JP3156697B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

Info

Publication number
JP3156697B2
JP3156697B2 JP14446799A JP14446799A JP3156697B2 JP 3156697 B2 JP3156697 B2 JP 3156697B2 JP 14446799 A JP14446799 A JP 14446799A JP 14446799 A JP14446799 A JP 14446799A JP 3156697 B2 JP3156697 B2 JP 3156697B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dielectric plate
microwave
heated
heating
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP14446799A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000340354A (ja
Inventor
明美 福本
等隆 信江
浩二 吉野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP14446799A priority Critical patent/JP3156697B2/ja
Publication of JP2000340354A publication Critical patent/JP2000340354A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3156697B2 publication Critical patent/JP3156697B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱物を加熱す
る高周波加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の高周波加熱装置について説明す
る。マグネトロンから発生したマイクロ波は導波管を伝
搬し、給電口から加熱室へ放射される。加熱室内のマイ
クロ波が被加熱物の分子を振動させることにより被加熱
物は自己発熱する。
【0003】従来の技術において、被加熱物を加熱する
際のマイクロ波の強度は、被加熱物の量や加熱方法に応
じて制御しているが、その制御方法は、被加熱物を加熱
する前にマイクロ波の強度を決定して制御部に加熱情報
として入力する方法や、加熱中に検出部が被加熱物の重
量や蒸発水分、温度等を検出して制御部に信号を送り、
マイクロ波の強度を変化させている。また、そのほかに
特開平8−153578号公報に記述されているように
加熱室壁面に複数の開孔部を設け、開孔部を開閉させて
マイクロ波の強度を可変する方法や、特開平8−185
967号公報に記述されているように複数の開孔部から
異なるマイクロ波の強度を放射する供給モードをマイク
ロ波の発振前に選択入力する方法などがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術に
おいて、被加熱物を加熱する前にマイクロ波強度を決定
して入力する方法は、被加熱物の量や形状に応じたマイ
クロ波強度を選択することが困難である。また、被加熱
物の重量を検出してマイクロ波強度を変化させる方法
は、加熱室が1つの場合は可能であるもののマイクロ波
強度を変化させる際に使用する金属部品がスパークを発
生したり、被加熱物が複数の場合には被加熱物の量や蒸
発水分、温度などを正確に検出することができないた
め、過加熱あるいは加熱不足になるという問題がある。
また、複数の開孔部を開閉させてマイクロ波強度を可変
する方法は、マイクロ波強度を全体的に変化させるもの
であり、開成時にマイクロ波を供給し、閉成時にマイク
ロ波を停止することはできるが、それぞれの開孔部から
のマイクロ波強度を細かく変化させることはできない。
また、複数の開孔部から、異なるマイクロ波強度を放射
する供給モードをマイクロ波の発振前に選択入力する方
法は、加熱中にマイクロ波強度を変化させたり、それぞ
れの開孔部のマイクロ波強度をスパークさせずに任意に
変化させることは困難である。
【0005】本発明はこのような課題を解決するもので
あり、金属壁面の高周波電流の流れを変化させることに
よってマイクロ波強度を任意に変化させることができる
高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明の高周波加熱装置は、マイクロ波を複数に分
割して伝送する導波管と、前記導波管の金属壁面に生じ
る高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部と、
前記開孔部に接続した終端を閉じた溝部と、この溝部内
に回転可能に支持した低誘電損失材料の誘電体板および
前記誘電体板を回転駆動する誘電体板回転駆動手段とか
ら構成したインピーダンス可変手段と、前記誘電体板回
転駆動手段を制御して前記開孔部のインピーダンスを可
変する制御部とを備えるものである。
【0007】そして、インピーダンス可変手段により開
孔部を有する金属壁面の高周波電流の流れを変化させる
ことによってそれぞれの導波管のマイクロ波伝送量を変
化させることができる。
【0008】これにより、複数の方向から供給するマイ
クロ波強度を制御して被加熱物を最適に加熱することが
できる。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の高周波加熱装置は請求項
1記載のように、マイクロ波を複数に分割して伝送する
導波管と、前記導波管の金属壁面に生じる高周波電流の
流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接
続した終端を閉じた溝部と、この溝部内に回転可能に支
持した低誘電損失材料の誘電体板および前記誘電体板を
回転駆動する誘電体板回転駆動手段とから構成したイン
ピーダンス可変手段と、前記誘電体板回転駆動手段を制
御して前記開孔部のインピーダンスを可変する制御部
を備えるものである。
【0010】そして、インピーダンス可変手段を構成す
る誘電体板回転駆動手段によって誘 電体板の回転角度を
変化させて開孔部のインピーダンスを変化させ、開孔部
周辺の導波管の金属壁面の高周波電流の流れを変化させ
て、それぞれの導波管のマイクロ波の伝送量を変化させ
るようにしているものである。こうしてそれぞれの導波
管のマイクロ波伝送量を変化させることができる。
【0011】これにより、複数の方向から供給するマイ
クロ波強度を制御して被加熱物を最適に加熱することが
できる。
【0012】また本発明の高周波加熱装置は、請求項2
記載のように、被加熱物を収納するとともに給電される
マイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前
記マイクロ波空間を複数の小空間に仕切る仕切り手段
と、前記複数の小空間にそれぞれ結合した給電部と、前
記給電部にそれぞれマイクロ波を伝送させる複数の導波
管と、前記導波管の少なくとも1つに導波管の金属壁面
に生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔
部と、前記開孔部に接続した終端を閉じた溝部と、この
溝部内に回転可能に支持した低誘電損失材料の誘電体板
および前記誘電体板を回転駆動する誘電体板回転駆動手
段とから構成したインピーダンス可変手段と、前記被加
熱物の加熱情報に基づいて前記誘電体板回転駆動手段を
制御して前記開孔部のインピーダンスを変えて前記給電
部から供給するマイクロ波の強度を可変する制御部とを
備えたものである。
【0013】そして、複数の小空間にそれぞれ結合した
給電部と、前記給電部にそれぞれマイクロ波を伝送させ
る複数の導波管と、前記導波管の少なくとも1つに導波
管の金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断するよう
に設けた開孔部と、前記開孔部のインピーダンスを変え
るインピーダンス可変手段により、複数のマイクロ波空
間に放射するマイクロ波強度を任意に変化させることが
できる。
【0014】これにより、被加熱物の加熱中にスパーク
を発生することなく、マイクロ波の強度を変化させるこ
とができるとともに、複数のマイクロ波空間において異
なるマイクロ波強度で被加熱物をそれぞれ最適に加熱す
ることができる。
【0015】また本発明の高周波加熱装置は、請求項
記載のように、前記制御部への加熱情報は、前記被加熱
物の加熱方法として選択入力される加熱情報とすること
を特徴とする。
【0016】そして、加熱方法を選択入力することによ
り、誘電体板の回転角度を加熱パターンに応じて変化さ
せることができる。
【0017】これにより、被加熱物に応じたマイクロ波
強度で被加熱物を加熱することができる。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例について添付図面を用
いて説明する。
【0019】(実施例1) 図1は、本発明の第1の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図、図2はインピーダンス可変手段の概略図で
ある。
【0020】図1と図2において、10は被加熱物を収
納する加熱室(マイクロ波空間)で、加熱室10の壁面
は金属で構成されている。11はマイクロ波を発生する
マグネトロン(高周波発生手段)、12aと12bはマ
グネトロン11からのマイクロ波を加熱室10へ伝送す
る導波管、13と14はそれぞれ導波管12aと導波管
12bからのマイクロ波を加熱室10へ放射する給電口
である。15と16はそれぞれ導波管12aと12bに
設けた開孔部で、17と18はそれぞれ開孔部15と開
孔部16を一端とする金属によって構成された溝部であ
る。19は開孔部15のインピーダンスを可変するイン
ピーダンス可変手段であり、誘電体板19aにて構成さ
れ、20は開孔部16のインピーダンスを可変するイン
ピーダンス可変手段であり、誘電体板20aにて構成さ
れている。
【0021】誘電体板19aと誘電体板20aは、好ま
しくは比誘電率が5以上の低誘電損失材料(例えばガラ
ス系、セラミックス系、樹脂系)で構成され、それぞれ
の両端に突起を設け、溝部17および溝部18に設けた
孔に突起をはめ込んで回転支持されている。21および
22は各々誘電体板19aと誘電体板20aを駆動させ
るモータ(誘電体板回転駆動手段)である。誘電体板1
9aと誘電体板20aを駆動させる方法は、一定の角度
分づつステップ状に回転するようにしてもよいし、連続
的に回転するようにしても構わない。23はマグネトロ
ン11、モータ21、モータ22を制御する制御手段で
ある。制御手段23はこれらのほかに、被加熱物を載置
するターンテーブルのモータ等も制御している。
【0022】次に、上記構成において動作を説明する。
被加熱物を加熱する場合は、食品等の被加熱物を加熱室
10のターンテーブルに載置する。加熱スイッチ等か
ら、制御手段23に加熱情報が送られる。この加熱情報
に基づき制御手段23は、マグネトロン11とモータ2
1、モータ22そしてターンテーブルのモータの動作を
制御する。このときモータ21とモータ22はどちらか
一方のみ動作させてもよいし、同時に動作させてもかま
わない。マグネトロン11から発生したマイクロ波は複
数に分割され、導波管12aと導波管12bを伝搬し、
給電口13と給電口14から加熱室10内に放射され
る。本実施例ではマイクロ波は2つに分割されている
が、それ以上の数に分割するようにしても構わない。そ
の場合、開孔部と溝の数もそれぞれ増加させる。
【0023】加熱中の誘電体板19aと誘電体板20a
の動作は常に回転させるようにしてもよいし、ある特定
の回転角度で一定時間停止させる、あるいは回転・停止
を繰り返すようにしても構わない。また誘電体板19a
と誘電体板20aは同時に動作させてもよいし、別々に
動作させるようにしても構わない。溝部17と溝部18
のそれぞれの溝深さ(Li+Lb)、溝の高さ(H)お
よび誘電体板の配設位置は、誘電体板19aと誘電体板
20aが加熱室10底面に対して垂直(この時の回転角
度をそれぞれ0゜とする。:図2(a))のときに、開
孔部15または開孔部16に生じるインピーダンスが極
めて小さい値(理想的にはゼロ)になるように決めてい
る。一方、誘電体板19aと誘電体板20aが加熱室1
0底面に対して水平(この時の回転角度を90゜とす
る。:図2(b))のときの開孔部15と開孔部16に
生じるインピーダンスは、極めて大きい値(理想的には
無限大)となる。なお、誘電体板19aと20aの回転
角度は図2ではθとして図示している。
【0024】従って、誘電体板19aと誘電体板20a
の回転角度が0゜のときは、導波管12aと12bには
高周波電流が流れ、給電口13と給電口14からはそれ
ぞれ一定強度のマイクロ波が放射される。一方、誘電体
板19aあるいは誘電体板20aの少なくとも1つの回
転角度が変化すると、誘電体板の回転角度に応じて開孔
部のインピーダンスが大きな値となり、開孔部に流れる
高周波電流が乱れる。そして、回転角度が90゜になる
と開孔部のインピーダンスは無限大となり、開孔部には
高周波電流は流れない。
【0025】よって給電口13と給電口14から加熱室
10に放射されるマイクロ波は誘電体板の回転角度に応
じて変化する。つまり、誘電体板の回転角度が0゜に近
いほど開孔部には高周波電流が流れやすくなるため、給
電口から放射されるマイクロ波は強く、90゜に近づく
ほど開孔部には高周波電流が流れにくくなり、給電口か
ら放射されるマイクロ波は弱くなる。この現象を利用し
て、誘電体板の回転角度を組み合わせることで加熱室へ
放射するマイクロ波の強さをそれぞれの給電口によって
変えることができる。
【0026】この実施例の図1では誘電体板19aの回
転角度は45゜、誘電体板20aの回転角度は0゜を示
している。また、開孔部15と開孔部16は長軸方向が
奥行き方向と平行になっているが、高周波電流の流れを
乱す方向であればどのような方向で配設してもかまわな
い。
【0027】本実施例において、誘電体板19a、20
aの回転角度を変化させることで開孔部15、16の反
射係数S11がどのように変化するかを表したグラフを
図3に示す。図3は溝部の高さHが30mm、幅が80
mm、誘電体板の比誘電率が12.3、板厚tが6.2
mm、Lbが20mmとし、開孔部の反射係数S11の
位相特性をLiをパラメータとして示している。図3に
おいて、矢印24すなわちLi=20mmの構成とする
ことで溝部17の開孔部15または溝部18の開孔部1
6の反射係数S11の位相を略±180°から略0°の
範囲で可変させることができる。開孔部の反射係数の位
相値が±180°のときに開孔部は金属壁面と同様の作
用をし、位相値が0゜のときは開孔部のインピーダンス
は無限大となり、高周波電流は流れない。
【0028】以上のように、マイクロ波伝送手段の壁面
にインピーダンス可変手段を設け、誘電体板の回転角度
を変化させることにより、開孔部の高周波電流の流れを
変化させることができる。
【0029】これにより、給電口から放射されるマイク
ロ波強度を変化させることができ、被加熱物に応じたマ
イクロ波強度で被加熱物を加熱することができる。
【0030】(実施例2) 次に、本発明の第2の実施例について説明する。
【0031】図4は、本発明の第2の実施例を示す高周
波加熱装置の概略構成図である。本発明の実施例2が実
施例1と相違する点を説明する。
【0032】図4において、25は加熱室10を複数の
小空間に仕切る仕切り手段である。仕切り手段25によ
り加熱室10は上側加熱室10aと下側加熱室10bに
分割される。仕切り手段25は加熱室10の壁面に突起
を設けて支持する構成や、壁面に溝を設けて支持する構
成を用いる。なお、仕切り手段25の配設位置は加熱室
10の高さ方向において配設位置を選択できるように構
成することにより、上側加熱室10aと下側加熱室10
bの容積は変化させることができる。本実施例では壁面
に突起を設けて支持する構成を図示している。
【0033】モータ21と22には誘電体板19aと2
0aの回転角度を検出する検出手段26と27がそれぞ
れ配設されている。制御手段28は操作部等からの加熱
情報と検出手段26、27からの誘電体板19aと20
aの回転角度や回転速度などの情報によってマグネトロ
ン11、モータ21、モータ22を制御する。
【0034】次に、上記構成において動作を説明する。
被加熱物を加熱する場合は、食品等の被加熱物を加熱室
10に収納する。本実施例に使用した図面では上側加熱
室10aと下側加熱室10bはほぼ同容積となっている
が、どちらかの容積を大きくしてもかまわない。加熱ス
イッチ等により、制御手段28には上側加熱室10aと
下側加熱室10bのどちらの加熱室のマイクロ波強度を
強くするかなどの加熱情報が送られる。加熱情報にはそ
のほかに、図示していないがターンテーブルに配設され
た重量センサや加熱室内の蒸気センサの信号、あるいは
誘電体板19aと20aの回転角度なども含まれる。こ
れらの加熱情報に基づき制御手段28は、マグネトロン
11とモータ21、モータ22そしてターンテーブルの
モータの動作を制御する。
【0035】上側加熱室10aと下側加熱室10bの容
積が異なる場合や、上側加熱室10aまたは下側加熱室
10bのどちらかに大きな被加熱物が収納された場合に
は、容積の大きい加熱室または大きな被加熱物が収納さ
れている加熱室のマイクロ波強度を強くしなくてはなら
ない。また、異なる比誘電率と誘電損失の誘電特性を持
つ被加熱物を同時に加熱する際には、発熱しやすい被加
熱物が収納されている加熱室のマイクロ波強度は弱く、
もう片方の加熱室のマイクロ波強度は強くなるように制
御しなくてはならない。そして、マイクロ波強度を強く
して加熱する場合は誘電体板を0゜に近い回転角度と
し、マイクロ波強度を弱くして加熱する場合は誘電体板
を90゜に近い回転角度として加熱する。
【0036】また、加熱中の制御としては、加熱初期に
は誘電体板の回転角度を0゜としてマイクロ波強度を強
くして加熱し、加熱終期に近づくと誘電体板の回転角度
を90゜に近づけて加熱する制御方法を用いることもで
きる。加熱初期、加熱終期以外では一定の回転角度で誘
電体板を停止して加熱してもよいし、回転角度を変化さ
せながら加熱してもよい。
【0037】マイクロ波強度を変化させる際に金属で構
成された部品を使用すると、マイクロ波中ではスパーク
が発生することがあるため、加熱前にマイクロ波強度を
設定し、マグネトロンを停止してマイクロ波強度を変化
させなくてはならなかったが、本実施例のようにマイク
ロ波伝送手段の壁面にインピーダンス可変手段を設け、
低誘電損失材料である誘電体板を使用して回転角度を変
化させることにより、給電口から放射されるマイクロ波
強度を加熱中でもスパークすることなく変化させること
ができる。
【0038】これにより、マイクロ波の供給を停止する
ことなく被加熱物に応じたマイクロ波強度で被加熱物を
最適に加熱することができる。
【0039】
【発明の効果】以上のように本発明によれば以下の効果
を奏する。
【0040】請求項1記載の高周波加熱装置によれば、
インピーダンス可変手段を構成する誘電体板の支持角度
を制御することにより、マイクロ波を複数に分割して伝
送する導波管に設けた開孔部の高周波電流の流れを変化
させて、マイクロ波の伝送中にもスパークを生ずること
なく、それぞれの導波管のマイクロ波の伝送量を変化さ
せることができる。これにより、複数の方向から供給す
るマイクロ波強度を制御して被加熱物を最適に加熱する
ことができる。
【0041】また、請求項2記載の高周波加熱装置によ
れば、複数の小空間にそれぞれ結合した給電部と、前記
給電部にそれぞれマイクロ波を伝送させる複数の導波管
と、前記導波管の少なくとも1つに導波管の金属壁面に
生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部
と、前記開孔部のインピーダンスを変えるインピーダン
ス可変手段により、複数のマイクロ波空間に放射するマ
イクロ波の強度を任意に変化させることができる。これ
により、複数のマイクロ波空間において異なるマイクロ
波強度で被加熱物を加熱することができる。
【0042】また、請求項記載の高周波加熱装置によ
れば、前記制御部へ加熱方法を選択入力することによ
り、誘電体板の回転角度を加熱パターンに応じて変化さ
せることができる。これにより、被加熱物に応じたマイ
クロ波強度で被加熱物を加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の高周波加熱装置の概略
構成を示す図
【図2】同、高周波加熱装置のインピーダンス可変手段
を示す概略図
【図3】同、高周波加熱装置の誘電体板の回転角度と開
孔部の反射係数の関係を示す図
【図4】本発明の第2の実施例の高周波加熱装置の概略
構成を示す図
【符号の説明】
10、10a、10b 加熱室 11 マグネトロン(高周波発生手段) 12a、12b 導波管 15、16 開孔部 17、18 溝部 19 インピーダンス可変手段 19a 誘電体板 20 インピーダンス可変手段 20a 誘電体板 21、22 モータ(誘電体板回転駆動手段) 23、28制御手段 25仕切手段 26、27 検出手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−74566(JP,A) 特開 平6−159687(JP,A) 特開 昭55−88289(JP,A) 特開 昭59−29397(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05B 6/64 - 6/74

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マイクロ波を複数に分割して伝送する導
    波管と、前記導波管の金属壁面に生ずる高周波電流の流
    れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接続
    した終端を閉じた溝部と、この溝部内に回転可能に支持
    した低誘電損失材料の誘電体板および前記誘電体板を回
    転駆動する誘電体板回転駆動手段とから構成したインピ
    ーダンス可変手段と、前記誘電体板回転駆動手段を制御
    して前記開孔部のインピーダンスを可変する制御部とを
    備えた高周波加熱装置。
  2. 【請求項2】 被加熱物を収納すると共に給電されるマ
    イクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前記
    マイクロ波空間を複数の小空間に仕切る仕切り手段と、
    前記複数の小空間にそれぞれ結合した給電部と、前記給
    電部にそれぞれマイクロ波を伝送させる複数の導波管
    と、前記導波管の少なくとも1つに導波管の金属壁面に
    生ずる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部
    と、前記開孔部に接続した終端を閉じた溝部と、この溝
    部内に回転可能に支持した低誘電損失材料の誘電体板お
    よび前記誘電体板を回転駆動する誘電体板回転駆動手段
    とから構成したインピーダンス可変手段と、前記被加熱
    物の加熱情報に基づいて前記誘電体板回転駆動手段を制
    御して前記開孔部のインピーダンスを変えて前記給電部
    から供給するマイクロ波の強度を可変する制御部とを備
    えた高周波加熱装置。
  3. 【請求項3】 前記制御部への加熱情報は、前記被加熱
    物の加熱方法として選択入力される加熱情報とした請求
    項2に記載した高周波加熱装置。
JP14446799A 1999-05-25 1999-05-25 高周波加熱装置 Expired - Fee Related JP3156697B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14446799A JP3156697B2 (ja) 1999-05-25 1999-05-25 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14446799A JP3156697B2 (ja) 1999-05-25 1999-05-25 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000340354A JP2000340354A (ja) 2000-12-08
JP3156697B2 true JP3156697B2 (ja) 2001-04-16

Family

ID=15362968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14446799A Expired - Fee Related JP3156697B2 (ja) 1999-05-25 1999-05-25 高周波加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3156697B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000340354A (ja) 2000-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2011033740A1 (ja) マイクロ波加熱装置
WO2007148632A1 (ja) マイクロ波加熱装置
JPH0467317B2 (ja)
US6469286B1 (en) Variable-impedance unit, microwave device using the unit, and microwave heater
JPH04233188A (ja) マイクロ波オーブン、マイクロ波オーブンのキャビティの励起方法、及びこの方法を実施するウェーブガイド装置
KR980010145A (ko) 전자레인지의 균일가열장치
JP3156697B2 (ja) 高周波加熱装置
JPH11193930A (ja) 電子レンジ
EP1096833B1 (en) Variable-impedance unit, microwave device using the unit, and microwave heater
JP3036541B1 (ja) 高周波加熱装置
JP3864570B2 (ja) 高周波加熱装置
JP3671630B2 (ja) マイクロ波キャビティ
JP4134473B2 (ja) 高周波加熱装置
JP3292139B2 (ja) 高周波加熱装置
JP4635294B2 (ja) 高周波加熱装置
JP3331279B2 (ja) 高周波加熱装置
JP4126794B2 (ja) 高周波加熱装置
JP3912409B2 (ja) マイクロ波キャビティ
JP2719059B2 (ja) 電子レンジ
KR0133029B1 (ko) 전자렌지의 자동 정합장치
JP3402050B2 (ja) 高周波加熱調理器
JPH11354267A (ja) 高周波加熱装置
JP2000150137A (ja) マイクロ波加熱装置
JP2000113975A (ja) 高周波加熱装置
JP3565947B2 (ja) 電子レンジ

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080209

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090209

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100209

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100209

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140209

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees