.3, 5.2Hz, H-2) 4.17 (1H, dd, J=3.2, 4.9Hz, H-3) 4.26 (1H, d, J=4.9Hz, H-4)
【0166】[参考例6]
【0167】
【化36】
【0168】[5RS,1’R,2’R,3’R]−5
−ヒドロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラ
ヒドロキシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体
比3:1、順不同)(101mg,0.43mmol)
をメタノールと水の混合溶媒(2:1,6ml)に溶解
し、Dowex 50X(3.5ml)を加え45℃で
15時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Dowe
x 50Xを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式[I]で表される[2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノ
ナン−7,9−ジオン(ヒダントサイジン)及び、式
[XI]で表される[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ンの混合物(1:4)を粗生成物(98.0mg,定量
的)として得た。この混合物のピリジン溶液(5ml)
に無水酢酸(518mg,0.48mmol)と触媒量
の4−ジメチルアミノピリジンを加え、30分間攪拌し
た。反応溶液に水を加えることにより反応を停止し、酢
酸エチルと水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出
した。有機層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃
縮することにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層
クロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=1/1)
で精製することにより、[2R,3S,4R,5S]−
3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N
−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.
4]ノナン−7,9−ジオン(20.2mg、12
%)、及び[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジア
セトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル−
1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−
7,9−ジオン(12.5mg、8.5%)を得た。生
成物のスペクトルデータは参考例7と同じであった。
−ヒドロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラ
ヒドロキシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体
比3:1、順不同)(101mg,0.43mmol)
をメタノールと水の混合溶媒(2:1,6ml)に溶解
し、Dowex 50X(3.5ml)を加え45℃で
15時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Dowe
x 50Xを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式[I]で表される[2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノ
ナン−7,9−ジオン(ヒダントサイジン)及び、式
[XI]で表される[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ンの混合物(1:4)を粗生成物(98.0mg,定量
的)として得た。この混合物のピリジン溶液(5ml)
に無水酢酸(518mg,0.48mmol)と触媒量
の4−ジメチルアミノピリジンを加え、30分間攪拌し
た。反応溶液に水を加えることにより反応を停止し、酢
酸エチルと水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出
した。有機層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃
縮することにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層
クロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=1/1)
で精製することにより、[2R,3S,4R,5S]−
3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N
−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.
4]ノナン−7,9−ジオン(20.2mg、12
%)、及び[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジア
セトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル−
1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−
7,9−ジオン(12.5mg、8.5%)を得た。生
成物のスペクトルデータは参考例7と同じであった。
【0169】これらのメタノール溶液に、それぞれアン
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をDiaion CHP 20
Pで精製することにより、式[I]で表される[2R,
3S,4R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒド
ロキシメチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメ
チル−6−N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザ
スピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから5.5m
g、48%)、及び式[XI]で表される[2R,3S,
4R,5R]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシ
メチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]
ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4R,5R]
−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−
N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオンから6.2mg、7
8%)を得た。生成物のスペクトルデータは参考例7と
同じであった。
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をDiaion CHP 20
Pで精製することにより、式[I]で表される[2R,
3S,4R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒド
ロキシメチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメ
チル−6−N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザ
スピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから5.5m
g、48%)、及び式[XI]で表される[2R,3S,
4R,5R]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシ
メチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]
ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4R,5R]
−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−
N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオンから6.2mg、7
8%)を得た。生成物のスペクトルデータは参考例7と
同じであった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年10月29日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0168
【補正方法】変更
【補正内容】
【0168】[5RS,1’R,2’R,3’R]−5
−ヒドロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラ
ヒドロキシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体
比3:1、順不同)(101mg,0.43mmol)
をメタノールと水の混合溶媒(2:1,6ml)に溶解
し、Dowex 50X(3.5ml)を加え45℃で
15時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Dowe
x 50Xを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式[I]で表される[2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノ
ナン−7,9−ジオン(ヒダントサイジン)及び、式
[XI]で表される[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ンの混合物(1:4)を粗生成物(98.0mg,定量
的)として得た。この混合物のピリジン溶液(5ml)
に無水酢酸(518mg,0.48mmol)と触媒量
の4−ジメチルアミノピリジンを加え、30分間攪拌し
た。反応溶液に水を加えることにより反応を停止し、酢
酸エチルと水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出
した。有機層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃
縮することにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層
クロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=1/1)
で精製することにより、[2R,3S,4R,5S]−
3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N
−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.
4]ノナン−7,9−ジオン(20.2mg、12
%)、及び[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジア
セトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル−
1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−
7,9−ジオン(12.5mg、8.5%)を得た。生
成物のスペクトルデータは参考例5と同じであった。
−ヒドロキシ−5−(1’,2’,3’,4’−テトラ
ヒドロキシブチル)ヒダントインの平衡混合物(異性体
比3:1、順不同)(101mg,0.43mmol)
をメタノールと水の混合溶媒(2:1,6ml)に溶解
し、Dowex 50X(3.5ml)を加え45℃で
15時間激しく攪拌した。反応溶液を濾過し、Dowe
x 50Xを除くことによって反応を停止し、減圧濃縮
することによって式[I]で表される[2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノ
ナン−7,9−ジオン(ヒダントサイジン)及び、式
[XI]で表される[2R,3S,4R,5R]−3,4
−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−1−オキサ−
6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオ
ンの混合物(1:4)を粗生成物(98.0mg,定量
的)として得た。この混合物のピリジン溶液(5ml)
に無水酢酸(518mg,0.48mmol)と触媒量
の4−ジメチルアミノピリジンを加え、30分間攪拌し
た。反応溶液に水を加えることにより反応を停止し、酢
酸エチルと水で分配したのち、水層を酢酸エチルで抽出
した。有機層を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、減圧濃
縮することにより得られる残渣を分取用シリカゲル薄層
クロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=1/1)
で精製することにより、[2R,3S,4R,5S]−
3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−N
−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.
4]ノナン−7,9−ジオン(20.2mg、12
%)、及び[2R,3S,4R,5R]−3,4−ジア
セトキシ−2−アセトキシメチル−6−N−アセチル−
1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−
7,9−ジオン(12.5mg、8.5%)を得た。生
成物のスペクトルデータは参考例5と同じであった。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0169
【補正方法】変更
【補正内容】
【0169】これらのメタノール溶液に、それぞれアン
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をDiaion CHP 20
Pで精製することにより、式[I]で表される[2R,
3S,4R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒド
ロキシメチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメ
チル−6−N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザ
スピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから5.5m
g、48%)、及び式[XI]で表される[2R,3S,
4R,5R]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシ
メチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]
ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4R,5R]
−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−
N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオンから6.2mg、7
8%)を得た。生成物のスペクトルデータは参考例5と
同じであった。
モニアを飽和させたメタノールを加え、一晩攪拌したの
ち、減圧濃縮した。残渣をDiaion CHP 20
Pで精製することにより、式[I]で表される[2R,
3S,4R,5S]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒド
ロキシメチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4
R,5S]−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメ
チル−6−N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザ
スピロ[4.4]ノナン−7,9−ジオンから5.5m
g、48%)、及び式[XI]で表される[2R,3S,
4R,5R]−3,4−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシ
メチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ[4.4]
ノナン−7,9−ジオン([2R,3S,4R,5R]
−3,4−ジアセトキシ−2−アセトキシメチル−6−
N−アセチル−1−オキサ−6,8−ジアザスピロ
[4.4]ノナン−7,9−ジオンから6.2mg、7
8%)を得た。生成物のスペクトルデータは参考例5と
同じであった。
Claims (3)
- 【請求項1】 次の一般式 【化1】 (式中、R1、R2、R3、及びR4は同一または異なっ
て、水素原子または水酸基の保護基を表し、Xは保護さ
れていてもよい、ヒドロキシメチル基、カルボキシル
基、カルバモイル基、またはアロファノイル基を表す)
で表されるD−プシコフラノース誘導体。 - 【請求項2】 R2とR3 が一体となって、次の一般式 【化2】 (式中、R2’とR3’は同一または異なって、水素原
子、炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、
または置換もしくは無置換のアリール基を表し、また、
一体となって環を形成してもよい)で表されるアルキリ
デンもしくはアリールメチリデン基を表すことを特徴と
する、請求項1に記載のD−プシコフラノース誘導体。 - 【請求項3】 次の一般式 【化3】 (式中、R5、R6、R7 、及びR8 は同一または異なっ
て、水素原子または水酸基の保護基を表し、Xは保護さ
れていてもよい、ヒドロキシメチル基、カルボキシル
基、カルバモイル基、またはアロファノイル基を表す)
で表されるD−プシコピラノース誘導体。
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